CN116783470A - 使用红外光谱分析来监测和控制在单体生产、储存和处理中生成的不想要的聚合物副产物 - Google Patents

使用红外光谱分析来监测和控制在单体生产、储存和处理中生成的不想要的聚合物副产物 Download PDF

Info

Publication number
CN116783470A
CN116783470A CN202180088497.5A CN202180088497A CN116783470A CN 116783470 A CN116783470 A CN 116783470A CN 202180088497 A CN202180088497 A CN 202180088497A CN 116783470 A CN116783470 A CN 116783470A
Authority
CN
China
Prior art keywords
monomer
computing device
polymer
sample
peak
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202180088497.5A
Other languages
English (en)
Inventor
冯超伟
艾瑞克·李
布莱恩·库洛姆
尼梅库玛·帕特尔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BL Technologies Inc
Original Assignee
BL Technologies Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BL Technologies Inc filed Critical BL Technologies Inc
Publication of CN116783470A publication Critical patent/CN116783470A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • G01N21/3563Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing solids; Preparation of samples therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N2021/0106General arrangement of respective parts
    • G01N2021/0118Apparatus with remote processing
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • G01N2021/3595Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using FTIR
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N2021/8411Application to online plant, process monitoring
    • G01N2021/8416Application to online plant, process monitoring and process controlling, not otherwise provided for
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • G01N21/3577Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing liquids, e.g. polluted water

Abstract

本发明描述了一种用于监测和控制在单体生产、储存或处理过程中生成的不想要的聚合物副产物,例如苯乙烯生产过程中的聚苯乙烯的方法。所述方法包括由傅里叶变换红外光谱仪(120)接收在单体生产过程期间采集的样品(115),由所述傅里叶变换红外光谱仪对所述样品执行红外光谱分析以生成光谱数据(122),以及由计算设备(110)通过对所述光谱数据的数学相关处理来确定所述样品中至少一种聚合物的百分比(119)。

Description

使用红外光谱分析来监测和控制在单体生产、储存和处理中 生成的不想要的聚合物副产物
相关申请的交叉引用
本申请要求名称为“POLYMER MONITORING AND CONTROL IN MONOMERSPRODUCTION,STORAGE,AND HANDLING USING INFRARED SPECTROSCOPY ANALYSIS”并且提交于2020年12月29日的美国临时专利申请序列号63/131,529的优先权。该临时专利申请的公开内容据此以其全文并入。
背景技术
在单体生产过程期间,诸如苯乙烯,由于苯乙烯和其它反应性单体的热聚合而生成不想要的聚合物。聚合物的量取决于温度、时间、任何催化剂/污染物和任何其它反应性单体(例如,二乙烯基苯)。不想要的聚合物副产物可能会增加工艺流的粘度和/或污染工艺装备,并且引起许多加工、生产和产品质量问题。因此,以准确、快速且定量的方式来监测所生成聚合物的量至关重要,以便采取预测性和主动性的缓解措施来最大限度地减少问题。这对苯乙烯和其它此类反应性单体的生产商提出了挑战。
发明内容
在一个实施例中,使用傅里叶变换红外光谱(“FT-IR”)分析来检测在苯乙烯生产和加工中生成的聚苯乙烯的特征峰。观察到聚苯乙烯特征峰的增长随聚合时间而变化。峰面积与聚苯乙烯含量以线性关系相关。因此,使用FT-IR作为分析工具来建立聚苯乙烯含量与聚合时间之间的定量关系。值得注意的是,该关键关系可用于监测苯乙烯生产过程中不想要的聚合物生成随时间的变化。来自本发明的监测产品可以帮助苯乙烯生产商快速且定量地监测和控制其过程中生成的聚合物副产物,并且采取缓解措施来最大限度地降低负面影响。
在一个实施例中,提供了一种用于监测和控制在单体生产、储存或处理过程中生成的不想要的聚合物副产物的方法。该方法包括:由计算设备接收在单体生产过程期间采集的样品;由计算设备对样品执行红外光谱分析以生成光谱数据;由计算设备通过对光谱数据的数学相关处理来确定样品中至少一种聚合物的百分比。
实施例可以包括以下特征中的一些或全部特征。单体可以包括苯乙烯、二乙烯基苯、异戊二烯、丁二烯、丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯醛、乙酸乙烯酯和氯乙烯中的一种。聚合物可以包括聚苯乙烯、聚二乙烯基苯、聚异戊二烯、聚丁二烯、聚(丙烯腈)、聚(丙烯酸)、聚(甲基丙烯酸)、聚丙烯醛、聚(乙酸乙烯酯)和聚(氯乙烯)中的一种。单体可以包括苯乙烯并且聚合物包括聚苯乙烯。该方法可以进一步包括识别光谱数据中的至少一个峰;以及计算该至少一个峰下的面积。该至少一个峰可以是2923cm-1的峰。通过对光谱数据的数学相关处理来确定样品中该至少一种聚合物的百分比可以包括:将面积与单体特定的校正曲线进行比较;以及基于该比较来确定百分比。该方法可以进一步包括基于所确定的百分比来确定要对单体生产过程执行的一种或多种补救措施。补救措施可以包括向单体生产过程加入聚合抑制剂、向生产过程加入阻滞剂、向单体生产过程加入分散剂中的一种或多种。计算设备可以包括傅里叶变换红外光谱仪。
在一个实施例中,提供了一种系统。该系统包括:红外光谱仪;至少一个计算设备;以及存储计算机可执行指令的存储器。该计算机可执行指令在由该至少一个计算设备执行时,使该至少一个计算设备:接收在单体生产过程期间采集的样品;对样品执行红外光谱分析以生成光谱数据;通过对光谱数据的数学相关处理来确定样品中至少一种聚合物的百分比。
实施例可以包括以下特征中的一些或全部特征。单体可以包括苯乙烯、二乙烯基苯、异戊二烯、丁二烯、丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯醛、乙酸乙烯酯和氯乙烯中的一种。聚合物可以包括聚苯乙烯、聚二乙烯基苯、聚异戊二烯、聚丁二烯、聚(丙烯腈)、聚(丙烯酸)、聚(甲基丙烯酸)、聚丙烯醛、聚(乙酸乙烯酯)或聚(氯乙烯)中的一种。单体可以包括苯乙烯并且聚合物包括聚苯乙烯。该系统可以进一步包括计算机可执行指令,该计算机可执行指令在由该至少一个计算设备执行时,使该至少一个计算设备:识别光谱数据中的至少一个峰;并且计算该至少一个峰下的面积。该至少一个峰可以包括2923cm-1的峰。通过对光谱数据的数学相关处理来确定样品中至少一种聚合物的百分比可以包括:将面积与单体特定的校正曲线进行比较;以及基于该比较来确定百分比。
提供此发明内容是为了以简化的形式介绍下文在具体实施方式中进一步描述的一系列概念。本发明内容不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征,也不旨在用于限制所要求保护的主题的范围。
附图说明
当结合附图阅读时,可以更好地理解前述发明内容以及说明性实施例的以下详细描述。为了说明实施例的目的,在附图中示出了实施例的示例性结构;然而,实施例不限于所公开的具体方法和手段。在附图中:
图1是使用FT-IR分析来确定单体样品中聚合物百分比的示范性环境的图示;
图2是单体样品的FT-IR光谱图的图示;
图3是示出2923cm-1处的FT-IR峰的积分的图的图示;
图4是示出聚合物百分比与2923cm-1处的峰下峰面积之间相关性的相关性曲线的图的图示;
图5是用于使用FT-IR分析来确定单体样品中聚合物百分比的方法的图示;
图6是用于使用FT-IR分析来确定单体样品中聚合物百分比的方法的图示;并且
图7示出了可以在其中实现示例性实施例和方面的示范性计算环境。
具体实施方式
图1是用于确定单体中的聚合物百分比的环境100的图示。聚合物是单体生产过程中不想要的副产物。例如,聚合物聚苯乙烯可以在单体苯乙烯的生产期间产生。示例性单体包括二乙烯基苯、异戊二烯、丁二烯、丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯醛、乙酸乙烯酯和氯乙烯。可以支持其它单体。
过量的聚合物生产可能会引起工艺流的粘度增加、装备结垢和产品污染,并且因此是不期望的。因此,希望在单体生产过程期间监测聚合物的生成并且采取补救措施,诸如使用聚合物抑制剂、阻滞剂和分散剂以及它们的组合,以及改变工艺操作条件。
一种测量单体(诸如苯乙烯)中聚合物的百分比的方式是甲醇沉淀。然而,此类测量非常耗时(例如,几个小时),并且因此可能无法成功地帮助缓解由于聚合物的存在而导致的问题。
因此,为了更快速地确定单体中聚合物的百分比,环境100包括与傅里叶变换红外(“FT-IR”)光谱仪120通信的计算设备110。合适的计算设备110是关于图7展示的计算设备700。
FT-IR是用于获得样品材料的吸收或发射的红外光谱的技术。FT-IR光谱仪120在宽光谱范围内从样品材料收集高分辨率光谱数据。
光谱仪120适于接收多个样品115,并且从每个样品115生成FT-IR测量结果。由光谱仪120为样品115生成的FT-IR测量结果在图1中表示为光谱122。在一些实施例中,光谱122是在多个离散波长处针对样品115测量的值(即,光谱数据)的图。根据实施例,每个样品115可以包含多于一种单体连同聚合物,并且还可以包含水。每个样品可以在单体生成过程期间采集。
在一些实施例中,计算设备110可以接收光谱122。然后,由计算设备110执行的分析仪113可以使用光谱122来确定样品115中聚合物的百分比(即,聚合物百分比119)。在一些实施例中,分析仪113可以使用本文所谓的校正曲线117来确定聚合物百分比119。校正曲线117可以是将光谱122的特定峰或波长与样品115中聚合物的百分比关联的映射或相关性。根据实施例,每种类型的单体可以具有其自己的校正曲线117。在图4的图400中展示了针对单体苯乙烯的示例性校正曲线117。
分析仪113可能已经通过以下生成了针对特定单体的校正曲线117:采集单体,抑制单体的热聚合,并且然后以工厂操作条件和聚合物形成的可能性保证的频率从单体采集样品115。根据实施例,可能已经收集了更多或更少的样品,并且可以在现场、离线或在线进行分析。
一旦已经收集了单体的每个样品,就由FT-IR光谱仪120为每个样品创建光谱122,并且使用常规方法诸如甲醇沉淀针对每个样品115来确定聚合物的百分比。可以使用其它方法。
例如,图2是样品115的光谱122的图200的图示。在所示的示例中,单体是苯乙烯。如图所示,光谱122包括对应于由光谱仪120测量的波长的几个峰。
然后,分析来自各个样品115中的每个样品的光谱122以确定特定峰或波长,其峰下面积与针对每个样品测量的聚合物百分比最佳相关。对于苯乙烯,所确定的峰在2923cm-1处。可以使用其它峰或光谱数据处理方法。所确定的一个或多个峰可以根据被采样的特定单体而变化。
对于每个样品115,使用积分来测量光谱122中所确定的峰下的面积,并且将该面积与针对该样品115的所测量的聚合物百分比进行比较。然后,使用所计算的面积和所测量的聚合物百分比来创建针对特定单体的校正曲线117。例如,可以使用线性回归来确定校正曲线117。可以使用其它类型的回归。
例如,图3是根据从苯乙烯生成过程采集的样品115生成的光谱122的图300的另一图示。在所示的示例中,已经对2923cm-1处的峰进行了积分以获得峰下面积。峰下面积被示出为灰色面积301。样品的该面积连同针对样品115的所测量的聚合物百分比一起用作校正曲线117的数据点。
最后,图4是所测量的聚合物的百分比与针对每个样品115测量的峰面积的关系的图400的图示。如图所示,峰面积与所测量的聚合物百分比具有线性关系。该图400可以是校正曲线117的示例,并且假如光谱122由光谱仪120从样品115获取,则该图可以由分析仪113使用以确定单体样品115的聚合物百分比。
在生成针对特定单体的校正曲线117之后,分析仪113可以接收样品115的光谱122并且可以使用光谱122来确定用于被测试的样品115的特定峰下的面积(例如,2923cm-1)。然后,将所确定的面积与校正曲线117进行比较,以确定样品115的聚合物百分比119。
如本文所述的分析仪113和FT-IR光谱仪120的组合提供优于现有技术聚合物测量技术的许多优点。一个此类优点是改进了在单体生产期间聚合物副产物的预防。例如,生产单体(诸如苯乙烯)的实体可以连续地(例如,每分钟、五分钟或十分钟)从他们的单体生产采集样品115。由FT-IR光谱仪120为每个样品115生成光谱122并且该光谱被提供给分析仪113,并且如上所述使用相关联的光谱122针对每个样品115来确定聚合物百分比119。一旦聚合物百分比119超过阈值,或者样品115之间聚合物百分比119增长的速率超过阈值,实体就可以添加或改变化学添加剂处理程序,该程序可以包括聚合抑制剂、阻滞剂和/或分散剂或它们的组合,以便最大限度地降低负面影响和/或优化操作的总成本。可以理解,分析仪113和FT-IR光谱仪120的组合可以单独或一起出售给单体生产商以用于预防或减少单体生产期间的聚合物副产物。
作为另一个优点,分析仪113和FT-IR光谱仪120的组合可以允许远程监测和控制单体生产。例如,FT-IR光谱仪120可以放置在客户位置处,并且可以从当前单体生产接收样品115。由FT-IR光谱仪120为每个样品115生成的光谱122可以被传输到已经与客户签订了合同的远程位置以指导单体生产。每个样品115的光谱122可以使用网络(诸如互联网)传输到远程位置。
位于远程位置处的分析仪113可以接收光谱122,并且可以使用光谱122和与被生产的单体相关联的校正曲线117来确定每个样品115的聚合物百分比119。然后,分析仪113可以提供针对每个样品115确定的聚合物百分比119连同聚合物百分比119的当前变化速率。然后,客户119可以基于所接收到的聚合物百分比119和当前变化速率来确定要采取什么补救措施。补救措施可以包括向单体生产过程加入聚合抑制剂、向生产过程加入阻滞剂以及向单体生产过程加入分散剂。
作为附加服务,分析仪113可以控制在客户位置处的化学添加剂的施加。基于聚合物百分比119和/或聚合物百分比119的当前变化速率,分析仪113可以确定应当施加到当前单体生产的化学添加剂的类型、剂量和任何组合。然后,分析仪113可以使用安装在客户位置处的机器远程使得一种或多种抑制剂施加到单体生产。
作为另一个优点,分析仪113和FT-IR光谱仪120的组合可以允许化学添加剂的改进测试,或用于在单体生产期间减慢或停止聚合物形成的其它手段。例如,分析器113和FT-IR光谱仪120可以在一定量的化学添加剂已经施加到单体之前和之后的各个时间确定单体生产中的聚合物百分比119。这可以允许对化学添加剂进行更严密的测试和验证。
图5是用于使用傅里叶变换红外光谱仪来确定样品115的聚合物百分比的方法500的图示。方法500可以由计算设备110和一个或多个光谱仪120执行。
在510处,接收样品。样品115可以是从单体生成过程采集的单体样品并且可以由FT-IR光谱仪120接收。单体可以是苯乙烯或另一种单体,诸如二乙烯基苯、异戊二烯、丁二烯、丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯醛、乙酸乙烯酯或氯乙烯。可以支持其它单体。根据实施例,样品115可以来自当前单体生产过程并且可以包含多于一种单体连同多于一种聚合物,并且还可以包含水。
在520处,对所接收到的样品执行FT-IR分析。分析可以由FT-IR光谱仪120执行。作为分析的一部分,FT-IR光谱仪120可以从样品115生成光谱122。光谱122可以包括由光谱仪120针对一组波长测量的值。
在530处,通过对光谱数据的数学相关处理来确定样品中聚合物的百分比。在一些实施例中,聚合物百分比119可以由分析仪113确定:基于分析来识别至少一个峰;使用对所选择的峰的积分来确定所选择的峰下的面积;并且将所确定的面积与校正曲线117进行比较。对于单体诸如苯乙烯,所识别的峰可以是波长诸如2923cm-1。对于其它单体,分析仪113可以考虑不同的波长。
校正曲线117可以特定于正被采样的单体,并且可以是将所选择的峰下的面积与聚合物百分比119关联的映射或函数。所确定的聚合物百分比119可以用于多种目的,诸如选择要执行的补救措施。补救措施可以包括将聚合物抑制剂施加到单体生产过程。
图6是用于使用傅里叶变换红外光谱仪来确定样品115的聚合物百分比的方法600的图示。方法600可以由计算设备110和一个或多个光谱仪120执行。
在610处,接收样品。样品115可以是从单体生成过程采集的单体样品并且可以由FT-IR光谱仪120接收。样品115可以包含多于一种单体连同聚合物,并且还可以包含水。
在620处,生成光谱数据。光谱数据可以是由FT-IR光谱仪120生成的光谱122的一部分。根据实施例,光谱数据可以是图。
在630处,识别至少一个峰。该至少一个峰可以由分析仪113识别。所识别的特定峰可能取决于正被生成的特定单体。每个单体可以与不同的峰相关联。例如,对于单体苯乙烯,峰可以位于2923cm-1处。
在640处,计算该至少一个峰下的面积。该至少一个峰下的面积可以由分析仪113使用例如积分来计算。
在650处,将面积与单体特定的校正曲线进行比较。可以由分析仪113将面积与单体特定的校正曲线117进行比较。校正曲线117可以特定于被研究的聚合物,诸如苯乙烯。曲线117可能已经通过在单体生产过程的不同阶段期间测量特定聚合物的浓度连同光谱数据而预先确定。
在660处,基于该比较来确定样品中该至少一种聚合物的百分比。该百分比可以由分析仪113确定。
图7示出了可以在其中实现示例性实施例和方面的示范性计算环境。计算设备环境仅是合适的计算环境的一个示例,并不旨在暗示对使用范围或功能性的任何限制。
可以使用许多其它通用或专用计算设备环境或配置。可以适合使用的众所周知的计算设备、环境和/或配置的示例包括但不限于个人计算机、服务器计算机、手持或膝上型设备、多处理器系统、基于微处理器的系统、网络个人计算机(PC)、小型计算机、大型计算机、嵌入式系统、包括上述系统或设备中的任一者的分布式计算环境等。
可以使用由计算机执行的计算机可执行指令,诸如程序模块。一般来讲,程序模块包括执行特定任务或实现特定抽象数据类型的例程、程序、对象、组件、数据结构等。可以使用分布式计算环境,其中任务由通过通信网络或其它数据传输介质链接的远程处理设备执行。在分布式计算环境中,程序模块和其它数据可以位于本地和远程计算机存储介质(包括存储器存储设备)两者中。
参考图7,用于实现本文所述的方面的示范性系统包括计算设备,诸如计算设备700。在其最基本配置中,计算设备700通常包括至少一个处理单元702和存储器704。根据计算设备的确切配置和类型,存储器704可以是易失性的(诸如随机存取存储器(RAM))、非易失性的(妆容只读存储器(ROM)、闪存存储器等)或者这两者的某种组合。这种最基本配置在图7中通过虚线706展示。
计算设备700可以具有附加特征/功能性。例如,计算设备700可以包括附加存储装置(可移动和/或不可移动),包括但不限于磁盘或光盘或磁带。此类附加存储介质在图7中通过可移动存储装置708和不可移动存储装置710展示。
计算设备700通常包括各种计算机可读介质。计算机可读介质可以是可以被设备700访问的任何可用介质,并且包括易失性和非易失性介质、可移动和不可移动介质两者。
计算机存储介质包括以用于存储信息(诸如计算机可读指令、数据结构、程序模块或其它数据)的任何方法或技术实现的易失性和非易失性、以及可移动和不可移动的介质。存储器704、可移动存储装置708和不可移动存储装置710都是计算机存储介质的示例。计算机存储介质包括但不限于RAM、ROM、电可擦除可编程只读存储器(EEPROM)、闪存存储器或其它存储器技术、CD-ROM、数字通用光盘(DVD)或其它光学存储器、盒式磁带、磁带、磁盘存储装置或其它磁性存储设备、或可以用于存储期望信息并且可以被计算设备400访问的任何其它介质。任何此类计算机存储介质可以是计算设备700的一部分。
计算设备700可以包含允许该设备与其它设备通信的通信连接712。计算设备700还可以具有输入设备714,诸如键盘、鼠标、笔、语音输入设备、触摸输入设备等。输出设备716,诸如显示器、扬声器、打印机等也可以被包括在内。所有这些设备在本领域中是众所周知的并且不需要在这里详细讨论。
应当理解,本文所述的各种技术可以结合硬件组件或软件组件来实现,或者在适当的情况下结合两者的组合来实现。可以使用的例示性硬件组件类型包括现场可编程门阵列(FPGA)、专用集成电路(ASIC)、专用标准产品(ASSP)、片上系统(SOC)、复杂可编程逻辑器件(CPLD)等。当前公开主题的方法和装置或其某些方面或部分可以采用体现在有形介质中的程序代码(即指令)的形式,诸如软盘、CD-ROM、硬盘驱动器或任何其它机器可读存储介质,其中当程序代码被加载到机器(诸如计算机)中并由其执行时,该机器成为用于实践当前公开主题的装置。
尽管示范性具体实施可以指在一个或多个独立计算机系统的上下文中利用当前公开主题的方面,但是该主题不限于此,而是可以结合任何计算环境来实现,诸如网络或分布式计算环境。更进一步地,当前公开主题的方面可以在多个处理芯片或设备中或跨多个处理芯片或设备实现,并且存储装置可以类似地跨多个设备实现。例如,此类设备可以包括个人计算机、网络服务器和手持设备。
尽管主题已经以特定于结构特征和/或方法动作的语言进行了描述,但是应当理解,在所附权利要求中定义的主题不一定限于以上描述的具体特征或动作。相反,上文所描述的具体特征和动作被公开为实施权利要求的实例形式。

Claims (20)

1.一种用于监测和控制在单体生产、储存或处理过程中生成的不想要的聚合物副产物的方法,所述方法包括:
由计算设备接收在单体生产过程期间采集的样品;
由所述计算设备对所述样品执行红外光谱分析以生成光谱数据;
由所述计算设备通过对所述光谱数据的数学相关处理来确定所述样品中至少一种聚合物的百分比。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述单体包括苯乙烯、二乙烯基苯、异戊二烯、丁二烯、丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯醛、乙酸乙烯酯和氯乙烯中的一种。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述聚合物包括聚苯乙烯、聚二乙烯基苯、聚异戊二烯、聚丁二烯、聚(丙烯腈)、聚(丙烯酸)、聚(甲基丙烯酸)、聚丙烯醛、聚(乙酸乙烯酯)和聚(氯乙烯)中的一种。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述单体包括苯乙烯并且所述聚合物包括聚苯乙烯。
5.根据权利要求1所述的方法,所述方法进一步包括识别所述光谱数据中的至少一个峰;以及计算所述至少一个峰下的面积。
6.根据权利要求5所述的方法,其中所述至少一个峰包括2923cm-1的峰。
7.根据权利要求5所述的方法,其中通过对所述光谱数据的数学相关处理来确定所述样品中所述至少一种聚合物的所述百分比包括:
将所述面积与单体特定的校正曲线进行比较;以及
基于所述比较来确定所述百分比。
8.根据权利要求1所述的方法,所述方法进一步包括:基于所确定的百分比来确定要对所述单体生产过程执行的一种或多种补救措施。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述补救措施包括向所述单体生产过程加入聚合抑制剂、向所述生产过程加入阻滞剂以及向所述单体生产过程加入分散剂中的一种或多种。
10.根据权利要求1所述的方法,其中所述计算设备包括傅里叶变换红外光谱仪。
11.一种系统,所述系统包括:
红外光谱仪;
至少一个计算设备;以及
存储计算机可执行指令的存储器,所述计算机可执行指令在由所述至少一个计算设备执行时,使所述至少一个计算设备:
接收在单体生产过程期间采集的样品;
对所述样品执行红外光谱分析以生成光谱数据;
通过对所述光谱数据的数学相关处理来确定所述样品中至少一种聚合物的百分比。
12.根据权利要求11所述的系统,其中所述单体包括苯乙烯、二乙烯基苯、异戊二烯、丁二烯、丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯醛、乙酸乙烯酯和氯乙烯中的一种。
13.根据权利要求12所述的系统,其中所述聚合物包括聚苯乙烯、聚二乙烯基苯、聚异戊二烯、聚丁二烯、聚(丙烯腈)、聚(丙烯酸)、聚(甲基丙烯酸)、聚丙烯醛、聚(乙酸乙烯酯)或聚(氯乙烯)中的一种。
14.根据权利要求12所述的系统,其中所述单体包括苯乙烯并且所述聚合物包括聚苯乙烯。
15.根据权利要求12所述的系统,所述系统进一步包括计算机可执行指令,所述计算机可执行指令在由所述至少一个计算设备执行时,使所述至少一个计算设备:识别所述光谱数据中的至少一个峰;并且计算所述至少一个峰下的面积。
16.根据权利要求15所述的系统,其中所述至少一个峰包括2923cm-1的峰。
17.根据权利要求15所述的系统,其中通过对所述光谱数据的数学相关处理来确定所述样品中至少一种聚合物的所述百分比包括:
将所述面积与单体特定的校正曲线进行比较;以及
基于所述比较来确定所述百分比。
18.根据权利要求17所述的系统,所述系统进一步包括:基于所确定的百分比来确定要对所述单体生产过程执行的一种或多种补救措施。
19.根据权利要求17所述的系统,其中所述补救措施包括向所述单体生产过程加入聚合抑制剂、向所述生产过程加入阻滞剂以及向所述单体生产过程加入分散剂中的一种或多种。
20.一种方法,所述方法包括:
由计算设备接收在单体生产过程期间采集的样品;
由所述计算设备对所述样品执行红外光谱分析以生成光谱数据;
由所述计算设备识别所述光谱数据中的至少一个峰;
由所述计算设备计算所述至少一个峰下的面积;
由所述计算设备将所述面积与单体特定的校正曲线进行比较;以及
基于由所述计算设备进行的所述比较来确定所述样品中至少一种聚合物的百分比。
CN202180088497.5A 2020-12-29 2021-12-21 使用红外光谱分析来监测和控制在单体生产、储存和处理中生成的不想要的聚合物副产物 Pending CN116783470A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US202063131529P 2020-12-29 2020-12-29
US63/131,529 2020-12-29
PCT/US2021/064496 WO2022146764A1 (en) 2020-12-29 2021-12-21 Monitoring and control of unwanted polymer by-product generated in monomers production, storage, and handling using infrared spectroscopy analysis

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN116783470A true CN116783470A (zh) 2023-09-19

Family

ID=79686765

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202180088497.5A Pending CN116783470A (zh) 2020-12-29 2021-12-21 使用红外光谱分析来监测和控制在单体生产、储存和处理中生成的不想要的聚合物副产物

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20240060884A1 (zh)
KR (1) KR20230163353A (zh)
CN (1) CN116783470A (zh)
AR (1) AR124396A1 (zh)
CA (1) CA3203836A1 (zh)
TW (1) TW202229842A (zh)
WO (1) WO2022146764A1 (zh)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6864331B1 (en) * 2003-12-09 2005-03-08 Fina Technology, Inc. Process for the production of polymers

Also Published As

Publication number Publication date
WO2022146764A1 (en) 2022-07-07
US20240060884A1 (en) 2024-02-22
AR124396A1 (es) 2023-03-22
KR20230163353A (ko) 2023-11-30
TW202229842A (zh) 2022-08-01
CA3203836A1 (en) 2022-07-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI468666B (zh) 在一樣本中監控,偵測及量化化學化合物
CN108603867B (zh) 峰检测方法以及数据处理装置
KR101215367B1 (ko) 에칭 장치, 분석 장치, 에칭 처리 방법, 및 에칭 처리 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 매체
US8005628B2 (en) Systems and methods for baseline correction using non-linear normalization
EP2710353B1 (en) SPECTROSCOPIC APPARATUS AND METHOD of DETERMINING COMPONENTS PRESENT IN A SAMPLE
US20100100336A1 (en) Methods of automated spectral peak detection and quantification without user input
US20120016597A1 (en) Method for gas chromatgraphy analysis and maintenance
EP2725440A1 (en) Prediction device, prediction method and prediction program
Zhang et al. A novel approach for simple statistical analysis of high-resolution mass spectra
Buback et al. Termination Kinetics of Dibutyl Itaconate Free‐Radical Polymerization Studied via the SP–PLP–ESR Technique
CN104990893A (zh) 一种基于相似判别的汽油辛烷值检测方法
JP4953175B2 (ja) クロマトグラフ/質量分析装置における定量精度向上方法
CN116783470A (zh) 使用红外光谱分析来监测和控制在单体生产、储存和处理中生成的不想要的聚合物副产物
US11404253B2 (en) Plasma processing apparatus and analysis method for analyzing plasma processing data
JP4454519B2 (ja) 発光分光による少量気体種の検出
Zamora et al. Method for outlier detection: a tool to assess the consistency between laboratory data and ultraviolet–visible absorbance spectra in wastewater samples
JPH06123718A (ja) 螢光x線定性分析方法
CN111413324A (zh) 一种利用荧光背景的石脑油中痕量原油拉曼光谱检测方法
WO2019128878A1 (zh) 测试对象安全性检测方法和测试对象安全性检测设备
Bi et al. Correcting bias in log-linear instrument calibrations in the context of chemical ionization mass spectrometry
US8635045B2 (en) Methods for automatic peak finding in calorimetric data
KR101895707B1 (ko) 플라즈마 공정의 식각 종료점 진단방법
US20230417717A1 (en) Gas analyzer calibration
US6450683B1 (en) Optical temperature measurement as an in situ monitor of etch rate
CN1380541A (zh) 以光学方法测量温度并监控蚀刻率的方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination