CN115652273A - 器件镀膜方法、镀膜轨道以及器件镀膜机构 - Google Patents

Abstract

本申请公开了器件镀膜方法、镀膜轨道以及器件镀膜机构，其中，器件镀膜方法包括：提供载具，将待镀膜器件设置在载具上；提供镀膜轨道和托盘，镀膜轨道具有相互对接的第一段坡道和第二段坡道，第一段坡道和第二段坡道均具有高端和低端，第一段坡道的高端和第二段坡道的高端对接；将载具安装在托盘上，采用物理气相沉积方式进行镀膜，镀膜轨道的第一段坡道和第二段坡道的对接处位于镀膜源下方，镀膜时，托盘带动载具往复移动，在待镀膜器件的正面和侧面形成镀膜层。本申请载具在第一段坡道和第二段坡道往复移动时，器件侧面由竖直变为与竖直成一定角度，接受自上而下沉积的镀膜原子的概率增加，能够有效降低器件侧面和正面之间的镀膜厚度差。

Description

器件镀膜方法、镀膜轨道以及器件镀膜机构

技术领域

本发明涉及半导体封装技术领域，具体涉及器件镀膜方法、镀膜轨道以及器件镀膜机构。

背景技术

器件需要表面金属化来达到电磁屏蔽等功能，常规通过PVD溅射镀膜工艺实现，使溅射原子沉积到器件表面及四周侧壁。

如图1和图2所示，传统镀膜工艺如下：

1.将双面胶层4一面平贴在载具1上，将待镀膜器件2贴在双面胶层4的另一面上，待镀膜器件2的其中两个侧壁与载具1的移动方向平行；

2.采用物理气相沉积方法进行镀膜作业，将载具1固定在托盘5上，镀膜过程中，托盘5沿镀膜轨道3方向往复移动，带动载具1在镀膜源6下方前后震荡(沿X方向)，保证镀膜过程的一致性。

传统镀膜方法的缺点为：镀膜原子61靠重力作用沉积到器件表面，载具1在溅镀腔体内沿镀膜轨道3做一维水平往复运动，运动方向与镀膜原子61的沉积方向垂直，器件侧面接收到的镀膜原子61概率较正面低得多，为了保证器件表面屏蔽效能，保证侧面最薄镀膜厚度，需要消耗更多的时间及镀膜材料，造成镀膜效率低及材料浪费。

发明内容

本发明针对上述问题，提出了器件镀膜方法、镀膜轨道以及器件镀膜机构。

本发明采取的技术方案如下：

一种器件镀膜方法，包括：

提供载具，将待镀膜器件设置在所述载具上；

提供镀膜轨道和托盘，所述镀膜轨道具有相互对接的第一段坡道和第二段坡道，第一段坡道和第二段坡道均具有高端和低端，第一段坡道的高端和第二段坡道的高端对接，所述托盘与镀膜轨道配合，能够在镀膜轨道上往复移动；

将设置有待镀膜器件的载具安装在托盘上，采用物理气相沉积方式进行镀膜，镀膜轨道的第一段坡道和第二段坡道的对接处位于镀膜源下方，镀膜时，托盘带动载具往复移动，在待镀膜器件的正面和侧面形成镀膜层。

本申请镀膜轨道的第一段坡道和第二段坡道的对接处为镀膜轨道的高点，这样设计后，载具在第一段坡道和第二段坡道往复移动时，器件侧面由竖直变为与竖直成一定角度，接受自上而下沉积的镀膜原子的概率增加，镀膜时能够有效降低器件侧面和正面之间的镀膜厚度差。

本申请中，第一段坡道的高端和第二段坡道的高端对接可以是直接接触，也可以是不接触，比如当镀膜轨道包括多个滚轮时，第一段坡道的高端和第二段坡道的高端可以不接触。

实际运用时，本申请的镀膜轨道可以为现有的多种形式的轨道。

于本发明其中一实施例中，所述第一段坡道和第二段坡道均倾斜设置，且相对于水平面的倾斜角度相同；所述第一段坡道和第二段坡道所呈角度a大于等于120°且小于180°。

传统镀膜工艺中，待镀膜器件的其中两个侧壁与载具的移动方向平行，导致器件在运动方向上的两个侧面的镀膜厚度较与载具的移动方向平行的两个侧面镀膜厚度大，四个侧面镀层厚度一致性差，同理，为了保证器件表面屏蔽效能，保证侧面最薄镀膜厚度达标，需要消耗更多的时间及镀膜材料，造成镀膜效率低及材料浪费。于本发明其中一实施例中，所述待镀膜器件摆放方向与载具运动方向所呈角度b大于等于30°且小于等于60°。

本申请通过控制待镀膜器件的摆放方向，使得待镀膜器件与载具运动方向存在一定角度，载具前后往复运动中四个侧面可以接受到基本相同概率的镀膜原子，有效降低了器件四个侧面的镀膜厚度差。

于本发明其中一实施例中，所述托盘包括基座以及转动设置在基座上的可转动部，所述载具用于安装在所述可转动部上，所述可转动部具有多个工作位，在不同的工作位，可转动部相对基座的转动角度不同。

托盘这样设置，可以使待镀膜器件设置在载具上的方式跟传统镀膜方法相同，无需做更改，待载具安装在可转动部时，通过调节可转动部的位置，也能迅速实现待镀膜器件摆放方向与载具运动方向存在一定角度b，优选的，b大于等于30°且小于等于60°。

由于不同器件具有不同的长宽比，对应有不同的摆放方向，多个工作位能够适用不同的器件。

于本发明其中一实施例中，所述待镀膜器件通过双面胶层固定在载具上，所述双面胶层的一个表面与所述载具粘接，另一个表面与待镀膜器件的背面粘接。

实际运用时，双面胶层需要具备耐高温特性，双面胶层的基材可以为PI或泡棉等材质。

本申请还公开了一种镀膜轨道，具有相互对接的第一段坡道和第二段坡道，第一段坡道和第二段坡道均具有高端和低端，第一段坡道的高端和第二段坡道的高端对接，镀膜轨道的第一段坡道和第二段坡道的对接处用于设置在物理气相沉积设备的镀膜源的正下方。

于本发明其中一实施例中，所述第一段坡道和第二段坡道均倾斜设置，且相对于水平面的倾斜角度相同；所述第一段坡道和第二段坡道所呈角度b大于等于120°且小于180°。

本申请还公开了一种器件镀膜机构，包括：

镀膜源；

镀膜轨道，所述镀膜轨道具有相互对接的第一段坡道和第二段坡道，第一段坡道和第二段坡道均具有高端和低端，第一段坡道的高端和第二段坡道的高端对接，镀膜轨道的第一段坡道和第二段坡道的对接处位于镀膜源的正下方；

托盘，所述托盘与镀膜轨道配合，能够在镀膜轨道上往复移动；

载具，所述载具安装在所述托盘上，所述载具用于承载待镀膜器件。

于本发明其中一实施例中，所述第一段坡道和第二段坡道均倾斜设置，且相对于水平面的倾斜角度相同；所述第一段坡道和第二段坡道所呈角度大于等于120°且小于180°。

于本发明其中一实施例中，所述载具上具有双面胶层，所述双面胶层的一个表面与所述载具粘接，另一个表面用于与待镀膜器件的背面粘接。

本发明的有益效果是：本申请镀膜轨道的第一段坡道和第二段坡道的对接处为镀膜轨道的高点，这样设计后，载具在第一段坡道和第二段坡道往复移动时，器件侧面由竖直变为与竖直成一定角度，接受自上而下沉积的镀膜原子的概率增加，镀膜时能够有效降低器件侧面和正面之间的镀膜厚度差。

附图说明

图1是传统镀膜工艺待镀膜器件贴设在载具上的俯视图；

图2是传统镀膜工艺托盘运动侧视图；

图3是实施例1待镀膜器件贴设在载具上的俯视图；

图4是实施例1托盘运动侧视图；

图5是实施例2托盘的示意图。

图中各附图标记为：

1、载具；2、待镀膜器件；3、镀膜轨道；31、第一段坡道；32、第二段坡道；33、高端；34、低端；4、双面胶层；5、托盘；51、基座；52、可转动部；6、镀膜源；61、镀膜原子。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

在本申请的描述中，需要说明的是，术语“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本申请的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

下面结合各附图，对本发明做详细描述。

实施例1

如图3和4所示，本实施例公开了一种器件镀膜方法，包括：

提供载具1，将待镀膜器件2设置在载具1上；

提供镀膜轨道3和托盘5，镀膜轨道3具有相互对接的第一段坡道31和第二段坡道32，第一段坡道31和第二段坡道32均具有高端33和低端34，第一段坡道31的高端33和第二段坡道32的高端33对接，托盘5与镀膜轨道3配合，能够在镀膜轨道3上往复移动；

将设置有待镀膜器件2的载具1安装在托盘5上，采用物理气相沉积方式进行镀膜，镀膜轨道3的第一段坡道31和第二段坡道32的对接处位于镀膜源6下方，镀膜时，托盘5带动载具1往复移动，在待镀膜器件2的正面和侧面形成镀膜层。

本申请镀膜轨道3的第一段坡道31和第二段坡道32的对接处为镀膜轨道3的高点，这样设计后，载具1在第一段坡道31和第二段坡道32往复移动时，器件侧面由竖直变为与竖直成一定角度，接受自上而下沉积的镀膜原子61的概率增加，镀膜时能够有效降低器件侧面和正面之间的镀膜厚度差。

本申请中，第一段坡道31的高端33和第二段坡道32的高端33对接可以是直接接触，也可以是不接触，比如当镀膜轨道3包括多个滚轮时，第一段坡道31的高端33和第二段坡道32的高端33可以不接触。

实际运用时，本申请的镀膜轨道3可以为现有的多种形式的轨道。

实际运用时，在镀膜完成后可以使用下料机将镀膜好的器件和胶带分离，取下的器件依次放入收料盘。

如图4所示，于本实施例中，第一段坡道31和第二段坡道32均倾斜设置，且相对于水平面的倾斜角度相同；第一段坡道31和第二段坡道32所呈角度a大于等于120°且小于180°。

实际运用时，待镀膜器件2可以通过现有的多种制造方式加工得到，例如封装有芯片的器件结构，优选的，待镀膜器件2的横截面基本呈矩形结构，待镀膜器件2具有正面、背面以及四个侧面。

传统镀膜工艺中，待镀膜器件2的其中两个侧壁与载具1的移动方向平行，导致器件在运动方向上的两个侧面的镀膜厚度较与载具1的移动方向平行的两个侧面镀膜厚度大，四个侧面镀层厚度一致性差，同理，为了保证器件表面屏蔽效能的情况下，需要保证侧面最薄镀膜厚度达标，需要消耗更多的时间及镀膜材料，造成镀膜效率低及材料浪费。如图3所示，于本实施例中，待镀膜器件2摆放方向与载具1运动方向所呈角度b大于等于30°且小于等于60°。

本申请通过控制待镀膜器件2的摆放方向，使得待镀膜器件2与载具1运动方向存在一定角度，载具1前后往复运动中四个侧面可以接受到基本相同概率的镀膜原子61，有效降低了器件四个侧面的镀膜厚度差。

如图4所示，于本实施例中，待镀膜器件2通过双面胶层4固定在载具1上，双面胶层4的一个表面与载具1粘接，另一个表面与待镀膜器件2的背面粘接。

实际运用时，可以通过贴片机将待镀膜器件2吸取并放置在双面胶层4的上表面，并可以通过压合机压合待镀膜器件2，压合机可以将待镀膜器件2背面与双面胶层4粘合成一个整体，之间没有缝隙，方便后续镀膜作业，避免出现器件背面的手指渗镀。

实际运用时，双面胶层4需要具备耐高温特性，双面胶层4的基材可以为PI或泡棉等材质。

如图3和4所示，本实施例还公开了一种器件镀膜机构，包括：

镀膜源6；

镀膜轨道3，镀膜轨道3具有相互对接的第一段坡道31和第二段坡道32，第一段坡道31和第二段坡道32均具有高端33和低端34，第一段坡道31的高端33和第二段坡道32的高端33对接，镀膜轨道3的第一段坡道31和第二段坡道32的对接处位于镀膜源6的正下方；第一段坡道31和第二段坡道32均倾斜设置，且相对于水平面的倾斜角度相同；第一段坡道31和第二段坡道32所呈角度大于等于120°且小于180°；

托盘5，托盘5与镀膜轨道3配合，能够在镀膜轨道3上往复移动；

载具1，载具1安装在托盘5上，载具1用于承载待镀膜器件2，载具1上具有双面胶层4，双面胶层4的一个表面与载具1粘接，另一个表面用于与待镀膜器件2的背面粘接。

实施例2

如图5所示，本实施例与实施例1的区别在于，托盘5包括基座51以及转动设置在基座51上的可转动部52，载具1用于安装在可转动部52上，可转动部52具有多个工作位，在不同的工作位，可转动部52相对基座51的转动角度不同。

托盘5这样设置，可以使待镀膜器件2设置在载具1上的方式跟传统镀膜方法相同，无需做更改，待载具1安装在可转动部52时，通过调节可转动部52的位置，也能迅速实现待镀膜器件2摆放方向与载具1运动方向存在一定角度b，优选的，b大于等于30°且小于等于60°。

由于不同器件具有不同的长宽比，对应有不同的摆放方向，多个工作位能够适用不同的器件。

实际运用时，基座51与可转动部52之间具有锁紧结构，通过锁紧结构来将可转动部52定位在对应的工作位上。锁紧结构可以采用现有的多种机构形式，比如锁紧螺栓、弹性卡销等结构。

实际运用时，托盘5还可以包括驱动组件(比如电机组件)，驱动组件用于驱动可转动部52转动，使载具1上待镀膜器件2的摆放方向发生变动，即通过驱动组件实现切换工作位。

以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此即限制本发明的专利保护范围，凡是运用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的保护范围内。

Claims (15)

1.一种器件镀膜方法，其特征在于，包括：

提供载具，将待镀膜器件设置在所述载具上；

提供镀膜轨道和托盘，所述镀膜轨道具有相互对接的第一段坡道和第二段坡道，第一段坡道和第二段坡道均具有高端和低端，第一段坡道的高端和第二段坡道的高端对接，所述托盘与镀膜轨道配合，能够在镀膜轨道上往复移动；

将设置有待镀膜器件的载具安装在托盘上，采用物理气相沉积方式进行镀膜，镀膜轨道的第一段坡道和第二段坡道的对接处位于镀膜源下方，镀膜时，托盘带动载具往复移动，在待镀膜器件的正面和侧面形成镀膜层。

2.如权利要求1所述的器件镀膜方法，其特征在于，所述第一段坡道和第二段坡道均倾斜设置，且相对于水平面的倾斜角度相同。

3.如权利要求2所述的器件镀膜方法，其特征在于，所述第一段坡道和第二段坡道所呈角度a大于等于120°且小于180°。

4.如权利要求1所述的器件镀膜方法，其特征在于，所述待镀膜器件摆放方向与载具运动方向形成一角度b。

5.如权利要求4所述的器件镀膜方法，其特征在于，所述角度b大于等于30°且小于等于60°。

6.如权利要求1所述的器件镀膜方法，其特征在于，所述托盘包括基座以及转动设置在基座上的可转动部，所述载具用于安装在所述可转动部上，所述可转动部具有多个工作位，在不同的工作位，所述可转动部相对基座的转动角度不同。

7.如权利要求1所述的器件镀膜方法，其特征在于，所述待镀膜器件通过双面胶层固定在载具上，所述双面胶层的一个表面与所述载具粘接，另一个表面与待镀膜器件的背面粘接。

8.一种镀膜轨道，其特征在于，具有相互对接的第一段坡道和第二段坡道，第一段坡道和第二段坡道均具有高端和低端，第一段坡道的高端和第二段坡道的高端对接，镀膜轨道的第一段坡道和第二段坡道的对接处用于设置在物理气相沉积设备的镀膜源的正下方。

9.如权利要求8所述的镀膜轨道，其特征在于，所述第一段坡道和第二段坡道均倾斜设置，且相对于水平面的倾斜角度相同。

10.如权利要求9所述的镀膜轨道，其特征在于，所述第一段坡道和第二段坡道所呈角度大于等于120°且小于180°。

11.一种器件镀膜机构，其特征在于，包括：

镀膜源；

镀膜轨道，所述镀膜轨道具有相互对接的第一段坡道和第二段坡道，第一段坡道和第二段坡道均具有高端和低端，第一段坡道的高端和第二段坡道的高端对接，镀膜轨道的第一段坡道和第二段坡道的对接处位于镀膜源的正下方；

托盘，所述托板与镀膜轨道配合，能够在镀膜轨道上往复移动；

载具，所述载具安装在所述托盘上，所述载具用于承载待镀膜器件。

12.如权利要求11所述的器件镀膜机构，其特征在于，所述第一段坡道和第二段坡道均倾斜设置，且相对于水平面的倾斜角度相同。

13.如权利要求12所述的器件镀膜机构，其特征在于，所述第一段坡道和第二段坡道所呈角度大于等于120°且小于180°。

14.如权利要求11所述的器件镀膜机构，其特征在于，所述载具上具有双面胶层，所述双面胶层的一个表面与所述载具粘接，另一个表面用于与待镀膜器件的背面粘接。

15.如权利要求11所述的器件镀膜机构，其特征在于，所述托盘包括基座以及转动设置在基座上的可转动部，所述载具用于安装在所述可转动部上，所述可转动部具有多个工作位，在不同的工作位，所述可转动部相对基座的转动角度不同。

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