CN115598919A - 掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法，该掩膜板组件包括：光强控制掩膜板、图案化掩膜板，所述光强控制掩膜板具有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧，所述图案化掩膜板具有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，其中，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影。可以解决不同分辨率区域曝光不均匀的问题。

Description

掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法。

背景技术

随着新型显示技术的快速发展，器件的高度集成化成为了未来显示科技的新增长点。现有的显示器件中的驱动电路控制系统或信号传输系统等都是集成在印制电路板或覆晶薄膜的芯片上，再绑定连接到玻璃基面板上。若将外挂芯片系统集成在玻璃面板上，则可以很大程度上节省材料成本。因此，开发玻璃基集成电路意义重大。

而玻璃基集成电路就意味着存在分辨率差异较大的不同区域，若采用现有的曝光系统中的曝光条件对集成电路进行曝光时，受曝光量等影响，不同分辨率区域之间容易出现曝光不均匀的问题。

发明内容

本申请实施例提供一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法，可以解决不同分辨率区域曝光不均匀的问题。

一方面，本申请实施例提供一种掩膜板组件，包括：光强控制掩膜板、图案化掩膜板，所述光强控制掩膜板具有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧，所述图案化掩膜板具有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，其中，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影。

可选地，在本申请的一些实施例中，所述光强控制掩膜板还包括第一金属层，所述第一金属层对应所述第二曝光区设置。

可选地，在本申请的一些实施例中，所述光强控制掩膜板还包括第二金属层，所述第二金属层对应所述第一曝光区设置。

可选地，在本申请的一些实施例中，所述第一金属层的厚度大于所述第二金属层的厚度。

可选地，在本申请的一些实施例中，所述光强控制掩膜板还包括围绕所述第一曝光区以及所述第二曝光区的遮光区，所述光强控制掩膜板还包括至少一组第一夹持组件以及第一金属片，所述第一夹持组件设于所述遮光区且位于所述第二曝光区的相对两侧，所述第一夹持组件用于固定所述第一金属片。

可选地，在本申请的一些实施例中，所述光强控制掩膜板还包括至少一组第二夹持组件以及第二金属片，所述第二夹持组件设于所述遮光区且位于所述第一曝光区的相对两侧，所述第二夹持组件用于固定所述第二金属片。

可选地，在本申请的一些实施例中，所述第一金属片的垂直投影覆盖所述第二曝光区的垂直投影，所述第二金属片的垂直投影覆盖所述第一曝光区的垂直投影。

本申请还提供一种曝光系统，包括如上所述的掩膜板组件以及光源，所述光源与所述掩膜板组件对应设置。

另一方面，本申请还提供一种显示面板的制作方法，采用如上所述的曝光系统，所述显示面板的制作方法包括：提供一光强控制掩膜板，所述光强控制掩膜板上设有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；提供一图案化掩膜板，将所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧，所述图案化掩膜板上设有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影。

本申请还提供一种显示面板，采用如上所述的显示面板的制作方法制备而成。

本申请实施例提供一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法，该掩膜板组件用于形成显示面板的驱动电路，所述驱动电路包括间隔设置的第一金属走线以及第二金属走线，所述掩膜板组件包括光强控制掩膜板以及图案化掩膜板，所述光强控制掩膜板设于所述图案化掩膜板远离所述显示面板的一侧；所述光强控制掩膜板具有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；所述图案化掩膜板具有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影；其中，通过所述第一曝光区以及所述第一图案化区域形成所述第一金属走线图案；通过所述第二曝光区以及所述第二图案化区域形成所述第二金属走线图案。该掩膜板组件通过设置层叠的光强控制掩膜板以及图案化掩膜板，可以控制驱动电路中第一金属线图案以及第二金属线图案的曝光量，进而解决不同分辨率区域曝光不均匀的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1a是本申请实施例提供的掩膜板组件中光强控制掩膜板的俯视图之一；

图1b是本申请实施例提供的掩膜板组件中光强控制掩膜板的俯视图之二；

图1c是本申请实施例提供的掩膜板组件中光强控制掩膜板的俯视图之三；

图2a是本申请实施例提供的掩膜板组件中图案化掩膜板的俯视图之一；

图2b是本申请实施例提供的掩膜板组件中图案化掩膜板的俯视图之二；

图2c是本申请实施例提供的掩膜板组件中图案化掩膜板的俯视图之三；

图3是图1a提供的光强控制掩膜板沿AA’方向的剖视图之一；

图4是图1a提供的光强控制掩膜板沿AA’方向的剖视图之二；

图5是图1a提供的光强控制掩膜板沿AA’方向的剖视图之三；

图6是图1a提供的光强控制掩膜板沿AA’方向的剖视图之四；

图7是本申请实施例提供的曝光系统的结构示意图；

图8是本申请实施例提供的显示面板的制作方法的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本申请实施例提供一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法，可以解决显示面板中驱动电路曝光不良的问题。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。另外，在本申请的描述中，术语“包括”是指“包括但不限于”。术语“第一”、“第二”、“第三”等仅仅作为标示使用，其用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。

请参阅图1a至图2c，图1a是本申请实施例提供的掩膜板组件中光强控制掩膜板的俯视图之一；图1b是本申请实施例提供的掩膜板组件中光强控制掩膜板的俯视图之二；图1c是本申请实施例提供的掩膜板组件中光强控制掩膜板的俯视图之三；图2a是本申请实施例提供的掩膜板组件中图案化掩膜板的俯视图之一；图2b是本申请实施例提供的掩膜板组件中图案化掩膜板的俯视图之二；图2c是本申请实施例提供的掩膜板组件中图案化掩膜板的俯视图之三。如图1a至图2c所示，本申请提供一种掩膜板组件100，掩膜板组件100包括光强控制掩膜板10以及图案化掩膜板20，光强控制掩膜板10设于图案化掩膜板20远离显示面板的一侧；光强控制掩膜板10具有间隔设置的第一曝光区11以及第二曝光区12，第一曝光区11的透光率大于第二曝光区12的透光率；图案化掩膜板20设于光强控制掩膜板10远离光源的一侧，图案化掩膜板20具有间隔设置的第一图案化区域21以及第二图案化区域22，第一曝光区11的垂直投影覆盖第一图案化区域21的垂直投影，第二曝光区12的垂直投影覆盖第二图案化区域22的垂直投影。

本申请提供的掩膜板组件100通过设置层叠的光强控制掩膜板10以及图案化掩膜板20，其中，光强控制掩膜板10设有透光率不同的第一曝光区11以及第二曝光区12，当光波经过光强控制掩膜板10时，可将不同分辨率的区域大致分开，且经过第一曝光区11的出射光光强高，经过第二曝光区12的出射光光强低，进而实现有效屏蔽不同精度的区域的不同强度的光衍射效应而导致的光串扰。图案化掩膜板20设有与第一曝光区11对应的第一图案化区域21，以及与第二曝光区12对应的第二图案化区域22，第一图案化区域21的透光率与第二图案化区域22的透光率相同，第一图案化区域21的曝光图案尺寸与第二图案化区域22的曝光图案尺寸不同，当光通过光强控制掩膜板10射入图案化掩膜板20时，即可实现对不同曝光区通过不同的曝光量进行图案化，也即通过不同曝光区域采用不同的曝光条件进行曝光，以控制对不同分辨率区域的曝光量，避免不同分辨率区域曝光不均匀或者工艺窗口过小，解决驱动电路中不同线宽的金属走线曝光不良的问题。

优选地，本申请提供的掩膜板组件100用于形成显示面板的驱动电路，驱动电路包括间隔设置的第一金属走线以及第二金属走线，其中，通过第一曝光区11以及第一图案化区域21形成第一金属走线图案，通过第二曝光区12以及第二图案化区域22形成第二金属走线图案。

需要说明的是，光强控制掩膜板的透光率以及图案化掩膜板的透光率的具体参数可以根据需要进行调整，其中，图案化掩膜板的透光率比光强控制掩膜板的透光率减小10%至70%，本申请在此不作具体限定。

在本申请实施例中，光强控制掩膜板10还包括围绕第一曝光区11以及第二曝光区12的遮光区13，图案化掩膜板20还包括围绕第一图案化区域21以及第二图案化区域22的遮光区23，遮光区23的横截面面积大于遮光区13的横截面面积。需要说明的是，图1a至1c中仅作为示例，第一曝光区11的数量可以是1个，2个或多个；第二曝光区12的数量也可以是1个，2个或多个，第一曝光区11以及第二曝光区12的具体的数量和位置，本领域技术人员可以根据需要进行调整，本申请在此不作具体限定。

在本申请实施例中，第一图案化区域21设有多个间隔设置的第一子曝光区211，第一曝光区11的横截面面积大于或者等于多个第一子曝光区211的横截面面积之和；第二图案化区域22设有多个间隔设置的第二子曝光区221，第二曝光区12的横截面面积大于或者等于多个第二子曝光区221的横截面面积之和。需要说明的是，多个第一子曝光区211以及多个第二子曝光区221可以沿显示面板的长度方向X排布，也可以沿显示面板的宽度方向Y排布，本领域技术人员可以根据需要进行调整，图2a至2c中仅作为示例，具体的排布方向，本申请在此不作具体限定。

在本申请实施例中，第一子曝光区211的横截面形状与第二子曝光区221的横截面形状均包括长条形，且第一子曝光区211的横截面面积小于第二子曝光区221的横截面面积。其中，通过第一曝光区11的出射光穿过第一子曝光区211以形成第一金属走线图案，第一金属走线图案用于形成纳米级的信号走线、电源线等；通过第二曝光区12的出射光穿过第二子曝光区221以形成第二金属走线图案，第二金属走线图案用于形成微米级的应用于驱动芯片中的信号走线等。

具体地，第一子曝光区211的横截面宽度小于或者等于300纳米，第二子曝光区221的横截面宽度大于或者等于2微米。也即，本申请通过采用双层掩膜板叠加，实现了集成电路中同时含有纳米级线宽的第一金属走线以及微米级线宽的第二金属走线，例如，实现了将原本设置在覆晶薄膜芯片上的驱动电路集成在显示面板上，进而很大程度上降低了生产成本，产生了较大的经济效益。

需要说明的是，可以进一步通过控制曝光时间，以控制第一金属走线垂直于显示面板方向的高度小于或者等于300纳米；控制第二金属走线垂直于显示面板方向的高度大于或者等于2微米。

请参阅图3，图3是图1a提供的光强控制掩膜板沿AA’方向的剖视图之一。如图3所示，本申请提供一种掩膜板组件200，掩膜板组件200与掩膜板组件100的区别在于：掩膜板200中光强控制掩膜板10还包括第一金属层14，第一金属层14对应第二曝光区12设置。

具体地，掩膜板200中光强控制掩膜板10包括第一曝光区11、第二曝光区12、围绕第一曝光区11以及第二曝光区12的遮光区13以及第一金属层14，第一金属层14对应第二曝光区12设置。

在本申请实施例中，第一金属层14的材料可以包括金属铬、金属银等，以进一步降低穿过第二曝光区12的曝光能量。

请参阅图4，图4是图1a提供的光强控制掩膜板沿AA’方向的剖视图之二。如图4所示，本申请提供一种掩膜板组件300，掩膜板组件300与掩膜板组件200的区别在于：光强控制掩膜板10还包括第二金属层15，第二金属层15对应第一曝光区11设置。

具体地，掩膜板300中光强控制掩膜板10包括第一曝光区11、第二曝光区12、围绕第一曝光区11以及第二曝光区12的遮光区13、第一金属层14以及第二金属层15，第一金属层14对应第二曝光区12设置，第二金属层15对应第一曝光区11设置。

在本申请实施例中，第一金属层14与第二金属层15的材料可以相同，也可以不相同，第一金属层14以及第二金属层15的材料均可以包括金属铬、金属银等，以进一步降低穿过第一曝光区11以及第二曝光区12的曝光能量。

在本申请实施例中，第一金属层14的厚度大于第二金属层15的厚度。这样的设计，使得穿过第二曝光区12的曝光能量进一步降低，保证光强控制掩膜板10的不同曝光区的透光性不同，因此，能够在一次掩膜工艺中，显示面板的不同区域实现不同程度的曝光，进而实现纳米级第一金属走线以及微米级第二金属走线等不同线宽走线，简化制备工艺的同时解决高、低分辨率区域的曝光不良问题。

请参阅图5，图5是图1a提供的光强控制掩膜板沿AA’方向的剖视图之三。如图5所示，本申请提供一种掩膜板组件400，掩膜板组件400与掩膜板组件100的区别在于：光强控制掩膜板10还包括至少一组第一夹持组件16以及第一金属片17，第一夹持组件16设于遮光区13且位于第二曝光区12的相对两侧，第一夹持组件16用于固定第一金属片17。

具体地，掩膜板400中光强控制掩膜板10包括第一曝光区11、第二曝光区12、围绕第一曝光区11以及第二曝光区12的遮光区13、至少一组第一夹持组件16以及第一金属片17，第一夹持组件16设于遮光区13且位于第二曝光区12的相对两侧，第一夹持组件16用于固定第一金属片17。具体地，第一夹持组件16的数量可以根据需要进行调整，第一金属片17的数量也可以是沿水平方向排布或垂直方向排布的多片，本申请在此不作具体限定。

优选地，第一夹持组件16为一组，第一夹持组件16的横截面宽度大于第二曝光区12的横截面宽度，对应的，第一金属片17的垂直投影覆盖第二曝光区12的垂直投影。这样的设计，有利于在降低第二曝光区12的曝光能量的同时，减少工艺操作，降低生产成本。

在本申请实施例中，第一金属片17的材料可以包括金属铬、金属银等，以进一步降低穿过第二曝光区12的曝光能量。

请参阅图6，图6是图1a提供的光强控制掩膜板沿AA’方向的剖视图之四。如图6所示，本申请提供一种掩膜板组件500，掩膜板组件500与掩膜板组件400的区别在于：光强控制掩膜板10还包括至少一组第二夹持组件18以及第二金属片19，第二夹持组件18设于遮光区13且位于第一曝光区11的相对两侧，第二夹持组件18用于固定第二金属片19。

具体地，掩膜板500中光强控制掩膜板10包括第一曝光区11、第二曝光区12、围绕第一曝光区11以及第二曝光区12的遮光区13、至少一组第一夹持组件16、第一金属片17、至少一组第二夹持组件18以及第二金属片19，第一夹持组件16设于遮光区13且位于第二曝光区12的相对两侧，第一夹持组件16用于固定第一金属片17；第二夹持组件18设于遮光区13且位于第一曝光区11的相对两侧，第二夹持组件18用于固定第二金属片19。具体地，第二夹持组件18的数量可以根据需要进行调整，第二金属片19的数量也可以是沿水平方向排布或垂直方向排布的多片，本申请在此不作具体限定。

优选地，第二夹持组件18为一组，第二夹持组件18的横截面宽度大于第一曝光区11的横截面宽度，对应的，第二金属片19的垂直投影覆盖第一曝光区11的垂直投影。这样的设计，有利于在降低第一曝光区11的曝光能量的同时，减少工艺操作，降低生产成本。

在本申请实施例中，第一金属片17与第二金属片19的材料可以相同，也可以不相同，第一金属片17以及第二金属片19的材料均可以包括金属铬、金属银等，以进一步降低穿过第一曝光区11以及第二曝光区12的曝光能量。

在本申请实施例中，第一金属片17的厚度大于第二金属片19的厚度。这样的设计，使得穿过第二曝光区12的曝光能量进一步降低，保证光强控制掩膜板10的不同曝光区的透光性不同，因此，能够在一次掩膜工艺中，显示面板的不同区域实现不同程度的曝光，进而实现纳米级第一金属走线以及微米级第二金属走线等不同线宽走线，简化制备工艺的同时解决高、低分辨率区域的曝光不良问题。

请参阅图7，图7是本申请实施例提供的曝光系统的结构示意图。如图7所示，本申请还提供一种曝光系统600，包括如上的掩膜板组件100以及光源610，其中，掩膜板组件100包括光强控制掩膜板10以及图案化掩膜板20，光源610与掩膜板组件100相对设置，具体地，光源610设于光强控制掩膜板10远离待曝光器件620，例如显示面板的一侧。

在本申请实施例中，可以采用接近式曝光方式，光源可以为紫外光，波长范围为300-400nm。也可以采用其他的曝光方式，如投影式曝光或接触式曝光，图4中示例性的示出一层光强控制掩膜板10以及一层图案化掩膜板20，掩模版的参数及堆叠层数可以根据实际需要设，本申请在此不做具体限定。

另一方面，请参阅图8，图8是本申请实施例提供的显示面板的制作方法的流程示意图。如图1a、图2a、图4、图6以及图8所示，本申请还提供一种显示面板的制作方法，采用如上的曝光系统，显示面板的制作方法包括：

S10、提供一光强控制掩膜板10，光强控制掩膜板10上设有间隔设置的第一曝光区11以及第二曝光区12，第一曝光区11的透光率大于第二曝光区12的透光率。

在本申请实施例中，光强控制掩膜板10还包括围绕第一曝光区11以及第二曝光区12的遮光区13，图案化掩膜板20还包括围绕第一图案化区域21以及第二图案化区域22的遮光区23，遮光区23的横截面面积大于遮光区13的横截面面积。

在本申请实施例中，光强控制掩膜板10还包括第一金属层14，和/或，第二金属层15。作为具体的实施例，光强控制掩膜板10还包括至少一组第一夹持组件16、第一金属片17、至少一组第二夹持组件18以及第二金属片19，第一夹持组件16设于遮光区13且位于第二曝光区12的相对两侧，第一夹持组件16用于固定第一金属片17；第二夹持组件18设于遮光区13且位于第一曝光区11的相对两侧，第二夹持组件18用于固定第二金属片19。

在本申请实施例中，第一金属层14/第一金属片17的厚度大于第二金属层15/第二金属片19的厚度。

S20、提供一图案化掩膜板20，将图案化掩膜板20设于光强控制掩膜板10远离光源的一侧，图案化掩膜板20上设有间隔设置的第一图案化区域21以及第二图案化区域22，第一曝光区11的垂直投影覆盖第一图案化区域21的垂直投影，第二曝光区12的垂直投影覆盖第二图案化区域22的垂直投影。

在本申请实施例中，第一图案化区域21设有多个间隔设置的第一子曝光区211，第一曝光区11的横截面面积大于或者等于多个第一子曝光区211的横截面面积之和；第二图案化区域22设有多个间隔设置的第二子曝光区221，第二曝光区12的横截面面积大于或者等于多个第二子曝光区221的横截面面积之和。

在本申请实施例中，第一子曝光区211的横截面形状与第二子曝光区221的横截面形状均包括长条形，且第一子曝光区211的横截面面积小于第二子曝光区221的横截面面积。具体地，第一子曝光区211的横截面宽度小于或者等于300纳米，第二子曝光区221的横截面宽度大于或者等于2微米。

另一方面，本申请还提供一种显示面板，采用如上的显示面板的制作方法制备而成。具体地，显示面板包括第一金属走线以及第二金属走线，其中，第一金属走线以及第二金属走线可以为圆柱形或方形，以圆柱形为例，第一金属走线的横截面直径小于或者等于300纳米，第二金属走线的横截面直径大于或者等于2微米。

本申请实施例提供一种掩膜板组件100及曝光系统、显示面板及其制作方法，该掩膜板组件100通过设置层叠的光强控制掩膜板10以及图案化掩膜板20，可以控制驱动电路中第一金属线图案以及第二金属线图案的曝光量以及曝光时间，进而解决显示面板中驱动电路曝光不良的问题。

以上对本申请实施例所提供的一种掩膜板组件及曝光系统、显示面板及其制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (10)

1.一种掩膜板组件，其特征在于，包括：

光强控制掩膜板，所述光强控制掩膜板具有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；

图案化掩膜板，所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧，所述图案化掩膜板具有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，其中，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影。

2.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，所述光强控制掩膜板还包括第一金属层，所述第一金属层对应所述第二曝光区设置。

3.根据权利要求2所述的掩膜板组件，其特征在于，所述光强控制掩膜板还包括第二金属层，所述第二金属层对应所述第一曝光区设置。

4.根据权利要求3所述的掩膜板组件，其特征在于，所述第一金属层的厚度大于所述第二金属层的厚度。

5.根据权利要求1所述的掩膜板组件，其特征在于，所述光强控制掩膜板还包括围绕所述第一曝光区以及所述第二曝光区的遮光区，所述光强控制掩膜板还包括至少一组第一夹持组件以及第一金属片，所述第一夹持组件设于所述遮光区且位于所述第二曝光区的相对两侧，所述第一夹持组件用于固定所述第一金属片。

6.根据权利要求5所述的掩膜板组件，其特征在于，所述光强控制掩膜板还包括至少一组第二夹持组件以及第二金属片，所述第二夹持组件设于所述遮光区且位于所述第一曝光区的相对两侧，所述第二夹持组件用于固定所述第二金属片。

7.根据权利要求6所述的掩膜板组件，其特征在于，所述第一金属片的垂直投影覆盖所述第二曝光区的垂直投影，所述第二金属片的垂直投影覆盖所述第一曝光区的垂直投影。

8.一种曝光系统，其特征在于，包括如权利要求1-7中任一项所述的掩膜板组件以及光源，所述光源与所述掩膜板组件对应设置。

9.一种显示面板的制作方法，其特征在于，采用如权利要求8所述的曝光系统，所述显示面板的制作方法包括：

提供一光强控制掩膜板，所述光强控制掩膜板上设有间隔设置的第一曝光区以及第二曝光区，所述第一曝光区的透光率大于所述第二曝光区的透光率；

提供一图案化掩膜板，将所述图案化掩膜板设于所述光强控制掩膜板远离光源的一侧，所述图案化掩膜板上设有间隔设置的第一图案化区域以及第二图案化区域，所述第一曝光区的垂直投影覆盖所述第一图案化区域的垂直投影，所述第二曝光区的垂直投影覆盖所述第二图案化区域的垂直投影。

10.一种显示面板，其特征在于，采用如权利要求9所述的显示面板的制作方法制备而成。

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