CN116206995A - 显示面板的制备方法及显示面板 - Google Patents

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CN116206995A
CN116206995A CN202310245664.3A CN202310245664A CN116206995A CN 116206995 A CN116206995 A CN 116206995A CN 202310245664 A CN202310245664 A CN 202310245664A CN 116206995 A CN116206995 A CN 116206995A
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layer
display panel
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张万浩
李素华
黄毅
颜衡
金玉
候博
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Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Hefei Visionox Technology Co Ltd
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Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Hefei Visionox Technology Co Ltd
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Abstract

本申请涉及一种显示面板的制备方法及显示面板。该显示面板的制备方法包括：于基板上形成第一图案结构和第二图案结构；基板具有若干间隔排布的功能区、设置在功能区外围的分割区，功能区对应于既定规格的显示面板；第一图案结构位于功能区，第二图案结构与第一图案结构相互分离且位于功能区或分割区；第一图案结构包括自基板依次层叠设置的第一金属层和第一顶金属层，第二图案结构包括第二金属层；第一金属层和第二金属层材质相同；采用同一侧刻工艺对第一金属层以及第二金属层进行刻蚀，并获取第二金属层的侧刻量。本申请能够达到准确监测第一金属层侧刻量的目的，有助于改善侧刻不均的问题，从而提高封装有效性，进而提高显示面板的可靠性。

Description

显示面板的制备方法及显示面板
技术领域
本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板的制备方法及显示面板。
背景技术
目前，越来越多的显示产品趋向采用屏幕打孔技术。屏幕打孔的主流方案主要有两种，一种是配向膜去胶工艺(PI Ashe)打孔方案，另一种则是设置TiAlTi(钛铝钛)金属层的打孔方案。其中，TiAlTi金属层打孔时需要对Al进行侧刻。在相关技术中，采用药液对Al进行侧刻，然而，由于药液侧刻的均一性较差，且常规手段无法有效监测侧刻量，导致降低打孔区的封装有效性，进而降低显示产品的可靠性。
发明内容
基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种能够准确监测侧刻量的显示面板的制备方法及显示面板。
第一方面，本申请提供一种显示面板的制备方法，包括：
于基板上形成第一图案结构和第二图案结构；所述基板具有若干间隔排布的功能区、以及设置在所述功能区外围的分割区，所述功能区对应于既定规格的显示面板；所述第一图案结构位于所述功能区，所述第二图案结构与所述第一图案结构相互分离且位于所述功能区或分割区；所述第一图案结构包括自所述基板依次层叠设置的第一金属层和第一顶金属层，所述第二图案结构包括第二金属层；所述第一金属层和所述第二金属层材质相同；
采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀，并获取所述第二金属层的侧刻量。
上述显示面板的制备方法，通过在功能区或分割区形成第二图案结构，并且采用同一侧刻工艺对第一图案结构的第一金属层和第二图案结构的第二金属层进行刻蚀。这样，可以通过测量第二金属层的侧刻量就可以获取第一金属层的侧刻量，从而达到准确监测第一金属层侧刻量的目的，有助于改善侧刻不均的问题，从而提高封装有效性，进而提高显示面板的可靠性。
在其中一个是实施例中，所述于所述基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤之前，包括：
于所述基板上形成图案材料层，其中，所述图案材料层包括自所述基板依次层叠设置的第一金属材料层和顶金属材料层。
这样，便于后续工艺在基板上形成第一图案结构和第二图案结构。
在其中一个实施例中，所述于所述基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤，包括：
于所述图案材料层上形成第一掩膜层；
对所述第一掩膜层进行曝光，以形成第一掩膜图案和第二掩膜图案；其中，所述第一掩膜图案位于所述功能区，所述第二掩膜图案与所述第一掩膜图案相互分离且位于所述功能区或分割区；沿所述基板的厚度方向，所述第一掩膜图案的尺寸大于所述第二掩膜图案的尺寸；
对所述图案材料层进行刻蚀，以形成所述第一图案结构和所述第二图案结构。
这样，可以使第一图案结构和第二图案结构的制备更简便，同时减少显示面板的制备工序，降低显示面板的制备成本。
在其中一个实施例中，采用半色调工艺对所述第一掩膜层进行曝光。
这样，可以通过半色调工艺调节曝光量，以刻蚀掉功能区的顶金属材料层，从而使第二金属层裸露，便于监测第二金属层的侧刻量。
在其中一个实施例中，所述于所述基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤，包括：
于所述图案材料层上形成第二掩膜层；
对所述图案材料层进行刻蚀，以形成所述第一图案结构和第三图案结构，所述第三图案结构与所述第一图案结构相互分离且位于所述功能区或分割区；所述第三图案结构包括自所述基板依次层叠设置的第二金属层以及第二顶金属层；所述第二顶金属层与所述第一顶金属层材质相同；
去除所述第二掩膜层，并于所述第一图案结构上形成第三掩膜层；
去除所述第二顶金属层，以形成所述第二图案结构。
在上述方法中，也可以使第二图案结构的第二金属层裸露，从而便于监测第二金属层的侧刻量。
在其中一个实施例中，所述采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀，并获取所述第二金属层的侧刻量的步骤，包括：
检测所述第二金属层的第一线宽；其中，所述第一线宽为刻蚀前的所述第二金属层沿第一方向的尺寸；所述第一方向垂直于所述基板的厚度方向；
采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀；
检测所述第二金属层的第二线宽，以获取所述第二金属层的侧刻量；其中，所述第二线宽为刻蚀后的所述第二金属层沿所述第一方向的尺寸。
这样，可以通过测量第二金属层在刻蚀前和刻蚀后的线宽，从而计算出第二金属层的侧刻量，进而获取第一金属层的侧刻量。
在其中一个实施例中，所述第二金属层的侧刻量等于所述第一线宽和所述第二线宽之差的二分之一。
这样，可以快速计算出第二金属层的侧刻量。
在其中一个实施例中，刻蚀前的所述第一金属层沿所述第一方向的尺寸等于所述第一线宽。
这样，第一金属层和第二金属层的线宽相等，有利于使二者的侧刻一致性更高，从而提高监测的准确性。
在其中一个实施例中，所述检测所述第二金属层的第一线宽的步骤之后，以及所述采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀的步骤之前，包括：
于所述第一图案结构和所述第二图案结构上形成第四掩膜层。
第二方面，本申请实施例提供一种显示面板，该显示面板通过第一方面中的制备方法制得。
上述显示面板，在对第一图案结构进行侧刻时，可以采用同一侧刻工艺对第一图案结构的第一金属层和第二图案结构的第二金属层进行刻蚀。这样，通过测量第二金属层的侧刻量就可以获取第一金属层的侧刻量，从而达到准确监测第一金属层侧刻量的目的，有助于改善侧刻不均的问题，从而提高封装有效性，进而提高显示面板的可靠性。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或传统技术中的技术方案，下面将对实施例或传统技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请一实施例提供的显示面板的制备方法的流程示意图；
图2为图1中步骤200的一种详细步骤示意图；
图3为图1中步骤300的一种详细步骤示意图；
图4为图1中步骤200的另一种详细步骤示意图；
图5为本申请一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤100所得结构的截面示意图；
图6为本申请一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤210所得结构的截面示意图；
图7为本申请一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤220所得结构的截面示意图；
图8为本申请一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤230所得结构的截面示意图；
图9为本申请一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤315所得结构的截面示意图；
图10为本申请一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤320所得结构的截面示意图；
图11为本申请一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤330所得结构的截面示意图；
图12为本申请另一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤210所得结构的截面示意图；
图13为本申请另一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤220所得结构的截面示意图；
图14为本申请另一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤230所得结构的截面示意图；
图15为本申请另一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤240所得结构的截面示意图；
图16为本申请一实施例提供的显示面板的功能区的第一图案结构的结构示意图。
附图标记说明：
110-基板；110a-功能区；110b-分割区；120-第一图案结构；121-第一底金属层；122-第一金属层；123-第一顶金属层；130-第二图案结构；131-第二底金属层；132-第二金属层；140-第三图案结构；141-第二顶金属层；150-图案材料层；151-底金属材料层；152-第一金属材料层；153-顶金属材料层；161-第一掩膜层；1611-第一掩膜图案；1612-第二掩膜图案；162-第二掩膜层；163-第三掩膜层；164-第四掩膜层。
具体实施方式
为了便于理解本申请，下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的较佳的实施例。但是，本申请可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本申请的公开内容的理解更加透彻全面。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
在描述位置关系时，除非另有规定，否则当一元件例如层、膜或基板被指为在另一元件“上”时，其能直接在其他元件上或亦可存在中间元件。进一步说，当层被指为在另一层“下”时，其可直接在下方，亦可存在一或多个发光单元。亦可以理解的是，当层被指为在两层“之间”时，其可为两层之间的唯一层，或亦可存在一或多个发光单元。
在使用本文中描述的“包括”、“具有”、和“包含”的情况下，除非使用了明确的限定用语，例如“仅”、“由……组成”等，否则还可以添加另一部件。除非相反地提及，否则单数形式的术语可以包括复数形式，并不能理解为其数量为一个。
应当理解，尽管本文可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件和另一个元件区分开。例如，在不脱离本申请的范围的情况下，第一元件可以被称为第二元件，并且类似地，第二元件可以被称为第一元件。
还应当理解的是，在解释元件时，尽管没有明确描述，但元件解释为包括误差范围，该误差范围应当由本领域技术人员所确定的特定值可接受的偏差范围内。例如，“大约”、“近似”或“基本上”可以意味着一个或多个标准偏差内，在此不作限定。
此外，在说明书中，短语“平面分布示意图”是指当从上方观察目标部分时的附图，短语“截面示意图”是指从侧面观察通过竖直地切割目标部分截取的剖面时的附图。
此外，附图并不是1：1的比例绘制，并且各元件的相对尺寸在附图中仅以示例地绘制，而不一定按照真实比例绘制。
正如背景技术所述，采用药液对Al进行侧刻时，由于药液侧刻的均一性较差，且目前的常规手段(自动光学检测或线宽量测仪)无法有效监测侧刻量，导致TiAlTi金属层侧刻不均，从而降低打孔区的封装有效性，进而降低显示产品的可靠性。示例性的，当侧刻量过小时，RA测试时存在水汽入侵风险，会导致显示产品产生黑斑。
在相关技术中，通常会对显示产品进行FIB切片观察Al侧刻均一性，然而，这种方式存在以下问题：一是造成显示产品的报废，增加了成本；二是测试周期较长。
鉴于上述问题中的至少一个，本申请提供一种显示面板的制备方法和显示面板，通过在功能区形成第二图案结构，并且采用同一侧刻工艺对第一图案结构的第一金属层和第二图案结构的第二金属层进行刻蚀。这样，可以通过测量第二金属层的侧刻量就可以获取第一金属层的侧刻量，从而达到准确监测第一金属层侧刻量的目的，有助于改善侧刻不均的问题，从而提高封装有效性，进而提高显示面板的可靠性。
第一方面，参照图1，并结合图5-图16所示，本申请实施例提供一种显示面板的制备方法，该显示面板的制备方法包括：
S200：于基板上形成第一图案结构和第二图案结构。
其中，基板110具有若干间隔排布的功能区110a、以及设置在功能区110a外围的分割区110b，功能区110a对应于既定规格的显示面板。第一图案结构120位于功能区110a，第二图案结构130与第一图案结构120相互分离且位于功能区110a或分割区110b。第一图案结构120包括自基板110依次层叠设置的第一金属层122和第一顶金属层123，第二图案结构130包括第二金属层132。在这里，基板110指显示面板切割前的母基板。示例地，所述功能区110a可以设置开孔，用于摄像头、喇叭等功能模组的装配，所述第一图案结构120沿所述开孔的周侧设置。
在本申请实施例中，第二图案结构130位于分割区110b。第一图案结构120为图形化的钛铝钛金属，第一图案结构120还包括第一底金属层121，第一底金属层121设于基板110和第一金属层122之间。第一底金属层121的材质为钛，第一金属层122的材质为铝，第一顶金属层123的材质为钛。同样的，第二图案结构130还包括第二底金属层131，第二底金属层131设于基板110和第二金属层132之间。
S300：采用同一侧刻工艺对第一金属层以及第二金属层进行刻蚀，并获取第二金属层的侧刻量。
采用同一侧刻工艺对第一金属层122和第二金属层132进行刻蚀后，第一金属层122具有第一侧刻量，第二金属层132具有第二侧刻量，第一侧刻量等于第二侧刻量。由于第二金属层132远离基板110的一侧无金属层遮挡，所以能够通过光学检测模组检测到第二金属层132的第二侧刻量，由于第一侧刻量等于第二侧刻量，所以能够通过第二金属层132的第二侧刻量来表征功能区110a的第一金属层122的第一侧刻量。
本申请实施例提供的显示面板的制备方法，通过在分割区110b或功能区110a形成第二图案结构130，并且采用同一侧刻工艺对第一图案结构120的第一金属层122和第二图案结构130的第二金属层132进行刻蚀。这样，可以通过测量第二金属层132的侧刻量就可以获取第一金属层122的侧刻量，从而达到准确监测第一金属层122侧刻量的目的，有助于改善侧刻不均的问题，从而提高封装有效性，进而提高显示面板的可靠性。
可以理解的是，基板110上可以具有多个功能区110a，第一图案结构120和第二图案结构130分别位于不同的功能区110a，此时，第二图案结构130所在的功能区110a可以理解为监测区。
在其中一个是实施例中，S200：于基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤之前，包括：
S100：于基板上形成图案材料层，其中，图案材料层包括自基板依次层叠设置的第一金属材料层和顶金属材料层。在本申请实施例中，图案材料层150还包括底金属材料层151，底金属材料层151设于基板110和第一金属材料层152之间。图案材料层150形成后的结构如图5所示，这样，便于后续工艺在图案材料层150上形成第一图案结构120和第二图案结构130。
具体地，在形成图案材料层150的过程中，首先在基板110上形成底金属材料层151，其次在底金属材料层151上形成第一金属材料层152，最后在第一金属材料层152上形成顶金属材料层153。
在其中一个实施例中，S200：于基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤，包括：
S210：于图案材料层上形成第一掩膜层。第一掩膜层161形成后的结构如图6所示。
S220：对第一掩膜层进行曝光，以形成第一掩膜图案和第二掩膜图案。请参照图7所示，第一掩膜图案1611位于功能区110a，第二掩膜图案1612位于与第一掩膜图案1611相互分离且位于分割区110b。沿基板110的厚度方向，第一掩膜图案1611的尺寸H1大于第二掩膜图案1612的尺寸H2。
在一个示例中，该步骤可以采用半色调工艺对第一掩膜层161进行曝光。这样，可以通过半色调工艺调节曝光量，以刻蚀掉分割区110b的顶金属材料层153，从而使第二金属层132裸露，便于监测第二金属层132的侧刻量。
S230：对图案材料层进行刻蚀，以形成第一图案结构和第二图案结构。具体地，可以通过干法刻蚀或湿法刻蚀工艺对图案材料层150进行刻蚀。第一图案结构120和第二图案结构130形成后的结构如图8所示。
需要说明的是，在上述制备方法中，只采用了一道掩膜，即可制成第一图案结构120和第二图案结构130，使第一图案结构120和第二图案结构130的制备更简便，减少显示面板的制备工序，降低显示面板的制备成本。
在其中一个实施例中，参照图3所示，S300：采用同一侧刻工艺对第一金属层以及第二金属层进行刻蚀，并获取第二金属层的侧刻量的步骤，包括：
S310：检测第二金属层的第一线宽。参照图8所示，第一线宽CD1为刻蚀前的第二金属层132沿第一方向的尺寸。第一方向垂直于基板110的厚度方向。需要说明的是，第一方向也平行于基板110的上表面。可以理解的是，可以通过光学检测模组检测第一线宽CD1。
S320：采用同一侧刻工艺对第一金属层以及第二金属层进行刻蚀。第一金属层122和第二金属层132侧刻后的结构如图10所示。
S330：检测第二金属层的第二线宽，以获取第二金属层的侧刻量。参照图11所示，第二线宽CD2为刻蚀后的第二金属层132沿第一方向的尺寸。
上述制备方法通过测量第二金属层132在刻蚀前和刻蚀后的线宽，从而计算出第二金属层132的侧刻量，进而获取第一金属层122的侧刻量。
可以理解的是，在获取第二金属层132的侧刻量后，还可以将第二金属层132的侧刻深度与预设阈值进行比较，当第二金属层132的侧刻深度小于预设阈值时，重复S320-S330，直至第二金属层132的侧刻深度等于预设阈值。
在其中一个实施例中，第二金属层132的侧刻量等于第一线宽CD1和第二线宽CD2之差的二分之一。这样，可以快速计算出第二金属层132的侧刻量。
在其中一个实施例中，刻蚀前的第一金属层122沿第一方向的尺寸等于第一线宽。这样，第一金属层122和第二金属层132的线宽相等，有利于使二者的侧刻一致性更高，从而提高监测的准确度。
在其中一个实施例中，S310：检测第二金属层的第一线宽的步骤之后，以及S320：采用同一侧刻工艺对第一金属层以及第二金属层进行刻蚀的步骤之前，包括：
S315：于第一图案结构和第二图案结构上形成第四掩膜层。第四掩膜层164形成后的结构如图9所示。
可以理解的是，S320：采用同一侧刻工艺对第一金属层以及第二金属层进行刻蚀的步骤之后，包括：
S325：去除第四掩膜层。这样，避免第四掩膜层164对第二金属层132形成遮挡，便于通过光学检测模组检测第二线宽CD2。
在其中一个实施例中，参照图4并结合图12-图15所示，S200：于基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤，包括：
S210：于图案材料层上形成第二掩膜层。第二掩膜层162形成的结构如图12所示。
S220：对图案材料层进行刻蚀，以形成第一图案结构和第三图案结构。第三图案结构140与第一图案结构120相互分离且位于位于功能区110a或分割区110b。第三图案结构140包括自基板110依次层叠设置的第二金属层132以及第二顶金属层141。
在本申请实施例中，第一图案结构120为位于功能区的图形化的钛铝钛金属，第三图案结构140的图案和第一图案结构120的图案相同，第三图案结构140为位于分割区110b的图形化的钛铝钛金属。第三图案结构140还包括第二底金属层131，第二底金属层131设于基板110和第二金属层132之间。第二底金属层131的材质为钛。
S230：去除第二掩膜层，并于第一图案结构上形成第三掩膜层。第三掩膜层163形成后的结构如图14所示。
S240：去除第二顶金属层，以形成第二图案结构。第二顶金属层141去除后的结构如图15所示。
本申请实施例提供的显示面板的制备方法，相当于先形成图形化的第一图案结构120和第三图案结构140，再去除第二金属层132，以形成第二图案结构130。这种方法也可以使第二图案结构130的第二金属层132裸露，从而便于监测第二金属层132的侧刻量。
应该理解的是，虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，这些步骤可以以其它的顺序执行。而且，附图中的至少一部分步骤可以包括多个步骤或者多个阶段，这些步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成，而是可以在不同的时刻执行，这些步骤或者阶段的执行顺序也不必然是依次进行，而是可以与其它步骤或者其它步骤中的步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。
第二方面，本申请实施例提供一种显示面板，该显示面板通过第一方面中的制备方法制得。该显示面板可以是仅具有显示功能的柔性显示面板，也可以是兼具触控功能的柔性显示面板。该柔性显示面板例如可以是柔性OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板、柔性液晶显示面板(Liquid Crystal Display，简称LCD)、或其他类型的柔性显示面板。
上述显示面板，在对第一图案结构120进行侧刻时，可以采用同一侧刻工艺对第一图案结构120的第一金属层122和第二图案结构130的第二金属层132进行刻蚀。这样，通过测量第二金属层132的侧刻量就可以获取第一金属层122的侧刻量，从而达到准确监测第一金属层122侧刻量的目的，有助于改善侧刻不均的问题，从而提高封装有效性，进而提高显示面板的可靠性。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
于基板上形成第一图案结构和第二图案结构；所述基板具有若干间隔排布的功能区、以及设置在所述功能区外围的分割区，所述功能区对应于既定规格的显示面板；所述第一图案结构位于所述功能区，所述第二图案结构与所述第一图案结构相互分离且位于所述功能区或分割区；所述第一图案结构包括自所述基板依次层叠设置的第一金属层和第一顶金属层，所述第二图案结构包括第二金属层；所述第一金属层和所述第二金属层材质相同；
采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀，并获取所述第二金属层的侧刻量。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述于所述基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤之前，包括：
于所述基板上形成图案材料层，其中，所述图案材料层包括自所述基板依次层叠设置的第一金属材料层和顶金属材料层。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述于所述基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤，包括：
于所述图案材料层上形成第一掩膜层；
对所述第一掩膜层进行曝光，以形成第一掩膜图案和第二掩膜图案；其中，所述第一掩膜图案位于所述功能区，所述第二掩膜图案与所述第一掩膜图案相互分离且位于所述功能区或分割区；沿所述基板的厚度方向，所述第一掩膜图案的尺寸大于所述第二掩膜图案的尺寸；
对所述图案材料层进行刻蚀，以形成所述第一图案结构和所述第二图案结构。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，采用半色调工艺对所述第一掩膜层进行曝光。
5.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述于所述基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤，包括：
于所述图案材料层上形成第二掩膜层；
对所述图案材料层进行刻蚀，以形成所述第一图案结构和第三图案结构，所述第三图案结构与所述第一图案结构相互分离且位于所述功能区或分割区；所述第三图案结构包括自所述基板依次层叠设置的第二金属层以及第二顶金属层，所述第二顶金属层与所述第一顶金属层材质相同；
去除所述第二掩膜层，并于所述第一图案结构上形成第三掩膜层；
去除所述第二顶金属层，以形成所述第二图案结构。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀，并获取所述第二金属层的侧刻量的步骤，包括：
检测所述第二金属层的第一线宽；其中，所述第一线宽为刻蚀前的所述第二金属层沿第一方向的尺寸；所述第一方向垂直于所述基板的厚度方向；
采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀；
检测所述第二金属层的第二线宽，以获取所述第二金属层的侧刻量；其中，所述第二线宽为刻蚀后的所述第二金属层沿所述第一方向的尺寸。
7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二金属层的侧刻量等于所述第一线宽和所述第二线宽之差的二分之一。
8.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，刻蚀前的所述第一金属层沿所述第一方向的尺寸等于所述第一线宽。
9.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述检测所述第二金属层的第一线宽的步骤之后，以及所述采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀的步骤之前，包括：
于所述第一图案结构和所述第二图案结构上形成第四掩膜层。
10.一种显示面板，其特征在于，根据权利要求1至9任一项所述的显示面板的制备方法制得。
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