CN115805532A - 一种导轨支架表面处理装置及其处理工艺 - Google Patents

Abstract

本发明适用于表面处理技术领域，提供了一种导轨支架表面处理装置及其处理工艺，包括箱体，所述箱体顶部安装有驱动组件，所述箱体的内部滑动连接有进料组件，所述进料组件的顶部延伸至箱体的顶部且与驱动组件相连接，所述驱动组件的外部连通有进砂组件，所述箱体的顶部安装有遮挡机构，所述遮挡机构与进料组件滑移连接，所述进料组件的内部安装有卡接组件，所述卡接组件的内部安装有提升组件，该装置解决了无法兼容多种类型的导轨支架表面处理的问题，由于各种导轨支架的形状不相同，因此在打磨时会出现清理死角，大大降低了装置的通用性，达到了无死角处理并且砂可反复利用，反复对导轨支架处理的效果。

Description

一种导轨支架表面处理装置及其处理工艺

技术领域

本发明涉及导轨支架表面处理装置技术领域，更具体地说，它涉及一种导轨支架表面处理装置及其处理工艺。

背景技术

导轨支架是用作支撑和固定导轨用的构件，被安装在工作位置，它固定了导轨的空间位置，并承受来自导轨的各种动作，由于导轨支架大多为金属材质，但是支架长时间使用后，受环境影响造成生锈的情况，支架锈蚀后产生的锈屑容易掉落至导轨内，从而对导轨正常使用造成影响，为了保证导轨的正常使用，需要使用表面处理装置对导轨支架表面进行处理，现有的表面处理装置在对支架表面处理时，只通过砂带在表面打磨清理，由于各种导轨支架的形状不相同，因此在打磨时会出现清理死角，大大降低了装置的通用性，无法兼容多种类型的导轨支架表面处理。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种导轨支架表面处理装置及其处理工艺。

为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：一种导轨支架表面处理装置，包括箱体，所述箱体顶部安装有驱动组件，所述箱体的内部滑动连接有进料组件，所述进料组件的顶部延伸至箱体的顶部且与驱动组件相连接，所述驱动组件的外部连通有进砂组件，所述箱体的顶部安装有遮挡机构，所述遮挡机构与进料组件滑移连接，所述进料组件的内部安装有卡接组件，所述卡接组件的内部安装有提升组件，所述驱动组件的底部安装有喷射组件，所述喷射组件延伸至箱体的内部。

本发明进一步设置为：所述驱动组件包括支撑架，所述支撑架安装于箱体的顶部，所述支撑架的顶部安装有电机，所述电机的输出端贯穿支撑架的顶部且连接有第二锥齿轮，所述第二锥齿轮的外侧壁啮合连接有第一锥齿轮。

本发明进一步设置为：所述进料组件包括连接杆，所述连接杆连接于支撑架的内壁，所述支撑架的底端连接有限位管，所述限位管的内部穿设有丝杆，所述丝杆的外侧壁螺纹连接有套管，所述丝杆的外侧壁且靠近限位管的位置未设置螺纹，且未设置螺纹的长度与套管的长度一致，所述套管的外侧壁固定连接有滑块，所述箱体的顶部开设有滑槽，所述滑块滑动连接于滑槽的内部，所述滑块的底部连接有承载架，所述承载架的内壁安装有承载板，所述承载板的顶部转动连接有承载筒。

本发明进一步设置为：所述喷射组件包括喷射管，所述喷射管与电机的输出端连接，所述喷射管的底端延伸至箱体的内部，所述喷射管的外侧壁均匀开设有喷料口。

本发明进一步设置为：所述进砂组件包括固定管，所述固定管套设于喷射管的外侧壁且与喷料口连通，所述固定管的外侧壁连通有进料管。

本发明进一步设置为：所述卡接组件包括卡槽，所述卡槽均匀开设于承载筒的外侧壁顶端，所述喷射管的底端连接有连接板，所述连接板的一侧贴合于承载筒的外侧壁，所述连接板靠近承载筒的一侧连接有连接块，所述连接块插设于一个卡槽的内部。

本发明进一步设置为：所述提升组件包括螺旋叶片，所述螺旋叶片安装于承载筒的内部，所述承载筒的底部开设有倾斜部。

本发明进一步设置为：所述遮挡机构包括挡板，所述挡板的底部贴合于箱体的顶部，所述挡板的一端连接有固定板，所述固定板的一侧与丝杆的一端，所述挡板的另一端螺纹连接有螺栓，且所述螺栓的一端螺纹连接于箱体的顶部，所述挡板位于滑槽的上方，所述挡板的长度与丝杆的长度一致，所述挡板的材质为橡胶材质，所述滑块的一侧开设有通槽，所述挡板穿设于通槽的内部。

一种导轨支架表面处理工艺，使用上述所述的导轨支架表面处理装置，采用以下步骤，

S1、打开门体，并将承载板和承载筒移出箱体内部，导轨支架放置在承载筒的内部，外接喷砂机与进料管连通，准备工作完成；

S2、通过启动电机，电机的输出端带动喷射管和第二锥齿轮转动，外接喷砂机通过进料管、固定管、喷射管和喷料口喷射至箱体的内部，且喷射管在箱体的内部转动；

S3、第二锥齿轮带动第一锥齿轮和丝杆转动，丝杆带动套管和滑块位移，滑块在滑槽的内部滑移，滑块带动承载架、承载筒和承载板移动至箱体的内部，且承载筒移动至喷射管的喷洒范围内，承载筒的轴线与电机输出端的轴线保持一致，关闭门体，此时套管的一端贴合于限位管的一端，且套管移动至丝杆未设置螺纹位置，由于套管与丝杆外侧壁的螺纹脱离，致使丝杆无法带动套管继续位移，从而保持套管的静止，连接块与一个卡槽插接；

S4、此时喷射管继续转动，通过喷射管不断转动将砂喷洒在承载筒的内部，对导轨支架表面进行打磨处理，并且喷洒的砂堆积在承载筒的内部，倾斜部将砂聚集，喷射管转动时带动连接板和连接块转动，连接块拉动承载筒在承载板的顶部转动，导轨支架在承载筒的内部发生位移；

S5、承载筒带动螺旋叶片转动，螺旋叶片将聚集的砂再次提升，螺旋叶片将砂提升至一定高度时，砂从螺旋叶片上滑落并与导轨支架碰撞，对导轨支架表面再次进行打磨处理。

本发明的优点是

(1)通过设置喷射组件，当进料组件带动待处理的导轨支架移动至箱体的内部后，电机带动喷射管在箱体的内部转动，开设在喷射管上的多个喷料口同步转动，从而增加喷料口的喷射范围，砂从喷料口喷到导轨支架的表面，从而对导轨支架表面进行处理，避免导轨支架出现清理死角导致无法清理的情况；

(2)当承载筒移动至箱体内部时，开设在承载筒外侧壁的一个卡槽与连接块卡接，并且喷射组件对导轨支架表面处理时，喷射管喷出的砂始终位于承载筒的开口范围内，致使承载筒对喷出的砂进行收集，喷射管转动时带动连接板和连接块转动，致使承载筒在承载板顶部转动，承载筒带动其内部的导轨支架晃动与承载筒内部堆积的砂反复摩擦，从而提高导轨支架的表面处理效果；

(3)当砂在承载筒的内部堆积时，承载筒转动带动螺旋叶片转动，致使承载筒内部的砂逐渐提升，从而将砂进行分散，砂提升至一定高度时从高处下落与导轨支架碰撞，致使砂能够重复利用，并且增加砂与导轨支架的接触面积。

附图说明

图1为本发明的整体结构示意图；

图2为本发明的驱动组件和进料组件连接结构示意图；

图3为本发明的左视结构示意图；

图4是图3按照A-A方向剖切的剖视图；

图5是图3按照B-B方向剖切的剖视图；

图6为本发明的承载筒结构示意图；

图7为本发明的喷射管与连接板连接结构示意图；

图中：1、箱体；11、门体；2、驱动组件；21、支撑架；22、电机；23、第一锥齿轮；24、第二锥齿轮；3、进料组件；31、丝杆；32、滑块；33、套管；34、限位管；35、连接杆；36、承载架；37、承载筒；38、承载板；39、滑槽；4、进砂组件；41、进料管；42、固定管；5、喷射组件；51、喷射管；52、喷料口；6、卡接组件；61、连接板；62、卡槽；63、连接块；7、提升组件；71、螺旋叶片；72、倾斜部；8、遮挡机构；81、挡板；82、螺栓；83、固定板；84、通槽。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互结合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

需要指出的是，除非另有指明，本申请使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

本发明中，在未作相反说明的情况下，使用的方位如“上、下”通常是针对附图所示的方向而言，或者是针对竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“左、右”通常是针对附图所示的左、右；“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本发明。

请参阅图1-7，本发明提供以下技术方案：

实施例

一种导轨支架表面处理装置，包括箱体1，箱体1顶部安装有驱动组件2，箱体1的内部滑动连接有进料组件3，进料组件3的顶部延伸至箱体1的顶部且与驱动组件2相连接，驱动组件2的外部连通有进砂组件4，箱体1的顶部安装有遮挡机构8，遮挡机构8与进料组件3滑移连接，进料组件3的内部安装有卡接组件6，卡接组件6的内部安装有提升组件7，驱动组件2的底部安装有喷射组件5，喷射组件5延伸至箱体1的内部，进料组件3用于对待处理的导轨支架进行承载，驱动组件2用于带动进料组件3位移和喷射组件5旋转，致使进料组件3带动待处理的导轨支架位移，进砂组件4用于进砂，喷射组件5旋转过程中将砂喷到导轨支架表面，从而对导轨支架表面进行处理，卡接组件6用于与进料组件3连接，当喷射组件5转动时带动卡接组件6转动，致使进料组件3的转动部分和导轨支架转动，使导轨支架在进料组件3的内部活动，并且提升组件7将连接组件3内堆积的砂提升，从而使得堆积的砂能够再次利用。

驱动组件2包括支撑架21，支撑架21安装于箱体1的顶部，支撑架21的顶部安装有电机22，电机22的输出端贯穿支撑架21的顶部且连接有第二锥齿轮24，第二锥齿轮24的外侧壁啮合连接有第一锥齿轮23，电机22用于带动第二锥齿轮24转动，第二锥齿轮24转动时带动第一锥齿轮23同步转动，进料组件3包括连接杆35，连接杆35连接于支撑架21的内壁，支撑架21的底端连接有限位管34，限位管34的内部穿设有丝杆31，当第一锥齿轮23转动时带动丝杆31同步转动，连接杆35和限位管34用于对丝杆31支撑，致使丝杆31保持水平状态；

丝杆31的外侧壁螺纹连接有套管33，丝杆31的外侧壁且靠近限位管34的位置未设置螺纹，且未设置螺纹的长度与套管33的长度一致，限位管34靠近套管33的位置安装阻尼环，套管33的外侧壁固定连接有滑块32，箱体1的顶部开设有滑槽39，滑块32滑动连接于滑槽39的内部，滑块32的底部连接有承载架36，承载架36的内壁安装有承载板38，承载板38的顶部转动连接有承载筒37，承载筒37用于承载导轨支架，当丝杆31转动时，套管33在丝杆31的外侧壁滑移，且套管33带动滑块32在滑槽39的内部滑移，滑块32滑移时带动承载架36、承载板38和承载筒37位移，从而将导轨支架移动至箱体1的内部；

当套管33在丝杆31的外侧壁滑动且向箱体1方向移动时，套管33最终会移动到丝杆31未设置螺纹位置，且限位管34一端的阻尼环受到挤压，此时套管33会停止位移，并且不影响喷射组件5的正常转动；

由于未设置螺纹的长度与套管33的长度一致，因此套管33刚好卡在此位置，当套管33处于未设置螺纹位置且丝杆31反向转动时，阻尼环推动套管33反向位移，致使套管33内部的螺纹与丝杆31外侧壁的螺纹啮合，此时丝杆31转动带动套管33反向移动，从而将承载架36、承载板38和承载筒37从箱体1内移出；

喷射组件5包括喷射管51，喷射管51与电机22的输出端连接，喷射管51的底端延伸至箱体1的内部，喷射管51的外侧壁均匀开设有喷料口52，当电机22转动时，电机22的输出端带动喷射管51在箱体1的内部转动，当喷射管51转动时，开设在喷射管51上的多个喷料口52同步转动，从而增加喷料口52的喷射范围，砂从喷料口52喷到导轨支架的表面，从而对导轨支架表面进行处理，并且喷射后的砂堆积在承载筒37的内部回收；

进砂组件4包括固定管42，固定管42套设于喷射管51的外侧壁且与喷料口52连通，固定管42的外侧壁连通有进料管41，进料管41与外接喷射机连接，在喷射管51的外侧壁均匀开设进料孔，并且进料管41与固定管42与其中一个进料孔连通，当喷射管51转动时，进料管41与固定管42的连通处始终于一个进料孔连通，从而保持进料状态；

卡接组件6包括卡槽62，卡槽62均匀开设于承载筒37的外侧壁顶端，喷射管51的底端连接有连接板61，连接板61的一侧贴合于承载筒37的外侧壁，连接板61靠近承载筒37的一侧连接有连接块63，连接块63插设于一个卡槽62的内部，当承载筒37移动到箱体1的内部时，承载筒37外侧壁开设的其中一个卡槽62与连接块63插接，并且当喷射管51转动时，喷射管51带动连接板61和连接块63转动，由于连接块63与一个卡槽62卡接，致使承载筒37在承载板38顶部转动，致使承载筒37带动其内部的导轨支架晃动与承载筒37内部堆积的砂反复摩擦；

提升组件7包括螺旋叶片71，螺旋叶片71安装于承载筒37的内部，承载筒37的底部开设有倾斜部72，当砂在承载筒37的内部堆积时，倾斜部72用于将砂集中，当承载筒37转动时带动螺旋叶片71转动，致使承载筒37内部的砂逐渐提升，从而将砂进行分散，砂提升至一定高度时从高处下落与导轨支架碰撞，致使砂能够重复利用，并且增加砂与导轨支架的接触面积；

遮挡机构8包括挡板81，挡板81的底部贴合于箱体1的顶部，挡板81的一端连接有固定板83，固定板83的一侧与丝杆31的一端，挡板81的另一端螺纹连接有螺栓82，且螺栓82的一端螺纹连接于箱体1的顶部，挡板81位于滑槽39的上方，挡板81的长度与丝杆31的长度一致，挡板81的材质为橡胶材质，滑块32的一侧开设有通槽84，挡板81穿设于通槽84的内部，当滑块32在滑槽39的内部滑移时，挡板81在通槽84的内部滑动，而挡板81实时对滑槽39封闭，避免砂从滑槽39飞出；

一种导轨支架表面处理工艺，包括以下步骤，

S1、打开门体11，并将承载板38和承载筒37移出箱体1内部，导轨支架放置在承载筒37的内部，外接喷砂机与进料管41连通，准备工作完成；

S2、通过启动电机22，电机22的输出端带动喷射管51和第二锥齿轮24转动，外接喷砂机通过进料管41、固定管42、喷射管51和喷料口52喷射至箱体1的内部，且喷射管51在箱体1的内部转动；

S3、第二锥齿轮24带动第一锥齿轮23和丝杆31转动，丝杆31带动套管33和滑块32位移，滑块32在滑槽39的内部滑移，滑块32带动承载架36、承载筒37和承载板38移动至箱体1的内部，且承载筒37移动至喷射管51的喷洒范围内，承载筒37的轴线与电机22输出端的轴线保持一致，关闭门体11，此时套管33的一端贴合于限位管34的一端，且套管33移动至丝杆31未设置螺纹位置，由于套管33与丝杆31外侧壁的螺纹脱离，致使丝杆31无法带动套管33继续位移，从而保持套管33的静止，连接块63与一个卡槽62插接；

S4、此时喷射管51继续转动，通过喷射管51不断转动将砂喷洒在承载筒37的内部，对导轨支架表面进行打磨处理，并且喷洒的砂堆积在承载筒37的内部，倾斜部72将砂聚集，喷射管51转动时带动连接板61和连接块63转动，连接块63拉动承载筒37在承载板38的顶部转动，导轨支架在承载筒37的内部发生位移；

S5、承载筒37带动螺旋叶片71转动，螺旋叶片71将聚集的砂再次提升，螺旋叶片71将砂提升至一定高度时，砂从螺旋叶片71上滑落并与导轨支架碰撞，对导轨支架表面再次进行打磨处理。

具体地，工作人员首先打开门体11，并将承载板38和承载筒37移出箱体1内部，将需要处理的导轨支架放置在承载筒37的内部，外接喷砂机与进料管41连通，准备工作完成；

工作人员通过启动电机22，电机22的输出端带动喷射管51和第二锥齿轮24转动，第二锥齿轮24带动第一锥齿轮23和丝杆31转动，当丝杆31转动时，套管33在丝杆31的外侧壁滑移，且套管33带动滑块32在滑槽39的内部滑移，当滑块32在滑槽39的内部滑移时，挡板81在通槽84的内部滑动，而挡板81实时对滑槽39封闭，避免砂从滑槽39飞出，滑块32滑移时带动承载架36、承载板38和承载筒37位移，从而将承载筒37和导轨支架移动至箱体1的内部；

当套管33在丝杆31的外侧壁滑动且向箱体1方向移动时，套管33最终会移动到丝杆31未设置螺纹位置，且限位管34一端的阻尼环受到挤压，此时套管33会停止位移，并且不影响喷射组件5的正常转动，由于未设置螺纹的长度与套管33的长度一致，因此套管33刚好卡在此位置，当承载筒37移动到箱体1的内部时，承载筒37外侧壁开设的其中一个卡槽62与连接块63插接；

电机22的输出端带动喷射管51在箱体1的内部转动，在喷射管51的外侧壁均匀开设进料孔，并且进料管41与固定管42与其中一个进料孔连通，当喷射管51转动时，进料管41与固定管42的连通处始终于一个进料孔连通，从而保持进料状态；

当喷射管51转动时，开设在喷射管51上的多个喷料口52同步转动，从而增加喷料口52的喷射范围，砂从喷料口52喷到导轨支架的表面，从而对导轨支架表面进行处理，并且喷射后的砂堆积在承载筒37的内部回收；

由于连接块63与一个卡槽62卡接，喷射管51带动连接板61和连接块63转动，致使承载筒37在承载板38顶部转动，承载筒37带动其内部的导轨支架晃动与承载筒37内部堆积的砂反复摩擦；

当砂在承载筒37的内部堆积时，倾斜部72用于将砂集中，当承载筒37转动时带动螺旋叶片71转动，致使承载筒37内部的砂逐渐提升，从而将砂进行分散，砂提升至一定高度时从高处下落与导轨支架碰撞，致使砂能够重复利用，并且增加砂与导轨支架的接触面积。

显然，上述所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、工作、器件、组件和/或它们的组合。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (9)

1.一种导轨支架表面处理装置，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)顶部安装有驱动组件(2)，所述箱体(1)的内部滑动连接有进料组件(3)，所述进料组件(3)的顶部延伸至箱体(1)的顶部且与驱动组件(2)相连接，所述驱动组件(2)的外部连通有进砂组件(4)，所述箱体(1)的顶部安装有遮挡机构(8)，所述遮挡机构(8)与进料组件(3)滑移连接，所述进料组件(3)的内部安装有卡接组件(6)，所述卡接组件(6)的内部安装有提升组件(7)，所述驱动组件(2)的底部安装有喷射组件(5)，所述喷射组件(5)延伸至箱体(1)的内部。

2.根据权利要求1所述的一种导轨支架表面处理装置，其特征在于：所述驱动组件(2)包括支撑架(21)，所述支撑架(21)安装于箱体(1)的顶部，所述支撑架(21)的顶部安装有电机(22)，所述电机(22)的输出端贯穿支撑架(21)的顶部且连接有第二锥齿轮(24)，所述第二锥齿轮(24)的外侧壁啮合连接有第一锥齿轮(23)。

3.根据权利要求2所述的一种导轨支架表面处理装置，其特征在于：所述进料组件(3)包括连接杆(35)，所述连接杆(35)连接于支撑架(21)的内壁，所述支撑架(21)的底端连接有限位管(34)，所述限位管(34)的内部穿设有丝杆(31)，所述丝杆(31)的外侧壁螺纹连接有套管(33)，所述丝杆(31)的外侧壁且靠近限位管(34)的位置未设置螺纹，且未设置螺纹的长度与套管(33)的长度一致，所述套管(33)的外侧壁固定连接有滑块(32)，所述箱体(1)的顶部开设有滑槽(39)，所述滑块(32)滑动连接于滑槽(39)的内部，所述滑块(32)的底部连接有承载架(36)，所述承载架(36)的内壁安装有承载板(38)，所述承载板(38)的顶部转动连接有承载筒(37)。

4.根据权利要求3所述的一种导轨支架表面处理装置，其特征在于：所述喷射组件(5)包括喷射管(51)，所述喷射管(51)与电机(22)的输出端连接，所述喷射管(51)的底端延伸至箱体(1)的内部，所述喷射管(51)的外侧壁均匀开设有喷料口(52)。

5.根据权利要求4所述的一种导轨支架表面处理装置，其特征在于：所述进砂组件(4)包括固定管(42)，所述固定管(42)套设于喷射管(51)的外侧壁且与喷料口(52)连通，所述固定管(42)的外侧壁连通有进料管(41)。

6.根据权利要求5所述的一种导轨支架表面处理装置，其特征在于：所述卡接组件(6)包括卡槽(62)，所述卡槽(62)均匀开设于承载筒(37)的外侧壁顶端，所述喷射管(51)的底端连接有连接板(61)，所述连接板(61)的一侧贴合于承载筒(37)的外侧壁，所述连接板(61)靠近承载筒(37)的一侧连接有连接块(63)，所述连接块(63)插设于一个卡槽(62)的内部。

7.根据权利要求6所述的一种导轨支架表面处理装置，其特征在于：所述提升组件(7)包括螺旋叶片(71)，所述螺旋叶片(71)安装于承载筒(37)的内部，所述承载筒(37)的底部开设有倾斜部(72)。

8.根据权利要求7所述的一种导轨支架表面处理装置，其特征在于：所述遮挡机构(8)包括挡板(81)，所述挡板(81)的底部贴合于箱体(1)的顶部，所述挡板(81)的一端连接有固定板(83)，所述固定板(83)的一侧与丝杆(31)的一端，所述挡板(81)的另一端螺纹连接有螺栓(82)，且所述螺栓(82)的一端螺纹连接于箱体(1)的顶部，所述挡板(81)位于滑槽(39)的上方，所述挡板(81)的长度与丝杆(31)的长度一致，所述挡板(81)的材质为橡胶材质，所述滑块(32)的一侧开设有通槽(84)，所述挡板(81)穿设于通槽(84)的内部。

9.一种导轨支架表面处理工艺，其特征在于：使用权利要求8所述的导轨支架表面处理装置，采用以下步骤，

S1、打开门体(11)，并将承载板(38)和承载筒(37)移出箱体(1)内部，导轨支架放置在承载筒(37)的内部，外接喷砂机与进料管(41)连通，准备工作完成；

S2、通过启动电机(22)，电机(22)的输出端带动喷射管(51)和第二锥齿轮(24)转动，外接喷砂机通过进料管(41)、固定管(42)、喷射管(51)和喷料口(52)喷射至箱体(1)的内部，且喷射管(51)在箱体(1)的内部转动；

S3、第二锥齿轮(24)带动第一锥齿轮(23)和丝杆(31)转动，丝杆(31)带动套管(33)和滑块(32)位移，滑块(32)在滑槽(39)的内部滑移，滑块(32)带动承载架(36)、承载筒(37)和承载板(38)移动至箱体(1)的内部，且承载筒(37)移动至喷射管(51)的喷洒范围内，承载筒(37)的轴线与电机(22)输出端的轴线保持一致，关闭门体(11)，此时套管(33)的一端贴合于限位管(34)的一端，且套管(33)移动至丝杆(31)未设置螺纹位置，由于套管(33)与丝杆(31)外侧壁的螺纹脱离，致使丝杆(31)无法带动套管(33)继续位移，从而保持套管(33)的静止，连接块(63)与一个卡槽(62)插接；

S4、此时喷射管(51)继续转动，通过喷射管(51)不断转动将砂喷洒在承载筒(37)的内部，对导轨支架表面进行打磨处理，并且喷洒的砂堆积在承载筒(37)的内部，倾斜部(72)将砂聚集，喷射管(51)转动时带动连接板(61)和连接块(63)转动，连接块(63)拉动承载筒(37)在承载板(38)的顶部转动，导轨支架在承载筒(37)的内部发生位移；

S5、承载筒(37)带动螺旋叶片(71)转动，螺旋叶片(71)将聚集的砂再次提升，螺旋叶片(71)将砂提升至一定高度时，砂从螺旋叶片(71)上滑落并与导轨支架碰撞，对导轨支架表面再次进行打磨处理。

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