CN116481299A - 一种回转窑 - Google Patents

Abstract

本发明回转窑技术领域，提供了一种回转窑，至少包括：主体，包括相互嵌套设置的内筒与外筒，内筒的外壁与外筒的内壁之间的环形区域形成用于容纳物料的搅拌区，搅拌区配置有适于维持整个搅拌区温度稳定的加热结构。本发明提供的回转窑，相比于现有技术而言，改变了搅拌区的空间构造，避免在主体内形成低温区，物料在旋转过程中不会掉落至低温区，防止物料反应过程中出现两面受热不均匀。而且，由于整个环形的搅拌区内的温度比较稳定，即使对于一些需要稳定加热且对反应温度敏感的物料来说，也不会导致过烧或加热不足，从而保证物料一致性，提高良率。

Description

一种回转窑

技术领域

本发明涉及回转窑技术领域，具体涉及一种回转窑。

背景技术

回转窑是一种用于加热物料的窑炉，其特点是在加热的过程中物料被不断翻动，加热均匀且与窑内气体能充分接触。但也正由于现有的回转窑内部需引入流通空气的缘故，其中央会形成低温区。由于低温区的存在，被加热的物料本身就存在两面受热不均匀的情况，在物料堆叠厚度较大时尤为明显。而物料在回转窑不停旋转过程中也有可能会经低温区掉落至窑底部，进一步加剧了物料在反应过程中受热不均匀、不稳定的程度，对于一些需要稳定加热且对反应温度敏感的物料来说，现有的回转窑加热往往会导致过烧或加热不足，从而导致物料一致性差或良率低等问题。

发明内容

因此，本发明要解决的技术问题在于现有技术中回转窑加热往往会导致过烧或加热不足，从而导致物料一致性差或良率低等问题，从而提供一种回转窑。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案如下：

一种回转窑，至少包括：主体，包括相互嵌套设置的内筒与外筒，所述内筒的外壁与所述外筒的内壁之间的环形区域形成用于容纳物料的搅拌区，所述搅拌区配置有适于维持整个搅拌区温度稳定的加热结构。

进一步地，所述加热结构包括第一加热组件与第二加热组件；所述外筒与所述内筒均为具有夹层的双层结构，所述第一加热组件设置在所述外筒的夹层内，适于加热所述外筒的内壁；所述第二加热组件设置在所述内筒的夹层内，适于加热所述内筒的外壁。

进一步地，所述内筒的内壁所围成的区域形成气体通道，所述内筒的内壁由导热材料制成，以使所述第二加热组件能够对流经所述气体通道内的气体进行加热；其中，所述气体通道的进气口与外部气源相连，所述气体通道的出气口与所述搅拌区的进气口相连通，所述搅拌区的出气口与外界相连通。

进一步地，所述气体通道的进气口与所述搅拌区的进气口位于所述主体的不同端，以使所述气体通道内的气体流动方向与所述搅拌区内的气体流动方向相反。

进一步地，所述气体通道的出气口与所述搅拌区的进气口之间设置有控制阀，通过所述控制阀调节从所述气体通道输入所述搅拌区的气体流量。

进一步地，所述内筒的长度比所述外筒的长度长，所述内筒长出的部分形成延伸部；所述延伸部受第一托辊组件的驱动以使所述内筒能够绕自身轴线转动；所述外筒受第二托辊组件的驱动以使所述外筒能够绕自身轴线转动。

进一步地，所述内筒的旋转方向与所述外筒的旋转方向相反。

进一步地，所述内筒的夹层内设置有第一温度传感器，所述第一温度传感器适于测量所述内筒的外壁的温度信息。

进一步地，所述外筒的内壁设置有第二温度传感器，所述第二温度传感器适于测量所述搅拌区内的物料的温度信息以及气体的温度信息。

进一步地，所述内筒的外壁的温度低于所述外筒的内壁的温度，两者的温度差范围为物料加热所需温度的8％-12％。

本发明技术方案，具有如下优点：

本发明提供的回转窑，主体包括相互嵌套设置的内筒与外筒，内筒的外壁与外筒的内壁之间的环形区域形成用于容纳物料的搅拌区，并设置有适于维持整个搅拌区温度稳定的加热结构；相比于现有技术而言，改变了搅拌区的空间构造，避免在主体内形成低温区，物料在旋转过程中不会掉落至低温区，防止物料反应过程中出现两面受热不均匀。而且，由于整个环形的搅拌区内的温度比较稳定，即使对于一些需要稳定加热且对反应温度敏感的物料来说，也不会导致过烧或加热不足，从而保证物料一致性，提高良率。此外，对于烧制过程需要引入气体的材料来说，气体先经过内筒的预热再进入搅拌区，大幅降低了低温气体直接与物料接触导致的骤然降温、受热不匀等可能导致物料烧制失败的严重问题，且在搅拌区经内筒与外筒表面异向旋转的带动，气体可与物料充分接触，提高了所引入气体的利用效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中的回转窑的示意图。

1、外筒；2、内筒；3、搅拌区；

4、气体通道；5、第一托辊组件；6、第二托辊组件。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

图1为本发明实施例中的回转窑的示意图，如图1所示，本实施例提供一种回转窑，至少包括：主体，包括相互嵌套设置的内筒2与外筒1，内筒2的外壁与外筒1的内壁之间的环形区域形成用于容纳物料的搅拌区3，搅拌区3配置有适于维持整个搅拌区3温度稳定的加热结构。具体的，内筒2与外筒1可以同轴心设置，内筒2与外筒1均可以绕自身的轴线转动，内筒2尺寸与外筒1尺寸可以根据需要设计，以便使搅拌区3的空间可以满足处理物料的需求。

本实施例提供的回转窑，主体包括相互嵌套设置的内筒2与外筒1，内筒2的外壁与外筒1的内壁之间的环形区域形成用于容纳物料的搅拌区3，并设置有适于维持整个搅拌区3温度稳定的加热结构；相比于现有技术而言，改变了搅拌区3的空间构造，避免在主体内形成低温区，物料在旋转过程中不会掉落至低温区，防止物料反应过程中出现两面受热不均匀。而且，由于整个环形的搅拌区3内的温度比较稳定，即使对于一些需要稳定加热且对反应温度敏感的物料来说，也不会导致过烧或加热不足，从而保证物料一致性，提高良率。此外，对于烧制过程需要引入气体的材料来说，气体先经过内筒2的预热再进入搅拌区3，大幅降低了低温气体直接与物料接触导致的骤然降温、受热不匀等可能导致物料烧制失败的严重问题，且在搅拌区3经内筒2与外筒1表面异向旋转的带动，气体可与物料充分接触，提高了所引入气体的利用效率。

其中，加热结构包括第一加热组件与第二加热组件；外筒1与内筒2均为具有夹层的双层结构，第一加热组件设置在外筒1的夹层内，适于加热外筒1的内壁；第二加热组件设置在内筒2的夹层内，适于加热内筒2的外壁。

例如，第一加热组件可以为电热丝及导线，电热丝位于外筒1的夹层内并通过导线与主体外部的电源相连。同理，第二加热组件可以为电热丝及导线，电热丝位于内筒2的夹层内并通过导线与主体外部的电源相连。当第一加热组件与第二加热组件均开启后，使得内筒2的外壁与内筒2的外壁同时被加热，保证整个搅拌区3的温度保持稳定，防止出现温度不均匀。

其中，内筒2的外壁的温度低于外筒1的内壁的温度，两者的温度差范围为物料加热所需温度的8％-12％。例如，两者的温度差可以控制在物料加热所需温度的10％。

其中，内筒2的夹层内设置有第一温度传感器，第一温度传感器适于测量内筒2的外壁的温度信息。其中，外筒1的内壁设置有第二温度传感器，第二温度传感器适于测量搅拌区3内的物料的温度信息以及气体的温度信息。通过第一温度传感器与第二温度传感器的设置，可以及时获取回转窑内部的温度信息，便于根据物料的加热需求对搅拌区3的温度进行调节。

其中，内筒2的内壁所围成的区域形成气体通道4，内筒2的内壁由导热材料制成，利于第二加热组件的余热对气体通道4进行加热，以使第二加热组件能够对流经气体通道4内的气体进行加热；其中，气体通道4的进气口与外部气源相连，气体通道4的出气口与搅拌区3的进气口相连通，搅拌区3的出气口与外界相连通，且在出气口处设有引风机，通过在出气口形成对搅拌区3内的负压引导整个回转窑内气体自内筒进气口向搅拌区出气口定向流动。其中，气体通道4的进气口可以通过管路与外部的气源相连通，所连接的气源的种类可以根据物料反应时的需要选择。气体通道4的出气口与搅拌区3也可以通过管路进行连接，并且，可以在该管路上设置控制阀，控制阀可以为电子阀，通过控制阀调节从气体通道4输入搅拌区3的气体流量。

优选的，气体通道4的进气口与搅拌区3的进气口位于主体的不同端，以使气体通道4内的气体流动方向与搅拌区3内的气体流动方向相反，从宏观上来看，气体在主体内的流动路径呈U型，可以有利于延长气体的流动路径，提高加热及混合效果。当搅拌区3所加热的物料需要与气体反应时，所需气体，例如，空气，先由气体通道4的进气口进入气体通道4，走完整个加热行程完成预热后，在气体通道4的出气口引入搅拌区3，最终在搅拌区3的出气口通过负压排出搅拌区3至外界。当所加热物料无需与气体接触时，控制阀关闭，可以防止气体通道4内的热量散失。

其中，内筒2的长度比外筒1的长度长，内筒2长出的部分形成延伸部；例如，延伸部的长度可以为0.5m-1m，延伸部受第一托辊组件5的驱动以使内筒2能够绕自身轴线转动；外筒1受第二托辊组件6的驱动以使外筒1能够绕自身轴线转动。例如，第一托辊组件5可以包括两个能够转动的托轮，两个拖轮对称间隔设置在延伸部靠近底部位置，在拖轮的带动下使得延伸部能够朝一个方向转动。同理，第二托辊组件6可以包括两个能够转动的托轮，两个拖轮对称间隔设置在外筒1靠近底部位置，在拖轮的带动下使得外筒1能够朝一个方向转动。优选的，内筒2的旋转方向与外筒1的旋转方向相反。

使用时，当外筒1的内壁温度达到设定目标温度时，观察各温度控制点的第二温度传感器所测得的物料温度与炉内气体温度。若所测得物料温度已超过目标温度，则应控制外筒1缓慢降温，直到物料温度稳定在目标温度。若测得物料温度低于目标温度，则需同时关注物料温度与炉内气体温度。若物料温度小于目标温度但气体温度大于目标温度，则应控制外筒1逐步升温，直到物料温度达到目标温度。若物料温度与气体温度均小于目标温度，则应控制内筒2缓慢升温，直到气体温度达到目标温度时，再控制外筒1缓慢升温，最终实现物料温度稳定在目标温度。

综上，本申请中的回转窑物料，可以在准确的预设温度稳定反应，大幅提高了回转窑对炉内温度的可控性，且当所生产物料对反应温度敏感时，可大幅提高产物的合格率。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种回转窑，其特征在于，至少包括：

主体，包括相互嵌套设置的内筒与外筒，所述内筒的外壁与所述外筒的内壁之间的环形区域形成用于容纳物料的搅拌区，所述搅拌区配置有适于维持整个搅拌区温度稳定的加热结构。

2.根据权利要求1所述的回转窑，其特征在于，

所述加热结构包括第一加热组件与第二加热组件；

所述外筒与所述内筒均为具有夹层的双层结构，所述第一加热组件设置在所述外筒的夹层内，适于加热所述外筒的内壁；

所述第二加热组件设置在所述内筒的夹层内，适于加热所述内筒的外壁。

3.根据权利要求2所述的回转窑，其特征在于，

所述内筒的内壁所围成的区域形成气体通道，所述内筒的内壁由导热材料制成，以使所述第二加热组件能够对流经所述气体通道内的气体进行加热；

其中，所述气体通道的进气口与外部气源相连，所述气体通道的出气口与所述搅拌区的进气口相连通，所述搅拌区的出气口与外界相连通。

4.根据权利要求3所述的回转窑，其特征在于，

所述气体通道的进气口与所述搅拌区的进气口位于所述主体的不同端，以使所述气体通道内的气体流动方向与所述搅拌区内的气体流动方向相反。

5.根据权利要求3所述的回转窑，其特征在于，

所述气体通道的出气口与所述搅拌区的进气口之间设置有控制阀，通过所述控制阀调节从所述气体通道输入所述搅拌区的气体流量。

6.根据权利要求1所述的回转窑，其特征在于，

所述内筒的长度比所述外筒的长度长，所述内筒长出的部分形成延伸部；

所述延伸部受第一托辊组件的驱动以使所述内筒能够绕自身轴线转动；

所述外筒受第二托辊组件的驱动以使所述外筒能够绕自身轴线转动。

7.根据权利要求6所述的回转窑，其特征在于，

所述内筒的旋转方向与所述外筒的旋转方向相反。

8.根据权利要求2所述的回转窑，其特征在于，

所述内筒的夹层内设置有第一温度传感器，所述第一温度传感器适于测量所述内筒的外壁的温度信息。

9.根据权利要求2所述的回转窑，其特征在于，

所述外筒的内壁设置有第二温度传感器，所述第二温度传感器适于测量所述搅拌区内的物料的温度信息以及气体的温度信息。

10.根据权利要求2所述的回转窑，其特征在于，

所述内筒的外壁的温度低于所述外筒的内壁的温度，两者的温度差范围为物料加热所需温度的8％-12％。