CN116157427A - 粘合剂组合物、化合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明的课题在于提供一种能够抑制风斑且在形成为层之后上层涂布性优异的粘合剂组合物、化合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装置。本发明的粘合剂组合物为含有粘合剂和具有下述式(B1)或(B2)所表示的基团的化合物的粘合剂组合物。上述式(B1)及(B2)中,Z表示具有氟原子的脂肪族烃基或有机硅氧烷基。
Description
技术领域
本发明涉及一种粘合剂组合物、化合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装置。
背景技术
近年来,聚合物材料被用于多个领域中。与此同时,根据各个领域,作为矩阵的聚合物的性状和添加该聚合物而形成的涂膜表面或层叠涂膜时的层叠膜的界面的特性也很重要。例如,半导体器件、光学部件、液晶相关部件等通常通过涂膜的层叠来制作。为了改善涂布组合物的润湿性及涂膜表面的平滑性或在该涂膜表面上进一步涂布上层的组合物时的润湿性,有时在组合物中添加硅酮系或氟系表面活性剂。
例如,在专利文献1中,记载有含有将规定的含氟氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯作为聚合性烯属不饱和单体类的必须成分进行聚合而获得的含氟聚合物表面活性剂的组合物([权利要求1][权利要求6][0070])。
并且,在专利文献2中,记载有含有光取向性聚合物和粘合剂的粘合剂组合物,所述光取向性聚合物具有在规定位置上具有氟原子或硅原子的重复单元([权利要求1][权利要求7])。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2008-115258号公报
专利文献2:国际公开第2018/216812号
发明内容
发明要解决的技术课题
若使用氟系表面活性剂或硅酮系表面活性剂,则组合物的涂布性变得良好,并且也能够抑制干燥时由干燥风引起的膜厚不均匀(以下,也称为“风斑”。),但是由于涂膜的表面能低,因此表面活性剂有不均匀地存在于涂膜表面上的倾向。这种表面的拒水拒油性变高,因此当试图进一步将上层涂布成膜而制作层叠膜时,有时上层形成用组合物的涂布性(以下,也称为“上层涂布性”。)差。
本发明人等从风斑和上层涂布性的观点考虑,对上述专利文献1中所记载的组合物进行研究的结果,明确了风斑的防止效果优异,但是对于上层涂布性存在改善的余地。
同样地,对上述专利文献2中所记载的组合物进行研究的结果,明确了风斑的防止效果优异,但是对于上层涂布性虽然满足以往的要求水平,但为了满足当今更高的要求水平,需要进一步的改善。
因此,本发明的课题在于提供一种能够抑制风斑且在形成为层之后上层涂布性优异的粘合剂组合物、化合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装置。
用于解决技术课题的手段
本发明人等为了解决上述课题而进行深入研究的结果,发现了若配制具有规定结构所表示的基团的化合物,则能够抑制风斑且在形成为层之后上层涂布性优异,并完成了本发明。
即,本发明人等发现了通过以下结构能够实现上述课题。
[1]一种粘合剂组合物,其含有粘合剂和具有后述式(B1)或(B2)所表示的基团的化合物。
[2]根据[1]所述的粘合剂组合物,其还含有光产酸剂。
[3]根据[1]或[2]所述的粘合剂组合物,其中,化合物为还具有光取向性基团的化合物。
[4]根据[1]至[3]中任一项所述的粘合剂组合物,其中,化合物为具有包含后述式(B1)或(B2)所表示的基团的重复单元B的聚合物。
[5]根据[4]所述的粘合剂组合物,其中,重复单元B为后述式(1)或(2)所表示的重复单元。
[6]根据[4]或[5]所述的粘合剂组合物,其中,化合物为具有包含光取向性基团的重复单元A和重复单元B的共聚物。
[7]根据[6]所述的粘合剂组合物,其中,重复单元A为后述式(A)所表示的重复单元。
[8]根据[6]或[7]所述的粘合剂组合物,其中,化合物为具有包含交联性基团的重复单元C、重复单元B及重复单元A的共聚物。
[9]根据[1]至[8]中任一项所述的粘合剂组合物,其中,化合物的重均分子量为10000~500000。
[10]一种化合物,其具有后述式(B1)或(B2)所表示的基团。
[11]根据[10]所述的化合物,其还具有后述式(P0)所表示的基团。
[12]根据[10]所述的化合物,其为具有包含后述式(B1)或(B2)所表示的基团的重复单元B的聚合物。
[13]根据[12]所述的化合物,其中,重复单元B为后述式(1)或(2)所表示的重复单元。
[14]根据[12]或[13]所述的化合物,其为具有包含光取向性基团的重复单元A和重复单元B的共聚物。
[15]根据[14]所述的化合物,其中,重复单元A为后述式(A)所表示的重复单元。
[16]根据[14]或[15]所述的化合物,其为具有包含交联性基团的重复单元C、重复单元B及重复单元A的共聚物。
[17]根据[10]至[16]中任一项所述的化合物,其中,重均分子量为10000~500000。
[18]一种粘合剂层,其使用[1]至[9]中任一项所述的粘合剂组合物而形成。
[19]一种光学层叠体,其具有:
上述[18]所述的粘合剂层;及
配置于粘合剂层上的光学各向异性层。
[20]一种光学层叠体的制造方法,其具有:
向使用[6]至[8]中任一项所述的粘合剂组合物而获得的涂膜供给选自由光、热、酸及碱组成的组中的至少1种,然后实施光取向处理而形成粘合剂层的工序;及
在粘合剂层上涂布包含聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物而形成光学各向异性层的工序。
[21]一种图像显示装置,其具有[18]所述的粘合剂层或[19]所述的光学层叠体。
发明效果
根据本发明,能够提供一种能够抑制风斑且在形成为层之后上层涂布性优异的粘合剂组合物、化合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装置。
具体实施方式
以下,对本发明进行详细说明。
以下所记载的构成要件的说明是根据本发明的代表性实施方式而完成的,但是本发明并不限定于这种实施方式。
另外,在本说明书中,使用“~”表示的数值范围表示将记载于“~”前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。
并且,在本说明书中,针对各成分,对应于各成分的物质可以单独使用1种,也可以同时使用2种以上。其中,在同时使用2种以上的物质作为各成分的情况下,除非另有特别说明,则其成分的含量是指同时使用的物质的合计含量。
并且,在本说明书中,“(甲基)丙烯酸”为表示“丙烯酸”或“甲基丙烯酸”的表述。
并且,在本说明书中所表述的2价的基团(例如,-O-CO-)的键合方向并无特别限定,例如在“L1-L2-L3”的键合中,在L2为-O-CO-的情况下,若将与L1侧键合的位置设为*1且将与L3侧键合的位置设为*2,则L2可以为*1-O-CO-*2,也可以为*1-CO-O-*2。
[粘合剂组合物]
本发明的粘合剂组合物为含有粘合剂和具有后述式(B1)或(B2)所表示的基团(以下,也简称为“特定裂解基团”。)的化合物(以下,也简称为“特定化合物”。)的组合物。
在本发明中,若配制特定化合物,则能够抑制风斑且在形成为层之后上层涂布性变得良好。
其详细内容虽尚不明确,但是本发明人如下进行推测。
首先,认为如下:若涂布本发明的粘合剂组合物而形成粘合剂层,则包含具有氟原子的脂肪族烃基或有机硅氧烷基的特定化合物不均匀地存在于粘合剂的空气界面侧,因此能够抑制风斑。
然后,认为如下:若使选自由光、热、酸及碱组成的组中的至少1种作用于不均匀地存在于空气界面侧的特定化合物,则特定裂解基团中所包含的缩酮结构容易裂解,具有氟原子的脂肪族烃基或有机硅氧烷基脱离,因此在形成为层之后上层涂布性变得良好。
〔特定化合物〕
本发明的粘合剂组合物中所包含的特定化合物为具有下述式(B1)或(B2)所表示的基团的化合物。
并且,从能够通过控制表面张力来调整风斑抑制能力且能够通过控制裂解部件的裂解速度来调整上层涂布性能的理由考虑,特定化合物优选为具有下述式(B1)所表示的基团的化合物。
上述式(B1)及(B2)中,*表示键合位置。
并且,n表示1以上的整数。其中,多个n可以分别相同,也可以不同。
并且,m表示2以上的整数。
并且,Rb1表示氢原子或取代基。
并且,Rb2、Rb3及Rb4分别独立地表示氢原子或取代基。其中,2个Rb3可以彼此键合而形成环,多个Rb2可以分别相同,也可以不同,多个Rb3可以分别相同,也可以不同,多个Rb4可以分别相同,也可以不同。
并且,Lb1表示n+1价的连接基团。其中,多个Lb1可以分别相同,也可以不同。
并且,Lb2表示m+1价的连接基团。
并且,Z表示具有氟原子的脂肪族烃基或有机硅氧烷基。其中,上述脂肪族烃基可以具有氧原子,多个Z可以分别相同,也可以不同。
上述式(B1)中,Rb1表示氢原子或取代基,优选表示取代基。
Rb1的一方式所表示的取代基的种类并无特别限定,可以举出公知的取代基。
作为取代基,例如可以举出可以具有氧原子的1价的脂肪族烃基及可以具有氧原子的1价的芳香族烃基,更具体而言,可以举出烷基、烯基、炔基、芳基、烷氧基、芳氧基、酰基、酰氧基及将这些组合而成的基团。另外,上述取代基可以进一步经取代基取代。
其中,作为Rb1的一方式所表示的取代基,优选为碳原子数1~18的脂肪族烃基,更优选为碳原子数1~12的烷基,进一步优选为碳原子数1~8的直链状烷基或碳原子数3~8的支链状烷基,尤其优选为甲基。
上述式(B1)中,Rb2表示氢原子或取代基。其中,多个Rb2可以分别相同,也可以不同。
Rb2的一方式所表示的取代基的种类并无特别限定,可以举出公知的取代基,可以举出上述式(B1)中的Rb1的一方式所表示的取代基中所例示的基团。其中,优选为碳原子数1~12的烷基,更优选为碳原子数1~8的直链状烷基或碳原子数3~8的支链状烷基,进一步优选为甲基。
并且,Rb2优选表示氢原子。
上述式(B1)中,Lb1表示n+1价的连接基团。其中,多个Lb1可以分别相同,也可以不同。
作为n+1价的连接基团,从能够通过控制表面张力来调整风斑抑制能力且能够通过控制裂解部件的裂解速度来调整上层涂布性能的理由考虑,优选为可以具有取代基的碳原子数1~24的n+1价的烃基且构成烃基的碳原子的一部分可以经杂原子取代的烃基,更优选为可以包含碳原子数1~10的氧原子或氮原子的脂肪族烃基。
n+1价的连接基团中所包含的碳原子数并无特别限定,从能够通过控制表面张力来调整风斑抑制能力且能够通过控制裂解部件的裂解速度来调整上层涂布性能的理由考虑,优选为1~24,更优选为1~10。
作为n+1价的连接基团,优选为2~4价的连接基团,更优选为2~3价的连接基团,进一步优选为2价的连接基团。
作为2价的连接基团,例如可以举出可以具有取代基的2价的烃基、2价的杂环基、-O-、-S-、-N(Q)-、-CO-或将这些组合而成的基团。Q表示氢原子或取代基。
作为2价的烃基,例如可以举出碳原子数1~10(优选为1~5)的亚烷基、碳原子数1~10的亚烯基及碳原子数1~10的亚炔基等2价的脂肪族烃基;亚芳基等2价的芳香族烃基。
作为2价的杂环基,例如可以举出2价的芳香族杂环基,具体而言,可以举出亚吡啶基(pyridilene)(吡啶-二基)、哒嗪-二基、咪唑-二基、亚噻吩(thienylene)(噻吩-二基)、喹啉基(quinolene)(喹啉-二基)等。
并且,作为将这些组合而成的基团,可以举出将选自由上述2价的烃基、2价的杂环基、-O-、-S-、-N(Q)-及-CO-组成的组中的至少2种以上组合而成的基团,例如可以举出-O-2价的烃基-、-(O-2价的烃基)p-O-(p表示1以上的整数。上限并无特别限定,但是优选为20以下,更优选为10以下。)及-2价的烃基-O-CO-等。
这些2价的连接基团中,优选为碳原子数1~10的直链状的亚烷基、碳原子数3~10的支链状的亚烷基、碳原子数3~10的环状的亚烷基、碳原子数6~12的亚芳基及-O-。
作为烃基及杂环基可以具有的取代基以及Q所表示的取代基,例如可以举出卤原子、烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、氰基、羧基、烷氧基羰基及羟基。
作为卤原子,例如可以举出氟原子、氯原子、溴原子及碘原子,优选为氟原子或氯原子。
作为烷基,例如优选为碳原子数1~18的直链状、碳原子数3~18的支链状或环状的烷基,更优选为碳原子数1~4的直链状烷基,进一步优选为甲基或乙基。
作为烷氧基,例如优选为碳原子数1~18的烷氧基,更优选为碳原子数1~4的烷氧基,进一步优选为甲氧基或乙氧基。
作为芳基,例如可以举出碳原子数6~12的芳基,例如可以举出苯基、α-甲基苯基及萘基,优选为苯基。
作为芳氧基,例如可以举出苯氧基、萘氧基、咪唑氧基、苯并咪唑氧基、吡啶-4-基氧基、嘧啶基氧基、喹唑啉基氧基、嘌呤基氧基及噻吩-3-基氧基。
作为烷氧基羰基,例如可以举出甲氧基羰基及乙氧基羰基。
上述式(B1)中,Z表示具有氟原子的脂肪族烃基或有机硅氧烷基。其中,上述脂肪族烃基可以具有氧原子,多个Z可以分别相同,也可以不同。
作为Z的一方式所表示的具有氟原子的脂肪族烃基,例如可以举出含氟原子的烷基、构成含氟原子的烷基的-CH2-的1个以上经-O-取代的基团、含氟原子的烯基等。
其中,作为含氟原子的烷基,可以为构成烷基的-CH2-的氢原子的一部分取代为氟原子的烷基或构成烷基的一部分的碳原子具有含有氟原子的取代基(例如,-CF3)的基团,但是优选为构成烷基的-CH2-的氢原子均取代为氟原子的全氟烷基,更优选为-(CF2)faCF3。另外,fa表示0~12的整数。
并且,作为构成含氟原子的烷基的-CH2-的1个以上经-O-取代的基团,例如可以举出-(CF2)fbOC(CF3)3、-CF2CF2O(CF2CF2O)fcCF2CF2CF3、-CF(CF3)OCF2CF(CF3)OCF2CF2CF3等。另外,fb表示1~10的整数,fc表示1~10的整数。
并且,作为含氟原子的烯基,例如可以举出-C(CF3)=C(CF(CF3)2)2等。
具有氟原子的脂肪族烃基的碳原子数并无特别限定,优选为1~30,更优选为3~20,进一步优选为3~10。
具有氟原子的脂肪族烃基中所包含的氟原子数并无特别限定,优选为1~30,更优选为5~25,进一步优选为7~20。
作为Z的一方式所表示的有机硅氧烷基,例如可以举出-SiR30R31-OR32、-(SiR33R34-O-)sm-R35。另外,R30~R35分别独立地表示可以具有取代基的烷基、脂环式烃基或芳香族烃基,sm表示1~100的整数。
上述式(B1)中,n表示1以上的整数。其中,从合成适用性的观点考虑,优选为1~5的整数,更优选为1~3的整数,进一步优选为1。
上述式(B2)中,Rb3表示氢原子或取代基。其中,2个Rb3可以彼此键合而形成环,并且多个Rb3可以分别相同,也可以不同。
Rb3的一方式所表示的取代基的种类并无特别限定,可以举出公知的取代基,可以举出上述式(B1)中的Rb1的一方式所表示的取代基中所例示的基团。其中,优选为碳原子数1~12的烷基,更优选为碳原子数1~8的直链状烷基或碳原子数3~8的支链状烷基,进一步优选为甲基。
并且,Rb3优选2个Rb3彼此键合而形成环,更优选2个Rb3彼此键合而形成环己烷环。
上述式(B2)中,Rb4表示氢原子或取代基。其中,多个Rb4可以分别相同,也可以不同。
Rb4的一方式所表示的取代基的种类并无特别限定,可以举出公知的取代基,可以举出上述式(B1)中的Rb1的一方式所表示的取代基中所例示的基团。其中,优选为碳原子数1~12的烷基,更优选为碳原子数1~8的直链状烷基或碳原子数3~8的支链状烷基,进一步优选为甲基。
并且,Rb4优选表示氢原子。
上述式(B2)中,Lb2表示m+1价的连接基团。
作为m+1价的连接基团,从能够通过控制表面张力来调整风斑抑制能力且能够通过控制裂解部件的裂解速度来调整上层涂布性能的理由考虑,优选为可以具有取代基的碳原子数1~24的m+1价的烃基且构成烃基的碳原子的一部分可以经杂原子取代的烃基,更优选为可以包含碳原子数1~10的氧原子或氮原子的脂肪族烃基。
m+1价的连接基团中所包含的碳原子数并无特别限定,从能够通过控制表面张力来调整风斑抑制能力且能够通过控制裂解部件的裂解速度来调整上层涂布性能的理由考虑,优选为1~24,更优选为1~10。
作为m+1价的连接基团,优选为3~4价的连接基团,更优选为4价的连接基团。
作为4价的连接基团,优选为下述式(3)所表示的连接基团。
-C(Rb5)3-b(-Lb3-*)b(3)
上述式(3)中,Rb5表示烷基,Lb3表示2价的连接基团,*表示与Z的键合位置,b表示1~3的整数。
其中,作为Rb5所表示的烷基,例如可以举出碳原子数1~6的烷基,更具体而言,可以举出甲基、乙基及正丙基。
并且,作为Lb3所表示的2价的连接基团,例如可以举出与上述式(B1)中的Lb1的一方式所表示的2价的连接基团中所例示的基团相同的基团。
上述式(B2)中,Z表示具有氟原子的脂肪族烃基或有机硅氧烷基,并且与上述式(B1)中的Z相同。
上述式(B2)中,m表示2以上的整数。其中,从合成适用性的观点考虑,优选为2~4的整数,更优选为2~3的整数。
从能够对后述本发明的粘合剂层赋予取向控制能力的理由考虑,特定化合物优选还具有光取向性基团。
作为光取向性基团,从具有光取向性基团的单体的热稳定性或化学稳定性变得良好的理由考虑,优选为通过光的作用而产生二聚化及异构化中的至少1种的基团。
作为通过光的作用进行二聚化的基团,具体而言,例如可以优选举出具有选自由肉桂酸衍生物、香豆素衍生物、查耳酮衍生物、马来酰亚胺衍生物及二苯甲酮衍生物组成的组中的至少1种衍生物的骨架的基团等。
另一方面,作为通过光的作用进行异构化的基团,具体而言,例如可以优选举出具有选自由偶氮苯化合物、芪化合物、螺吡喃化合物、肉桂酸化合物及亚肼基-β-酮酯化合物组成的组中的至少1种化合物的骨架的基团等。
优选为这种光取向性基团中具有选自由肉桂酸衍生物、香豆素衍生物、查耳酮衍生物、马来酰亚胺衍生物、偶氮苯化合物、芪化合物及螺吡喃化合物组成的组中的至少1种衍生物或化合物的骨架的基团,其中,更优选为具有肉桂酸衍生物或偶氮苯化合物的骨架的基团,进一步优选为具有肉桂酸衍生物的骨架的基团(以下,也简称为“肉桂酰基”。)。
在本发明中,特定化合物可以为具有聚合性基团的单体,但是优选为具有重复单元的聚合物。
<重复单元B(特定裂解基团)>
从能够通过控制表面张力来调整风斑抑制能力且能够通过控制裂解部件的裂解速度来调整上层涂布性能的理由考虑,特定化合物优选为具有包含上述式(B1)或(B2)所表示的基团的重复单元B的聚合物。
从制造适用性优异等理由考虑,上述重复单元B优选为下述式(1)或(2)所表示的重复单元。
上述式(1)及(2)中,r及s分别独立地表示1以上的整数。
并且,RB1及RB2分别独立地表示氢原子或取代基。
并且,Y1及Y2分别独立地表示-O-或-NRZ-。其中,RZ表示氢原子或取代基。
并且,LB1表示r+1价的连接基团。
并且,LB2表示s+1价的连接基团。
并且,B1表示上述式(B1)所表示的基团。其中,上述式(B1)中的*表示与LB1的键合位置,在r为2以上的整数的情况下,多个B1可以分别相同,也可以不同,
并且,B2表示上述式(B2)所表示的基团。其中,上述式(B2)中的*表示与LB2的键合位置,在s为2以上的整数的情况下,多个B2可以分别相同,也可以不同。
上述式(1)中,RB1表示氢原子或取代基。
RB1的一方式所表示的取代基的种类并无特别限定,可以举出公知的取代基,可以举出上述式(B1)中的Rb1的一方式所表示的取代基中所例示的基团。其中,优选为碳原子数1~12的烷基,更优选为碳原子数1~8的直链状烷基或碳原子数3~8的支链状烷基,进一步优选为甲基。
并且,作为RB1,优选表示氢原子或甲基。
上述式(1)中,Y1分别独立地表示-O-或-NRZ-。其中,RZ表示氢原子或取代基。
其中,RZ的一方式所表示的取代基的种类并无特别限定,可以举出公知的取代基,可以举出上述式(B1)中的Rb1的一方式所表示的取代基中所例示的基团。其中,优选为碳原子数1~12的烷基,更优选为碳原子数1~8的直链状烷基或碳原子数3~8的支链状烷基,进一步优选为甲基。
并且,作为Y1,优选表示-O-或-NH-,更优选表示-O-。
上述式(1)中,LB1表示r+1价的连接基团。
作为r+1价的连接基团,从能够通过控制表面张力来调整风斑抑制能力且能够通过控制裂解部件的裂解速度来调整上层涂布性能的理由考虑,优选为可以具有取代基的碳原子数1~24的r+1价的烃基且构成烃基的碳原子的一部分可以经杂原子取代的烃基,更优选为可以包含碳原子数1~10的氧原子或氮原子的脂肪族烃基。
r+1价的连接基团中所包含的碳原子数并无特别限定,从能够通过控制表面张力来调整风斑抑制能力且能够通过控制裂解部件的裂解速度来调整上层涂布性能的理由考虑,优选为1~24,更优选为1~10。
作为r+1价的连接基团,优选为2~3价的连接基团,更优选为2价的连接基团。
作为2价的连接基团,例如可以举出与上述式(B1)中的Lb1的一方式所表示的2价的连接基团中所例示的基团相同的基团。
上述式(1)中,r表示1以上的整数。其中,从合成适用性的观点考虑,优选为1~3的整数,更优选为1~2的整数,进一步优选为1。
上述式(2)中,RB2表示氢原子或取代基。
RB2的一方式所表示的取代基的种类并无特别限定,可以举出公知的取代基,可以举出上述式(B1)中的Rb1的一方式所表示的取代基中所例示的基团。其中,优选为碳原子数1~12的烷基,更优选为碳原子数1~8的直链状烷基或碳原子数3~8的支链状烷基,进一步优选为甲基。
并且,作为RB2,优选表示氢原子或甲基。
上述式(2)中,Y2表示-O-或-NRZ-。其中,RZ表示氢原子或取代基。
其中,RZ的一方式所表示的取代基的种类并无特别限定,可以举出公知的取代基,可以举出上述式(B1)中的Rb1的一方式所表示的取代基中所例示的基团。其中,优选为碳原子数1~12的烷基,更优选为碳原子数1~8的直链状烷基或碳原子数3~8的支链状烷基,进一步优选为甲基。
并且,作为Y2,优选表示-O-或-NH-,更优选表示-O-。
上述式(2)中,LB2表示s+1价的连接基团。
作为s+1价的连接基团,从能够通过控制表面张力来调整风斑抑制能力且能够通过控制裂解部件的裂解速度来调整上层涂布性能的理由考虑,优选为可以具有取代基的碳原子数1~24的s+1价的烃基且构成烃基的碳原子的一部分可以经杂原子取代的烃基,更优选为可以包含碳原子数1~10的氧原子或氮原子的脂肪族烃基。
s+1价的连接基团中所包含的碳原子数并无特别限定,从能够通过控制表面张力来调整风斑抑制能力且能够通过控制裂解部件的裂解速度来调整上层涂布性能的理由考虑,优选为1~24,更优选为1~10。
作为s+1价的连接基团,优选为2价的连接基团。
作为2价的连接基团,例如可以举出与上述式(B1)中的Lb1的一方式所表示的2价的连接基团中所例示的基团相同的基团。
上述式(2)中,s表示1以上的整数。其中,从合成适用性的观点考虑,优选为1~2的整数,更优选为1。
作为包含上述式(B1)所表示的基团的重复单元B的具体例,可以举出下述式B-1~B-22所表示的重复单元,作为包含上述式(B2)所表示的基团的重复单元B的具体例,可以举出下述式B-23~B-24所表示的重复单元。
特定化合物中的重复单元B的含量并无特别限定,从提高风斑的抑制效果的理由考虑,相对于特定化合物(聚合物)的所有重复单元,优选为15~75质量%,更优选为20~50质量%。进一步优选为25~45质量%。
<重复单元A(光取向性基团)>
从在使用液晶化合物而形成光学各向异性层作为上层时能够使液晶化合物取向的理由考虑,特定化合物优选为具有包含光取向性基团的重复单元A和上述重复单元B的共聚物。
其中,作为光取向性基团,可以举出与作为特定化合物可以具有的光取向性基团所说明的基团相同的基团。
上述重复单元A的主链的结构并无特别限定,可以举出公知的结构,例如优选为选自由(甲基)丙烯酸系、苯乙烯系、硅氧烷系、环烯烃系、甲基戊烯系、酰胺系及芳香族酯系组成的组中的骨架。
这些之中,更优选为选自由(甲基)丙烯酸系、硅氧烷系及环烯烃系组成的组中的骨架,进一步优选为(甲基)丙烯酸系骨架。
作为包含光取向性基团的重复单元A,从使用液晶化合物而形成的光学各向异性层作为上层的取向性(以下,简称为“液晶取向性”。)变得良好的理由考虑,优选为下述式(A)所表示的重复单元。
上述式(A)中,RA1表示氢原子或取代基。
并且,LA1表示单键或2价的连接基团。
并且,RA2、RA3、RA4、RA5及RA6分别独立地表示氢原子或取代基。RA2、RA3、RA4、RA5及RA6中的相邻的2个基团可以键合而形成环。
上述式(A)中,RA1表示氢原子或取代基。
RA1的一方式所表示的取代基的种类并无特别限定,可以举出公知的取代基,可以举出上述式(B1)中的Rb1的一方式所表示的取代基中所例示的基团。其中,优选为碳原子数1~12的烷基,更优选为碳原子数1~8的直链状烷基或碳原子数3~8的支链状烷基,进一步优选为甲基。
上述式(A)中,LA1表示单键或2价的连接基团。
作为LA1的一方式所表示的2价的连接基团,例如可以举出与上述式(B1)中的Lb1的一方式所表示的2价的连接基团中所例示的基团相同的基团。
其中,作为LA1的一方式所表示的2价的连接基团,从液晶取向性变得更加良好的理由考虑,优选为将选自由可以具有取代基的碳原子数1~10的直链状的亚烷基、碳原子数3~10的支链状或环状的亚烷基、可以具有取代基的碳原子数6~12的亚芳基、-O-、-CO-及-N(Q)-组成的组中的至少2个以上的基团组合而成的2价的连接基团。Q表示氢原子或取代基。
上述各基团的定义与上述Lb1所表示的2价的连接基团中所说明的各基团的定义相同。
上述式(A)中,RA2、RA3、RA4、RA5及RA6分别独立地表示氢原子或取代基。上述取代基的种类并无特别限定,可以举出公知的取代基,可以举出上述式(B1)中的Rb1的一方式所表示的取代基中所例示的基团。
RA2、RA3、RA4、RA5及RA6中的相邻的2个基团可以键合而形成环。
作为RA2、RA3、RA4、RA5及RA6所表示的取代基,从液晶取向性变得更加良好的理由考虑,优选分别独立地为卤原子、碳原子数1~20的直链状的烷基、碳原子数3~20的支链状或环状的烷基、碳原子数1~20的直链状的卤化烷基、碳原子数1~20的烷氧基、碳原子数6~20的芳基、碳原子数6~20的芳氧基、羟基、氰基、氨基或下述式(4)所表示的基团。另外,上述取代基可以包含-(CH2)na-或-O-(CH2)na-所表示的连接基团。na表示1~10的整数。
其中,上述式(4)中,*表示键合位置。
RA7表示碳原子数1~20的烷基。
作为卤原子,例如可以举出氟原子、氯原子、溴原子及碘原子,优选为氟原子或氯原子。
作为直链状的烷基,优选为碳原子数1~6的烷基,例如可以举出甲基、乙基及正丙基。
作为支链状的烷基,优选为碳原子数3~6的烷基,例如可以举出异丙基及叔丁基。
作为环状的烷基,优选为碳原子数3~6的烷基,例如可以举出环丙基、环戊基及环己基。
作为碳原子数1~20的直链状的卤化烷基,优选为碳原子数1~4的氟烷基,例如可以举出三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟丁基、2,2,3,3,4,4,5,5-八氟戊基及2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟庚基。其中,从液晶取向性和上层涂布性这两者良好的观点考虑,优选为2,2,3,3,4,4,5,5-八氟戊基或2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟庚基。
作为碳原子数1~20的烷氧基,优选为碳原子数1~18的烷氧基,更优选为碳原子数3~18的烷氧基,进一步优选为碳原子数6~18的烷氧基。例如,可以举出甲氧基、乙氧基、正丁氧基、甲氧基乙氧基、正己氧基、正辛氧基、正癸氧基、正十二烷氧基及正十四烷氧基。
作为碳原子数6~20的芳基,优选为碳原子数6~12的芳基,例如可以举出苯基、α-甲基苯基及萘基。
作为碳原子数6~20的芳氧基,优选为碳原子数6~12的芳氧基,例如可以举出苯氧基及2-萘氧基。
作为氨基,例如可以举出伯氨基(-NH2);甲基氨基等仲氨基;二甲基氨基、二乙基氨基、二苄基氨基及将含氮杂环化合物(例如,吡咯烷、哌啶、哌嗪等)的氮原子作为连接键的基团等叔氨基。
从光取向性基团容易与液晶化合物相互作用且液晶取向性变得更加良好的观点考虑,优选上述式(A)中的RA2、RA3、RA4、RA5及RA6中的至少RA4表示上述取代基(优选为碳原子数1~20的烷氧基或卤化烷基),而且从提高所获得的特定化合物的线性,容易与液晶化合物相互作用,并且液晶取向性变得更加良好的理由考虑,更优选RA2、RA3、RA5及RA6均表示氢原子。
作为包含光取向性基团的重复单元A的具体例,可以举出下述式A-1~A-30所表示的重复单元。
特定化合物中的重复单元A的含量并无特别限定,从液晶取向性变得更加良好的理由考虑,相对于特定化合物(聚合物)的所有重复单元,优选为5~50质量%,更优选为10~40质量%。
<重复单元C(交联性基团)>
从通过基于提高溶剂耐性的取向松弛的抑制效果而液晶取向性变得更加良好的理由考虑,特定化合物优选为具有包含交联性基团的重复单元C、上述重复单元B及上述重复单元A的共聚物。
交联性基团的种类并无特别限定,可以举出公知的交联性基团。其中,在与配置于粘合剂层上的上层的密合性优异的观点而言,优选为阳离子聚合性基团或自由基聚合性基团。
作为阳离子聚合性基团,例如可以举出环氧基、环氧环己基及氧杂环丁基。
作为自由基聚合性基团,例如可以举出丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基及烯丙基。
包含交联性基团的重复单元C的主链的结构并无特别限定,可以举出公知的结构,例如优选为选自由(甲基)丙烯酸系、苯乙烯系、硅氧烷系、环烯烃系、甲基戊烯系、酰胺系及芳香族酯系组成的组中的骨架。
这些之中,更优选为选自由(甲基)丙烯酸系、硅氧烷系及环烯烃系组成的组中的骨架,进一步优选为(甲基)丙烯酸系骨架。
作为包含交联性基团的重复单元C,从液晶取向性变得更加良好的理由考虑,优选为下述式(C)所表示的重复单元。
上述式(C)中,RC1表示氢原子或取代基。
并且,LC1表示单键或2价的连接基团。
并且,LC2表示q+1价的连接基团。
并且,P表示交联性基团。
并且,q表示1以上的整数,在q为2以上的整数的情况下,多个P可以分别相同,也可以不同。
上述式(C)中,RC1表示氢原子或取代基。
RC1的一方式所表示的取代基的种类并无特别限定,可以举出公知的取代基,可以举出上述式(B1)中的Rb1的一方式所表示的取代基中所例示的基团。其中,优选为碳原子数1~12的烷基,更优选为碳原子数1~8的直链状烷基或碳原子数3~8的支链状烷基,进一步优选为甲基。
并且,作为RC1,优选表示氢原子或甲基。
上述式(C)中,LC1表示单键或2价的连接基团。
作为LC1的一方式所表示的2价的连接基团,例如可以举出与上述式(B1)中的Lb1的一方式所表示的2价的连接基团中所例示的基团相同的基团。
其中,作为LC1的一方式所表示的2价的连接基团,从液晶取向性变得更加良好的理由考虑,优选为将选自由可以具有取代基的碳原子数1~10的直链状的亚烷基、碳原子数3~10的支链状或环状的亚烷基、可以具有取代基的碳原子数6~12的亚芳基、-O-、-CO-及-N(Q)-组成的组中的至少2个以上的基团组合而成的2价的连接基团。Q表示氢原子或取代基。
上述各基团的定义与上述Lb1所表示的2价的连接基团中所说明的各基团的定义相同。
LC2表示q+1价的连接基团。
作为q+1价的连接基团,从液晶取向性变得更加良好的理由考虑,优选为可以具有取代基的碳原子数1~24的q+1价的烃基且构成烃基的碳原子的一部分可以经杂原子取代的烃基,更优选为碳原子数1~10的可以包含氧原子或氮原子的脂肪族烃基。
q+1价的连接基团中所包含的碳原子数并无特别限定,从液晶取向性变得更加良好的理由考虑,优选为1~24,更优选为1~10。
作为q+1价的连接基团,优选为2价的连接基团。作为2价的连接基团,例如可以举出与上述式(B1)中的Lb1的一方式所表示的2价的连接基团中所例示的基团相同的基团。
P表示交联性基团。交联性基团的定义如上所述。
q表示1以上的整数。其中,从液晶取向性变得更加良好的理由考虑,优选为1~5的整数,更优选为1~3的整数,进一步优选为1。
作为包含交联性基团的重复单元C的具体例,可以举出下述式C-1~C-8所表示的重复单元。
特定化合物中的任意的重复单元C的含量并无特别限定,从液晶取向性变得更加良好的理由考虑,相对于特定化合物(聚合物)的所有重复单元,优选为10~60质量%,更优选为10~40质量%。
作为特定化合物的优选方式的聚合物可以具有除了上述以外的其他重复单元。
作为形成除了上述以外的其他重复单元的单体(自由基聚合性单体),例如可以举出丙烯酸酯化合物、甲基丙烯酸酯化合物、马来酰亚胺化合物、丙烯酸酰胺化合物、丙烯腈、马来酸酐、苯乙烯化合物及乙烯基化合物。
作为特定化合物的优选方式的聚合物的合成法并无特别限定,例如可以举出一次性聚合法、滴加法等公知的方法。
作为一次性聚合法的具体例,能够通过将形成上述重复单元B的单体、形成上述重复单元A的单体、形成上述重复单元C的单体及形成任意的其他重复单元的单体进行混合,并在有机溶剂中使用自由基聚合引发剂进行加热以使其一次性聚合而合成。关于该合成法,将所有试剂加入烧瓶中并进行加热,因此操作非常简单。
并且,作为滴加法的具体例,为如下方法:将由形成上述重复单元B的单体、形成上述重复单元A的单体、形成上述重复单元C的单体及形成任意的其他重复单元的单体组成的单体成分的一部分或全部和有机溶剂进行混合,预先在预先规定的温度(优选为60~100℃程度)下进行加热,并一边滴加自由基聚合引发剂或自由基聚合引发剂及剩余的单体成分(限于预先使用了单体成分的一部分的情况)一边使其聚合的方法。
其中,在滴加法中,在制造稳定性的观点而言,仅将自由基聚合引发剂后滴加的方法(以下,也简称为“滴加法A”。)比一次性聚合法更优异。
并且,在滴加法中,将自由基聚合引发剂及一部分的单体成分后滴加的方法(以下,也简称为“滴加法B”。)能够通过改变烧瓶和滴加液中的单体的装入比率来控制反应性不同的单体的导入率。
另外,作为有机溶剂,可以举出后述溶剂作为具体例。在本发明中,从适当控制重复单元B的分解的观点考虑,优选使用芳香族烃类作为聚合时的有机溶剂,更优选使用甲苯。
特定化合物的重均分子量(Mw)并无特别限定,从液晶取向性变得更加良好的理由考虑,优选为10000~500000,更优选为10000~300000,进一步优选为30000~150000。
其中,本发明中的重均分子量及数均分子量为通过凝胶渗透色谱(GPC)法在以下所示的条件下进行测定而获得的值。
·溶剂(洗脱液):THF(四氢呋喃)
·装置名称:TOSOH HLC-8320GPC
·管柱:连接3根TOSOH TSKgel Super HZM-H(4.6mm×15cm)而使用
·管柱温度:40℃
·试样浓度:0.1质量%
·流速:1.0ml/min
·校准曲线:使用基于直至TOSOH制TSK标准聚苯乙烯Mw=2800000~1050(Mw/Mn=1.03~1.06)的7个样品的校准曲线
〔粘合剂〕
本发明的粘合剂组合物中所包含的粘合剂的种类并无特别限定,其本身可以为如仅由无聚合反应性的树脂构成的单纯干燥固化的树脂(以下,也称为“树脂粘合剂”。),也可以为聚合性化合物。
<树脂粘合剂>
作为树脂粘合剂,例如可以举出环氧树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、硅酮树脂、酚醛树脂、不饱和聚酯树脂、聚酰亚胺树脂、聚氨酯树脂、三聚氰胺树脂、脲醛树脂、离聚物树脂、乙烯丙烯酸乙酯树脂、丙烯腈-丙烯酸酯-苯乙烯共聚树脂、丙烯腈-苯乙烯树脂、丙烯腈-氯化聚乙烯-苯乙烯共聚树脂、乙烯醋树脂、乙烯-乙烯醇共聚树脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚树脂、氯乙烯树脂、氯化聚乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、乙酸纤维素树脂、氟树脂、聚甲醛树脂、聚酰胺树脂、聚芳酯树脂、热塑性聚氨酯弹性体、聚醚醚酮树脂、聚醚砜树脂、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯树脂、聚苯乙烯、聚苯乙烯马来酸共聚树脂、聚苯乙烯丙烯酸共聚树脂、聚苯醚树脂、聚苯硫醚树脂、聚丁二烯树脂、聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、甲基戊烯树脂、聚乳酸、聚丁二酸丁二醇酯树脂、缩丁醛树脂、缩甲醛树脂、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、乙基纤维素、羧甲基纤维素、明胶及它们的共聚树脂。
<聚合性化合物>
作为聚合性化合物,例如可以举出环氧系单体、(甲基)丙烯酸系单体、氧杂环丁烷基系单体,优选为环氧系单体或(甲基)丙烯酸系单体。
并且,作为聚合性化合物,也可以使用聚合性液晶化合物或氨基甲酸酯丙烯酸酯单体。
作为环氧系单体即含环氧基的单体,例如可以举出双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、溴化双酚A型环氧树脂、双酚S型环氧树脂、二苯醚型环氧树脂、氢醌型环氧树脂、萘型环氧树脂、联苯基型环氧树脂、芴型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、邻甲酚酚醛清漆型环氧树脂、三羟基苯基甲烷型环氧树脂、3官能型环氧树脂、四苯酚基乙烷型环氧树脂、二环戊二烯酚型环氧树脂、氢化双酚A型环氧树脂、双酚A成核多元醇型环氧树脂、聚丙二醇型环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂、缩水甘油胺型环氧树脂、乙二醛型环氧树脂、脂环型环氧树脂及杂环型环氧树脂。
关于(甲基)丙烯酸系单体即丙烯酸酯系单体及甲基丙烯酸酯系单体,作为3官能单体,可以举出三羟甲基丙烷三丙烯酸酯丙烯酸酯、三羟甲基丙烷PO(环氧丙烷)改性三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷EO(环氧乙烷)改性三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯甲基丙烯酸酯及季戊四醇三丙烯酸酯。并且,作为4官能以上的单体,例如可以举出季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯及二季戊四醇六甲基丙烯酸酯等。
聚合性液晶化合物并无特别限定,例如可以举出能够进行垂直取向、均匀取向、混合取向及胆甾醇取向中的任一个取向的化合物。
其中,通常,液晶化合物根据其形状而分类为棒状类型和圆盘状类型。而且,分别有低分子类型和高分子类型。高分子通常是指聚合度为100以上的化合物(高分子物理/相变动力学,土井正男著,2页,岩波书店,1992)。在本发明中,也能够使用任意的液晶化合物,但是优选为棒状液晶化合物或盘状液晶化合物(圆盘状液晶化合物)。并且,优选为单体或者聚合度小于100的相对低分子量的液晶化合物。
并且,作为聚合性液晶化合物所具有的聚合性基团,例如可以举出丙烯酰基、甲基丙烯酰基、环氧基及乙烯基。
通过使这种聚合性液晶化合物聚合,能够固定液晶化合物的取向。另外,液晶化合物通过聚合而固定之后,已不需要显示液晶性。
作为棒状液晶化合物,例如优选为日本特表平11-513019号公报的权利要求1或日本特开2005-289980号公报的[0026]~[0098]段中所记载的化合物,作为盘状液晶化合物,例如优选为日本特开2007-108732号公报的[0020]~[0067]段或日本特开2010-244038号公报的[0013]~[0108]段中所记载的化合物。
作为上述聚合性液晶化合物,能够使用逆波长分散性的液晶化合物。
其中,在本说明书中,“逆波长分散性”的液晶性化合物是指在测定使用该液晶化合物进行制作的相位差膜的特定波长(可见光范围)下的面内的延迟(Re)值时,随着测定波长变大而Re值变得相等或变高。
逆波长分散性的液晶化合物只要为如上所述能够形成逆波长分散性的膜的化合物,则并无特别限定,例如可以举出日本特开2008-297210号公报中所记载的通式(I)所表示的化合物(尤其是[0034]~[0039]段中所记载的化合物)、日本特开2010-084032号公报中所记载的通式(1)所表示的化合物(尤其是[0067]~[0073]段中所记载的化合物)及日本特开2016-081035号公报中所记载的通式(1)所表示的化合物(尤其是[0043]~[0055]段中所记载的化合物)等。
而且,可以举出日本特开2011-006360号公报的[0027]~[0100]段、日本特开2011-006361号公报的[0028]~[0125]段、日本特开2012-207765号公报的[0034]~[0298]段、日本特开2012-077055号公报的[0016]~[0345]段、WO12/141245号公报的[0017]~[0072]段、WO12/147904号公报的[0021]~[0088]段、WO14/147904号公报的[0028]~[0115]段中所记载的化合物。
液晶化合物取向的状态(取向状态)并无特别限制,可以举出公知的取向状态。作为取向状态,例如可以举出均匀取向及垂直取向。更具体而言,在液晶化合物为棒状液晶化合物的情况下,作为取向状态,例如可以举出向列取向(形成向列相的状态)、近晶取向(形成近晶相的状态)、胆甾醇取向(形成胆甾醇相的状态)及混合取向。在液晶化合物为盘状液晶化合物的情况下,作为取向状态,可以举出向列取向、柱状取向(形成柱状相的状态)及胆甾醇取向。
〔光产酸剂〕
本发明的粘合剂组合物优选包含光产酸剂。
光产酸剂并无特别限定,优选为感应波长300nm以上(优选为波长300~450nm)的活化光线而产生酸的化合物。并且,针对不直接感应波长300nm以上的活化光线的光产酸剂,只要为通过同时使用敏化剂来感应波长300nm以上的活化光线而产生酸的化合物,则也能够与敏化剂组合而优选使用。
作为光产酸剂,优选为产生pKa为4以下的酸的光产酸剂,更优选为产生pKa为3以下的酸的光产酸剂,进一步优选为产生pKa为2以下的酸的光产酸剂。另外,在本发明中,pKa基本上是指在25℃的水中的pKa。在水中无法测定的pKa是指变更为适于测定的溶剂并进行测定的pKa。具体而言,能够参考化学手册等中所记载的pKa。作为pKa为3以下的酸,优选为磺酸或膦酸,更优选为磺酸。
作为光产酸剂,例如可以举出鎓盐化合物、三氯甲基均三嗪类、锍盐、碘盐、季铵盐类、重氮甲烷化合物、酰亚胺磺酸酯化合物及肟磺酸酯化合物。其中,优选为鎓盐化合物、酰亚胺磺酸酯化合物或肟磺酸酯化合物,更优选为鎓盐化合物或肟磺酸酯化合物。光产酸剂能够单独使用1种或组合使用2种以上。
本发明的粘合剂组合物可以包含除了上述特定化合物、粘合剂及光产酸剂以外的其他成分。
〔聚合引发剂〕
在使用聚合性化合物作为粘合剂的情况下,本发明的粘合剂组合物优选包含聚合引发剂。
聚合引发剂并无特别限定,但是按照聚合反应的形式,可以举出热聚合引发剂及光聚合引发剂。
作为聚合引发剂,优选为通过紫外线照射而能够引发聚合反应的光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂,例如可以举出α-羰基化合物、偶姻醚、α-烃取代芳香族偶姻化合物、多核醌化合物、三芳基咪唑二聚物与对氨基苯基酮的组合、吖啶及吩嗪化合物、噁二唑化合物以及酰基膦氧化合物。
〔溶剂〕
从形成粘合剂层的操作性的观点考虑,本发明的粘合剂组合物优选包含溶剂。
作为溶剂,例如可以举出酮类(例如,丙酮、2-丁酮、甲基异丁基酮、环戊酮及环己酮)、醚类(例如,二噁烷及四氢呋喃)、脂肪族烃类(例如,己烷)、脂环式烃类(例如,环己烷)、芳香族烃类(例如,甲苯、二甲苯及三甲苯)、卤化碳类(例如,二氯甲烷、二氯乙烷、二氯苯及氯甲苯)、酯类(例如,乙酸甲酯、乙酸乙酯及乙酸丁酯)、水、醇类(例如,乙醇、异丙醇、丁醇及环己醇)、溶纤剂类(例如,甲基溶纤剂及乙基溶纤剂)、溶纤剂乙酸酯类、亚砜类(例如,二甲基亚砜)、酰胺类(例如,二甲基甲酰胺及二甲基乙酰胺)。
溶剂可以单独使用1种,也可以同时使用2种以上。
[化合物]
本发明的化合物为具有上述式(B1)或(B2)所表示的基团的化合物、即上述特定化合物。
本发明的化合物可以为具有下述式(P0)所表示的基团的化合物,也可以为具有下述式(P1)所表示的基团的化合物。
上述式(P0)及式(P1)中,*表示与上述式(B1)或(B2)中的*的键合位置。
并且,上述式(P0)中,P1表示聚合性基团。
并且,上述式(P1)中,R1及R2分别独立地表示氢原子或取代基。其中,多个R1可以分别相同,也可以不同。
并且,上述式(P0)及式(P1)中,L1表示2价的连接基团。
上述式(P0)中,P1表示聚合性基团。
作为聚合性基团,优选为阳离子聚合性基团或自由基聚合性基团,更优选为自由基聚合性基团。
作为阳离子聚合性基团,例如可以举出环氧基、环氧环己基及氧杂环丁基等。
作为自由基聚合性基团,例如可以举出甲基丙烯酰基、丙烯酰基、甲基丙烯酰胺基及丙烯酰胺基、乙烯基、苯乙烯基及烯丙基等。其中,优选为甲基丙烯酰基及丙烯酰基。
上述式(P1)中,R1及R2分别独立地表示氢原子或取代基。
R1及R2的一方式所表示的取代基的种类并无特别限定,可以举出公知的取代基,可以举出上述式(B1)中的Rb1的一方式所表示的取代基中所例示的基团。其中,优选为碳原子数1~12的烷基,更优选为碳原子数1~8的直链状烷基或碳原子数3~8的支链状烷基,进一步优选为甲基。
并且,作为R1及R2,优选为氢原子或甲基。
上述式(P0)及式(P1)中,L1表示2价的连接基团。
作为2价的连接基团,例如可以举出与上述式(B1)中的Lb1的一方式所表示的2价的连接基团中所例示的基团相同的基团。
并且,上述式(P1)中的“R1 2C=CR2-”所表示的部分和L1的一部分可以构成聚合性基团。作为这种聚合性基团,例如可以举出甲基丙烯酰基、丙烯酰基、甲基丙烯酰胺基及丙烯酰胺基等,其中,优选为甲基丙烯酰基及丙烯酰基。
作为本发明的化合物中具有上述式(P0)及式(P1)所表示的基团的化合物的具体例,可以举出下述式mB-1~mB-23所表示的化合物。另外,在下述具体例的式中,Me表示甲基。
[化学式10]
本发明的粘合剂层为使用上述本发明的粘合剂组合物而形成的层。更具体而言,粘合剂层为如下层:向粘合剂组合物的涂膜供给选自由光、热、酸及碱组成的组中的至少1种(以下,在本段中简称为“酸等”。)以使特定裂解基团中所包含的缩酮结构裂解,使具有氟原子的脂肪族烃基或有机硅氧烷基脱离。
并且,在上述本发明的粘合剂组合物中所包含的特定化合物具有光取向性基团的情况下,本发明的粘合剂层为其表面具有取向控制能力的层。更具体而言,粘合剂层为向粘合剂组合物的涂膜供给酸等之后,实施光取向处理而形成的层。另外,具有取向控制能力表示具有使配置于粘合剂层上的液晶化合物在规定的方向上进行取向的功能。并且,在粘合剂层包含上述聚合性液晶化合物的情况下,具有取向控制能力可以表示具有使粘合剂层中所包含的上述聚合性液晶化合物在规定的方向上进行取向的功能。
并且,在上述本发明的粘合剂组合物含有光产酸剂的情况下,向粘合剂组合物的涂膜进行的酸等的供给可以为由涂膜中的光产酸剂产生酸的方式。
即,在上述本发明的粘合剂组合物中所包含的特定化合物具有光取向性基团且上述本发明的粘合剂组合物含有光产酸剂的情况下,形成粘合剂层的方法优选具有在由使用上述粘合剂组合物而获得的涂膜中的光产酸剂产生酸之后,对涂膜实施光取向处理而形成粘合剂层的工序(工序1)。
在粘合剂组合物包含聚合性化合物的情况下,在上述工序1中,优选对使用上述粘合剂组合物而获得的涂膜实施固化处理,然后实施由涂膜中的光产酸剂产生酸的处理(以下,也简称为“产酸处理”。)之后,对涂膜实施光取向处理而形成粘合剂层。
另外,如后述,也可以同时实施固化处理和产酸处理。
以下,对实施上述固化处理的方法进行详细叙述。
形成粘合剂组合物的涂膜的方法并无特别限定,例如可以举出在支撑体上涂布粘合剂组合物,并根据需要实施干燥处理的方法。
支撑体将在后段进行详细叙述。
并且,可以在支撑体上配置取向层。
涂布粘合剂组合物的方法并无特别限定,作为涂布方法,例如可以举出旋涂法、气刀涂布法、帘式涂布法、辊涂法、绕线棒涂布法、凹版印刷式涂布法及模涂法。
接着,对粘合剂组合物的涂膜实施固化处理及由涂膜中的光产酸剂产生酸的处理(以下,也称为“产酸处理”。)。
作为固化处理,可以举出光照射处理或加热处理。
并且,固化处理的条件并无特别限定,但是在由光照射而引起的聚合中,优选使用紫外线。照射量优选为10mJ/cm2~50J/cm2,更优选为20mJ/cm2~5J/cm2,进一步优选为30mJ/cm2~3J/cm2,尤其优选为50~1000mJ/cm2。并且,为了促进聚合反应,可以在加热条件下实施。
由涂膜中的光产酸剂产生酸的处理为照射粘合剂组合物中所包含的光产酸剂感光的光而产生酸的处理。通过实施本处理,进行裂解基团中的裂解,包含氟原子或硅原子的基团脱离。
在上述处理中所实施的光照射处理只要为光产酸剂感光的处理即可,例如可以举出照射紫外线的方法。作为光源,能够使用高压汞灯及金属卤化物灯等发出紫外线的灯。并且,照射量优选为10mJ/cm2~50J/cm2,更优选为20mJ/cm2~5J/cm2,进一步优选为30mJ/cm2~3J/cm2,尤其优选为50~1000mJ/cm2。
关于上述固化处理及产酸处理,可以在实施固化处理之后,实施产酸处理,也可以同时实施固化处理及产酸处理。尤其,在粘合剂组合物中的光产酸剂及聚合引发剂由相同波长的光感光的情况下,从生产率的观点考虑,优选同时实施。
对在上述中所形成的粘合剂组合物的涂膜(包含实施了固化处理的粘合剂组合物的固化膜)实施的光取向处理的方法并无特别限定,可以举出公知的方法。
作为光取向处理,例如可以举出对粘合剂组合物的涂膜(包含实施了固化处理的粘合剂组合物的固化膜)照射偏振光或从相对于涂膜表面的倾斜方向照射非偏振光的方法。
在光取向处理中,所照射的偏振光并无特别限定,例如可以举出直线偏振光、圆偏振光及椭圆偏振光,优选为直线偏振光。
并且,照射非偏振光的“倾斜方向”只要为相对于涂膜表面的法线方向倾斜极角θ(0<θ<90°)的方向,则并无特别限定,能够根据目的适当选择,θ优选为20~80°。
作为偏振光或非偏振光中的波长,只要为由光取向性基团感光的光,则并无特别限定,例如可以举出紫外线、近紫外线及可见光线,优选为250~450nm的近紫外线。
并且,作为用于照射偏振光或非偏振光的光源,例如可以举出氙气灯、高压汞灯、超高压汞灯及金属卤化物灯。针对从这种光源获得的紫外线或可见光线,通过使用干涉滤光器或滤色器等,能够限定照射的波长范围。并且,针对来自这些光源的光,通过使用偏振滤光器或偏振棱镜,能够获得直线偏振光。
偏振光或非偏振光的累计光量并无特别限定,优选为1~300mJ/cm2,更优选为5~100mJ/cm2。
偏振光或非偏振光的照度并无特别限定,优选为0.1~300mW/cm2,更优选为1~100mW/cm2。
另外,在上述中,对在实施光取向处理之前,实施固化处理及产酸处理的方式进行了叙述,但是本发明并不限定于该方式,也可以在进行光取向处理时,同时实施固化处理及产酸处理,也可以在实施光取向处理之后,实施固化处理及产酸处理。尤其,在通过光取向处理来控制粘合剂层的取向的情况下,优选在涂布粘合剂组合物之后,通过以下步骤进行制作。
即,优选通过如下步骤进行制作:在通过交联处理使利用粘合剂组合物而获得的涂膜中的特定化合物交联之后,对涂膜依次实施光取向处理及固化处理,然后实施产酸处理而形成粘合剂层。
其中,作为交联处理,可以举出光照射处理或加热处理。例如,在所使用的特定化合物的交联性基团通过酸的作用进行反应的情况下,可以举出产酸处理作为交联处理。
并且,作为交联处理,在生产率及交联性基团的反应容易度的观点而言,优选为产酸处理。另外,交联处理和产酸处理可以同时实施,此时优选在同时实施交联处理和产酸处理之后,依次实施光取向处理及固化处理。
粘合剂层的厚度并无特别限定,从上层涂布性变得更加良好的理由考虑,优选为0.1~10μm,更优选为0.3~3μm。
[光学层叠体]
本发明的光学层叠体具有本发明的粘合剂层及设置于粘合剂层上的光学各向异性层。
作为本发明的光学层叠体的优选方式之一,可以举出如下方式:使用含有聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物来形成设置于粘合剂层上的光学各向异性层,并且粘合剂层和光学各向异性层彼此相邻地层叠。
并且,本发明的光学层叠体优选具有支撑粘合剂层的支撑体。支撑体可以在形成光学层叠体之后剥离。
以下,对本发明的光学层叠体的优选方式进行详细叙述。
〔支撑体〕
作为支撑体,例如可以举出玻璃基板及聚合物膜。
作为聚合物膜的材料,可以举出纤维素系聚合物;具有聚甲基丙烯酸甲酯、含有内酯环的聚合物等丙烯酸酯聚合物的丙烯酸系聚合物;热塑性降冰片烯系聚合物;聚碳酸酯系聚合物;聚对苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物;聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物;聚乙烯、聚丙烯及乙烯-丙烯共聚物等聚烯烃系聚合物;氯乙烯系聚合物;尼龙、芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物;酰亚胺系聚合物;砜系聚合物;聚醚砜系聚合物;聚醚醚酮系聚合物;聚苯硫醚系聚合物;偏二氯乙烯系聚合物;乙烯醇系聚合物;乙烯醇缩丁醛系聚合物;芳酯系聚合物;聚甲醛系聚合物;环氧系聚合物;或将它们的聚合物混合而成的聚合物。
支撑体的厚度并无特别限定,优选为5~200μm,更优选为10~100μm,进一步优选为20~90μm。
〔粘合剂层〕
粘合剂层为上述本发明的粘合剂层。
〔光学各向异性层〕
光学各向异性层优选使用包含聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物来形成。
其中,作为用于形成光学各向异性层的聚合性液晶组合物,例如可以举出在本发明的粘合剂组合物中作为任意成分所记载的聚合性液晶化合物、聚合引发剂及溶剂等配制而成的组合物。
光学各向异性层的厚度并无特别限定,优选为0.1~10μm,更优选为0.5~5μm。
[光学层叠体的制造方法]
本发明的光学层叠体的制造方法为制作上述本发明的光学层叠体的优选方式的方法,所述方法具有:向使用本发明的粘合剂组合物中配制具有上述重复单元A和重复单元B的共聚物作为特定化合物的组合物而获得的涂膜供给选自由光、热、酸及碱组成的组中的至少1种之后,对涂膜实施光取向处理而形成粘合剂层的工序(工序1);及在粘合剂层上涂布包含聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物而形成光学各向异性层的工序(工序2)。
〔工序1〕
工序1为在由使用上述粘合剂组合物而获得的涂膜中的光产酸剂产生酸之后,对涂膜实施光取向处理而形成粘合剂层的工序。
工序1的步骤如上所述。
〔工序2〕
工序2为在粘合剂层上涂布包含聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物而形成光学各向异性层的工序。
涂布聚合性液晶组合物的方法并无特别限定,可以举出在工序1中所例示的涂布方法。
作为形成光学各向异性层的方法,可以举出对聚合性液晶组合物的涂膜实施加热处理,然后实施固化处理的方法。能够通过上述加热处理来使聚合性液晶化合物取向。
在上述中分别实施了加热处理和固化处理,但是也可以为在加热条件下实施固化处理的方法。
另外,在根据聚合性液晶化合物的种类不实施加热处理而进行取向的情况下,可以不实施加热处理。
在加热涂膜之后,并且在后述固化处理之前,根据需要,可以冷却涂膜。
加热处理的条件并无特别限定,只要为聚合性液晶化合物进行取向的温度即可。加热温度通常优选为30~100℃,更优选为50~80℃。加热时间优选为0.5~20分钟,更优选为1~5分钟。
固化处理的方法并无特别限定,可以举出光照射处理及加热处理,优选为光照射处理。作为进行光照射处理时的光,优选为紫外线。
进行光照射时的条件并无特别限定,作为照射量,优选为10mJ/cm2~50J/cm2,更优选为20mJ/cm2~5J/cm2,进一步优选为30mJ/cm2~3J/cm2。
并且,为了促进聚合反应,可以在加热条件下实施。
[图像显示装置]
本发明的图像显示装置为具有本发明的光学各向异性层或本发明的光学层叠体的图像显示装置。
本发明的图像显示装置中所使用的显示元件并无特别限定,例如可以举出液晶单元、有机电致发光(以下,简称为“EL”。)显示面板及等离子显示面板。
这些之中,优选为液晶单元或有机EL显示面板,更优选为液晶单元。即,作为本发明的图像显示装置,优选为使用液晶单元作为显示元件的液晶显示装置或使用有机EL显示面板作为显示元件的有机EL显示装置。
〔液晶显示装置〕
作为本发明的图像显示装置的一例的液晶显示装置为具有上述本发明的光学各向异性层或本发明的光学层叠体和液晶单元的液晶显示装置。
液晶显示装置中所利用的液晶单元优选为VA(Vertical Alignment:垂直取向)模式、OCB(Optically Compensated Bend:光学补偿弯曲)模式、IPS(In-Plane-Switching:面内切换)模式、FFS(Fringe-Field-Switching:边缘场开关)模式或TN(Twisted Nematic:扭曲向列)模式,但是并不限定于这些。
关于作为本发明的图像显示装置的一例的液晶显示装置,例如优选为从视觉辨认侧依次具有偏振器、本发明的光学层叠体及液晶单元的方式。
〔有机EL显示装置〕
作为本发明的图像显示装置的一例的有机EL显示装置,例如可以优选举出从视觉辨认侧依次具有偏振器、本发明的光学各向异性层或本发明的光学层叠体及有机EL显示面板的方式。
<偏振器>
上述偏振器只要为具有将光转换成特定的直线偏振光的功能的部件,则并无特别限定,能够利用以往公知的吸收型偏振器及反射型偏振器。
作为吸收型偏振器,可以举出碘系偏振器、利用了二色性染料的染料系偏振器及多烯系偏振器。碘系偏振器及染料系偏振器有涂布型偏振器和拉伸型偏振器,并且两者均能够适用。
并且,作为在基材上形成聚乙烯醇层的层叠膜的状态下实施拉伸及染色而获得偏振器的方法,可以举出日本专利第5048120号公报、日本专利第5143918号公报、日本专利第4691205号公报、日本专利第4751481号公报及日本专利第4751486号公报中所记载的方法。
作为反射型偏振器,可以举出层叠双折射的不同的薄膜而成的偏振器、线栅型偏振器及组合具有选择反射区域的胆甾型液晶与1/4波长板而成的偏振器。
这些之中,在密合性更加优异的观点而言,优选为包含聚乙烯醇系树脂(包含-CH2-CHOH-作为重复单元的聚合物。尤其,选自由聚乙烯醇及乙烯-乙烯醇共聚物组成的组中的至少1个)的偏振器。
偏振器的厚度并无特别限定,优选为3~60μm,更优选为5~30μm,进一步优选为5~15μm。
<有机EL显示面板>
有机EL显示面板为在阳极、阴极这一对电极之间形成发光层或包括发光层的多个有机化合物薄膜的部件,除了发光层以外可以具有空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层及保护层等,并且这些各层可以分别具备其他功能。关于各层的形成,能够分别使用各种材料。
实施例
以下,举出实施例对本发明进一步进行详细说明。以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容及处理步骤等,只要不脱离本发明的宗旨,则能够适当变更。因此,本发明的范围不应被以下所示的实施例做限定性解释。
〔单体mB-4的合成〕
根据下述方案,合成了下述式mB-4所表示的单体mB-4。
[化学式11]
<b的合成>
在2000mL的茄形烧瓶中称取2-乙酰基丁内酯(在上述方案中,式a所表示的化合物)200g、溴化氢水溶液(48%)320g、甲苯300mL,并在60℃下搅拌了1小时。将反应液冷却至室温,转移至分液漏斗中,并加入了己烷100mL。用加入了硫代硫酸钠10g的饱和碳酸氢钠水100mL和饱和食盐水100mL进行分液清洗,用无水硫酸镁将所获得的有机层进行干燥并浓缩,从而获得了260.0g的化合物b(在上述方案中,式b所表示的化合物)作为褐色液体。
<c的合成>
在2000mL的茄形烧瓶中称取256g的化合物b、甲酸三甲酯165.6g、对甲苯磺酸-水合物9g、甲醇400mL,并在室温下搅拌了1小时。加入二异丙基乙胺15mL,并用蒸发器蒸馏除去了溶剂。加入己烷500mL、乙酸乙酯50mL,转移至分液漏斗中,用饱和碳酸氢钠水溶液500mL进行两次分液清洗,用无水硫酸镁将所获得的有机层进行干燥并浓缩,从而获得了248.0g的化合物c(在上述方案中,式c所表示的化合物)作为褐色液体。
<d的合成>
在500mL的茄形烧瓶中称取50g的化合物c、对甲苯磺酸-水合物0.45g、1H,1H,2H,2H-全氟己烷-1-醇172.5g、己烷100mL,在77℃下安装Dean-Stark,并搅拌6小时,从而获得了反应液。
接着,在反应液中加入二异丙基乙胺1mL,并用蒸发器蒸馏除去溶剂,从而获得了浓缩液。将浓缩液转移至分液漏斗中,加入己烷700mL、乙腈400mL之后,分取己烷层,并用蒸发器进行浓缩,从而获得了73.0g的化合物d(在上述方案中,式d所表示的化合物)作为褐色液体。
<单体mB-4的合成>
在300mL的茄形烧瓶中称取50g的化合物d、50mg的二丁基羟基甲苯(BHT)、1.23g的碘化钾、甲基丙烯酸钠12g、N,N-二甲基乙酰胺50mL,并在80℃下搅拌了5小时。冷却至室温,加入水200mL并搅拌5分钟之后,转移至分液漏斗中,并加入了己烷200mL、乙酸乙酯20mL。使分液漏斗振荡之后,去除了水层。加入饱和氯化钠水溶液进行了分液清洗。用无水硫酸钠将所获得的有机层进行干燥并浓缩,并且进行柱色谱,从而获得了41g的单体mB-4。
另外,以下单体mB-4对应于形成下述式B-4所表示的重复单元的单体。
[化学式12]
关于除了上述以外的单体,参考上述合成法及公知的方法(例如,国际公开第2018/216812号中所记载的方法)进行了合成。
另外,后述实施例中所使用的重复单元的结构与上述重复单元的具体例对应,后述比较例中所使用的重复单元及形成该重复单元的单体的结构如下。
[化学式13]
[实施例1(聚合物P-1的合成)]
在具备冷却管、温度计及搅拌机的烧瓶中装入作为溶剂的2-丁酮(23质量份)、下述单体mA-18(2.65质量份)、下述单体mB-4(3.65质量份)、下述单体mC-4Cl(3.70质量份)及作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二(异丁腈)(0.081质量份),一边在烧瓶内以15mL/min流动氮气,一边通过水浴加热在维持7小时的回流状态的情况下进行了搅拌。
[化学式14]
反应结束之后,自然冷却至室温,将所获得的聚合物溶液投入到大量过剩的甲醇中以使聚合物沉淀,滤出所回收的沉淀物,并用大量的甲醇进行清洗之后,在40℃下进行6小时的真空干燥,从而获得了具有重复单元A-18、重复单元B-4及重复单元C-4Cl的下述聚合物P-1c。
[化学式15]
接着,在具备冷却管、温度计及搅拌机的烧瓶中装入共聚物P-1c(3.3质量份)、4-甲氧基苯酚(0.016质量份)、三乙基胺(3.75质量份)及二甲基乙酰胺(4.95质量份),并通过水浴加热在60℃下搅拌了4小时。反应结束之后,自然冷却至室温,将所获得的反应溶液投入到大量过剩的甲醇/水(1/3)中以使聚合物沉淀,滤出所回收的沉淀物,并用大量的甲醇/水(1/3)进行清洗之后,在40℃下进行12小时的送风干燥,从而获得了下述聚合物P-1。
[化学式16]
[实施例2~实施例7及比较例1~比较例2(聚合物的合成)]
使用形成下述表1中所记载的重复单元的单体来代替实施例1中所使用的各种单体,并以下述表1中所记载的含量进行配制,除此以外,通过与实施例1中所合成的聚合物P-1相同的方法合成了聚合物P-2~P-7以及H-1及H-2。
将实施例1~实施例7及比较例1~比较例2中所合成的聚合物P-1~P-7以及H-1及H-2的结构示于以下。
聚合物P-1
(下述式中:a~c为a:b:c=25:40:35,并且表示各重复单元相对于聚合物中的所有重复单元的含量。)
[化学式17]
聚合物P-2
(下述式中:a~c为a:b:c=25:35:40,并且表示各重复单元相对于聚合物中的所有重复单元的含量。)
[化学式18]
聚合物P-3
(下述式中:a~c为a:b:c=25:35:40,并且表示各重复单元相对于聚合物中的所有重复单元的含量。)
[化学式19]
聚合物P-4
(下述式中:a~c为a:b:c=25:30:45,并且表示各重复单元相对于聚合物中的所有重复单元的含量。)
[化学式20]
聚合物P-5
(下述式中:a~c为a:b:c=25:30:45,并且表示各重复单元相对于聚合物中的所有重复单元的含量。)
[化学式21]
聚合物P-6
(下述式中:a~c为a:b:c=15:40:45,并且表示各重复单元相对于聚合物中的所有重复单元的含量。)
[化学式22]
聚合物P-7
(下述式中:a~c为a:b:c=26:20:54,并且表示各重复单元相对于聚合物中的所有重复单元的含量。)
[化学式23]
聚合物H-1
(下述式中:a~c为a:b:c=50:30:20,并且表示各重复单元相对于聚合物中的所有重复单元的含量。)
[化学式24]
聚合物H-2
(下述式中:a~c为a:b:c=25:40:35,并且表示各重复单元相对于聚合物中的所有重复单元的含量。)
[化学式25]
关于实施例1~实施例7及比较例1~比较例2中所合成的聚合物P-1~P-7以及H-1及H-2,通过上述方法测定了重均分子量。将结果示于下述表1中。
[实施例1(光学层叠体的制作)]
准备纤维素酰化物膜(ZRD40、Fujifilm Corporation制)作为支撑体。作为粘合剂层形成用组合物,将下述棒状液晶化合物A(83质量份)、下述棒状液晶化合物C(15质量份)、下述棒状液晶化合物D(2质量份)、氨基甲酸酯丙烯酸酯(EBECRYL1290,DAICEL-ALLNEXLTD.制)(4质量份)、光聚合引发剂(IRGACURE OXE01、BASF公司制)(4.0质量份)、下述光产酸剂B(3.0质量份)、下述亲水性聚合物A(2.0质量份)及上述聚合物P-1(2.0质量份)溶解于甲基异丁基酮(669质量份)中,从而制备了粘合剂层形成用组合物。
用#3.0的线棒在上述支撑体上涂布了所制备的上述粘合剂层形成用溶液。将所获得的涂膜在60℃下加热2分钟,并冷却至40℃之后,一边以氧浓度成为1.0体积%以下的气氛的方式进行氮清洗一边使用365nm的UV-LED照射了照射量500mJ/cm2的紫外线。然后,将所获得的膜在110℃下退火1分钟,从而形成了粘合剂层。另外,粘合剂层的厚度为0.5μm。
[化学式26]
光产酸剂B
[化学式27]
亲水性聚合物A
[化学式28]
〔照射工序(赋予取向功能)〕
在室温下,向所获得的粘合剂层照射穿过了线栅型偏振器的UV光(超高压汞灯;UL750;HOYA制)7.9mJ/cm2(波长:313nm),从而赋予了取向功能。
〔光学各向异性层的形成〕
将下述聚合性液晶化合物A(65质量份)、下述聚合性液晶化合物B(35质量份)、光聚合引发剂(Irgacure 907、BASF公司制)(3质量份)、敏化剂(KAYACURE DETX、NipponKayaku Co.,Ltd.制)(1质量份)及下述水平取向剂(0.09质量份)溶解于甲基乙基酮(193质量份)中,从而制备了光学各向异性层形成用溶液。
用#7的线棒涂布机在上述粘合剂层上涂布上述光学各向异性层形成用溶液,在60℃下加热2分钟,并在维持60℃的情况下,一边以氧浓度成为1.0体积%以下的气氛的方式进行氮清洗一边使用160W/cm的气冷金属卤化物灯(EYE GRAPHICS Co.,Ltd.制)照射照射量300mJ/cm2的紫外线而形成光学各向异性层(厚度:2.5μm),从而制作了光学层叠体。
[化学式29]
水平取向剂
[实施例2~实施例6及比较例1~比较例2(光学层叠体的制作)]
使用聚合物P-2~P-6及H-1~H-2来代替聚合物P-1,除此以外,通过与实施例1相同的方法制作了光学层叠体。
[实施例7(光学层叠体的制作)]
〔粘合剂层的形成〕
制备了下述组成的粘合剂层形成用组合物2。
另外,下述液晶化合物R1及R2的与丙烯酰氧基相邻的基团表示亚丙基(甲基取代为乙烯基的基团),下述液晶化合物R1及R2表示甲基的位置不同的位置异构体的混合物。
液晶化合物R1
[化学式30]
液晶化合物R2
[化学式31]
聚合性化合物A1
[化学式32]
聚合性化合物A2
[化学式33]
光聚合引发剂S1
[化学式34]
用#7的线棒涂布机在纤维素酰化物膜(TG40UL、Fujifilm Corporation制)上涂布上述粘合剂层形成用组合物2,并为了聚合物P-7的交联,在120℃下退火1分钟。另外,通过该退火,上述式中的含量a所表示的重复单元中所包含的裂解基团裂解,产生基于含量c所表示的重复单元的交联。
然后,降温至室温,并实施了照射穿过了线栅型偏振器的UV光(超高压汞灯;UL750;HOYA制)7.9mJ/cm2(波长:313nm)的光取向处理。
然后,为了粘合剂层的取向熟化,再次在120℃下退火1分钟之后,降温至60℃,并在维持60℃的情况下,一边以氧浓度成为100ppm以下的气氛的方式进行氮清洗一边使用365nm的UV-LED照射照射量200mJ/cm2的紫外线,从而制作了粘合剂层2(厚度:2.5μm)。
〔光学各向异性层的形成〕
用#4的线棒涂布机在粘合剂层上涂布了以以下组成制备的光学各向异性层形成用组合物2。
接着,为了组合物的溶剂的干燥及液晶化合物的取向熟化,用70℃的暖风加热了90秒钟。在氮清洗下,以氧浓度0.1%在40℃下进行紫外线照射(300mJ/cm2),使液晶化合物的取向固定化以在粘合剂层上形成光学各向异性层2(厚度:1.5μm),从而制作了光学层叠体。
液晶化合物R3
下述液晶化合物(RA)(RB)(RC)的83:15:2(质量比)的混合物(Me表示甲基。)
[化学式35]
化合物B1
[化学式36]
流平剂P2(重均分子量:15000,下述式中的数值为质量%)
[化学式37]
流平剂P3(重均分子量:11,200)
(下述式中:a~d为a:b:c:d=56:10:29:5,并且表示各重复单元相对于聚合物中的所有重复单元的含量(mol%)。)
[化学式38]
[实施例8(光学层叠体的制作)]
将粘合剂层形成用组合物2及光学各向异性层形成用组合物2中的液晶化合物R1及R2均变更为下述液晶化合物Z1,将粘合剂层形成用组合物2中的聚合性化合物A1及A2均变更为下述聚合性化合物A3,将光学各向异性层形成用组合物2中的聚合性化合物A2变更为下述聚合性化合物A3,除此以外,通过与实施例7相同的方法制作了在粘合剂层上形成有光学各向异性层的光学层叠体。
液晶化合物Z1
[化学式39]
聚合性化合物A3
[化学式40]
〔聚合物P-8的合成〕
使用形成下述表1中所记载的重复单元的单体来代替实施例1中所使用的各种单体,并以下述表1中所记载的含量进行配制,除此以外,通过与实施例1中所合成的聚合物P-1相同的方法合成了聚合物P-8。
〔光学层叠体的制作〕
使用聚合物P-8来代替聚合物P-1,除此以外,通过与实施例1相同的方法制作了光学层叠体。
[实施例10]
〔单体mB-19的合成〕
[化学式41]
<mB-19a的合成>
在500mL的3口茄形烧瓶中称取1-甲基环己醇50g、碳酸钾91g及氯仿150mL,一边在冰浴中进行搅拌一边经80分钟滴加了用氯仿70mL稀释的溴91g。滴加结束之后,在水浴中搅拌2小时之后,加入饱和硫代硫酸钠水100mL以停止了反应。接着,去除水层,用无水硫酸镁将所获得的有机层进行干燥并浓缩,从而获得了83g的上述方案中的mB-19a作为无色液体(产率99%)。
<mB-19b的合成>
在100mL的3口茄形烧瓶中称取2-乙酰基丁内酯2g、4.4g的mB-19a、碳酸钾1.7g及二甲基甲酰胺10mL,并在80℃下搅拌了6小时。自然冷却至室温之后,加入水50mL以停止了反应。接着,加入己烷20mL,去除水层,用无水硫酸镁将所获得的有机层进行干燥并浓缩,并且进行硅胶柱纯化,从而获得了7g的上述方案中的mB-19b作为无色液体。
<mB-19c的合成>
在50mL的1口茄形烧瓶中称取7g的mB-19b、甲苯10g及氢溴酸水溶液4g,并在70℃下搅拌了2小时。自然冷却至室温之后,加入水50mL以停止了反应。接着,加入己烷20mL,去除水层,用无水硫酸镁将所获得的有机层进行干燥并浓缩,并且进行硅胶柱纯化,从而获得了0.9g的上述方案中的mB-19c作为无色液体(产率20%)。
<mB-19d的合成>
在50mL的1口茄形烧瓶中称取0.9g的mB-19c、原甲酸三甲酯0.83g、对甲苯磺酸-水合物19mg及甲醇3mL,并在室温下搅拌了1小时。自然冷却至室温之后,加入二异丙基乙胺1mL以停止了反应。接着,加入饱和碳酸氢钠水溶液30mL,并加入己烷20mL,去除水层,用无水硫酸镁将所获得的有机层进行干燥并浓缩,从而获得了1.2g的上述方案中的mB-19d作为无色液体(产率100%)。
<mB-19e的合成工序>
在300mL的3口茄形烧瓶中称取15g的mB-19d、2-(全氟丁基)乙醇(UNIMATEC CO.,LTD.)75g、(+)-10-樟脑磺酸189mg及己烷100mL,并以30mL/min流动氮气,一边搅拌一边在72℃下加热了30分钟。接着,将外温升温至77℃,使用滴加泵将己烷以1.7mL/min的流速滴加5小时,滴加结束之后,搅拌了1小时。关于反应中途挥发的溶剂,使用Dean-Stark管全部蒸馏除去。加入二异丙基乙胺2mL以停止反应,冷却至室温之后,用己烷500mL进行稀释,用乙腈/水/三乙基胺(5/1/0.005)300mL进行两次分液清洗,用无水硫酸镁将所获得的有机层进行干燥并浓缩,并且进行硅胶柱纯化,从而获得了12g的上述方案中的mB-19e作为无色液体(产率18%)。
<mB-19的合成>
在2000mL的3口茄形烧瓶中称取12g的mB-19e、甲基丙烯酸钠(MCCU nitechElectronics Co.,LTD.)1.2g、碘化钾122mg、二丁基羟基甲苯12mg及二甲基乙酰胺7mL,一边搅拌一边在85℃下加热了8小时。冷却至室温之后,用己烷100mL进行稀释,用离子交换水150mL进行分液清洗,用无水硫酸镁将所获得的有机层进行干燥并浓缩,并且进行硅胶柱纯化,从而获得了8.4g的上述方案中的mB-19作为无色液体(产率80%)。
〔聚合物P-9的合成〕
<烧瓶反应容器的准备>
在具备冷却管、温度计及搅拌机的烧瓶中装入作为溶剂的甲苯(55.6质量份)、下述单体mA-18(10.0质量份)、下述单体mB-19(4.67质量份)及下述单体mC-4Cl(9.17质量份),一边在烧瓶内以30mL/min流动氮气,一边通过水浴加热将内温升温至70℃。
<滴加液(量筒(Graduated cylinder))的准备>
在量筒中加入单体mB-19(2.33质量份)、下述单体mC-4Cl(13.83质量份)、作为溶剂的甲苯(32.4质量份)及作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二(异丁腈)(0.668质量份)并进行溶解,从而制备了滴加液。
接着,将所制备的滴加液经120分钟滴加到上述烧瓶反应容器中,然后在维持5小时的回流状态(70℃)的情况下进行了搅拌。
[化学式42]
反应结束之后,自然冷却至室温,在所获得的聚合物溶液中加入丙酮(8质量份),并将其设为聚合液A。将聚合液A的约1/3量经15~20分钟投入到内温20℃的庚烷(1200mL)中,将内温冷却至0~5℃,并将剩余的聚合液A(约2/3)经30~40分钟进行了滴加。而且,在内温5℃下搅拌10分钟之后,滤出所析出的聚合物,用冷却至5℃以下的庚烷(200mL)进行清洗,并在40℃下进行6小时的真空干燥,从而获得了以下所示的具有重复单元A-18、重复单元B-19及重复单元C-4Cl的共聚物P-9c。
[化学式43]
<聚合物P-9的合成>
接着,在具备冷却管、温度计及搅拌机的烧瓶中装入4-甲氧基苯酚(0.013质量份)及二甲基乙酰胺(9.25质量份),通过水浴加热升温至40~45℃之后,将共聚物P-9c(6.5质量份)分3份投入(每1份均确认溶解)。而且,将内温升温至60℃,并将三乙基胺(5.72质量份)经10~15分钟进行滴加,然后搅拌了2小时。
反应结束之后,自然冷却至室温(30℃以下),滤出加入丙酮(9.75质量份)而析出的三乙基胺盐酸盐,用丙酮(6.50质量份)洗涤吸滤器上的过滤物,将所获得的滤液经15~30分钟投入到冷却至5℃以下的甲醇/水(体积比:3/2、280mL)中以使聚合物沉淀,滤出所回收的沉淀物,并用冷却至5℃以下的水(150mL)进行了清洗。
将所获得的粗结晶投入到内温15~19℃的甲醇/水(体积比:7/3、280mL)中并搅拌60分钟(以下,在本段中将该操作也简称为“再浆化”。),滤出所回收的沉淀物,并用冷却至5℃以下的水(100mL)进行了清洗。而且,重复了上述再浆化。
接着,将所获得的粗结晶投入到内温15~19℃的甲醇/水(体积比:7/3、280mL)中并搅拌60分钟,滤出所回收的沉淀物,并用冷却至5℃以下的甲醇/水(体积比:7/3、100mL)进行了清洗。将所获得的聚合物在40℃下进行6小时的真空干燥,从而获得了下述式所表示的聚合物P-9。
[化学式44]
〔光学层叠体的制作〕
使用聚合物P-9来代替聚合物P-1,除此以外,通过与实施例1相同的方法制作了光学层叠体。
[实施例11]
〔聚合物P-1的合成(其他方法1)〕
在具备冷却管、温度计及搅拌机的烧瓶中装入作为溶剂的甲苯(72.9质量份)、下述单体mA-18(10.20质量份)、下述单体mB-4(13.86质量份)、下述单体mC-4Cl(16.60质量份)及作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二(异丁腈)(0.668质量份),一边在烧瓶内以30mL/min流动氮气,一边通过水浴加热在维持7小时的回流状态的情况下进行了搅拌。
[化学式45]
反应结束之后,自然冷却至室温,在所获得的聚合物溶液中加入丙酮(8质量份),并将其设为聚合液A。将聚合液A的约1/3量经15~20分钟投入到内温20℃的庚烷(1200mL)中,将内温冷却至0~5℃,并将剩余的聚合液A(约2/3)经30~40分钟进行了滴加。而且,在内温5℃下搅拌10分钟之后,滤出所析出的聚合物,用冷却至5℃以下的庚烷(200mL)进行清洗,并在40℃下进行6小时的真空干燥,从而获得了以下所示的具有重复单元A-18、重复单元B-4及重复单元C-4Cl的共聚物P-1c。
[化学式46]
<聚合物P-1的合成>
接着,在具备冷却管、温度计及搅拌机的烧瓶中装入4-甲氧基苯酚(0.013质量份)及二甲基乙酰胺(9.25质量份),通过水浴加热升温至40~45℃之后,将共聚物P-1c(6.5质量份)分3份投入(每1份均确认溶解)。而且,将内温升温至60℃,并将三乙基胺(5.72质量份)经10~15分钟进行滴加,然后搅拌了2小时。
反应结束之后,自然冷却至室温(30℃以下),滤出加入丙酮(9.75质量份)而析出的三乙基胺盐酸盐,用丙酮(6.50质量份)洗涤吸滤器上的过滤物,将所获得的滤液经15~30分钟投入到冷却至5℃以下的甲醇/水(体积比:3/2、280mL)中以使聚合物沉淀,滤出所回收的沉淀物,并用冷却至5℃以下的水(150mL)进行了清洗。
将所获得的粗结晶投入到内温15~19℃的甲醇/水(体积比:7/3、280mL)中并搅拌60分钟(以下,在本段中将该操作也简称为“再浆化”。),滤出所回收的沉淀物,并用冷却至5℃以下的水(100mL)进行了清洗。而且,重复了上述再浆化。
接着,将所获得的粗结晶投入到内温15~19℃的甲醇/水(体积比:7/3、280mL)中并搅拌60分钟,滤出所回收的沉淀物,并用冷却至5℃以下的甲醇/水(体积比:7/3、100mL)进行了清洗。将所获得的聚合物在40℃下进行6小时的真空干燥,从而获得了下述式所表示的聚合物P-1。
[化学式47]
〔光学层叠体的制作〕
使用通过上述方法合成的聚合物P-1来代替实施例1中所合成的聚合物P-1,除此以外,通过与实施例1相同的方法制作了光学层叠体。
[实施例12]
〔聚合物P-1的合成(其他方法2)〕
<烧瓶反应容器的准备>
在具备冷却管、温度计及搅拌机的烧瓶中装入作为溶剂的甲苯(67.7质量份)、下述单体mA-18(10.20质量份)、下述单体mB-4(13.86质量份)及下述单体mC-4Cl(16.60质量份),一边在烧瓶内以30mL/min流动氮气,一边通过水浴加热将内温升温至70℃。
<滴加液(量筒(Graduated cylinder))的准备>
在量筒中加入作为溶剂的甲苯(5.2质量份)及作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二(异丁腈)(0.668质量份)并进行溶解,从而制备了滴加液。
接着,将所制备的滴加液经30分钟滴加到上述烧瓶反应容器中,然后在维持6小时30分钟的回流状态(70℃)的情况下进行了搅拌。
[化学式48]
反应结束之后,自然冷却至室温,在所获得的聚合物溶液中加入丙酮(8质量份),并将其设为聚合液A。将聚合液A的约1/3量经15~20分钟投入到内温20℃的庚烷(1200mL)中,将内温冷却至0~5℃,并将剩余的聚合液A(约2/3)经30~40分钟进行了滴加。而且,在内温5℃下搅拌10分钟之后,滤出所析出的聚合物,用冷却至5℃以下的庚烷(200mL)进行清洗,并在40℃下进行6小时的真空干燥,从而获得了上述具有重复单元A-18、重复单元B-4及重复单元C-4Cl的下述聚合物P-1c。
后续步骤进行与实施例11相同的步骤,从而合成了聚合物P-1。
〔光学层叠体的制作〕
使用通过上述方法合成的聚合物P-1来代替实施例1中所合成的聚合物P-1,除此以外,通过与实施例1相同的方法制作了光学层叠体。
[实施例13]
〔聚合物P-1的合成(其他方法3)〕
<烧瓶反应容器的准备>
在具备冷却管、温度计及搅拌机的烧瓶中装入作为溶剂的甲苯(55.6质量份)、下述单体mA-18(10.30质量份)、下述单体mB-4(9.4质量份)及下述单体mC-4Cl(6.5质量份),一边在烧瓶内以30mL/min流动氮气,一边通过水浴加热将内温升温至70℃。
<滴加液(量筒(Graduated cylinder))的准备>
在量筒中加入单体mB-4(4.7质量份)、下述单体mC-4Cl(9.8质量份)、作为溶剂的甲苯(32.4质量份)及作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二(异丁腈)(0.668质量份)并进行溶解,从而制备了滴加液。
接着,将所制备的滴加液经120分钟滴加到上述烧瓶反应容器中,然后在维持5小时的回流状态(70℃)的情况下进行了搅拌。
[化学式49]
反应结束之后,自然冷却至室温,在所获得的聚合物溶液中加入丙酮(8质量份),并将其设为聚合液A。将聚合液A的约1/3量经15~20分钟投入到内温20℃的庚烷(1200mL)中,将内温冷却至0~5℃,并将剩余的聚合液A(约2/3)经30~40分钟进行了滴加。而且,在内温5℃下搅拌10分钟之后,滤出所析出的聚合物,用冷却至5℃以下的庚烷(200mL)进行清洗,并在40℃下进行6小时的真空干燥,从而获得了上述具有重复单元A-18、重复单元B-4及重复单元C-4Cl的共聚物P-1c。
后续步骤进行与实施例11相同的步骤,从而合成了聚合物P-1。
〔光学层叠体的制作〕
使用通过上述方法合成的聚合物P-1来代替实施例1中所合成的聚合物P-1,除此以外,通过与实施例1相同的方法制作了光学层叠体。
[评价]
〔液晶取向性〕
将2片偏振片配置于正交尼科耳上,在2片偏振片之间配置所获得的光学层叠体,并观察了漏光的程度及偏振光显微镜下的表面形态。将结果示于下述表1中。
AA:没有漏光,液晶指向矢均匀对齐取向,表面形态非常稳定。
A:没有漏光,没有液晶指向矢的紊乱,表面形态稳定。
B:没有漏光,液晶指向矢的紊乱极小,表面形态稳定。
C:没有漏光,但是液晶指向矢紊乱而表面形态不稳定。
D:观察到漏光,液晶指向矢紊乱而表面形态不稳定。
〔风斑抑制〕
将2片偏振片设置于正交尼科耳上,并在2片偏振片之间设置所制作的粘合剂层的样品并观察有无条纹状的不均匀,并且以以下基准进行了风斑抑制的评价。将结果示于下述表1中。
<评价基准>
A:无法视觉辨认不均匀。
B:几乎无法视觉辨认不均匀。
C:能够视觉辨认不均匀。
〔上层涂布性〕
关于所制作的粘合剂层,检查A4尺寸的表面区域,将看起来呈圆形或椭圆形脱落的故障视为凹陷,并且以以下基准进行了上层涂布性的评价。将结果示于下述表1中。
<评价基准>
A:观察到0~1个故障。
B:观察到2~4个故障。
C:观察到5个以上的故障。
[表1]
※将“重复单元A”的含量设为a,将“重复单元B”的含量设为b,将“重复单元C”的含量设为c。
根据上述表1所示的结果,可知在使用了不具有特定裂解基团的聚合物的情况下,具有风斑的抑制效果,但是上层涂布性差,液晶取向性也差(比较例1及比较例2)。
另一方面,可知在使用了具有特定裂解基团的聚合物的情况下,能够抑制风斑,并且上层涂布性及液晶取向性变得良好(实施例1~实施例8及实施例10~实施例13)。并且,可知即使在使用了具有特定裂解基团而不具有重复单元A(光取向性基团)的聚合物的情况下,也能够抑制风斑,并且上层涂布性变得良好(实施例9)。
〔单体mB-4的合成(其他方法)〕
根据下述方案,合成了下述式mB-4所表示的单体mB-4。
[化学式50]
<工序A>
在2000mL的3口茄形烧瓶中称取5-氯-2-戊酮(Manchester Organics Lt d.)300g、(+)-10-樟脑磺酸2.89g及甲醇120mL,一边在水浴中进行搅拌一边经30分钟滴加了原甲酸三甲酯(NIPPOH CHEMICALS CO.,LTD.)277g。滴加结束之后,在水浴中搅拌1小时之后,加入二异丙基乙胺15mL以停止了反应。接着,在100mmHg的减压下蒸馏除去甲酸甲酯,用己烷1200mL进行稀释,用溶剂饱和碳酸氢钠水800mL进行两次分液清洗,用无水硫酸镁将所获得的有机层进行干燥并浓缩,从而获得了441g的上述方案中的mB-4a作为黑色液体(产率100%)。
<工序B>
在3000mL的3口茄形烧瓶中称取250g的mB-4a、2-(全氟丁基)乙醇(UNIMATEC CO.,LTD.)911g、(+)-10-樟脑磺酸3.21g及己烷412mL,并以60mL/min流动氮气,一边搅拌一边在72℃下加热了30分钟。接着,以60mL/min流动氮气,在将内温保持在72℃的情况下使用滴加泵将己烷以13.7mL/min的流速滴加5小时,滴加结束之后,搅拌了1小时。关于反应中途挥发的溶剂,使用Dean-Stark管全部蒸馏除去。加入二异丙基乙胺4.6mL以停止反应,冷却至室温之后,用己烷3300mL进行稀释,用乙腈/水/三乙基胺(5/1/0.005)1980mL进行两次分液清洗,用无水硫酸镁将所获得的有机层进行干燥并浓缩,从而获得了695g的上述方案中的mB-4b作为褐色液体(产率79%)。
<工序C>
在2000mL的3口茄形烧瓶中称取695g的mB-4b、甲基丙烯酸钠(MCCU nitechElectronics Co.,LTD.)128.4g、碘化钾35.9g、二丁基羟基甲苯70mg及二甲基乙酰胺348mL,一边搅拌一边在85℃下加热了6小时。冷却至室温之后,用己烷2322mL进行稀释,用离子交换水1548mL进行分液清洗,用无水硫酸镁将所获得的有机层进行干燥,加入活性氧化铝1122g并搅拌了10分钟。过滤去除活性氧化铝,并将所获得的溶液进行浓缩,从而获得了592g的上述方案中的mB-4作为淡黄色液体(产率79%、98w%)。
[单体的性能评价]
在实施例1的光学层叠体中,制作了使用通过上述合成的mB-4来代替聚合物P-1的光学层叠体。
关于该光学层叠体,通过相同的方法进行了风斑抑制及上层涂布性的评价,其结果,评价均为A。
Claims (21)
1.一种粘合剂组合物,其含有粘合剂和具有下述式(B1)或(B2)所表示的基团的化合物,
所述式(B1)及(B2)中,
*表示键合位置,
n表示1以上的整数,其中,多个n可以分别相同,也可以不同,
m表示2以上的整数,
Rb1表示氢原子或取代基,
Rb2、Rb3及Rb4分别独立地表示氢原子或取代基,其中,2个Rb3可以彼此键合而形成环,多个Rb2可以分别相同,也可以不同,多个Rb3可以分别相同,也可以不同,多个Rb4可以分别相同,也可以不同,
Lb1表示n+1价的连接基团,其中,多个Lb1可以分别相同,也可以不同,
Lb2表示m+1价的连接基团,
Z表示具有氟原子的脂肪族烃基或有机硅氧烷基,其中,所述脂肪族烃基可以具有氧原子,多个Z可以分别相同,也可以不同。
2.根据权利要求1所述的粘合剂组合物,其还含有光产酸剂。
3.根据权利要求1或2所述的粘合剂组合物,其中,
所述化合物为还具有光取向性基团的化合物。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的粘合剂组合物,其中,
所述化合物为具有包含所述式(B1)或(B2)所表示的基团的重复单元B的聚合物。
5.根据权利要求4所述的粘合剂组合物,其中,
所述重复单元B为下述式(1)或(2)所表示的重复单元,
所述式(1)及(2)中,
r及s分别独立地表示1以上的整数,
RB1及RB2分别独立地表示氢原子或取代基,
Y1及Y2分别独立地表示-O-或-NRZ-,其中,RZ表示氢原子或取代基,
LB1表示r+1价的连接基团,
LB2表示s+1价的连接基团,
B1表示所述式(B1)所表示的基团,其中,所述式(B1)中的*表示与LB1的键合位置,在r为2以上的整数的情况下,多个B1可以分别相同,也可以不同,
B2表示所述式(B2)所表示的基团,其中,所述式(B2)中的*表示与LB2的键合位置,在s为2以上的整数的情况下,多个B2可以分别相同,也可以不同。
6.根据权利要求4或5所述的粘合剂组合物,其中,
所述化合物为具有包含光取向性基团的重复单元A和所述重复单元B的共聚物。
8.根据权利要求6或7所述的粘合剂组合物,其中,
所述化合物为具有包含交联性基团的重复单元C、所述重复单元B及所述重复单元A的共聚物。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的粘合剂组合物,其中,
所述化合物的重均分子量为10000~500000。
10.一种化合物,其具有下述式(B1)或(B2)所表示的基团,
所述式(B1)及(B2)中,
*表示键合位置,
n表示1以上的整数,其中,多个n可以分别相同,也可以不同,
m表示2以上的整数,
Rb1表示氢原子或取代基,
Rb2、Rb3及Rb4分别独立地表示氢原子或取代基,其中,2个Rb3可以彼此键合而形成环,多个Rb2可以分别相同,也可以不同,多个Rb3可以分别相同,也可以不同,多个Rb4可以分别相同,也可以不同,
Lb1表示n+1价的连接基团,其中,多个Lb1可以分别相同,也可以不同,
Lb2表示m+1价的连接基团,
Z表示具有氟原子的脂肪族烃基或有机硅氧烷基,其中,所述脂肪族烃基可以具有氧原子,多个Z可以分别相同,也可以不同。
11.根据权利要求10所述的化合物,其还具有下述式(P0)所表示的基团,
p1-L1-*
(P0)
所述式(P0)中,
*表示与所述式(B1)或(B2)中的*的键合位置,
P1表示聚合性基团,
L1表示2价的连接基团。
12.根据权利要求10所述的化合物,其为具有包含所述式(B1)或(B2)所表示的基团的重复单元B的聚合物。
13.根据权利要求12所述的化合物,其中,
所述重复单元B为下述式(1)或(2)所表示的重复单元,
所述式(1)及(2)中,
r及s分别独立地表示1以上的整数,
RB1及RB2分别独立地表示氢原子或取代基,
Y1及Y2分别独立地表示-O-或-NRZ-,其中,RZ表示氢原子或取代基,
LB1表示r+1价的连接基团,
LB2表示s+1价的连接基团,
B1表示所述式(B1)所表示的基团,其中,所述式(B1)中的*表示与LB1的键合位置,在r为2以上的整数的情况下,多个B1可以分别相同,也可以不同,
B2表示所述式(B2)所表示的基团,其中,所述式(B2)中的*表示与LB2的键合位置,在s为2以上的整数的情况下,多个B2可以分别相同,也可以不同。
14.根据权利要求12或13所述的化合物,其为具有包含光取向性基团的重复单元A和所述重复单元B的共聚物。
16.根据权利要求14或15所述的化合物,其为具有包含交联性基团的重复单元C、所述重复单元B及所述重复单元A的共聚物。
17.根据权利要求10至16中任一项所述的化合物,其中,
重均分子量为10000~500000。
18.一种粘合剂层,其使用权利要求1至9中任一项所述的粘合剂组合物而形成。
19.一种光学层叠体,其具有:
权利要求18所述的粘合剂层;及
配置于所述粘合剂层上的光学各向异性层。
20.一种光学层叠体的制造方法,其具有:
向使用权利要求6至8中任一项所述的粘合剂组合物而获得的涂膜供给选自由光、热、酸及碱组成的组中的至少1种,然后实施光取向处理而形成粘合剂层的工序;及
在所述粘合剂层上涂布包含聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物而形成光学各向异性层的工序。
21.一种图像显示装置,其具有权利要求18所述的粘合剂层或权利要求19所述的光学层叠体。
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