CN116494441A - 消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及退火炉排硫技术领域，且公开了消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统，包括：炉体，炉体内部转动设置有第一铰接座，第一铰接座上转动设置有连接杆，连接杆远离第一铰接座的一端转动设置有第二铰接座，第二铰接座上设置有送硫化气装置；炉体位于连接杆的一侧设置有第一限位组件；炉体位于第一限位组件的一侧设置有第二限位组件；炉体的外部设置有监控软件；本发明可以提供均匀供应、消除缺陷、多方向调节、实时监控和控制，以及稳定性和均匀性等益处和效果，这有助于提高硫化过程的效率、质量和一致性。

Description

消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统

技术领域

本发明涉及退火炉排硫技术领域，具体为消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统。

背景技术

在中硼硅模制注射瓶的生产过程中，硫化是一项重要的工艺步骤。硫化过程通过加热模具中的硫化剂，使其与注射瓶内的硅胶发生反应，形成硫化层，从而增加注射瓶的硬度和耐磨性。然而，目前的设备在执行该过程时存在一些问题，导致产品表面的硫化保护膜不均匀，形成透明天窗、斑块等缺陷，影响了产品的质量。

目前，常用的硫化设备是退火炉排硫系统。该系统通过加热模具中的硫化剂，使其挥发并与硅胶发生反应，形成硫化层。然而，由于硫化剂在加热过程中的不均匀分布和挥发性，导致硫化保护膜在产品表面形成不均匀，出现透明天窗、斑块等缺陷。

现有技术缺点：

现有的退火炉排硫系统在加热过程中，硫化剂往往无法均匀分布在整个模具内部。这导致一些区域的硫化层过厚，而其他区域则较薄，形成硫化保护膜不均匀的现象。

硫化剂的挥发性也是一个问题。在加热过程中，硫化剂挥发速度不一致，导致一些区域的硫化剂挥发得过快，而其他区域则挥发得过慢。这会导致硫化层的形成时间不一致，进一步加剧了硫化保护膜的不均匀性。

由于硫化保护膜的不均匀性，产品表面会形成透明天窗、斑块等缺陷。这些缺陷不仅影响了产品的外观质量，还可能降低产品的硬度和耐磨性，从而影响产品的使用寿命。

发明内容

本发明提供了消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统，用于解决上述背景技术中提到的技术问题。

本发明提供如下技术方案：

消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统，包括：

炉体，所述炉体内部转动设置有第一铰接座，所述第一铰接座上转动设置有连接杆，所述连接杆远离第一铰接座的一端转动设置有第二铰接座，所述第二铰接座上设置有送硫化气装置；

所述炉体位于连接杆的一侧设置有第一限位组件；

所述炉体位于第一限位组件的一侧设置有第二限位组件；

所述炉体的外部设置有监控软件。

优选的，所述送硫化气装置包括转动设置于第二铰接座上的出气板，所述出气板远离炉体的一侧开设有出气孔，且所述出气孔开设有多个；

所述炉体与出气板之间设置有供气组件。

优选的，所述供气组件包括设置于炉体外部的供气管，所述供气管与出气板之间通过供气支管连接，所述供气支管设置有多个，且多个所述供气支管均匀分布设置于出气板上。

优选的，所述供气管的内部设置有气体流量控制器，所述气体流量控制器上设置有传感器，且传感器与监控软件连接。

优选的，所述第一限位组件包括对称固定设置于炉体上的第一支座，两个所述第一支座之间转动设置有第一滑轨，所述连接杆滑动设置于第一滑轨的内部，所述第一支座的一侧固定设置有第一电机，所述第一电机的输出端与第一滑轨固定连接。

优选的，所述第二限位组件包括对称固定设置于炉体上的第二支座，两个所述第二支座之间转动设置有第二滑轨，所述连接杆滑动设置于第二滑轨的内部，且所述第二滑轨与第一滑轨之间呈垂直交错设置，所述第二支座的一侧固定设置有第二电机，所述第二电机的输出端与第二滑轨固定连接。

优选的，所述出气板的中心处固定设置有垂直块，所述垂直块的重量大于出气板的重量。

优选的，所述监控软件还包括：

数据采集和显示：监控软件可以通过与传感器或仪器连接，实时采集和显示与硫化过程相关的参数，数据可以以图表、数字或其他形式展示在监控软件的界面上；

参数设置和调节：监控软件通过用户设定硫化过程的目标参数，可以根据产品要求和工艺规程，在监控软件中进行参数设定和调节；

报警和异常处理：监控软件可以设定报警阈值，一旦监测到硫化过程中的异常情况，软件会发出警报并提供相应的处理建议；

数据记录和分析：监控软件可以记录硫化过程中的关键参数数据，并保存为历史记录；

远程控制和远程监视：监控软件支持远程控制和远程监视功能，允许用户通过网络连接远程访问和控制硫化过程。

本发明具备以下有益效果：

均匀供应硫化气体：通过控制供气组件的硫化气体压力和流量，以及出气板的位置和角度调节，系统可以实现硫化气体的均匀供应，确保了硫化气体在注射瓶表面的均匀分布，从而形成均匀的硫化保护膜。

消除硫化缺陷：通过均匀供应硫化气体并确保硫化气体的进出速度和进出量精确控制，系统可以消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷，有助于提高注射瓶的质量和一致性。

多方向转动调节：连接杆和滑轨系统的设置使得连接杆可以在多个方向进行转动调节，意味着系统可以适应不同的硫化需求和注射瓶形状，提供更灵活的调节和操作。

实时监控和控制：通过与传感器连接并使用监控软件，系统可以实时监测硫化气体流量数据，并根据需要进行实时控制和调节，确保了硫化气体的进出速度和进出量得到精确控制，满足硫化强度的要求。

出气板稳定性和均匀性：通过在出气板中心设置垂直块并增加其重量，可以提高出气板的稳定性和压力均匀性，有助于确保出气板与炉体保持平行，进一步优化硫化过程的效果。

综上所述，上述系统的工作原理和组件配置可以提供均匀供应、消除缺陷、多方向调节、实时监控和控制，以及稳定性和均匀性等益处和效果，这有助于提高硫化过程的效率、质量和一致性。

附图说明

图1为本发明的立体结构示意图；

图2为本发明的侧视结构示意图；

图3为本发明的送硫化气装置结构示意图；

图4为本发明的监控软件流程示意图；

图5为本发明的监控软件系统示意图；

图中：1、炉体；2、第一铰接座；3、连接杆；4、第二铰接座；5、送硫化气装置；51、出气板；52、出气孔；6、第一限位组件；61、第一支座；62、第一滑轨；63、第一电机；7、第二限位组件；71、第二支座；72、第二滑轨；73、第二电机；8、供气组件；81、供气管；82、供气支管；9、气体流量控制器；10、垂直块；11、监控软件。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例、请参阅图1-图5，消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统，包括：

炉体1，炉体1内部转动设置有第一铰接座2，第一铰接座2上转动设置有连接杆3，连接杆3远离第一铰接座2的一端转动设置有第二铰接座4，第二铰接座4上设置有送硫化气装置5；

炉体1位于连接杆3的一侧设置有第一限位组件6；

炉体1位于第一限位组件6的一侧设置有第二限位组件7；

炉体1的外部设置有监控软件11。

在进一步的实施例中，通过炉体1对本发明整体进行支撑，并提供适当的退火环境和温度控制，通过第一铰接座2用于支持和连接连接杆3，其中连接杆3是连接第一铰接座2和第二铰接座4的部件，通过第二铰接座4用于支持和连接送硫化气装置5，通过送硫化气装置5用于向注射瓶提供硫化气体，以形成硫化保护膜，其中通过设置的第一限位组件6和第二限位组件7用于对送硫化气装置5进行位置调节，确保对注射瓶的均匀硫化气体供应，通过监控软件11用于监控整个退火炉排硫系统的运行状态和参数，并可能提供控制功能，以确保硫化过程的质量和稳定性。

具体的，送硫化气装置5包括转动设置于第二铰接座4上的出气板51，出气板51远离炉体1的一侧开设有出气孔52，且出气孔52开设有多个；

炉体1与出气板51之间设置有供气组件8。

在进一步的实施例中，通过出气板51与第二铰接座4转动支撑，使出气板51可以在第二铰接座4上进行角度调节，并通过出气孔52用于从装置中释放硫化气体，通过供气组件8用于提供硫化气体到送硫化气装置5，并确保在硫化过程中持续供应所需的硫化气体，通过控制供气组件8提供的硫化气体压力和流量，硫化气体可以通过出气孔52均匀地释放到注射瓶的表面，形成均匀的硫化保护膜。

具体的，供气组件8包括设置于炉体1外部的供气管81，供气管81与出气板51之间通过供气支管82连接，供气支管82设置有多个，且多个供气支管82均匀分布设置于出气板51上。

在进一步的实施例中，通过供气管81用于将硫化气体供应到出气板51，多个供气支管82均匀地分布设置于出气板51上，通过供气管81和供气支管82，硫化气体可以从供气组件8输送到出气板51上的多个供气支管82，然后通过出气孔52均匀地释放到注射瓶的表面，形成均匀的硫化保护膜，确保了硫化气体的均匀分布和供应，以消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷。

具体的，供气管81的内部设置有气体流量控制器9，气体流量控制器9上设置有传感器，且传感器与监控软件11连接。

在进一步的实施例中，气体流量控制器9是一个用于控制和调节硫化气体流量的设备，通过传感器气体流量控制器9可以实时监测硫化气体的流量，并将这些数据传输给连接的监控软件11。

监控软件11与传感器连接，可以接收和处理来自传感器的硫化气体流量数据，基于这些数据，监控软件11可以对气体流量进行实时控制和调节，以确保硫化气体的进出速度和进出量得到精确控制，以满足硫化强度的要求。

具体的，第一限位组件6包括对称固定设置于炉体1上的第一支座61，两个第一支座61之间转动设置有第一滑轨62，连接杆3滑动设置于第一滑轨62的内部，第一支座61的一侧固定设置有第一电机63，第一电机63的输出端与第一滑轨62固定连接。

在进一步的实施例中，第一支座61用于支撑第一滑轨62，并通过第一滑轨62对连接杆3进行滑动限位，其中通过第一支座61对第一电机63固定支撑，并通过第一电机63的运动驱动第一滑轨62的转动，通过第一电机63的运动，第一滑轨62可以沿着第一支座61之间进行转动，从而控制连接杆3的运动范围，确保连接杆3在硫化过程中能够在合适的范围内进行均匀的运动，以实现对硫化气体供应的均匀性。

具体的，第二限位组件7包括对称固定设置于炉体1上的第二支座71，两个第二支座71之间转动设置有第二滑轨72，连接杆3滑动设置于第二滑轨72的内部，且第二滑轨72与第一滑轨62之间呈垂直交错设置，第二支座71的一侧固定设置有第二电机73，第二电机73的输出端与第二滑轨72固定连接。

在进一步的实施例中，通过第二支座71对第二滑轨72转动支撑，第二滑轨72与第一滑轨62之间呈垂直交错的设置，形成一个交叉的结构，并通过第二滑轨72对连接杆3进行转动限位，其中第二电机73的输出端与第二滑轨72固定连接，通过第二电机73的运动驱动第二滑轨72的转动，并使第二滑轨72可以沿着第二支座71之间进行转动，控制连接杆3的运动范围，第一滑轨62和第二滑轨72的交叉设置使得连接杆3可以在多个方向进行转动调节，从而使连接杆3带动出气板51进行同步调节，以实现对硫化气体供应的均匀性。

具体的，出气板51的中心处固定设置有垂直块10，垂直块10的重量大于出气板51的重量。

在进一步的实施例中，通过在出气板51的中心设置垂直块10并使其重量大于出气板51本身的重量，可以增加出气板51的稳定性和压力均匀性，使出气板51与炉体1处于平行状态，可以进一步优化硫化过程，确保硫化气体的均匀供应和硫化效果的一致性。

具体的，监控软件11还包括：

数据采集和显示：监控软件11可以通过与传感器或仪器连接，实时采集和显示与硫化过程相关的参数，包括温度、压力、流量、时间等，数据可以以图表、数字或其他形式展示在监控软件11的界面上；

参数设置和调节：监控软件11通过用户设定硫化过程的目标参数，如温度范围、压力要求等，可以根据产品要求和工艺规程，在监控软件11中进行参数设定和调节。

报警和异常处理：监控软件11可以设定报警阈值，当监测到硫化过程中的异常情况时，如温度过高或过低、压力异常等，监控软件11会自动发出警报，同时提供相应的处理建议。操作人员可以及时采取措施来解决问题并避免潜在的质量问题。

数据记录和分析：监控软件11可以记录硫化过程中的关键参数数据，并保存为历史记录，这些数据可以用于后续的分析和评估，以了解硫化过程的趋势、稳定性和质量控制。此外，数据记录还可以用于追溯和质量证明的目的。

远程控制和远程监视：监控软件11支持远程控制和远程监视功能，允许用户通过网络连接远程访问和控制硫化过程，这样，操作人员可以在远程位置监视和调整硫化过程，提高操作的便利性和灵活性。

在进一步的实施例中，监控软件11提供了实时监测、调节和分析硫化过程的功能，以确保硫化气体的均匀供应和硫化效果的一致性，还提供了报警和异常处理功能，以及远程控制和监视功能，使操作人员能够随时随地监控和管理硫化过程，确保产品质量的稳定性和一致性。

本发明的工作原理：

启动第一电机63，并通过第一电机63的运动驱动第一滑轨62的转动，控制连接杆3的运动范围，启动第二电机73，通过第二电机73的运动驱动第二滑轨72的转动，并使第二滑轨72可以沿着第二支座71之间进行转动，控制连接杆3的运动范围，且第二滑轨72与第一滑轨62之间呈垂直交错的设置，形成一个交叉的结构，使得连接杆3可以在多个方向进行转动调节，从而使连接杆3带动出气板51进行同步调节，以实现对硫化气体供应的均匀性。

通过在出气板51的中心设置垂直块10并使其重量大于出气板51本身的重量，可以增加出气板51的稳定性和压力均匀性，使出气板51与炉体1处于平行状态，可以进一步优化硫化过程，确保硫化气体的均匀供应和硫化效果的一致性。

通过控制供气组件8提供的硫化气体压力和流量，硫化气体可以通过出气孔52均匀地释放到注射瓶的表面，形成均匀的硫化保护膜，确保了硫化气体的均匀分布和供应，以消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷，监控软件11与传感器连接，可以接收和处理来自传感器的硫化气体流量数据，基于这些数据，监控软件11可以对气体流量进行实时控制和调节，以确保硫化气体的进出速度和进出量得到精确控制，以满足硫化强度的要求。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (8)

1.消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统，其特征在于，包括：

炉体（1），所述炉体（1）内部转动设置有第一铰接座（2），所述第一铰接座（2）上转动设置有连接杆（3），所述连接杆（3）远离第一铰接座（2）的一端转动设置有第二铰接座（4），所述第二铰接座（4）上设置有送硫化气装置（5）；

所述炉体（1）位于连接杆（3）的一侧设置有第一限位组件（6）；

所述炉体（1）位于第一限位组件（6）的一侧设置有第二限位组件（7）；

所述炉体（1）的外部设置有监控软件（11）。

2.根据权利要求1所述的消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统，其特征在于：所述送硫化气装置（5）包括转动设置于第二铰接座（4）上的出气板（51），所述出气板（51）远离炉体（1）的一侧开设有出气孔（52），且所述出气孔（52）开设有多个；

所述炉体（1）与出气板（51）之间设置有供气组件（8）。

3.根据权利要求2所述的消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统，其特征在于：所述供气组件（8）包括设置于炉体（1）外部的供气管（81），所述供气管（81）与出气板（51）之间通过供气支管（82）连接，所述供气支管（82）设置有多个，且多个所述供气支管（82）均匀分布设置于出气板（51）上。

4.根据权利要求3所述的消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统，其特征在于：所述供气管（81）的内部设置有气体流量控制器（9），所述气体流量控制器（9）上设置有传感器，且传感器与监控软件（11）连接。

5.根据权利要求1所述的消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统，其特征在于：所述第一限位组件（6）包括对称固定设置于炉体（1）上的第一支座（61），两个所述第一支座（61）之间转动设置有第一滑轨（62），所述连接杆（3）滑动设置于第一滑轨（62）的内部，所述第一支座（61）的一侧固定设置有第一电机（63），所述第一电机（63）的输出端与第一滑轨（62）固定连接。

6.根据权利要求5所述的消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统，其特征在于：所述第二限位组件（7）包括对称固定设置于炉体（1）上的第二支座（71），两个所述第二支座（71）之间转动设置有第二滑轨（72），所述连接杆（3）滑动设置于第二滑轨（72）的内部，且所述第二滑轨（72）与第一滑轨（62）之间呈垂直交错设置，所述第二支座（71）的一侧固定设置有第二电机（73），所述第二电机（73）的输出端与第二滑轨（72）固定连接。

7.根据权利要求2所述的消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统，其特征在于：所述出气板（51）的中心处固定设置有垂直块（10），所述垂直块（10）的重量大于出气板（51）的重量。

8.根据权利要求1所述的消除中硼硅模制注射瓶硫化缺陷的退火炉排硫系统，其特征在于：所述监控软件（11）还包括：

数据采集和显示：监控软件（11）可以通过与传感器或仪器连接，实时采集和显示与硫化过程相关的参数，数据可以以图表、数字或其他形式展示在监控软件（11）的界面上；

参数设置和调节：监控软件（11）通过用户设定硫化过程的目标参数，可以根据产品要求和工艺规程，在监控软件（11）中进行参数设定和调节；

报警和异常处理：监控软件（11）可以设定报警阈值，一旦监测到硫化过程中的异常情况，软件会发出警报并提供相应的处理建议；

数据记录和分析：监控软件（11）可以记录硫化过程中的关键参数数据，并保存为历史记录；

远程控制和远程监视：监控软件（11）支持远程控制和远程监视功能，允许用户通过网络连接远程访问和控制硫化过程。