CN115872926A - 三唑类抗真菌药及其中间体的制备方法 - Google Patents
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- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 title abstract description 6
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 title description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 33
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- VYPMWCUNCNMNOM-UHFFFAOYSA-N [2-(methylamino)pyridin-3-yl]methanol Chemical compound CNC1=NC=CC=C1CO VYPMWCUNCNMNOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 21
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 114
- -1 benzyloxymethyl Chemical group 0.000 claims description 38
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 19
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 17
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 13
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000001981 tert-butyldimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([H])(C([H])([H])[H])[*]C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 8
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical group OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 7
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000005160 aryl oxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical group CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 5
- HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N iodoethane Chemical group CCI HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 4
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 claims description 4
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical group BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical group IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 claims description 4
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- GQNZGCARKRHPOH-RQIKCTSVSA-N miocamycin Chemical compound C1[C@](OC(C)=O)(C)[C@@H](OC(=O)CC)[C@H](C)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](N(C)C)[C@@H](O)[C@H](O[C@@H]2[C@H]([C@H](OC(=O)CC)CC(=O)O[C@H](C)C/C=C/C=C/[C@H](OC(C)=O)[C@H](C)C[C@@H]2CC=O)OC)O[C@@H]1C GQNZGCARKRHPOH-RQIKCTSVSA-N 0.000 claims description 3
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229940102396 methyl bromide Drugs 0.000 claims description 2
- 125000000025 triisopropylsilyl group Chemical group C(C)(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)* 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002577 pseudohalo group Chemical group 0.000 claims 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 claims 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 19
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 abstract description 19
- MVQVNTPHUGQQHK-UHFFFAOYSA-N 3-pyridinemethanol Chemical compound OCC1=CC=CN=C1 MVQVNTPHUGQQHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract description 8
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 abstract description 5
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract description 5
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 5
- 230000000843 anti-fungal effect Effects 0.000 abstract description 4
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 abstract description 4
- 238000003541 multi-stage reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 3
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 abstract description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 62
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 16
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 13
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical compound B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 6
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- DDFOUSQFMYRUQK-RCDICMHDSA-N isavuconazole Chemical compound C=1SC([C@H](C)[C@](O)(CN2N=CN=C2)C=2C(=CC=C(F)C=2)F)=NC=1C1=CC=C(C#N)C=C1 DDFOUSQFMYRUQK-RCDICMHDSA-N 0.000 description 4
- 229960000788 isavuconazole Drugs 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 4
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 4
- SMYTUBMIBZOXTH-UHFFFAOYSA-N 2-(methylamino)pyridine-3-carboxylic acid Chemical compound CNC1=NC=CC=C1C(O)=O SMYTUBMIBZOXTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RXTRRIFWCJEMEL-UHFFFAOYSA-N 2-chloropyridine-3-carbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CN=C1Cl RXTRRIFWCJEMEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical class [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 3
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 3
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 3
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- KPIVDNYJNOPGBE-UHFFFAOYSA-N 2-aminonicotinic acid Chemical compound NC1=NC=CC=C1C(O)=O KPIVDNYJNOPGBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IBRSSZOHCGUTHI-UHFFFAOYSA-N 2-chloropyridine-3-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1Cl IBRSSZOHCGUTHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- FUKUFMFMCZIRNT-UHFFFAOYSA-N hydron;methanol;chloride Chemical compound Cl.OC FUKUFMFMCZIRNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- YNBADRVTZLEFNH-UHFFFAOYSA-N methyl nicotinate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CN=C1 YNBADRVTZLEFNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Chemical compound ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)silicon Chemical group C[Si](C)C(C)(C)C ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004916 (C1-C6) alkylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- BIAAQBNMRITRDV-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethoxy)-2-methoxyethane Chemical compound COCCOCCl BIAAQBNMRITRDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNGPVKSKKYIJCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1,3-dimethylimidazolidine;hydrochloride Chemical compound [Cl-].CN1CC[NH+](C)C1Cl BNGPVKSKKYIJCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCERHCFNWRGHLK-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)C Chemical group C[Si](C)C DCERHCFNWRGHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJUZRXYOEPSWMB-UHFFFAOYSA-N Chloromethyl methyl ether Chemical compound COCCl XJUZRXYOEPSWMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910010084 LiAlH4 Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N Nitrogen dioxide Chemical compound O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010757 Reduction Activity Effects 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N Triiodomethane Natural products IC(I)I OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002102 aryl alkyloxo group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006278 bromobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VZSXFJPZOCRDPW-UHFFFAOYSA-N carbanide;trioxorhenium Chemical compound [CH3-].O=[Re](=O)=O VZSXFJPZOCRDPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 125000002668 chloroacetyl group Chemical group ClCC(=O)* 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005906 dihydroxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical group 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 125000006480 iodobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- NZZDEODTCXHCRS-UHFFFAOYSA-N methyl 2-aminopyridine-3-carboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CN=C1N NZZDEODTCXHCRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQMRYBIKMRVZLB-UHFFFAOYSA-N methylamine hydrochloride Chemical compound [Cl-].[NH3+]C NQMRYBIKMRVZLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001238 methylnicotinate Drugs 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N pivalic acid Chemical compound CC(C)(C)C(O)=O IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003223 protective agent Substances 0.000 description 1
- OPAHEYNNJWPQPX-RCDICMHDSA-N ravuconazole Chemical compound C=1SC([C@H](C)[C@](O)(CN2N=CN=C2)C=2C(=CC(F)=CC=2)F)=NC=1C1=CC=C(C#N)C=C1 OPAHEYNNJWPQPX-RCDICMHDSA-N 0.000 description 1
- 229950004154 ravuconazole Drugs 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- ONMWRJQIJQAPQD-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-(methylamino)pyridine-3-carboxylate Chemical compound CNC1=NC=CC=C1C(=O)OC(C)(C)C ONMWRJQIJQAPQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKRYJISKTILWAE-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-chloropyridine-3-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C1=CC=CN=C1Cl BKRYJISKTILWAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUPAXCPQAAOIPB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl formate Chemical compound CC(C)(C)OC=O RUPAXCPQAAOIPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTQKOGBTMNDCFG-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(diphenyl)silicon Chemical group C=1C=CC=CC=1[Si](C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 KTQKOGBTMNDCFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyldimethylsilyl chloride Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)Cl BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000037 tert-butyldiphenylsilyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[Si]([H])([*]C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- ZGYICYBLPGRURT-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)silicon Chemical group CC(C)[Si](C(C)C)C(C)C ZGYICYBLPGRURT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Abstract
本发明提供了一种三唑类抗真菌药及其中间体的制备方法，特别是提供了一种2‑甲胺基‑3‑吡啶甲醇或其盐及艾沙康唑鎓硫酸盐的全新合成路线，具体采用将3‑羟甲基吡啶通过羟基保护，然后对吡啶环上的N进行氧化，亲和取代，然后再进行2位甲氨基化反应，最后脱去羟基保护基得到2‑甲胺基‑3‑吡啶甲醇。本发明提供是该方法不需要使用危险还原剂，提高了操作安全性；并且原料便宜易得，多步反应为telescope步骤，操作简单，条件温和，特别适合工业化生产应用。
Description
技术领域
本申请属于药物合成技术领域，主要涉及一种三唑类抗真菌药及其中间体的制备方法，尤其是涉及一种2-甲胺基-3-羟甲基吡啶或其盐的合成方法。
背景技术
艾沙康唑鎓硫酸盐(isavuconazonium sulfate)和雷夫康唑是三唑类抗真菌药物，专利WO2001032652中公开了用于制备艾沙康唑盐酸盐的制备方法。其路线如下所示，
其中，2-甲胺基-3-羟甲基吡啶是制备艾沙康唑盐酸盐和艾沙康唑鎓硫酸盐的关键中间体，WO2001032652中公开了以2-氯烟酸为起始原料，与草酰氯反应制备2-氯烟酰氯，然后与叔丁醇钾反应制备得到2-氯烟酸叔丁脂；然后与甲胺/甲醇溶液反应得到2-甲胺基-3-吡啶甲酸叔丁脂；然后经氢化铝锂还原，得到目标产物中间体2-甲胺基-3-羟甲基吡啶的方法，反应式如下：
上述方法中，甲胺不但跟2-氯烟酰氯的氯反应，还要跟甲酸叔丁脂反应，产物会比较杂。而且氢化铝锂不但价格高，而且反应需要无水，处理不小心容易发生冲料或者爆炸，不易于放大。
WO2001032652中还公开了以2-氨基烟酸为起始原料，与2-氯-1,3-二甲基氯化咪唑啉反应制备2-氨基烟酸甲酯；然后与甲酸在醋酸酐溶液中反应，得到2-甲酰胺基烟酸甲酯；然后经氢化铝锂还原，得到目标产物中间体2-甲胺基-3-羟甲基吡啶，反应式如下：
上述方法起始原料2-氨基烟酸价格昂贵，醋酸酐也是管制化学品；而且氢化铝锂不但价格高，而且反应需要无水，处理不小心容易发生冲料或者爆炸，不易于放大。
专利WO2010089993披露了以2-氯烟酸为起始原料，与甲胺盐酸盐，碳酸钾，溴化亚铜，在DMF溶剂中，100℃下反应，制备得到2-甲胺基-3-吡啶甲酸，然后经氢化铝锂还原，得到目标产物中间体2-甲胺基-3-羟甲基吡啶。反应式如下：
该方法DMF为高沸点强极性溶剂，处理麻烦，收率不高。而且氢化铝锂不但价格高，而且反应需要无水，处理不小心容易发生冲料或者爆炸，不易于放大。
CN 110317165公开了使用NaBH4将2-氯烟酸叔丁脂还原成2-甲胺基-3-羟甲基吡啶的方法：收率76％：
该方法反应过程中羧酸叔丁酯反应位阻大，反应活性低，需要用还原活性高的四氢铝锂或硼氢化钠作为还原剂，反应温度高，条件苛刻。
CN 108822027公开了使用NaBH4和FeCl3将2-甲胺基-3-吡啶甲酸还原成2-甲胺基-3-羟甲基吡啶的方法。
CN 104961675公开了使用红铝，在甲苯中通过回流反应2-甲胺基-3-吡啶甲酸还原成2-甲胺基-3-羟甲基吡啶的方法。
现有技术公开的2-甲胺基-3-羟甲基吡啶的合成方法，都需要使用到一些危险性较大的还原剂，比如LiAlH4、红铝、利用NaBH4或者KBH4等原位生成的硼烷，硼烷剧毒，且易爆，在工业化放大生产过程中存在非常大的安全隐患。另外使用氢化铝锂还原，需要严格无水，反应危险，生产成本高。
发明内容
为解决现有技术存在的上述问题，本发明提供了一种全新的三唑类抗真菌药及其中间体的制备方法，特别是提供了一种全新的2-甲胺基-3-吡啶甲醇或其盐的合成路线，该方法具有不需要使用危险还原剂，提高了操作安全性；并且原料便宜易得，多步反应为telescope步骤，操作简单，条件温和，反应收率高，特别适合工业化生产应用等一个或多个方面的优点。
具体，本发明第一方面提供了一种2-甲胺基-3-吡啶甲醇或其盐的制备方法，所述方法包括以下步骤：
S1:将化合物nt02与氧化剂反应，得到化合物nt03；
S2:将化合物nt03与R-X反应，得到化合物nt04；
S3:将化合物nt04与甲氨基反应，得到化合物nt05；
S4:将化合物nt05脱去羟基保护基，得到化合物nta或其盐；
其中，PG为羟基保护基；
R为C1～6烷基或被取代基取代的C1～6烷基；所述取代基为C1-6烷氧基，芳基，芳基烷氧基或三甲基硅基乙氧基中的任意一种或多种；
X为卤素；
R-X为R基团中C1～6烷基上的氢被卤素取代。
在本发明的另一个实施方案中，提供了一种2-甲胺基-3-吡啶甲醇或其盐的制备方法，包括以下步骤：
将化合物nt03与R-X反应，得到化合物nt04；
将化合物nt04与甲氨基反应，得到化合物nt05；
将化合物nt05脱去羟基保护基，得到化合物nta或其盐；
其中，PG，R，R-X如前述定义。
在本发明的另一个实施方案中，提供了一种2-甲胺基-3-吡啶甲醇或其盐的制备方法，包括以下步骤：
将化合物nt04与甲氨基反应，得到化合物nt05；
将化合物nt05脱去羟基保护基，得到化合物nta或其盐；
其中，PG，R如前述定义。
在本发明的一个实施方案中，所述PG选自C1-6烷基、C1-6烷氧基烷基、芳氧基烷基、烷基硅基、烷基硅基烷氧基烷基、烷基羰基、卤代C1-6烷基羰基和芳基羰基，其中Ar为选择性取代的苯基，所述“取代的苯基”为被一个或多个选自C1-6烷基、C1-6烷氧基、卤素，和三(氯或氟)甲基取代基的苯基。
所述R选自：C1～6烷基和芳基取代的C1～6烷基；
所述X为F、Cl、Br或I；
所述氧化剂为间氯过氧苯甲酸、过氧乙酸或过氧化氢；
在本发明的一个实施方案中，所述PG选自：所述PG选自C1-6烷基、C1-6烷氧基烷基、芳氧基烷基、烷基硅基、烷基硅基烷氧基烷基、烷基羰基、卤代C1-6烷基羰基和芳基羰基，其中Ar为选择性取代的苯基，所述“取代的苯基”为被一个或多个选自C1-6烷基、C1-6烷氧基、卤素，和三(氯或氟)甲基取代基的苯基；
进一步优选的，所述PG选自：甲基、乙基、苄基，乙酰基、三氟乙酰基、苯甲酰基、MOM、MEM、TMS、TBDPS、TIPS、TBDMS、苄氧基甲基和三甲基硅基乙氧基甲基；
更优选，所述PG选自MOM、MEM、TBDPS、TIPS、TBDMS中的任意一种。
在本发明的一个实施方案中，所述R选自：甲基、乙基、丙基、异丙基、苄基和三苯基甲基。
在本发明的一个实施方案中，所述X选自Cl、Br或I。
在本发明的一个实施方案中，提供了一种2-甲胺基-3-吡啶甲醇或其盐的制备方法，所述方法包括以下步骤：
S1:将化合物nt02与氧化剂反应，得到化合物nt03；
S2:将化合物nt03与R-X反应，得到化合物nt04；
S3:将化合物nt04与甲氨基反应，得到化合物nt05；
S4:将化合物nt05脱去羟基保护基，得到化合物nta或其盐；
其中，PG选自C1-6烷基、C1-6烷氧基烷基、芳氧基烷基、烷基硅基、烷基硅基烷氧基烷基、烷基羰基、卤代C1-6烷基羰基和芳基羰基，其中芳基为选择性取代的苯基，所述“取代的苯基”为被一个或多个选自C1-6烷基、C1-6烷氧基、卤素，和三(氯或氟)甲基取代基的苯基；
所述C1-6烷基包括：甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、叔丁基等；
所述的烷基硅基包括但不限于三甲基硅基(TMS)，叔丁基二甲基硅基(TBDMS或TBS)，叔丁基二苯基硅基(TBDPS)和三异丙基硅基(TIPS)；
所述烷基羰基优选为C1-6烷基羰基，例如乙酰基、丙酰基等；
所述芳基羰基优苯甲酰基，对甲氧基苯甲酰基，甲基苯甲酰基，氯代苯甲酰基等；
所述烷基硅基烷氧基烷基，优选，三甲基硅基乙氧基甲基等；
所述芳氧基烷基，例如苄氧基甲基等；
所述卤代C1-6烷基羰基，优选三氟乙酰基，氯代乙酰基等。
进一步优选的，所述PG选自：甲基、乙基、苄基，乙酰基、三氟乙酰基、苯甲酰基、MOM、MEM、TMS、TIPS、TBDMS、TBDPS、苄氧基甲基和三甲基硅基乙氧基甲基；
更优选，所述PG选自MOM、MEM、TBDPS、TIPS、TBDMS中的任意一种。
所述R为甲基、乙基、丙基、异丙基、苄基、三苯基甲基，优选的，R为甲基或乙基；
所述R-X为碘甲烷、碘乙烷、溴甲烷、或溴乙烷；
所述氧化剂为间氯过氧苯甲酸、过氧乙酸或过氧化氢。
在本发明的一个具体实施方案中，提供了化合物nt03的制备方法，包括将化合物nt02加入到合适的溶剂(如二氯甲烷)中，在合适的温度(如0℃)条件下，分批或缓慢加入氧化剂，优选在室温(20～25℃)下反应，得到化合物nt03；进一步的，优选反应结束后，向反应液中加入硫代硫酸钠溶液中和掉多余氧化剂，然后除去水相，分离得到有机相；优选的有机相经过浓缩后直接用于下一步反应；进一步优选的，其中化合物nt02与氧化剂的摩尔比优选为1：1～2，更优选1：1.2～1.5。
在本发明的一个具体的实施方案中，提供了化合物nt04的制备方法，包括，将化合物nt03加入到合适的溶剂(如二氯甲烷)中，然后加入R-X(优选为碘乙烷)，在合适的温度(如室温)条件下反应，得到化合物nt04；优选的，化合物nt03与R-X(优选为碘乙烷)的摩尔比为1：2～5，优选1：3～4。
在本发明的一个具体的实施方案中，提供了化合物nt05的制备方法，包括，将化合物nt04加入到甲胺的有机溶剂(优选为THF)中，然后加入碱(如氢氧化钠，氢氧化钾，碳酸钠或碳酸钾)，在合适的温度(如室温)条件下反应，得到化合物nt05；优选的，化合物nt04与甲胺的摩尔比为1：5～15，优选1：8～10；进一步优选的化合物nt04与碱的摩尔比为1：2～5，更优选1：3～4。
在本发明的一个具体实施方案中，提供了化合物nta或其盐的制备方法，包括，将化合物nt05a溶于合适的有机溶剂(优选二氧六环)中，加入酸或碱的溶液在合适的温度(优选30～60℃)反应，脱去羟基保护基PG，得到化合物nta或其盐；优选的加入HCl/Diox反应，得到化合物nta或其盐。化合物nt05中的羟基保护基PG可在酸性或碱性条件下除去，当PG为烷基硅基时还可以用四烷基氟化铵脱去；例如当PG为烷基硅基，MEM，MOM或苄基等时，可以用HCl-MeOH或HCl-Diox体系脱去，此时通过化合物nt05脱去羟基保护基，得到化合物nta盐酸盐。由化合物nta盐例如nta盐酸盐制备化合物nta可以采用常规的酸碱中和反应制备，例如通过加入氢氧化钠等碱中和，得到游离的化合物nta。优选的，在用HCl-MeOH或HCl-Diox体系脱去化合物nt05中的羟基保护基后，向反应液中加入氢氧化钠进行中和，得到化合物nta。
因此，在本发明的一个具体实施方式中，还包括将得到的化合物nta的盐转换成化合物nt0a的步骤。
本发明所述的化合物nt02可以由3-羟甲基吡啶通过羟基保护制备得到，例如将3-羟甲基吡啶在酸性或碱性条件下与羟基保护剂反应得到。
在本发明的上述实施方案中，优选的步骤S1和/或步骤S2反应结束之后，反应液经过简单的过滤、浓缩等操作后，可以直接将浓缩物用于下一步反应。
本发明另一方面还提供了一种艾沙康唑鎓硫酸盐的制备方法，其包含本发明所述的化合物nta或其盐的制备方法。
本发明另一方面，还提供了以下化合物：
本发明还提供了上述化合物nt03a，化合物nt04a，化合物nt04a在制备化合物甲胺基-3-羟甲基吡啶以及艾沙康唑鎓硫酸盐中的用途。
本发明中所述的羟基保护基是已知的一般性术语，该基团适用于保护羟基基团免于化学反应，但是在分子其它处进行了所需化学反应之后容易除去。典型的此类基团包括未取代的或取代的芳基、芳烷基或酰基，以及烷基。优选具有1-20个、特别是1-10个C原子的那些。代表性的羟基保护基包括，例如C1-6烷基、C1-6烷氧基烷基、芳氧基烷基、烷基硅基、烷基硅基烷氧基烷基、烷基羰基、卤代C1-6烷基羰基和芳基羰基，其中Ar为选择性取代的苯基。术语“取代的苯基”指的是具有一个或多个选自C1-6烷基、C1-6烷氧基、羟基、硝基、卤素，和三(氯或氟)甲基的取代基的苯基。其中，甲基是更优选的。
本发明中所述卤素为F、Cl、Br或I，优选Br或I。
本发明中所述的C1～6烷基是指具有1-6个C原子的直链或支链烷基，例如甲基，乙基，丙基、异丙基、正丁基、叔丁基等，优选为甲基、乙基、丙基或异丙基。
本发明中所述的“被芳基取代的C1～6烷基”是指C1-6烷基上的一个或多个氢原子被芳基取代，所述芳基优选为苯基，本发明所述的“被芳基取代的C1～6烷基”优选为苄基或三苯基甲基。
本发明中所述R-X是指R基团中C1～6烷基上的至少一个氢被卤素取代。在本发明中所述R选自：C1～6烷基和芳基取代的C1～6烷基，R-X则选自卤代的C1～6烷基，例如碘甲烷、碘乙烷、溴甲烷、或溴乙烷，或卤代的芳基取代的C1～6烷基，例如溴代三苯甲基、碘代三苯甲基、溴代三苯甲基、溴代苄基或碘代苄基，其中碘甲烷、碘乙烷、溴乙烷是更优选的。
本发明所述的“2-甲胺基-3-吡啶甲醇或其盐”其中所述的盐包括2-甲胺基-3-吡啶甲醇与无机酸成的盐，所述无机酸包括盐酸，硫酸，氢硫酸，氢溴酸或磷酸，优选所述盐为盐酸盐；或者2-甲胺基-3-吡啶甲醇与有机酸成的盐，所述有机酸，例如可以包括乙酸，甲酸等。在本发明的一个具体实施方式中，所述2-甲胺基-3-吡啶甲醇盐，所成盐主要取决于将化合物nt05脱去羟基保护基过程中所用酸，例如采用盐酸进行脱羟基保护基反应时，得到化合物nta盐酸盐。
缩写解释：
THF：四氢呋喃；
DCM：二氯甲烷；
MOM：甲氧基甲基
MEM：甲氧基乙氧基甲基；
BOM：苄氧甲基；
TBDPS：叔丁基二苯基甲硅烷基；
TIPS；三异丙基硅烷基；
TBDMS：叔丁基二甲基甲硅烷
m-CPBA：间氯过氧苯甲酸；
Diox：1,4-二氧六环。
本发明的有益效果：
首先，本发明提供了一种全新的制备2-甲胺基-3-吡啶甲醇以及艾沙康唑鎓硫酸盐的合成路线，与现有技术相比该方法不需要使用危险的还原剂(如四氢铝锂、硼烷、硼氢化钠等)，提高了操作安全性；
其次，本发明提供的合成路线，所用原料便宜易得；中间多步反应为telescope步骤(即“连投”步骤)，操作简单，条件温和。
第三，本发明提供的制备化合物nt0a或其盐的方法，反应收率显著提高。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明的技术方案及优势做进一步的阐释，需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。除非特殊说明，本发明所用试剂为市售。
实施例1：化合物(6)的制备方法：
化合物(2)的合成
将5.45克3-羟甲基吡啶(50mmol,1.0eq.)溶于55毫升四氢呋喃。在0℃下分批次加入2.20克60％NaH(55mmol,1.1eq.)。在0℃下搅拌30分钟无气泡放出后，缓缓滴入4.23克MOMCl(52.5mmol,1.05eq.)。滴加完毕后反应在室温继续搅拌6小时，TLC显示原料完全转化。加入0.8毫升饱和氯化铵溶液淬灭反应。反应液用20％氯化钠溶液洗涤两次后，无水硫酸钠干燥，浓缩，所得物料直接用于下一步反应。
化合物(3)的合成
将7.65克化合物2(50mmol,1.0eq.)溶于77毫升二氯甲烷，在0℃下分批次加入17.26克75％m-CPBA(75mmol,1.5eq.)。反应液在室温下搅拌18小时后，TLC显示原料完全转化。加入20毫升20％硫代硫酸钠溶液搅拌0.5小时后，分液除去水相。有机相用饱和碳酸钠溶液洗涤(20毫升*3)，20％氯化钠溶液洗涤(20毫升*1)，无水硫酸钠干燥，浓缩，所得物料直接用于下一步反应。
化合物(4)的合成
将8.46克化合物3(50mmol,1.0eq.)溶于85毫升干燥二氯甲烷，然后加入23.40克碘乙烷(150mmol,3.0eq.)。反应液在室温下搅拌18小时后，TLC显示原料完全转化。过滤反应液，滤饼用乙酸乙酯洗涤3次并烘干得白色固体15.77克(收率：97％)。
化合物(5)的合成
将1.63克化合物4(5mmol,1.0eq.)悬浮于20毫升2.0M甲胺的四氢呋喃溶液(40mmol,
8.0eq.)，加入2.07克碳酸钾(15mmol,3.0eq.)。反应液在室温下搅拌22小时后，过滤移除碳酸钾。滤液浓缩后硅胶柱层析，得0.79克产物(收率：87％)。
化合物(6)的合成
将0.363克化合物5(2mmol,1.0eq.)溶于4毫升二氧六环，加入4毫升4M HCl/Diox.。反应液在40℃下搅拌2小时后，减压浓缩至干，得0.347克化合物6(收率：100％)。
实施例2：化合物(6)的制备方法：
化合物(nt02a)的合成
将5.45克3-羟甲基吡啶(50mmol,1.0eq.)溶于55毫升四氢呋喃。在0℃下分批次加入2.20克60％NaH(55mmol,1.1eq.)。在0℃下搅拌30分钟无气泡放出后，缓缓滴入6.42克MEMCl(51.5mmol,1.03eq.)。滴加完毕后反应在室温继续搅拌9小时，TLC显示原料完全转化。加入0.8毫升饱和氯化铵溶液淬灭反应。反应液用20％氯化钠溶液洗涤两次后，无水硫酸钠干燥，浓缩，所得物料直接用于下一步反应。
化合物(nt03a)的合成
将9.86克化合物nt02a(50mmol,1.0eq.)溶于100毫升二氯甲烷，在0℃下分批次加入28.52克20％过氧乙酸(75mmol,1.5eq.)。反应液在室温下搅拌18小时后，TLC显示原料完全转化。加入20毫升20％硫代硫酸钠溶液搅拌0.5小时后，分液除去水相。有机相用饱和碳酸钠溶液洗涤(20毫升*3)，20％氯化钠溶液洗涤(20毫升*1)，无水硫酸钠干燥，浓缩，所得物料直接用于下一步反应。
化合物(nt04a)的合成
将10.66克化合物nt03a(50mmol,1.0eq.)溶于101毫升干燥二氯甲烷，然后加入21.29克碘甲烷(150mmol,3.0eq.)。反应液在室温下搅拌18小时后，TLC显示原料完全转化。过滤反应液，滤饼用乙酸乙酯洗涤3次并烘干得白色固体17.40克(收率：98％)。
化合物(nt05a)的合成
将1.14克化合物nt04a(5mmol,1.0eq.)悬浮于25毫升2.0M甲胺的四氢呋喃溶液(50mmol,10.0eq.)，加入2.07克碳酸钾(15mmol,3.0eq.)。反应液在室温下搅拌22小时后，过滤移除碳酸钾。滤液浓缩后硅胶柱层析，得1.04克产物(收率：92％)。
化合物(6)的合成
将0.453克化合物nt05a(2mmol,1.0eq.)溶于4毫升二氧六环，加入4毫升4M HCl/Diox.。反应液在40℃下搅拌2小时后，减压浓缩至干，得0.349克化合物6(收率：100％)。
实施例3：化合物nta的制备方法：
化合物(nt02b)的合成
将5.45克3-羟甲基吡啶(50mmol,1.0eq.)溶于55毫升二氯甲烷。在0℃下加入3.74克咪唑(55mmol,1.1eq.)和8.29克TBDMSCl(55.0mmol,1.1eq.)。加料完毕后反应在室温继续搅拌14小时，TLC显示原料完全转化。加入0.8毫升饱和氯化铵溶液淬灭反应。反应液用20％氯化钠溶液洗涤两次后，无水硫酸钠干燥，浓缩，所得物料直接用于下一步反应。
化合物(nt03b)的合成
将11.17克化合物nt02b(50mmol,1.0eq.)溶于115毫升乙醇，加入0.065克甲基三氧化铼(0.25mmol,0.005eq.)。在0℃下逐滴加入8.50克30％过氧化氢(75mmol,1.5eq.)。反应液在室温下搅拌3小时后，TLC显示原料完全转化。加入20毫升20％硫代硫酸钠溶液搅拌0.5小时后，分液除去水相。有机相用饱和碳酸钠溶液洗涤(20毫升*3)，20％氯化钠溶液洗涤(20毫升*1)，无水硫酸钠干燥，浓缩，所得物料直接用于下一步反应。
化合物(nt04b)的合成
将11.97克化合物nt03b(50mmol,1.0eq.)溶于120毫升干燥二氯甲烷，然后加入16.35克溴乙烷(150mmol,3.0eq.)。反应液在室温下搅拌21小时后，TLC显示原料完全转化。过滤反应液，滤饼用乙酸乙酯洗涤3次并烘干得白色固体16.20克(收率：92％)。
化合物(nt05b)的合成
将1.74克化合物nt04b(5mmol,1.0eq.)悬浮于25毫升2.0M甲胺的四氢呋喃溶液(50mmol,10.0eq.)，加入2.07克碳酸钾(15mmol,3.0eq.)。反应液在室温下搅拌22小时后，过滤移除碳酸钾。滤液浓缩后硅胶柱层析，得1.15克产物(收率：91％)。
化合物(nta)的合成
将0.505克化合物nt05b(2mmol,1.0eq.)溶于4毫升二氧六环，加入4毫升4M HCl/Diox.。反应液在40℃下搅拌2小时后，减压干燥，剩余物溶于10毫升水中，用乙酸乙酯洗涤(5毫升*2)，然后加入10％NaOH溶液调节pH值至9，再用乙酸乙酯萃取(10毫升*2)。有机相合并后减压浓缩至干，得0.265克化合物nta(收率：96％)。
实施例4：化合物(nta)的合成将0.453克化合物nt05a(2mmol,1.0eq.)溶于4毫升二氧六环，加入4毫升4M HCl/Diox.。反应液在40℃下搅拌2小时后，减压浓缩至干，得0.349克化合物6(收率：100％)；将化合物6溶于10ml水中，然后加入10％NaOH溶液调节pH值至9，再用乙酸乙酯萃取，合并有机相后，减压浓缩至干，得到0.276g化合物nta，收率100％。
Claims (10)
1.2-甲胺基-3-吡啶甲醇或其盐的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1:将化合物nt02与氧化剂反应，得到化合物nt03；
S2:将化合物nt03与R-X反应，得到化合物nt04；
S3:将化合物nt04与甲氨基反应，得到化合物nt05；
S4:将化合物nt05脱去羟基保护基，得到化合物nta或其盐；
其中，PG为羟基保护基；
R为C1～6烷基或被芳基取代的C1～6烷基；
X为卤素或拟卤素；
R-X为R基团中C1～6烷基上的氢被卤素取代。
2.2-甲胺基-3-吡啶甲醇或其盐的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
将化合物nt03与R-X反应，得到化合物nt04；
将化合物nt04与甲氨基反应，得到化合物nt05；
将化合物nt05脱去羟基保护基，得到化合物nta或其盐；
其中，PG，R，R-X如权利要求1所定义。
3.2-甲胺基-3-吡啶甲醇或其盐的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
将化合物nt04与甲氨基反应，得到化合物nt05；
将化合物nt05脱去羟基保护基，得到化合物nta或其盐；
其中，PG，R如权利要求1所定义。
4.根据权利要求1～3任一项所述方法，其特征在于，所述PG选自C1-6烷基、C1-6烷氧基烷基、芳氧基烷基、烷基硅基、烷基硅基烷氧基烷基、烷基羰基、卤代C1-6烷基羰基和芳基羰基，其中Ar为选择性取代的苯基，所述“取代的苯基”为被一个或多个选自C1-6烷基、C1-6烷氧基、卤素，和三(氯或氟)甲基取代基的苯基；
进一步优选的，所述PG选自：甲基、乙基、苄基，乙酰基、三氟乙酰基、苯甲酰基、MOM、MEM、TMS、TIPS、TBDMS、苄氧基甲基和三甲基硅基乙氧基甲基；
更优选，所述PG选自MOM、MEM、TMS、TIPS、TBDMS中的任意一种。
5.根据权利要求1～3任一项所述方法，其特征在于，所述R为甲基、乙基、丙基、异丙基、苄基或三苯基甲基，优选R为乙基。
6.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述氧化剂为间氯过氧苯甲酸、过氧乙酸或过氧化氢。
7.根据权利要求1～3任一项所述方法，其特征在于，PG为MOM，MEM或苄基；R为C1～6烷基。
8.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述PG为MOM，MEM或苄基；
R-X为碘甲烷、碘乙烷、溴甲烷、或溴乙烷；
R为甲基或乙基；
氧化剂为间氯过氧苯甲酸、过氧乙酸或过氧化氢。
9.一种艾沙康唑鎓硫酸盐的制备方法，其特征在于，包含权利要求1～8任一项所述方法。
10.化合物，其特征在于，具有如下结构：
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| CN202111126114.7A CN115872926A (zh) | 2021-09-26 | 2021-09-26 | 三唑类抗真菌药及其中间体的制备方法 |
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Family
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