CN116653097A - 一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备，包括陶瓷立式旋转器，所述陶瓷立式旋转器上转动安装有四个所述陶瓷上釉抓取臂，陶瓷立式旋转器的一侧以及陶瓷上釉抓取臂的下方设置有乳浊上釉箱，陶瓷立式旋转器的前侧以及一侧设置有上料输送机和下料输送机，并且上料输送机和下料输送机之间相互垂直设置，同时所述上料输送机和下料输送机上均设开设有陶瓷放置槽组，以及所述上料输送机和下料输送机上均安装有上料翻转机和下料翻转机。本发明可以实现双面上釉的同时，还可以实现单面上釉，其次，可以提高陶瓷坯上釉的效率和效果，另外，降低釉料附着到输送带表面的情况。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷坯乳浊上釉技术领域，具体为一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备。
背景技术
乳浊釉又称"盖地釉"。陶瓷坯体上不透明的玻璃状覆盖层，可以掩盖坯体的颜色和缺陷。是在普通透明釉中添加乳浊剂而形成的。此外，釉层中含有大量微细气泡时也可形成乳浊，传统青釉的乳浊性主要是这种气相乳浊作用。
现有陶瓷的乳浊上釉分为两种，一种为双面上釉，另一种为单面上釉，双面上釉是将陶瓷坯的内外表面均附着有一层乳浊釉料，而单面上釉只对陶瓷外表面附着一层乳浊釉料，陶瓷具体的上釉方式，大多是根据人工放置陶瓷的方式而决定的，比如公告号CN112077989A的中国发明专利文献所记载的一种陶瓷杯上釉用设备，其通过电动吸盘将陶瓷吸附，陶瓷的上釉方式，完全取决于陶瓷的放置方式，双面上釉需要人工将其倒立放置(器口朝下)，反之，单面上釉则需要人工将其正常竖立放置(器口朝上)，人工放置陶瓷失误率高，且非常容易发生人工放置错乱的情况；
再比如公告号CN216658385U的中国实用新型专利文献所记载的一种自动化陶瓷容器上釉设备，其将陶瓷放置到放置盘上，通过负压将陶瓷吸附，上釉的方式，也完全取决于人工放置陶瓷的方式所决定的。
目前，设备对陶瓷单面上釉和双面上釉完全取决与人工放置陶瓷的方式，在后续更换上釉的陶瓷器型时，如果该陶瓷器型与上次生产的陶瓷器型不一样，亦或是上釉的方式不一样时，人工就需要更换陶瓷的放置方式，长时间且频繁的更换，会经常出现陶瓷放置出现错误，残次品会时常发生，另外，现有设备在对其陶瓷附着乳浊釉料时，大多为静止状态，比如公告号CN112077989A的中国发明专利文献所记载的一种陶瓷杯上釉用设备，这样就会造成内侧表面的附着效果不理想，同时后续附着的乳浊釉料还会滴落附着在输送带上，致使需要定期且频繁的清洁。
也有部分带动陶瓷在其釉料内旋转，比如公告号CN216658385U的中国实用新型专利文献所记载的一种自动化陶瓷容器上釉设备，但是带动陶瓷旋转，附着在陶瓷的釉料，因受到离心力的原因，所以会非常容易外溅在外，严重污染周围的环境。
发明内容
本发明的目的在于提供一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备，以解决上述背景技术中提出的问题。为实现上述目的，本发提供一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备，包括一种乳浊青釉瓷器的生产工艺，其特征是包括如下工艺步骤：
1)原料选取，配料、吃浆、巩固、脱膜、修沾、预干燥成型工艺后制成的瓷器坯体；
2)坯体的预干燥是在注浆车间内进行自然干燥的，在工人下班后的16小时内，注浆车间内保持高温度(33～40℃)、高湿度(40％一60％)，使坯体缓慢的干燥，经预干燥后，湿坯休的含水率从15％～17％下降到8％一10％即可；亦或是将坯体放置到预干燥设备内，预干燥设备内部同样保持高温度、高湿度，致使通过设备加快坯体的干燥速度；
3)将预干燥陶瓷坯成批的放置到上料输送机上开设的陶瓷放置槽组上，上料输送机对其成批的陶瓷坯进行输送，后续陶瓷坯被上料翻转机抓取，然后被上料翻转机抓取的陶瓷再被陶瓷上釉抓取臂抓取；
4)陶瓷坯的放置有两种：机械手臂放置和人工放置，机械手臂放置适用于大型工厂高效的流水线式生产，而人工放置适用于中小型工厂的半流水线生产；而上料输送机和下料输送机上开设的陶瓷放置槽组上可设置安装有磁感应传感器或是压力传感器，以及一些可检测陶瓷坯的定位式传感器，通过传感器更好的检测陶瓷坯的放置是否精准；
5)陶瓷坯如果需要双面上釉内外面，那么陶瓷坯就需要通过上料翻转机和下料翻转机被陶瓷上釉抓取臂抓取和下放，反之，不需要双面上釉内外面，只需要单面上釉外表面时，陶瓷坯就不需要通过上料翻转机和下料翻转机被陶瓷上釉抓取臂抓取和下放，直接被陶瓷上釉抓取臂抓取即可；
6)瓷器坯需要双面上釉内外面时，其状态为倒立式，而瓷器坯需要单面上釉外表面时，其状态为直立式；
7)陶瓷上釉抓取臂抓取陶瓷坯后，陶瓷立式旋转器会带动陶瓷上釉抓取臂旋转，当陶瓷上釉抓取臂旋转到乳浊上釉箱后，陶瓷坯进入其内，并做上釉处理，乳浊上釉内的釉料为乳浊釉；
8)陶瓷坯上釉完毕后，将其陶瓷坯放置到下料输送机的陶瓷放置槽组上，通过下料输送机将陶瓷坯输送到下一加工工序或是工艺的制备设备。
优选的，乳浊青釉瓷器的生产制备设备，包括陶瓷立式旋转器、陶瓷上釉抓取臂、乳浊上釉箱、上料输送机、下料输送机、陶瓷放置槽组、上料翻转机和下料翻转机，所述陶瓷立式旋转器上转动安装有四个所述陶瓷上釉抓取臂，陶瓷立式旋转器的一侧以及陶瓷上釉抓取臂的下方设置有乳浊上釉箱，陶瓷立式旋转器的前侧以及一侧设置有上料输送机和下料输送机，并且上料输送机和下料输送机之间相互垂直设置，同时所述上料输送机和下料输送机上均设开设有陶瓷放置槽组，以及所述上料输送机和下料输送机上均安装有上料翻转机和下料翻转机，上料翻转机和下料翻转机结构相同，上料输送机和下料输送机结构相同，上料输送机和下料输送机为现有公知技术中的输送带式的输送机；
陶瓷上釉抓取臂包括驱动横轴、抓起弯折臂、风干除尘风机、活动槽口、伺服马达、真空管、上釉抓取吸盘、真空软管和真空泵，驱动横轴的两端转动安装在陶瓷立式旋转器上，驱动横轴上固定安装有至少三个所述抓起弯折臂，抓起弯折臂的内外表面对应固定安装有风干除尘风机；抓起弯折臂的下端开设有活动槽口，抓起弯折臂的下端外部固定安装有伺服马达，伺服马达的输出端转动穿过抓起弯折臂的下端，并穿进活动槽口与真空管固定相连，真空管的下端固定安装有上釉抓取吸盘，真空管的上端与真空软管的一端固定相连，真空软管的另一端穿过抓起弯折臂与真空泵的输出端固定相连，真空泵固定安装在抓起弯折臂上方；上料翻转机包括横移槽口、横移丝杠、步进电机、横移平台、升降液压缸、侧向立板、驱动电机、翻转真空泵、多边辊、抓取管和翻转吸盘，上料输送机和下料输送机上均对应开设有横移槽口，横移槽口内转动安装有横移丝杠，步进电机固定安装在横移槽口内侧，横移丝杠的任一端与步进电机的输出端固定相连，横移丝杠通过滚珠螺母与横移平台固定相连，横移平台上方固定安装有升降液压缸，升降液压缸的输出端与侧向立板的下端固定相连，侧向立板设置有两个，其中一个所述侧向立板上固定安装有驱动电机，另一个所述侧向立板上固定安装有翻转真空泵，两个所述侧向立板上转动安装有多边辊，多边辊的一端转动穿过其中一个所述侧向立板与驱动电机输出端固定相连，多边辊的另一端转动穿过另一个所述侧向立板，并与翻转真空泵的输出端转动相连通，翻转真空泵的表面上固定安装有抓取管的一端，抓取管的另一端固定安装有翻转吸盘。
优选的，所述陶瓷立式旋转器包括矩形基台、安装侧耳板、抓取电机、立式主轴、放置基座、从动齿轮和驱动齿轮，矩形基台的表面上对应固定安装有安装侧耳板，安装侧耳板上转动安装有驱动横轴，驱动横轴的任一端转动穿过安装侧耳板与抓取电机的输出端固定相连，抓取电机固定安装在安装侧耳板上；矩形基台固定安装在立式主轴上，立式主轴的下端转动安装在放置基座上，立式主轴的下端固定安装有从动齿轮，从动齿轮设置在矩形基台的下方，从动齿轮与驱动齿轮啮合相连，驱动齿轮与放置基座内置旋转电机的输出端固定相连。
优选的，所述乳浊上釉箱包括浸泡上釉箱、浸泡上釉腔和支撑腿架，浸泡上釉箱上开设有浸泡上釉腔，浸泡上釉箱下方至少固定安装有三个所述支撑腿架，浸泡上釉箱设置在矩形基台的一侧，浸泡上釉箱的外侧为‘L’形，浸泡上釉箱的内侧为弧形；浸泡上釉腔为‘L’形凹槽腔。
优选的，所述矩形基台为矩形结构，矩形基台下方的放置基座为‘十’字形，放置基座的外部包裹有一层防腐橡胶套，浸泡上釉箱内侧的弧形区域允许矩形基台旋转。
优选的，所述抓起弯折臂为‘L’形抓取臂，每个所述抓起弯折臂之间最少具有三十厘米的间距，陶瓷放置槽组是由至少三个圆形凹槽所构成的槽组，陶瓷放置槽组的圆形凹槽数量和抓起弯折臂设置的数量相同。
优选的，所述多边辊为六角形辊体，多边辊的内部开设有真空腔，多边辊内部的真空腔与翻转真空泵的输出端相连通，多边辊内部的真空腔还与抓取管的一端相连通。
与现有技术相比，本发明的有益效果如下：
本发明乳浊青釉瓷器的生产制备设备，利用陶瓷上釉抓取臂，可以将需要上釉的一组陶瓷坯进行统一上釉，让上釉的效果更为一致，并且配合上料翻转机可以实现陶瓷坯的双面上釉(内外面)，也可以选择不使用上料翻转机，进而实现陶瓷坯的单面上釉(外表面)，致使本设备可以对陶瓷坯上釉的方式具有两种，适用于任何不同陶瓷器型的上釉，并且不受人工放置陶瓷的方式所限制，另外，后续再通过下料翻转机可以对双面上釉(内外面)完毕的陶瓷坯，进行再次的翻转，让上釉完毕的陶瓷坯在后续的输送过程中，一直处于直立状态(陶瓷器口朝上)，便于对上釉完毕的陶瓷坯做后续的烘干加工处理。
本发明乳浊青釉瓷器的生产制备设备，陶瓷上釉抓取臂可以进行多角度的吸附抓取，让陶瓷上釉抓取臂自身的抓取范围更为优异，其次，在陶瓷上釉抓取臂对抓取陶瓷坯上釉的过程中，陶瓷上釉抓取臂能够将浸泡在乳浊釉内的陶瓷坯进行活动，让陶瓷坯的上釉效果更为优异，另外，在后续上釉完毕后，陶瓷上釉抓取臂会将其悬空，在悬空的同时，不仅可以对陶瓷坯表面多余的残留釉料进行静止处理，还可以进行统一的风干处理，防止后续乳浊釉滴落或是附着在下料输送机表面上，减少设备的脏污状况。
附图说明
图1为本发明乳浊青釉瓷器的生产制备设备装配完成的侧向结构示意图。
图2为本发明图1中的陶瓷立式旋转器结构示意图。
图3为本发明图2中的底部结构示意图。
图4为本发明图1的陶瓷上釉抓取臂结构示意图。
图5为本发明图1中的上料翻转机结构示意图。
图6为本发明图1中的乳浊上釉箱结构示意图。
图中：
陶瓷立式旋转器1，矩形基台11，安装侧耳板12，抓取电机13，立式主轴14，放置基座15，从动齿轮16，驱动齿轮17，陶瓷上釉抓取臂2，驱动横轴21，抓起弯折臂22，风干除尘风机23，活动槽口24，伺服马达25，真空管26，上釉抓取吸盘27，真空软管28，真空泵29，乳浊上釉箱3，浸泡上釉箱31，浸泡上釉腔32，支撑腿架33，上料输送机4，下料输送机5，陶瓷放置槽组6，上料翻转机7，横移槽口71，横移丝杠72，步进电机73，横移平台74，升降液压缸75，侧向立板76，驱动电机77，翻转真空泵78，多边辊79，抓取管710，翻转吸盘711，下料翻转机8。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等至少的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是至少或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为至少或暗示相对重要性。在发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
一种乳浊青釉瓷器的生产工艺，其特征是包括如下工艺步骤：
1)原料选取，配料、吃浆、巩固、脱膜、修沾、预干燥成型工艺后制成的瓷器坯体；
2)坯体的预干燥是在注浆车间内进行自然干燥的，在工人下班后的16小时内，注浆车间内保持高温度(33～40℃)、高湿度(40％一60％)，使坯体缓慢的干燥，经预干燥后，湿坯休的含水率从15％～17％下降到8％一10％即可；亦或是将坯体放置到预干燥设备内，预干燥设备内部同样保持高温度、高湿度，致使通过设备加快坯体的干燥速度；
3)将预干燥陶瓷坯成批的放置到上料输送机4上开设的陶瓷放置槽组6上，上料输送机4对其成批的陶瓷坯进行输送，后续陶瓷坯被上料翻转机7抓取，然后被上料翻转机7抓取的陶瓷再被陶瓷上釉抓取臂2抓取，上料输送机4的输送进给速度慢，不大于0.75m/s；
4)陶瓷坯的放置有两种：机械手臂放置和人工放置，机械手臂放置适用于大型工厂高效的流水线式生产，而人工放置适用于中小型工厂的半流水线生产；而上料输送机4和下料输送机5上开设的陶瓷放置槽组6上可设置安装有磁感应传感器或是压力传感器，以及一些可检测陶瓷坯的定位式传感器，通过传感器更好的检测陶瓷坯的放置是否精准，下料输送机5的输送进给速度较快，但不大于1.5m/s；
5)陶瓷坯如果需要双面上釉内外面，那么陶瓷坯就需要通过上料翻转机7和下料翻转机8被陶瓷上釉抓取臂2抓取和下放，反之，不需要双面上釉内外面，只需要单面上釉外表面时，陶瓷坯就不需要通过上料翻转机7和下料翻转机8被陶瓷上釉抓取臂2抓取和下放，直接被陶瓷上釉抓取臂2抓取即可，上料翻转机7和下料翻转机8会对陶瓷坯的内部底部或是外侧底部吸附抓取，陶瓷上釉抓取臂2同样如此；
6)瓷器坯被双面上釉内外面时，其状态为倒立式(被抓取的状态)，而瓷器坯需要单面上釉外表面时，其状态为直立式(被抓取的状态)，直立式的陶瓷坯器口朝上，反之，倒立式陶瓷坯器口朝下；
7)陶瓷上釉抓取臂2抓取陶瓷坯后，陶瓷立式旋转器1会带动陶瓷上釉抓取臂2旋转，当陶瓷上釉抓取臂2旋转到乳浊上釉箱3后，陶瓷坯进入其内，并做上釉处理，在浸泡上釉的过程中，陶瓷上釉抓取臂2会带动陶瓷坯进行缓慢的活动，让釉料快速且充分的遍布陶瓷坯表面；
8)陶瓷坯上釉完毕后，将其陶瓷坯放置到下料输送机5的陶瓷放置槽组6上，通过下料输送机5将陶瓷坯输送到下一加工工序或是工艺的制备设备，改下道工序设备为烘干设备。
具体的，乳浊青釉瓷器的生产制备设备，包括陶瓷立式旋转器1、陶瓷上釉抓取臂2、乳浊上釉箱3、上料输送机4、下料输送机5、陶瓷放置槽组6、上料翻转机7和下料翻转机8，所述陶瓷立式旋转器1上转动安装有四个所述陶瓷上釉抓取臂2，陶瓷立式旋转器1的一侧以及陶瓷上釉抓取臂2的下方设置有乳浊上釉箱3，陶瓷立式旋转器1的前侧以及一侧设置有上料输送机4和下料输送机5，并且上料输送机4和下料输送机5之间相互垂直设置，同时所述上料输送机4和下料输送机5上均设开设有陶瓷放置槽组6，以及所述上料输送机4和下料输送机5上均安装有上料翻转机7和下料翻转机8，上料翻转机7和下料翻转机8结构相同，上料输送机4和下料输送机5为现有公知技术中的输送带式的输送机，上料翻转机7和下料翻转机8分别安装在上料输送机4和下料输送机5的输送侧板上；
具体的，陶瓷上釉抓取臂2包括驱动横轴21、抓起弯折臂22、风干除尘风机23、活动槽口24、伺服马达25、真空管26、上釉抓取吸盘27、真空软管28和真空泵29，驱动横轴21的两端转动安装在陶瓷立式旋转器1上，驱动横轴21上固定安装有至少三个所述抓起弯折臂22，抓起弯折臂22的内外表面对应固定安装有风干除尘风机23；抓起弯折臂22的下端开设有活动槽口24，抓起弯折臂22的下端外部固定安装有伺服马达25，伺服马达25的输出端转动穿过抓起弯折臂22的下端，并穿进活动槽口24与真空管26固定相连，真空管26的下端固定安装有上釉抓取吸盘27，真空管26的上端与真空软管28的一端固定相连，真空软管28的另一端穿过抓起弯折臂22与真空泵29的输出端固定相连，真空泵29固定安装在抓起弯折臂22上方，真空管26、上釉抓取吸盘27、真空软管28和真空泵29为陶瓷坯真空吸附系统的一部分，风干除尘风机23会对陶瓷坯的表面进行做气流清洁处理，防止表面脏污随着陶瓷坯进入到釉料内，污染到釉料。
具体的，上料翻转机7包括横移槽口71、横移丝杠72、步进电机73、横移平台74、升降液压缸75、侧向立板76、驱动电机77、翻转真空泵78、多边辊79、抓取管710和翻转吸盘711，上料输送机4和下料输送机5上均对应开设有横移槽口71，横移槽口71内转动安装有横移丝杠72，步进电机73固定安装在横移槽口71内侧，横移丝杠72的任一端与步进电机73的输出端固定相连，横移丝杠72通过滚珠螺母与横移平台74固定相连，横移平台74上方固定安装有升降液压缸75，升降液压缸75的输出端与侧向立板76的下端固定相连，侧向立板76设置有两个，其中一个所述侧向立板76上固定安装有驱动电机77，另一个所述侧向立板76上固定安装有翻转真空泵78，两个所述侧向立板76上转动安装有多边辊79，多边辊79的一端转动穿过其中一个所述侧向立板76与驱动电机77输出端固定相连，多边辊79的另一端转动穿过另一个所述侧向立板76，并与翻转真空泵78的输出端转动相连通，翻转真空泵78的表面上固定安装有抓取管710的一端，抓取管710的另一端固定安装有翻转吸盘711，横移槽口71的两端区域分别为翻转区域和不翻转区域，靠近步进电机73的区域为不翻转区域，反之，远离步进电机73的区域为翻转区域，横移槽口71开设在上料输送机4和下料输送机5的输送侧板上。
具体的，所述陶瓷立式旋转器1包括矩形基台11、安装侧耳板12、抓取电机13、立式主轴14、放置基座15、从动齿轮16和驱动齿轮17，矩形基台11的表面上对应固定安装有安装侧耳板12，安装侧耳板12上转动安装有驱动横轴21，驱动横轴21的任一端转动穿过安装侧耳板12与抓取电机13的输出端固定相连，抓取电机13固定安装在安装侧耳板12上；矩形基台11固定安装在立式主轴14上，立式主轴14的下端转动安装在放置基座15上，立式主轴14的下端固定安装有从动齿轮16，从动齿轮16设置在矩形基台11的下方，从动齿轮16与驱动齿轮17啮合相连，驱动齿轮17与放置基座15内置旋转电机的输出端固定相连，四个陶瓷上釉抓取臂2分别设置在矩形基台11的四个表面上。
具体的，所述乳浊上釉箱3包括浸泡上釉箱31、浸泡上釉腔32和支撑腿架33，浸泡上釉箱31上开设有浸泡上釉腔32，浸泡上釉箱31下方至少固定安装有三个所述支撑腿架33，浸泡上釉箱31设置在矩形基台11的一侧，浸泡上釉箱31的外侧为‘L’形，浸泡上釉箱31的内侧为弧形；浸泡上釉腔32为‘L’形凹槽腔，乳浊上釉箱3上方一直会有两个陶瓷上釉抓取臂2，其中一个陶瓷上釉抓取臂2为浸泡上釉臂，另一个陶瓷上釉抓取臂2为风干静止臂。
具体的，所述矩形基台11为矩形结构，矩形基台11下方的放置基座15为‘十’字形，浸泡上釉箱31内侧的弧形区域允许矩形基台11旋转。
具体的，所述抓起弯折臂22为‘L’形抓取臂，每个所述抓起弯折臂22之间最少具有三十厘米的间距，陶瓷放置槽组6是由至少三个圆形凹槽所构成的槽组，陶瓷放置槽组6的圆形凹槽数量和抓起弯折臂22设置的数量相同。
具体的，所述多边辊79为六角形辊体，多边辊79的内部开设有真空腔，多边辊79内部的真空腔与翻转真空泵78的输出端相连通，多边辊79内部的真空腔还与抓取管710的一端相连通,多边辊79的内部开设有真空腔、翻转真空泵78和翻转吸盘711为真空吸附系统的一部分。
综上所述：陶瓷坯需要进行如浊上釉时，通过机械手臂或是人工将陶瓷坯放置到上料输送机4的陶瓷放置槽组6上(陶瓷器口始终朝上，也就是正常的竖立放置)，上料输送机4带动陶瓷坯进行输送，如果上料输送机4上输送的陶瓷坯需要双面上釉(内外面)时，优先打开上料翻转机7的步进电机73，步进电机73带动横移丝杠72，横移丝杠72通过滚珠螺母带动横移平台74，横移平台74带动自身上的结构进行从不翻转区域移动到翻转区域位置，当陶瓷坯输送到其下方时，升降液压缸75带动侧向立板76下降，侧向立板76带动多边辊79，多边辊79通过抓取管710和翻转吸盘711将陶瓷坯的内部地面吸附，然后上升复位侧向立板，此时通过驱动电机77带动多边辊79旋转，当被吸附的陶瓷坯移动到多边辊79的最上方后，陶瓷立式旋转器1的抓取电机13带动陶瓷上釉抓取臂2的驱动横轴21，驱动横轴21带动至少三个抓起弯折臂22旋转，再次过程中，抓起弯折臂22的伺服马达25带动真空管26，让真空管26与陶瓷坯逐步处于垂直状态，并且风干除尘风机23会对陶瓷坯的表面进行做气流清洁处理，防止表面脏污随着陶瓷坯进入到釉料内，污染到釉料，随后，上釉抓取吸盘27将多边辊79上的陶瓷坯外部表面抓起，上料翻转机7再重复下降抓取陶瓷坯的作业，在此过程中，陶瓷立式旋转器1的内置电机带动驱动齿轮17，驱动齿轮17带动驱动齿轮17，驱动齿轮17通过立式主轴14带动矩形基台11旋转，矩形基台11带动抓取完毕的陶瓷上釉抓取臂2移动到乳浊上釉箱3的上方，到达乳浊上釉箱3上方后，抓取电机13带动陶瓷上釉抓取臂2下降，陶瓷上釉抓取臂2将陶瓷坯置入到乳浊上釉箱3的乳浊釉内(关闭风干除尘风机23)，并在此过程中，伺服马达25带动陶瓷坯进行活动，上釉完毕后，将陶瓷坯取出，继续旋转陶瓷上釉抓取臂2，让陶瓷上釉抓取臂2旋转九十度后，陶瓷上釉抓取臂2依然处在乳浊上釉箱3的上方，此时，打开风干除尘风机23对上釉完毕的陶瓷坯进行风干处理，在此过程中，其余的陶瓷上釉抓取臂2重复上述步骤作业，当陶瓷上釉抓取臂2继续旋转移动到下料输送机5的上方后，陶瓷上釉抓取臂2将陶瓷坯放置到下料输送机5的翻转吸盘711上，翻转吸盘711将上釉完毕的陶瓷坯进行吸附固定，最后通过多边辊79的翻转，将陶瓷坯放置到下料输送机5的陶瓷放置槽组6上，此时上釉完成的陶瓷坯器口依然朝上，如果不为双面上釉时，直接不使用上料翻转机7和下料翻转机8即可。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种乳浊青釉瓷器的生产工艺及其制备设备，包括一种乳浊青釉瓷器的生产工艺，其特征是包括如下工艺步骤：
1)原料选取，配料、吃浆、巩固、脱膜、修沾、预干燥成型工艺后制成的瓷器坯体；
2)坯体的预干燥是在注浆车间内进行自然干燥的，在工人下班后的16小时内，注浆车间内保持高温度(33～40℃)、高湿度(40％一60％)，使坯体缓慢的干燥，经预干燥后，湿坯休的含水率从15％～17％下降到8％一10％即可；亦或是将坯体放置到预干燥设备内，预干燥设备内部同样保持高温度、高湿度，致使通过设备加快坯体的干燥速度；
3)将预干燥陶瓷坯成批的放置到上料输送机(4)上开设的陶瓷放置槽组(6)内，上料输送机(4)对其成批的陶瓷坯进行输送，后续陶瓷坯被上料翻转机(7)抓取，然后被上料翻转机(7)抓取的陶瓷再被陶瓷上釉抓取臂(2)抓取；
4)陶瓷坯的放置有两种：机械手臂放置和人工放置，机械手臂放置适用于大型工厂高效的流水线式生产，而人工放置适用于中小型工厂的半流水线生产；而上料输送机(4)和下料输送机(5)上开设的陶瓷放置槽组(6)上可设置安装有磁感应传感器或是压力传感器；
5)陶瓷坯如果需要双面上釉(内外面)，那么陶瓷坯就需要通过上料翻转机(7)和下料翻转机(8)被陶瓷上釉抓取臂(2)抓取和下放，反之，不需要双面上釉(内外面)，只需要单面上釉(外表面)时，陶瓷坯就不需要通过上料翻转机(7)和下料翻转机(8)被陶瓷上釉抓取臂(2)抓取和下放；
6)瓷器坯需要双面上釉(内外面)时，其状态为倒立式，而瓷器坯需要单面上釉(外表面)时，其状态为直立式；
7)陶瓷上釉抓取臂(2)抓取陶瓷坯后，陶瓷立式旋转器(1)会带动陶瓷上釉抓取臂(2)旋转，当陶瓷上釉抓取臂(2)旋转到乳浊上釉箱(3)后，陶瓷坯进入其内，并做上釉处理；
8)陶瓷坯上釉完毕后，将其陶瓷坯放置到下料输送机(5)的陶瓷放置槽组(6)上，通过下料输送机(5)将陶瓷坯输送到下一加工工序或是工艺的制备设备。
2.根据权利要求1所述的乳浊青釉瓷器的生产制备设备，包括陶瓷立式旋转器(1)、陶瓷上釉抓取臂(2)、乳浊上釉箱(3)、上料输送机(4)、下料输送机(5)、陶瓷放置槽组(6)、上料翻转机(7)和下料翻转机(8)，所述陶瓷立式旋转器(1)上转动安装有四个所述陶瓷上釉抓取臂(2)，陶瓷立式旋转器(1)的一侧以及陶瓷上釉抓取臂(2)的下方设置有乳浊上釉箱(3)，陶瓷立式旋转器(1)的前侧以及一侧设置有上料输送机(4)和下料输送机(5)，并且上料输送机(4)和下料输送机(5)之间相互垂直设置，同时所述上料输送机(4)和下料输送机(5)上均设开设有陶瓷放置槽组(6)，以及所述上料输送机(4)和下料输送机(5)上均安装有上料翻转机(7)和下料翻转机(8)，上料翻转机(7)和下料翻转机(8)结构相同；
陶瓷上釉抓取臂(2)包括驱动横轴(21)、抓起弯折臂(22)、风干除尘风机(23)、活动槽口(24)、伺服马达(25)、真空管(26)、上釉抓取吸盘(27)、真空软管(28)和真空泵(29)，驱动横轴(21)的两端转动安装在陶瓷立式旋转器(1)上，驱动横轴(21)上固定安装有至少三个所述抓起弯折臂(22)，抓起弯折臂(22)的内外表面对应固定安装有风干除尘风机(23)；抓起弯折臂(22)的下端开设有活动槽口(24)，抓起弯折臂(22)的下端外部固定安装有伺服马达(25)，伺服马达(25)的输出端转动穿过抓起弯折臂(22)的下端，并穿进活动槽口(24)与真空管(26)固定相连，真空管(26)的下端固定安装有上釉抓取吸盘(27)，真空管(26)的上端与真空软管(28)的一端固定相连，真空软管(28)的另一端穿过抓起弯折臂(22)与真空泵(29)的输出端固定相连，真空泵(29)固定安装在抓起弯折臂(22)上方；上料翻转机(7)包括横移槽口(71)、横移丝杠(72)、步进电机(73)、横移平台(74)、升降液压缸(75)、侧向立板(76)、驱动电机(77)、翻转真空泵(78)、多边辊(79)、抓取管(710)和翻转吸盘(711)，上料输送机(4)和下料输送机(5)上均对应开设有横移槽口(71)，横移槽口(71)内转动安装有横移丝杠(72)，步进电机(73)固定安装在横移槽口(71)内侧，横移丝杠(72)的任一端与步进电机(73)的输出端固定相连，横移丝杠(72)通过滚珠螺母与横移平台(74)固定相连，横移平台(74)上方固定安装有升降液压缸(75)，升降液压缸(75)的输出端与侧向立板(76)的下端固定相连，侧向立板(76)设置有两个，其中一个所述侧向立板(76)上固定安装有驱动电机(77)，另一个所述侧向立板(76)上固定安装有翻转真空泵(78)，两个所述侧向立板(76)上转动安装有多边辊(79)，多边辊(79)的一端转动穿过其中一个所述侧向立板(76)与驱动电机(77)输出端固定相连，多边辊(79)的另一端转动穿过另一个所述侧向立板(76)，并与翻转真空泵(78)的输出端转动相连通，翻转真空泵(78)的表面上固定安装有抓取管(710)的一端，抓取管(710)的另一端固定安装有翻转吸盘(711)。
3.根据权利要求1所述的乳浊青釉瓷器的生产制备设备，其特征在于：所述陶瓷立式旋转器(1)包括矩形基台(11)、安装侧耳板(12)、抓取电机(13)、立式主轴(14)、放置基座(15)、从动齿轮(16)和驱动齿轮(17)，矩形基台(11)的表面上对应固定安装有安装侧耳板(12)，安装侧耳板(12)上转动安装有驱动横轴(21)，驱动横轴(21)的任一端转动穿过安装侧耳板(12)与抓取电机(13)的输出端固定相连，抓取电机(13)固定安装在安装侧耳板(12)上；矩形基台(11)固定安装在立式主轴(14)上，立式主轴(14)的下端转动安装在放置基座(15)上，立式主轴(14)的下端固定安装有从动齿轮(16)，从动齿轮(16)设置在矩形基台(11)的下方，从动齿轮(16)与驱动齿轮(17)啮合相连，驱动齿轮(17)与放置基座(15)内置旋转电机的输出端固定相连。
4.根据权利要求3所述的乳浊青釉瓷器的生产制备设备，其特征在于：所述乳浊上釉箱(3)包括浸泡上釉箱(31)、浸泡上釉腔(32)和支撑腿架(33)，浸泡上釉箱(31)上开设有浸泡上釉腔(32)，浸泡上釉箱(31)下方至少固定安装有三个所述支撑腿架(33)，浸泡上釉箱(31)设置在矩形基台(11)的一侧，浸泡上釉箱(31)的外侧为‘L’形，浸泡上釉箱(31)的内侧为弧形；浸泡上釉腔(32)为‘L’形凹槽腔。
5.根据权利要求4所述的乳浊青釉瓷器的生产制备设备，其特征在于：所述矩形基台(11)为矩形结构，矩形基台(11)下方的放置基座(15)为‘十’字形，浸泡上釉箱(31)内侧的弧形区域允许矩形基台(11)旋转。
6.根据权利要求1所述的乳浊青釉瓷器的生产制备设备，其特征在于：所述抓起弯折臂(22)为‘L’形抓取臂，每个所述抓起弯折臂(22)之间最少具有三十厘米的间距，陶瓷放置槽组(6)是由至少三个圆形凹槽所构成的槽组，陶瓷放置槽组(6)的圆形凹槽数量和抓起弯折臂(22)设置的数量相同。
7.根据权利要求1所述的乳浊青釉瓷器的生产制备设备，其特征在于：所述多边辊(79)为六角形辊体，多边辊(79)的内部开设有真空腔，多边辊(79)内部的真空腔与翻转真空泵(78)的输出端相连通，多边辊(79)内部的真空腔还与抓取管(710)的一端相连通。
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Cited By (1)
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