CN116078277A - 一种乳糖氢化还原压力反应釜 - Google Patents

Abstract

本发明涉及反应釜技术领域，具体是一种乳糖氢化还原压力反应釜，包括承载基座、设置于承载基座上的支撑框架、以及架设于承载基座上并且固定于支撑框架内的反应釜；所述反应釜上方设置有调节仓，调节仓与反应釜之间设置有连通管道，所述连通管道的侧沿设置有微调阀，所述微调阀用以调节连通管道的连通间隙；所述支撑框架的顶部设置有压力调节器件，所述压力调节器件上分别设置有一级调压器和二级调压器，所述一级调压器设置于压力调节器件的侧沿并且与反应釜直接连接，所述二级调压器设置于压力调节器件的顶部并且与调节仓相对接。本发明在整体粗调的基础上实现对反应釜内气压精调，从而优化反应釜压力调节的精密度。

Description

一种乳糖氢化还原压力反应釜

技术领域

本发明涉及反应釜技术领域，具体是一种乳糖氢化还原压力反应釜。

背景技术

制备乳糖醇的还原方法有高压镍催化加氢法、硼氢化盐还原法和电解还原法。目前生产乳糖醇的主要采用的方法是高压镍催化加氢法。该氢化反应在有40atm或更高压力的高压釜中进行，设备要求非常严格，若掌握不好，一些产品会发生降解。

中国专利（授权公告号：CN207463176U）公布了一种可调节反应压力的反应釜及可调压反应釜系统，调压板上开设有多个连通对流腔和氢化腔的调压孔，调压板还连接有用于驱动其移动以调节对流腔和氢化腔内压力的调压组件，釜体设有与原料腔连通的进料口及与氢化腔连通的排料口和氢气输送管。该专利设计可调节反应压力的反应釜能够促进氢气与反应釜内的溶剂混合并反应，提高生产效率。

但是对于乳糖氢化还原作业而言，对于压力反应设备要求非常严格，需要较高的调压精度，从而减少产品降解的问题，该反应釜以及现有技术中相关调压反应釜，对压力的调控精度不足，以至于乳糖氢化还原反应的把控能力不足。

发明内容

本发明的目的在于提供一种乳糖氢化还原压力反应釜，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种乳糖氢化还原压力反应釜，包括承载基座、设置于承载基座上的支撑框架、以及架设于承载基座上并且固定于支撑框架内的反应釜；

所述反应釜上方设置有调节仓，调节仓与反应釜之间设置有连通管道，所述连通管道的侧沿设置有微调阀，所述微调阀用以调节连通管道的连通间隙；

所述支撑框架的顶部设置有压力调节器件，所述压力调节器件上分别设置有一级调压器和二级调压器，所述一级调压器设置于压力调节器件的侧沿并且与反应釜直接连接，所述二级调压器设置于压力调节器件的顶部并且与调节仓相对接。

作为本发明进一步的方案：所述一级调压器包括安装于支撑框架上的调节箱、安装于调节箱上周转管、以及安装于周转管上的第一调节阀和第二调控阀，所述第一调节阀的调节端通过转向管安装有第一调节管路，所述第二调控阀的调节端连接有第二调节管路。

作为本发明进一步的方案：所述第一调节管路和第二调节管路均连接至反应釜中，第二调节管路与第二调控阀的调节端之间设置有缓冲段，所述缓冲段为若干圈螺旋式结构。

作为本发明进一步的方案：所述反应釜上设置有对接区间，所述连通管道架设于对接区间上，所述微调阀安装于对接区间的外壁侧沿。

作为本发明进一步的方案：所述调节仓外接有控温管路、连接于控温管路输送端的温度传输管、以及连接于温度传输管上的螺旋管路，所述调节仓的仓壁上设置有热交换层，所述螺旋管路内嵌缠绕于热交换层的层面上。

作为本发明进一步的方案：所述二级调压器包括安装于调节器件上的第二调节器，所述第二调节器上分别设置有第三调节管路和第四调节管路，所述第三调节管路连接至调节仓的顶部，第四调节管路连接至调节仓的底沿。

作为本发明进一步的方案：所述微调阀包括设备机架、设置于设备机架上的推动杆、以及安装于推动杆杆端的闭合阀塞，所述设备机架上设置有调节块，推动杆呈“人”字型结构，推动杆的一端通过转动栓安装于调节块上，推动杆的另一端相互对接并且安装有推动栓，所述推动栓外接有安装框，所述闭合阀塞安装于安装框上，所述连通管道的管壁上设置有阀口，所述闭合阀塞安装于阀口内并且伸入至连通管道内腔。

作为本发明进一步的方案：所述设备机架上设置有内支框，内支框中设置有定位栏，所述定位栏上设置有环形轨道，所述环形轨道内安装有转动盘，所述转动盘的盘面上设置有螺旋轨道，所述调节块的安装端设置有安装齿，所述安装齿卡入至螺旋轨道的圈轨内。

作为本发明再进一步的方案：所述转动盘的侧沿设置有侧圈齿纹，所述内支框中设置有调节电机，调节电机的驱动端安装有拨动齿轮，所述拨动齿轮与侧圈齿纹相啮合。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明设计有一级调压器和二级调压器，一级调压器与反应釜直接连接，从而直接对反应釜内的气压状况进行调节，从而实现反应釜内气压的整体粗调；同时，反应釜上方还设置有调节仓，调节仓与反应釜之间通过连通管道对接，二级调压器用以对调节仓内气压状况进行调节，从而影响反应釜内的状况，在整体粗调的基础上实现对反应釜内气压精调，从而优化反应釜压力调节的精密度。

本发明还设计连通管道上设置有微调阀，微调阀用以调控调节仓与反应釜之间的连通间隙，控制气流的对流速度，用以控制调节仓内的气压影响效果，从而控制气压精调的变化速率，进一步提高调节控制的准确性。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本申请。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，以示出符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。同时，这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本申请构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本申请的概念。

图1为本发明的实施例提供的乳糖氢化还原压力反应釜的整体结构示意图。

图2为本发明的实施例提供的一级调压器的结构示意图。

图3为本发明的实施例提供的二级调压器和调节仓的结构示意图。

图4为本发明的实施例提供的微调阀的结构示意图。

图5为本发明的实施例提供的设备机架的结构示意图。

图6为本发明的实施例提供的转动盘的俯视角示意图。

图中：11-承载基座；12-支撑框架；13-反应釜；14-一级调压器；15-调节仓；16-连通管道；17-微调阀；18-压力调节器件；19-二级调压器；10-压力检测表；21-对接区间；22-热交换层；23-螺旋管路；24-温度传输管；25-控温管路；26-第二调节器；27-第三调节管路；28-第四调节管路；31-调节箱；32-周转管；33-第一调节阀；34-第二调控阀；35-转向管；36-第一调节管路；37-第二调节管路；38-缓冲段；41-设备机架；42-调节块；43-推动杆；44-推动栓；45-安装框；46-闭合阀塞；47-阀口；48-转动栓；51-内支框；52-定位栏；53-环形轨道；54-转动盘；55-螺旋轨道；56-侧圈齿纹；57-调节电机；58-拨动齿轮；59-安装齿。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或同种要素。

显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

以下结合具体实施例对本发明的具体实现进行详细描述。

在一个实施例中；

请参阅图1，提供了一种乳糖氢化还原压力反应釜，包括承载基座11、设置于承载基座11上的支撑框架12、以及架设于承载基座11上并且固定于支撑框架12内的反应釜13；

所述反应釜13上方设置有调节仓15，调节仓15与反应釜13之间设置有连通管道16，所述连通管道16的侧沿设置有微调阀17，所述微调阀17用以调节连通管道16的连通间隙；

所述支撑框架12的顶部设置有压力调节器件18，所述压力调节器件18上分别设置有一级调压器14和二级调压器19，所述一级调压器14设置于压力调节器件18的侧沿并且与反应釜13直接连接，所述二级调压器19设置于压力调节器件18的顶部并且与调节仓15相对接。

本实施例为乳糖氢化还原压力反应釜，是基于现有成熟的压力反应釜釜体结构的基础上，对釜体的压力调节机构进行优化设计，故而本实施例中的反应釜13仅做方位示意，对于釜体本身的结构、材质等不再阐述。

承载基座11设置在设备工站上，用以架设反应釜13，支撑框架12用以固定反应釜13，对于反应釜13的压力调节措施，本实施例设计有一级调压器14和二级调压器19，一级调压器14与反应釜13直接连接，从而直接对反应釜13内的气压状况进行调节，从而实现反应釜13内气压的整体粗调；同时，反应釜13上方还设置有调节仓15，调节仓15与反应釜13之间通过连通管道16对接，二级调压器19用以对调节仓15内气压状况进行调节，从而影响反应釜13内的状况，在整体粗调的基础上实现对反应釜13内气压精调，从而优化反应釜13压力调节的精密度。

本实施例还设计连通管道16上设置有微调阀17，微调阀17用以调控调节仓15与反应釜13之间的连通间隙，控制气流的对流速度，用以控制调节仓15内的气压影响效果，从而控制气压精调的变化速率，进一步提高调节控制的准确性。

优选的，压力调节器件18上还设置有压力检测表10，对反应釜13的气压状况进行实时监控。

在一个实施例中；

基于上述实施例，对于一级调压器14的具体实施结构，请参阅图2，本实施例设计如下：

所述一级调压器14包括安装于支撑框架12上的调节箱31、安装于调节箱31上的周转管32、以及安装于周转管32上的第一调节阀33和第二调控阀34，所述第一调节阀33的调节端通过转向管35安装有第一调节管路36，所述第二调控阀34的调节端连接有第二调节管路37，所述第一调节管路36和第二调节管路37均连接至反应釜13中。调节箱31为调节机箱，第一调节阀33和第二调控阀34分别实现不同流量的调节速率，其第一调节管路36用于实现大范围调节，其第二调节管路37用以实现小范围调节，用以提高反应釜13内气压粗调的作业精度。

在本实施例的一种情况中，所述第二调节管路37与第二调控阀34的调节端之间设置有缓冲段38，所述缓冲段38为若干圈螺旋式结构；第二调节管路37采用软管材质，设置有螺旋式的缓冲段38，使气体缓慢充入反应釜13内，用以保证调节精度，当反应釜13显示的压力值与调节箱31上设定压力相同且不再转变时，依次关闭第二调控阀34和调节箱31的出气阀。

在一个实施例中；

基于上述实施例，对于调节仓15以及二级调压器19的具体实施结构，请参阅图3，本实施例设计如下：

所述反应釜13上设置有对接区间21，所述连通管道16架设于对接区间21上，所述微调阀17安装于对接区间21的外壁侧沿。所述调节仓15外接有控温管路25、连接于控温管路25输送端的温度传输管24、以及连接于温度传输管24上的螺旋管路23，所述调节仓15的仓壁上设置有热交换层22，所述螺旋管路23内嵌缠绕于热交换层22的层面上。

调节仓15可采用以温控影响气压的实施方式，调节仓15上设置有热交换层22，螺旋管路23内嵌缠绕于热交换层22的层面上，螺旋管路23外接有控温管路25，控温管路25用以注入高温或冷凝溶液用以调控气压。

所述二级调压器19包括安装于压力调节器件18上的第二调节器26，所述第二调节器26上分别设置有第三调节管路27和第四调节管路28，所述第三调节管路27连接至调节仓15的顶部，第四调节管路28连接至调节仓15的底沿。第三调节管路27用以将气流路径经过调节仓15的温控影响区域，第四调节管路28用以避开温控影响区域将气流管路与连通管道16相对接。

在一个实施例中；

基于上述实施例，对于微调阀17的具体实施结构，请参阅图4，本实施例设计如下：

所述微调阀17包括设备机架41、设置于设备机架41上的推动杆43、以及安装于推动杆43杆端的闭合阀塞46，所述设备机架41上设置有调节块42，推动杆43呈“人”字型结构，推动杆43的一端通过转动栓48安装于调节块42上，推动杆43的另一端相互对接并且安装有推动栓44，所述推动栓44外接有安装框45，所述闭合阀塞46安装于安装框45上，所述连通管道16的管壁上设置有阀口47，所述闭合阀塞46安装于阀口47内并且伸入至连通管道16内腔。

设备机架41为微调阀17的调节驱动端，带动调节块42位移，通过调节块42的运动带动推动杆43实现并拢或者展开，从而控制推动栓44的位移，进而调节闭合阀塞46于阀口47中的内伸尺寸，从而调节连通管道16的内腔间隙，用以调节连通管道16中气流的对流速度，用以控制调节仓15以及二级调压器19对反应釜13的影响效果，从而控制气压精调的变化速率，

在本实施例的一种情况中，为了保证闭合阀塞46的调节精度，请参阅图5和图6，本实施例还设计如下：

所述设备机架41上设置有内支框51，内支框51中设置有定位栏52，所述定位栏52上设置有环形轨道53，所述环形轨道53内安装有转动盘54，所述转动盘54的盘面上设置有螺旋轨道55，所述调节块42的安装端设置有安装齿59，所述安装齿59卡入至螺旋轨道55的圈轨内。所述转动盘54的侧沿设置有侧圈齿纹56，所述内支框51中设置有调节电机57，调节电机57的驱动端安装有拨动齿轮58，所述拨动齿轮58与侧圈齿纹56相啮合。

调节电机57为设备机架41的动力源部件，调节电机57带动拨动齿轮58运动，拨动齿轮58与侧圈齿纹56相啮合，从而带动转动盘54运动，转动盘54转动时，盘面上的螺旋轨道55发生位置变化，从而安装于螺旋轨道55之间的调节块42发生变向，使得两侧的调节块42呈相向运动，螺旋轨道55每转动一周，其调节块42的运动距离即为螺旋轨道55的螺旋线间距，而调节块42的运动转换为推动杆43的开合运动，从而实现闭合阀塞46的调节，这样将大幅度的转向运动转换为两基点的相向位移，再将两基点的位移通过折线结构转换为直线运动，从而以大幅度的力矩输入实现小尺寸的运动输出，这样保证微调效果，用以实现调节精度，最大化减少调节误差。

对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (9)

1.一种乳糖氢化还原压力反应釜，包括承载基座、设置于承载基座上的支撑框架、以及架设于承载基座上并且固定于支撑框架内的反应釜；其特征在于，

所述反应釜上方设置有调节仓，调节仓与反应釜之间设置有连通管道，所述连通管道的侧沿设置有微调阀，所述微调阀用以调节连通管道的连通间隙；

所述支撑框架的顶部设置有压力调节器件，所述压力调节器件上分别设置有一级调压器和二级调压器，所述一级调压器设置于压力调节器件的侧沿并且与反应釜直接连接，所述二级调压器设置于压力调节器件的顶部并且与调节仓相对接。

2.根据权利要求1所述的乳糖氢化还原压力反应釜，其特征在于，所述一级调压器包括安装于支撑框架上的调节箱、安装于调节箱上周转管、以及安装于周转管上的第一调节阀和第二调控阀，所述第一调节阀的调节端通过转向管安装有第一调节管路，所述第二调控阀的调节端连接有第二调节管路。

3.根据权利要求2所述的乳糖氢化还原压力反应釜，其特征在于，所述第一调节管路和第二调节管路均连接至反应釜中，第二调节管路与第二调控阀的调节端之间设置有缓冲段，所述缓冲段为若干圈螺旋式结构。

4.根据权利要求1所述的乳糖氢化还原压力反应釜，其特征在于，所述反应釜上设置有对接区间，所述连通管道架设于对接区间上，所述微调阀安装于对接区间的外壁侧沿。

5.根据权利要求4所述的乳糖氢化还原压力反应釜，其特征在于，所述调节仓外接有控温管路、连接于控温管路输送端的温度传输管、以及连接于温度传输管上的螺旋管路，所述调节仓的仓壁上设置有热交换层，所述螺旋管路内嵌缠绕于热交换层的层面上。

6.根据权利要求5所述的乳糖氢化还原压力反应釜，其特征在于，所述二级调压器包括安装于调节器件上的第二调节器，所述第二调节器上分别设置有第三调节管路和第四调节管路，所述第三调节管路连接至调节仓的顶部，第四调节管路连接至调节仓的底沿。

7.根据权利要求1-6任一项所述的乳糖氢化还原压力反应釜，其特征在于，所述微调阀包括设备机架、设置于设备机架上的推动杆、以及安装于推动杆杆端的闭合阀塞，所述设备机架上设置有调节块，推动杆呈“人”字型结构，推动杆的一端通过转动栓安装于调节块上，推动杆的另一端相互对接并且安装有推动栓，所述推动栓外接有安装框，所述闭合阀塞安装于安装框上，所述连通管道的管壁上设置有阀口，所述闭合阀塞安装于阀口内并且伸入至连通管道内腔。

8.根据权利要求7所述的乳糖氢化还原压力反应釜，其特征在于，所述设备机架上设置有内支框，内支框中设置有定位栏，所述定位栏上设置有环形轨道，所述环形轨道内安装有转动盘，所述转动盘的盘面上设置有螺旋轨道，所述调节块的安装端设置有安装齿，所述安装齿卡入至螺旋轨道的圈轨内。

9.根据权利要求8所述的乳糖氢化还原压力反应釜，其特征在于，所述转动盘的侧沿设置有侧圈齿纹，所述内支框中设置有调节电机，调节电机的驱动端安装有拨动齿轮，所述拨动齿轮与侧圈齿纹相啮合。

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