CN116772757A - 一种用于半导体加工成品测量系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及半导体测量技术，公开了一种用于半导体加工成品测量系统，包括机体基板，在机体上设有承载部和检测部；承载部用于承载半导体成品，并进行转动，检测部位于承载部上方，用于对承载部上转动的半导体成品进行检测，且检测部包括：光源发生器，用于发射测量光束，并照射在承载部上的半导体成品上，形成反馈光束；光源接收器，用于接收半导体成品反射而至的反馈光束；光电转换单元，用于将光源接收器接收到的反馈光束转换电流信号；测定单元，用于接收光电转换单元转换后的电流信号后，并基于其生成测量结果；相较于传统的半导体成品检测来说，极大的简化了检测设备的结构复杂度，避免了外界多余的信号干扰影响，使检测结果数据更为精准。

Description

一种用于半导体加工成品测量系统

技术领域

本发明涉及半导体测量技术领域，尤其涉及一种用于半导体加工成品测量系统。

背景技术

半导体，指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。其在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，而在半导体成品作为制作半导体电路板的常用零部件，其在加工完成后，需要对其进行检测，而作为加工后的半导体成品来说，其表面平整度更是其性能指标的重要参数。

而现有技术在对半导体成品成品的表面平整度检测时，往往还存在诸多不便，其在检测时，过于依赖人工检测，造成检测人员劳动强度大，检测效率低，且检测装置结构复杂，在检测时，检测结果受到外界干扰影响较大，导致其检测精度存在误差。

发明内容

本发明目的在于提供一种用于半导体加工成品测量系统，以解决现有技术中存在的问题之一。

本发明通过下述技术方案实现：

一种用于半导体加工成品测量系统，包括机体基板，在所述机体基板上设有承载部和检测部；所述承载部用于承载半导体成品，并进行转动，所述检测部位于承载部上方，用于对承载部上转动的半导体成品进行检测，且检测部包括：

光源发生器，用于发射测量光束，并照射在承载部上的半导体成品上，形成反馈光束；

光源接收器，用于接收半导体成品反射而至的反馈光束；

光电转换单元，用于将光源接收器接收到的反馈光束转换电流信号；

测定单元，用于接收光电转换单元转换后的电流信号后，并基于其生成测量结果；

其中，光电转换单元与光源接收器信号连接，测定单元与光电转换单元信号连接。

需要说明的是，现有技术在对半导体成品（晶圆）表面的平整度进行测量时，多利用检测人员通过相关检测仪器进行肉眼检测，因此导致检测人员在检测半导体成品时，劳动强度较大，且检测效率低。基于此，在本发明中特通过设置光源发生器、光源接收区、光电转换单元和测定单元，通过上述部件的配合，在进行检测时，光源发生器发射入射光源并照射在半导体成品（晶圆）表面上，并经半导体成品表面反射后形成反馈光束照射在光源接收器，而反馈光束照射在光源接收器上时，光电转换单元可将光信号转化为电信号，并输入测定单元中对其电信号进行测定处理，以判断半导体成品表面平整度，具体来说，当入射光束照射在半导体成品上，并形成反馈光束照射在光源接收器上时，会形成一个光照区域（下称光域），而位于光域内的光电转换单元则将光信号转化为电信号输出，而由于半导体成品放置在承载部上，并始终是处于转动状态的，因此若半导体成品的表面是处于平整状态，随着半导体成品的转动，其对入射光束的反射应为完全反射（也即是近似于镜面反射），其光源接收器上的光域面积不会发生变化，因此光电转换单元转换而成的电流信号也即是恒定的，而若半导体成品表面不是处于平整状态（即其表面粗糙不平）时，随着半导体成品的转动，其表面对入射光束的反射应为不完全反射（也即是存在漫反射），其光源接收器上的光域面积则会发生波动变化，因此光电转换单元转换而成的电流信号也将随着光域面积的变化而产生波动，继而测定单元通过波动的电流信号进行处理，即可判断半导体成品表面的平整度，以此较于传统的半导体成品检测来说，其不需要过于依然检测人员，减少了检测人员的劳动强度，使其检测效率更高，并且极大的简化了检测设备的结构复杂度，避免了外界多余的信号干扰影响，从而使检测结果数据更为精准。

进一步地，所述检测部还包括设置在承载部上部屏蔽暗室，且所述屏蔽暗室的侧面开口，所述光源发生器和光源接收器相对安装在屏蔽暗室的内部上方，所述光源发生器包括激光照灯，所述光源接收器包括受光幕板。通过屏蔽暗室的设置，可避免外界自然杂光的影响，进而提升测量系统的测量精度，使其检测结果更为精准，而激光照灯可以发出激光灯束照射在半导体成品上，并反射形成反馈光束射入至光幕板上形成光域。

优选地，所述光电转换单元包括多个光敏二极管，且多个所述光敏二极管阵列布设在受光幕板上。基于上述结构，便于其将光信号转化为电流信号输出。

具体地，所述测定单元包括放大器、数字电流表和数据处理器，所述放大器与多个光敏二极管相连接，所述数据电流表的信号输入端与放大器信号连接，所述数据处理器的信号输入端与数字电流表的输入端信号连接，所述数据处理器的信号输出端通过智能网关连接有上位机。基于上述结构，可将光敏二极管转换输出的电流信号进行放大，并传输至数据电流表中，以将电流信号转化为数字信号，并传输至数据处理器中，以通过数据处理器对其进行判断处理后生成测定结果通过智能网关反馈至上位机，以便上位机根据测定结果发出相关指令。

优选地，在屏蔽暗室内还设有角度调节组件，所述角度调节组件用于对光源发生器和光源接收器的角度进行同步调节，所述角度调节组件包括驱动源、传动模组、牵引杆和连杆，所述驱动源包括安装在屏蔽暗室背部内壁上、且输出端竖直向下连接有第一锥齿轮的驱动电机，所述传动模组设有两组，且以第一锥齿轮为基准对称设置，其中，任一一组传动模组包括横向设置、一端连接有第二锥齿轮的丝杆，且第二锥齿轮与第一锥齿轮相啮合，设置在丝杆上、并通过丝杆的旋转沿其轴向方向往复移动的导块，所述牵引杆与传动模组一一对应设置，且其一端与传动模组中的导块相铰接，所述连杆设置有两根、呈V型分布、并分别与牵引杆一一对应设置，且两根所述连杆相互靠近的一端端部均连接有两个相互啮合的齿轮，两个所述齿轮转动设置在屏蔽暗室内，所述连杆的杆身中部与其相对应的牵引杆远离导块的一端相铰接。基于上述结构，在对半导体成品进行测量时，可通过角度调节组件对光源发生器和光源接收器的角度进行同步调节，以对入射光束和反馈光束的角度进行变化，使其对半导体成品测量时，能从不同的角度对半导体成品进行照射测量，实现对半导体成品进行重复全面的测定，保证测量结果的精确性，避免出现偶然结果。

具体地，两根所述连杆的另一端分别与光源发生器和光源接收器相连接。以通过连杆对光源发生器和光源接收器进行安装连接，保证其工作或在进行角度调节时的稳定性。

更为具体地，所述承载部包括旋转台和支撑件，所述旋转台包括工位板和位于工位板下部、并通过输出轴与工位板相连接的的旋转电机，在旋转电机的外部还设有外壳体，所述支撑件用于对工位板进行支撑，其包括阵列设置在工位板四周的多组液压撑杆，其中，任一液压撑杆包括撑杆和液压杆，所述撑杆的一端与机体基板相铰接，且另一端沿逐渐靠近工位板的中心位置倾斜设置，并通过滑动组与工位板转动连接，所述液压杆设有至少两根，两根所述液压杆的两端分别与机体基板和撑杆相铰接，且所述撑杆与两根液压杆在外壳体上的连接处之间的连线构成三角形。

需要说明的是，本方案在对半导体成品进行测量时，为了实现对半导体成品的表面进行全面检测测定，因此在检测时，就需要待检测品（半导体成品）或检测部二者之一进行转动，而为了保证检测部在测量过程中稳定性，避免其因自身的晃动而对测量结果造成影响，本发明中特选择通过承载部转动待检测品，以实现检测部对待检测品进行全面检测，但是这种方式在使用时，受限于承载部的结构，其在转动过程中，难以避免承载部的旋转台在转动时，对工位板造成晃动，进而影响其上设置的待检测品（半导体成品）的测量结果。有鉴于此，本发明通过设置支撑件，在旋转台带动工位板进行转动时，对工位板进行支撑稳定，使其在转动时，抑制工位板的晃动，确保其在旋转过程中，始终处于平稳状态，进而避免对半导体成品测量结果造成影响，提升测量系统的测量精度。

进一步优选地，所述承载部还包括测平件，所述测平件用于检测工位板是否处于水平状态，且测平件包括卡槽盘，磁芯棒、螺旋线圈以及提示灯，所述卡槽盘设置在屏蔽暗室内，且其内环面对应工位板设置有与其相适配的卡槽，在所述卡槽的内部设有多个螺旋线圈，所述磁芯棒设有多个，且多个磁芯棒阵列设置在工位板的四周，且上端与螺旋线圈底部相平齐，所述提示灯与螺旋线圈电连接。通过设置测平件，并基于其具体结构，在工位板转动时，还可对工位板转动时的旋转状态进行监测，确保其始终处于平稳的旋转状态，不会出现晃动，进而进一步确保检测部对半导体成品平整度测量的测量精度，保证测量结果有效准确。

本发明与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：

1、本发明通过设置光源发生器、光源接收区、光电转换单元和测定单元，通过上述部件的配合，在进行检测时，光源发生器发射入射光源并照射在半导体成品（晶圆）表面上，并经半导体成品表面反射后形成反馈光束照射在光源接收器，而反馈光束照射在光源接收器上时，光电转换单元可将光信号转化为电信号，并输入测定单元中对其电信号进行测定处理，以判断半导体成品表面平整度，也即是通过反馈光束照射在受光幕板上的光域面积变化来产生相应的波动电流信号，并基于电流信号的变化波动来判断测量半导体成品表面的平整度，相较于传统的半导体成品检测来说，其不需要过于依然检测人员，减少了检测人员的劳动强度，使其检测效率更高，并且极大的简化了检测设备的结构复杂度，避免了外界多余的信号干扰影响，从而使检测结果数据更为精准；

2、本发明通过设置角度调节组件，在对半导体成品进行测量时，通过其光源发生器和光源接收器的角度进行同步调节，以对入射光束和反馈光束的角度进行变化，使其对半导体成品测量时，能从不同的角度对半导体成品进行照射测量，实现对半导体成品进行重复全面的测定，保证测量结果的精确性，避免出现偶然结果；

3、本发明通过设置支撑件，在旋转台带动工位板进行转动时，对工位板进行支撑稳定，使其在转动时，抑制工位板的晃动，确保其在旋转过程中，始终处于平稳状态，进而避免对半导体成品测量结果造成影响，提升测量系统的测量精度；

4、本发明还巧妙地设置测平件，并基于其具体结构，在工位板转动时，还可对工位板转动时的旋转状态进行监测，确保其始终处于平稳的旋转状态，不会出现晃动，进而进一步确保检测部对半导体成品平整度测量的测量精度，保证测量结果有效准确。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明实施例的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本发明实施例的限定。在附图中：

图1为本发明检测部流程图，旨在展示信号流向；

图2为本发明的结构示意图，旨在展示具体结构；

图3为本发明的角度调节件的结构示意图；

图4为本发明角度调节件的运动状态示意图；

图5为本发明图1的A处局部放大结构示意图，旨在展示测平件具体结构。

附图标记所代表的为：1、机体基板；10、光源发生器；100、激光照灯；11、光源接收器；110、受光幕板；12、光电转换单元；120、光敏二极管；13、测定单元；14、屏蔽暗室；2、角度调节组件；20、驱动源；200、驱动电机；201、第一锥齿轮；21、传动模组；210、丝杆；211、第二锥齿轮；212、导块；22、牵引杆；23、连杆；30、工位板；31、旋转台；310、旋转电机；311、输出轴；312、外壳体；32、液压撑杆；320、撑杆；321、液压杆；40、测平件；400、卡槽盘；401、磁芯棒；402、螺旋线圈；403、提示灯；5、半导体成品。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本发明作进一步的详细说明，本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明，并不作为对本发明的限定。需要说明的是，本发明已经处于实际研发使用阶段。

实施例1

请参阅图1至图2所示，本实施例公开了一种用于半导体加工成品测量系统，包括机体基板1，在机体基板1上设有承载部和检测部；承载部用于承载半导体成品5，并进行转动，检测部位于承载部上方，用于对承载部上转动的半导体成品5进行检测，且检测部包括：

光源发生器10，用于发射测量光束，并照射在承载部上的半导体成品5上，形成反馈光束；

光源接收器11，用于接收半导体成品5反射而至的反馈光束；

光电转换单元12，用于将光源接收器11接收到的反馈光束转换电流信号；

测定单元13，用于接收光电转换单元12转换后的电流信号后，并基于其生成测量结果；

其中，光电转换单元12与光源接收器11信号连接，测定单元13与光电转换单元12信号连接。

需要说明的是，本方案对半导体成品5表面的平整度的测量，是通过光源发生器10、光源接收区、光电转换单元12和测定单元13的相互配合，在进行检测时，光源发生器10发射入射光源并照射在半导体成品5表面上，并经半导体成品5表面反射后形成反馈光束照射在光源接收器11，而反馈光束照射在光源接收器11上时，光电转换单元12可将光信号转化为电信号，并输入测定单元13中对其电信号进行测定处理，以判断半导体成品5表面平整度，也即是通过反馈光束照射在受光幕板110上的光域面积变化来产生相应的波动电流信号，并基于电流信号的变化波动来判断测量半导体成品5表面的平整度。

这里对其测量过程进行具体说明：当入射光束照射在半导体成品5上，并形成反馈光束照射在光源接收器11上时，会形成一个光照区域（下称光域），而位于光域内的光电转换单元12则将光信号转化为电信号输出，而由于半导体成品5放置在承载部上，并始终是处于转动状态的，因此若半导体成品5的表面是处于平整状态，随着半导体成品5的转动，其对入射光束的反射应为完全反射（也即是近似于镜面反射），其光源接收器11上的光域面积不会发生变化，因此光电转换单元12转换而成的电流信号也即是恒定的，而若半导体成品5表面不是处于平整状态（即其表面粗糙不平）时，随着半导体成品5的转动，其表面对入射光束的反射应为不完全反射（也即是存在漫反射），其光源接收器11上的光域面积则会发生波动变化，因此光电转换单元12转换而成的电流信号也将随着光域面积的变化而产生波动，继而测定单元13通过波动的电流信号进行处理，即可判断半导体成品5表面的平整度。因此本发明所实施的测量系统，相较于传统的半导体成品5检测技术来说，其不需要过于依然检测人员，减少了检测人员的劳动强度，使其检测效率更高，并且极大的简化了检测设备的结构复杂度，避免了外界多余的信号干扰影响，从而使检测结果数据更为精准。

基于上述实施，优选地是，在承载部上部还设有屏蔽暗室14，且屏蔽暗室14的侧面开口，光源发生器10和光源接收器11相对安装在屏蔽暗室14的内部上方，光源发生器10包括激光照灯100，光源接收器11包括受光幕板110。在测量时，激光照灯100可以发出激光灯束照射在半导体成品5上，并反射形成反馈光束射入至光幕板上形成光域，而通过屏蔽暗室14的设置，可避免外界自然杂光的影响，进而提升测量系统的测量精度，使其检测结果更为精准。

基于上述实施例，优选地是，光电转换单元12包括多个光敏二极管120，且多个光敏二极管120阵列布设在受光幕板110上。以便于反馈光束照射在受光幕板110上，形成光照区域（光域），光敏二极管120可将光域内的光信号转换为电信号输出，并且能根据光域面积的变化，转换为波动的电流信号。

基于上述实施，这里对测定单元13进行具体说明，测定单元13包括放大器、数字电流表和数据处理器，放大器与多个光敏二极管120相连接，数据电流表的信号输入端与放大器信号连接，数据处理器的信号输入端与数字电流表的输入端信号连接，数据处理器的信号输出端通过智能网关连接有上位机。基于上述结构，可将光敏二极管120转换输出的电流信号进行放大，并传输至数据电流表中，以将电流信号转化为数字信号，并传输至数据处理器中，以通过数据处理器对其进行判断处理后生成测定结果通过智能网关反馈至上位机，以便上位机根据测定结果发出相关指令，需要说明的是，放大器的作用是用于对光敏二极管120转换的电流信号进行放大，以便数据电流变采集识别电流信号的波动变化，并生成相应数字信号，而数据处理器用于对数字信号进行计算处理，进一步来说，本实施例中放大器、数字电流表和数据处理器均为相关购买所得，且其均为现有技术，本实施例在此不在赘述其相关原理。

实施例2

请参阅图3和图4，本实施例是基于实施例1，其与实施例1不同之处在于，为进一步提升测量系统的测量效果，本实施优选地，在屏蔽暗室14内还设有角度调节组件2，角度调节组件2用于对光源发生器10和光源接收器11的角度进行同步调节，角度调节组件2包括驱动源20、传动模组21、牵引杆22和连杆23，驱动源20包括安装在屏蔽暗室14的背部内壁上、且输出端竖直向下连接有第一锥齿轮201的驱动电机200，传动模组21设有两组，且以第一锥齿轮201为基准对称设置，其中，任一一组传动模组21包括横向设置、一端连接有第二锥齿轮211的丝杆210，且第二锥齿轮211与第一锥齿轮201相啮合，设置在丝杆210上、并通过丝杆210的旋转沿其轴向方向往复移动的导块212，牵引杆22与传动模组21一一对应设置，且其一端与传动模组21中的导块212相铰接，连杆23设置有两根、呈V型分布、并分别与牵引杆22一一对应设置，且两根连杆23相互靠近的一端端部均连接有两个相互啮合的齿轮，两个齿轮转动设置在屏蔽暗室内，连杆23的杆身中部与其相对应的牵引杆22远离导块的一端相铰接。

基于上述结构，在对半导体成品5进行测量时，可通过角度调节组件2对光源发生器10和光源接收器11的角度进行同步调节，以对入射光束和反馈光束的角度进行变化，使其对半导体成品5测量时，能从不同的角度对半导体成品5进行照射测量，实现对半导体成品5进行重复全面的测定，保证测量结果的精确性，避免出现偶然结果。这里需要说明：当对光源发生器10进行调节进行调节时，为了保证反馈光束依然能照射在光源接收器11上，因此就需要调节光源发生器10的同时，实现对光源接收器11的角度进行同步调节，因此本发明中的角度调节组件2具体过程如下：角度调节时，驱动电机200通电工作，带动第一锥齿轮201旋转，当第一锥齿轮201旋转后，其通过与其相啮合的两个第二锥齿轮211分别同时带动两根丝杆210转动，以使丝杆210转动后带动其上的导块移动，进而使导块移动后通过分别通过牵引杆22两根连杆23偏转，两连根连杆23之间呈V型分布，且其相互靠近的一端均连接有相互啮合的齿轮，因此其中一根连杆23偏转，另一根连杆23也随之沿远离（或靠近）其的方向转动，也即是连杆23的转动轨迹近似于以齿轮为圆心，连杆23的长度为半径的相互靠近或远离的圆周运动（如图4所作的示意图）。

基于上述实施例，具体地，两根连杆23的另一端分别与光源发生器10和光源接收器11相连接。以通过连杆23对光源发生器10和光源接收器11进行安装连接，保证其工作或在进行角度调节时的稳定性。

实施例3

本实施例是基于实施例1和实施例2，请参阅图1，提出的又一优选实施方式，具体来说，承载部包括旋转台31和支撑件，旋转台31包括工位板30和位于工位板30下部、并通过输出轴311与工位板30相连接的的旋转电机310，在旋转电机310的外部还设有外壳体312，支撑件用于对工位板30进行支撑，其包括阵列设置在工位板30四周的多组液压撑杆32，其中，任一液压撑杆32包括撑杆320和液压杆321，撑杆320的一端与机体基板1相铰接，且另一端沿逐渐靠近工位板30的中心位置倾斜设置，并通过滑动组与工位板30转动连接，液压杆321设有至少两根，两根液压杆321的两端分别与机体基板1和撑杆320相铰接，且撑杆320与两根液压杆321在外壳体312上的连接处之间的连线构成三角形。

需要说明的是，本发明通过设置支撑件，在旋转台31带动工位板30进行转动时，对工位板30进行支撑稳定，使其在转动时，抑制工位板30的晃动，确保其在旋转过程中，始终处于平稳状态，进而避免对半导体成品5测量结果造成影响，提升测量系统的测量精度。具体来说，就是由于液压撑杆32阵列设置在工位板30的四周，而任一液压撑杆32包括撑杆320和两根液压杆321，且撑杆320与两根液压杆321在外壳体312上的连接处之间的连线构成三角形，因此其可对工位板30的四周进行稳定支撑，大大抑制了工位板30转动时产生的偏转晃动，也即是当工位板30存在晃动的趋势时，其瞬时状态是工位板30的一侧边缘向下，而与其相对的另一侧边缘是向上的，而在这个状态下时，位于其向下边缘处的液压撑杆32会受到压缩，进而对其产生向上的支撑力，而位于向上边缘处的液压撑杆32则会拉伸，进而对其产生向下的拉紧力，以此通过支撑力和拉紧力对工位板30进行拉扯平衡。进一步需要指出的是，撑杆320的上端是通过滑动组与工位板30转动连接，因此撑杆320在对工位板30进行支撑时，不会对工位板30的转动造成阻碍。这里进一步对滑动组的一种优选的实施方式进行说明，其包括开设在工位板30下部一圈的滑槽，以及滑动设置在滑槽的内的滑块，而滑块的底部与撑杆320铰接，以此即可实现工位板30转动时，撑杆320依然可进行支撑。

基于上述实施例，为进一步进确保检测部对半导体成品5平整度测量的测量精度，保证测量结果有效准确，如图5所示，承载部的又一优选方式为：还包括测平件40，测平件40用于检测工位板30是否处于水平状态，且测平件40包括卡槽盘400，磁芯棒401、螺旋线圈402以及提示灯403，卡槽盘400设置在屏蔽暗室内，且其内环面对应工位板30设置有与其相适配的卡槽，在卡槽的内部设有多个螺旋线圈402，磁芯棒401设有多个，且多个磁芯棒401阵列设置在工位板30的四周，且磁芯棒401上端与螺旋线圈402底部相平齐，同时提示灯403与螺旋线圈402电连接。通过设置测平件40，并基于其具体结构，在工位板30转动时，还可对工位板30转动时的旋转状态进行监测，确保其始终处于平稳的旋转状态，不会出现晃动，具体来说，就是初始时，工位板30处于水平状态，此时磁芯棒401未穿过螺旋线圈402，而当工位板30受到外力影响而发生晃动时，其边缘处将带动磁芯棒401进行上下偏转移动，以使磁芯棒401穿过螺旋线圈402移动，而由于磁芯棒401在螺旋线圈402内移动后，其产生的磁感线穿过的螺旋线圈的条数增加（也即是通过线圈的磁通增加），因此螺旋线圈会产生微弱电流，进而接通提示灯403的电流，使其闪烁，以对检测人员进行提示，以便于检测人员暂停检测工作，而对装置进行调节，这里补充说明的是，磁芯棒401可以看作是一个柱状磁铁，其两端磁极相反，在其上端进入（或退出）螺旋线圈402时，其磁通均会产生变化，并产生相应的感应电流，以接通提示灯403的电流，同时通过楞次定理可知，当磁芯棒401在插入螺旋线圈402的过程中，螺旋线圈402会产生感应电流，而感应电流会阻碍磁芯棒401相对于螺旋线圈402的运动，以此在一定程度上可以降低工位板30的晃动。

以上的具体实施方式，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上仅为本发明的具体实施方式而已，并不用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种用于半导体加工成品测量系统，包括机体基板（1），其特征在于，在所述机体基板（1）上设有承载部和检测部；所述承载部用于承载半导体成品（5）并进行转动，所述检测部位于承载部上方，用于对承载部上转动的半导体成品（5）进行检测，且检测部包括：

光源发生器（10），用于发射测量光束，并照射在承载部上的半导体成品（5）上，形成反馈光束；

光源接收器（11），用于接收半导体成品（5）反射而至的反馈光束；

光电转换单元（12），用于将光源接收器（11）接收到的反馈光束转换电流信号；

测定单元（13），用于接收光电转换单元（12）转换后的电流信号后，并基于其生成测量结果；

其中，光电转换单元（12）与光源接收器（11）信号连接，测定单元（13）与光电转换单元（12）信号连接。

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体加工成品测量系统，其特征在于：所述检测部还包括设置在承载部上部屏蔽暗室（14），且所述屏蔽暗室（14）的侧面开口，所述光源发生器（10）和光源接收器（11）相对安装在屏蔽暗室（14）的内部上方，所述光源发生器（10）包括激光照灯（100），所述光源接收器（11）包括受光幕板（110）。

3.根据权利要求2所述的一种用于半导体加工成品测量系统，其特征在于：所述光电转换单元（12）包括多个光敏二极管（120），且多个所述光敏二极管（120）阵列布设在受光幕板（110）上。

4.根据权利要求1所述的一种用于半导体加工成品测量系统，其特征在于：所述测定单元（13）包括放大器、数字电流表和数据处理器，所述放大器与多个光敏二极管（120）相连接，所述数据电流表的信号输入端与放大器信号连接，所述数据处理器的信号输入端与数字电流表的输入端信号连接，所述数据处理器的信号输出端通过智能网关连接有上位机。

5.根据权利要求2所述的一种用于半导体加工成品测量系统，其特征在于：在屏蔽暗室（14）内还设有角度调节组件（2），所述角度调节组件（2）用于对光源发生器（10）和光源接收器（11）的角度进行同步调节，所述角度调节组件（2）包括驱动源（20）、传动模组（21）、牵引杆（22）和连杆（23），所述驱动源（20）包括安装在屏蔽暗室（14）的背部内壁上、且输出端竖直向下连接有第一锥齿轮（201）的驱动电机（200），所述传动模组（21）设有两组，且以第一锥齿轮（201）为基准对称设置，其中，任一一组传动模组（21）包括横向设置、一端连接有第二锥齿轮（211）的丝杆（210），且第二锥齿轮（211）与第一锥齿轮（201）相啮合，设置在丝杆（210）上、并通过丝杆（210）的旋转沿其轴向方向往复移动的导块（212），所述牵引杆（22）与传动模组（21）一一对应设置，且其一端与传动模组（21）中的导块（212）相铰接，所述连杆（23）设置有两根、呈V型分布、并分别与牵引杆（22）一一对应设置，且两根所述连杆（23）相互靠近的一端端部均连接有两个相互啮合的齿轮，两个所述齿轮转动设置在屏蔽暗室内，所述连杆（23）的杆身中部与其相对应的牵引杆（22）远离导块的一端相铰接。

6.根据权利要求5所述的一种用于半导体加工成品测量系统，其特征在于：两根所述连杆（23）的另一端分别与光源发生器（10）和光源接收器（11）相连接。

7.根据权利要求1所述的一种用于半导体加工成品测量系统，其特征在于：所述承载部包括旋转台（31）和支撑件，所述旋转台（31）包括工位板（30）和位于工位板（30）下部、并通过输出轴（311）与工位板（30）相连接的的旋转电机（310），在旋转电机（310）的外部还设有外壳体（312），所述支撑件用于对工位板（30）进行支撑，其包括阵列设置在工位板（30）四周的多组液压撑杆（32），其中，任一液压撑杆（32）包括撑杆（320）和液压杆（321），所述撑杆（320）的一端与机体基板（1）相铰接，且另一端沿逐渐靠近工位板（30）的中心位置倾斜设置，并通过滑动组与工位板（30）转动连接，所述液压杆（321）设有至少两根，两根所述液压杆（321）的两端分别与机体基板（1）和撑杆（320）相铰接，且所述撑杆（320）与两根液压杆（321）在外壳体（312）上的连接处之间的连线构成三角形。

8.根据权利要求1所述的一种用于半导体加工成品测量系统，其特征在于：所述承载部还包括测平件（40），所述测平件（40）用于检测工位板（30）是否处于水平状态，且测平件（40）包括卡槽盘（400），磁芯棒（401）、螺旋线圈（402）以及提示灯（403），所述卡槽盘（400）设置在屏蔽暗室内，且其内环面对应工位板设置有与其相适配的卡槽，在所述卡槽的内部设有多个螺旋线圈（402），所述磁芯棒（401）设有多个，且多个磁芯棒（401）阵列设置在工位板（30）的四周，其上端与螺旋线圈（402）底部相平齐，所述提示灯（403）与螺旋线圈（402）电连接。