CN1155346A - 制造磁记录介质时可磁化层的差速凹版涂敷 - Google Patents

Abstract

借助凹版涂敷法可将一可磁化层高速涂敷于一柔性基底带(14)上，方法是以显著不同于凹版辊(12)的表面速度的速度独立地驱动基底带。当凹版辊(12)旋转的速度与基底带(14)的前进方向相反时获得了特别高的涂敷速度。在一个实施例中，一个挤压辊(34)压迫基底带(14)使之紧靠支持辊(15，30)，一个间隙存在于凹版辊(12)和支持辊(15，30)之间，而一个托轮(17)安置在间隙的下游区域以强制基底带(14)与凹版辊(12)在一小段弧面上接触。当该支持辊(30)具有像金属之类的硬表面时，其表面可以精密机加工，且虽暴露于溶剂蒸汽中仍能保持其精密度。

Description

制造磁记录介质时可磁化层的差速凹版涂敷

本发明主要涉及使用凹版涂敷法涂敷可磁化层以制造磁记录介质的方法和装置。

多数磁记录介质的可磁化层为可磁化微粒用有机粘合剂(binder)粘合而成的涂层。可磁化涂层应具均匀厚度，一般小于1.0mil(25μm)，且应无瑕疵，诸如针孔、划痕以及颗粒聚集体。涂层的涂敷可以采用如Perrington等人的美国专利No.3,761,311所示之凹版直接涂敷机，其图1示出“一容器10连续提供可磁化微粒及粘合剂的分散体11。此分散体被刻有细沟的凹版辊12所拾取，又被刮板13所刮擦，因而基本上辊子上只剩下沟里所留存的物料。分散体受到辊14的挤压而与运动速度和方向与辊12相同的未经涂敷的基底元件15相接触，并被转移于其上，如箭头16所示。在挥发性载体蒸发以前，涂层的滚花图案已被柔性刮板17所刮匀。经涂敷的基底元件于是经过一对磁性棒18，以使可磁化微粒物理上排列整齐，然后前进至加热炉19，将涂层烘干”(第4栏65行直至第5栏4行)。

在Perrington的专利中，凹版辊同时驱动基底元件(以下称为“基底带”)和支持辊(在Perrington的专利中称为“橡胶辊14”)，而可磁化分散体则将凹版辊的格子花纹以镜面映像形式转移到基底带上。在所引述的Perrington专利中花纹被称为“滚花花纹”，是因为凹版辊子的格子花纹常用滚花的方法加工，虽然也有其他技术，如蚀刻法。

虽然Pulkrabek等人在《化学工程科学(Chemical EngineeringScience)》1983年38卷第8期1309-1314页发表的文章“用于稳定的旋转凹版涂敷的滚花辊设计”未曾提及磁记录介质，但给出了有关如何设计凹版辊以便使用高粘度流体如着色粘合剂进行直接凹版敷层的有用资料。本专利的发明人之一就是Pulkrabek文章的联合著者之一。

据Pulkrabek的文章报道，他们测试了大量的凹版辊，其花纹格子之螺旋角为30°-90°，齿角53°-117.5°，而螺距5-39沟/cm.尽管有偌大的变化范围，转移的流体体积(转印率)一致地达到沟槽体积的59％。为了获得均匀涂层而基本上没有针孔和划痕之类的缺陷，就要求有适当的或者说稳定的转印率，而要获得稳定的转印率，凹版辊上每条沟中的流体就应作为一整条流体纹脊进行转印，如图3所示。如果“滚花辊涂层线的频率”或称“外加成肋频率”与流体在同一湿涂层厚度下的“自然成肋频率”相匹配，这是可以做到的。为了获得一种流体的“自然成肋频率”，要用一个涂层辊或者散布器在特定的间隙高度之下将流体沉积到一运动中的带上，上述特定间隙高度使每单位面积上流过的流体体积等于一凹版辊所放出的体积。当带的速度提高时，每单位宽度上自然生成的肋条数也随之增加，最后渐近地趋于一极大值。该极大值即此流体的自然成肋频率。

Pulkrabek的文章说明了“外加成肋频率”通过将凹版辊的沟距乘以螺旋角的正弦求得。此处将外加成肋频率与自然成肋频率之比率称为“成肋比率”或“RR”。Pulkrabek的文章说到适宜的或稳定的转印率要求RR接近一。当带由凹版辊驱动时，必须密切控制凹版辊的这个和其他参数，以便得到高粘度流体的均匀涂层。

稳定的转印率既可是“合并的”(即涂层的相邻脊是由所涂敷的分散体互相连接的)，又可是“分开的”(即涂层的相邻脊是分开的)。不管是合并的还是分开的，可磁化微粒分散体的脊都因粘度太大而无法自动变平，因而在使其干燥前，必须将其刮匀。虽然分开的转印也可以刮匀，但当转印为合并的时，刮匀步骤的效果更好。

虽然当基底带用凹版辊以高达约400ft/min(122m/min)的速度驱动时可获得优质可磁化层，但在较高的涂敷速度下会遇到下列问题：1)填充和填匀沟道的困难；2)飞雾(misting)；3)不能得到稳定的合并转印；4)对于非常薄的基底带有纵向折皱的趋势，导致涂层厚度不匀。另外，在基底带的速度约为400ft/min(122m/min)时，已不可能涂敷小于0.08mil(2μm)的干厚度。

虽然上述对比文献每篇都涉及由凹版辊驱动基底带的凹版涂敷法，但至少自从Witt发表“反向凹版…第一部分”的文章(《纸、膜与箔转换器(Paper，Film & Foil Convertor)》卷51，1977年8月，41～43页)以来，反向凹版涂敷法已为人所知。Witt的文章未提及磁记录介质，但提及PVDC(聚偏二氯乙烯)的水分散体的涂敷。Witt说以前这样的分散体主要用空气刀涂敷，且在110～130m/min速度时发生飞雾，而在反向凹版涂敷中未遇到这问题。Witt说为了获得质量良好的涂层，凹版(涂敷器)辊应至少转动得同带一样快(43页左栏)。又参见Witt：“反向凹版…第二部分”(《纸、膜与箔转换器》卷51，1977年9月，51～53页)。

Benkreira等在“低粘度液体的凹版辊涂敷”(《JOCCA国际表面涂层杂志(Surface Coatings International JOCCA)》，卷75第7期，1992年7月，261～268页)中也讨论了反向凹版涂敷。Benkreira的文章发表了第一组具有速比为1(在凹版涂敷中为-1.0)的实验和第二组具不同速比的实验，速比变化是在保持凹版辊的速度为0.83m/s下改变基片速度而实现的(264页，左栏)。

以下是两篇有关反向凹版涂敷法的文章：Patel等，“牛顿流体的凹版涂敷”(《化学工程科学(Chemical Engineering Science)》，卷46第3期，1991年，751～756页)；和Benkreira等，“直接凹版辊涂敷”(《化学工程科学》，卷48第12期，1993年，2329～2335页)。虽然两文的第一段都提及“音、像、计算机磁带”的涂层厚度，但并未进一步谈及这样的磁带的涂层。两篇文章都只考虑牛顿流体，而可涂敷的可磁化微粒和粘合剂的分散体是非牛顿流体。

本发明避免了上述问题，并可使可磁化微粒和粘合剂的流体分散体用凹版涂敷法转移至柔性长带状基底带上，带的速度明显大于当由凹版辊驱动基底带所曾用的适宜速度，这使制造价格大大降低。这些改进通过下述措施完成：

a)连续向匀速转动的凹版辊的细沟提供可磁化微粒和粘合剂的流体分

散体；

b)独立地以纵向匀速驱动柔性基底带，此速度与凹版辊的表面速度不

同；

c)强制基底带与载有分散体的凹版辊接触，以转移湿分散体的涂层至

基底带。由于凹版辊和基底带的表面速度不同，本发明称这种方法为“差速”凹版涂敷。最大的表面速度差发生在凹版辊旋转方向与基底带前进方向相反时的反向凹版涂敷中。此处将凹版辊和基底带的表面速度比称为“速比”。反向凹版涂敷期间速比是负值。

在正值的速比小于一时，凹版辊的表面速度最好减小至不发生飞雾的水平。无论凹版辊运动多快，反向凹版涂敷不会发生飞雾。

无论是正向或反向凹版涂敷，减小凹版辊的表面速度都会降低辊的磨损，从而延长凹版辊的寿命。而且这使其易于填充和刮平沟纹而获得凹版沟纹的均匀加料。因此，涂层趋于改善均匀度。

与用凹版辊驱动基底带相比，差速凹版涂敷(包括正向和反向)还有三个优点：(1)当基底带以高速前进时，可获得稳定的合并转印；(2)在凹版辊的速度低至足以使细沟加料均匀且辊子寿命长的情况下，可获得高的涂敷速度；(3)只要通过改变速比即可得到显著不同的均匀厚度的干涂层，从而允许不重新设计凹版辊而得到相当范围内不同厚度的涂层。

在正向差速凹版涂敷中，凹版辊的螺旋角最好为60°～80°。当螺旋角显著大于80°时，涂层难以弄平。而不低于60°的螺旋角则比低于此值的螺旋角可产生更大速比范围的稳定的合并转印。

与正向差速凹版涂敷相比，反向凹版涂敷实际上在使用任何凹版辊、任何涂敷速度和从-0.3到-2.0的任何速比的条件下都能提供稳定的合并转印效果。用螺旋角自90°至接近0°的凹版辊都可得到稳定的合并转印效果，但螺旋角以30°-60°为较好，因在此范围之外则必须密切控制其他参数才能得到稳定的合并转印效果。而且，30°-60 °的螺旋角较之此较佳范围外的螺旋角在制造上更容易且更经济。如凹版辊的螺旋角在此较佳范围内，在反向凹版涂敷中所得的合并转印的脊和谷，比起基底带由凹版辊驱动时，或比起正向差速凹版涂敷时所能得的(脊和谷)，更接近相同的厚度，因而更易于弄平。

在正向差速凹版涂敷中，较好的速比为0.3～0.9或1.1～2.0，更好的为0.6～0.8。在速比为0.3～0.6时，除慢涂敷速度外，通常可得稳定的分开转印效果，而当速比大于0.6时，在任何涂敷速度下通常均导致合并转印效果。与反向凹版涂敷相比，正向差速凹版涂敷在刮平时更能适应凹版辊的变化。

一般说，与用凹版辊驱动基底带法相比，差速凹版涂敷法允许在设计用于涂敷可磁化涂层的凹版辊中有更大的允许误差。当用凹版辊驱动基底带时，为达到合并转印效果，有时已有必要使沟脊宽度小至其很快被涂层分散体的摩蚀性所损坏。对比之下，在差速凹版涂敷法中，为提供稳定的合并转印效果而使用的凹版辊可以具有的沟脊宽度，大于用凹版辊驱动基底带法时(为达到同样转印效果凹版辊可具有)的沟脊宽度。沟脊宽度以3～30mil(75～750μm)为较好，而6～20mil(150～500μm)则更好。当沟脊宽度在上述优选的范围内时，凹版辊会具有相当长的使用寿命，且其所转印的涂料易于弄平。

差速凹版涂敷法产生的涂敷速度远大于前述的由凹版辊驱动基底带时的约400ft/min(122m/min)的极限速度。与正向差速凹版涂敷法相比，反向凹版涂敷法甚至允许还要高的速度。

反向凹版涂敷法产生均匀的涂层，其厚度大大薄于用凹版辊驱动基底带所得的涂层，即：对比于曾用凹版辊驱动基底带时可达到的涂层最小干厚度为0.08mil(2μm)，前者的可磁化涂层的干厚度仅为0.01mil(0.25μm)。

本说明书中所有的图都是简图，其中包括：

图1是按本发明的一个差速凹版涂敷装置的正视图，该装置能将可磁化微粒和粘合剂的分散体连续地转移到一柔性基底带上；

图2是沿图1的2-2线的剖视图；

图3是本发明的一台第二种差速凹版涂敷装置的局部正视图；

图4是沿图3的4-4线的剖视图；

图5是本发明的一台第三种差速凹版涂敷装置的局部正视图；

图6～8各表示在一种差速凹版涂敷条件下不同速比对干涂层厚度的影响。

参考图1，凹版涂敷器的料斗10连续提供可磁化微粒和粘合剂的流体分散体11。分散体11被拾取至凹版辊12的细沟纹中，凹版辊12可像双向箭头12a指示的那样被顺时针或反时针驱动。当顺时针驱动凹版辊时，由刮板13刮擦此辊，因而基本上只剩下沟纹中所容纳的物料。当反时针驱动此子时，刮板将移至虚线13a所示位置，此处示出的是刮板的收起位置。

将柔性基底带(backing web)14绕支持辊15送入，该辊之表面具有柔性，且该辊依箭头15a的方向被独立驱动。通过移动支持辊和/或凹版辊至互相接触的状态，迫使基底带与载有分散体的凹版辊接触。这样动作的力最好使支持辊稍微变形，但其大小应不至于减慢凹版辊或支持辊的旋转速度。湿分散体涂层16自凹版辊转移至基底带，当基底带从凹版辊12和支持辊15之间碾出时，大体上是作水平运动。如图所示，支持辊可通过装置61移动，以保持支持辊15和凹版辊12间的间隙。此保持装置61亦可调节和增大间隙。

其次，基底带未涂敷的面与引出惰辊17相接触，其位置可由装置62进行铅垂调节，以调节引出惰辊17的位置而提供一个变化范围自-20°至20°的引出角α，此角是以凹版辊与支持辊的连心线的垂线为基准，量至引出的基底带所得的角。在挥发性稀释料大量蒸发前，湿涂层16被具有一块矩形柔性膜20的刮刀组件19刮平，膜20拖在刮刀后面，覆盖在湿涂层上。已涂敷的基底带经过一对磁棒22，从而使可磁化微粒物理上排列整齐，且由一拉辊23以恒速超速驱动基底带，从而产生基底带的反张力。然后基底带经一加热炉24，以干燥涂层。

如在图2中所见，支持辊15在每端有一切口26，基底带14宽于处在两切口之间的圆柱表面的长度。由于反张力，基底带14的两边缘28从凹版辊被拉进切口空间，因而不接触湿分散体。如果已涂敷的基底带没有未涂敷的边缘，则一些湿分散体在被柔性膜20抹平时会被驱赶到柔性膜未涂敷的面，并转移到下游各辊。

图3和4的装置与图1和2装置的不同点为：(1)支持辊30位于凹版辊12的上游，且其表面可以是硬的或是柔性的；(2)在支持辊与凹版辊间有一间隙32；(3)一个挤压辊34将基底带14压向支持辊，从而确保支持辊以其表面速度驱动基底带；(4)将引出惰辊17的位置设置得迫使基底带与凹版辊12以短弧相接触。如支持辊30的表面是硬的，挤压辊34具有柔性表面；而如支持辊的表面是柔性的，则挤压辊具有硬表面。

当基底带的厚度薄时，即小于1.0mil(25μm)，间隙32应小，较好为2～50mil(50～1250μn)，更好为小于20mil(500μm)，以使基底带在一离开支持辊后立即与装有分散体的凹版辊相接触。狭小的间隙对薄基底带纵向起皱的倾向具反作用，因而在从凹版辊转移湿分散体时能保持其平整。

具有硬表面，最好是金属表面的支持辊至少有两条优点。第一，它可比柔性辊以更高的精密度进行机加工，从而在转移分散体时提高薄基底带的平整度。第二，硬支持辊虽暴露于分散体-溶剂的蒸汽之中，仍能保持其精密表面，此时如为柔性支持辊则会膨胀或以其他形式损坏。

图3和4的装置可含有用于短瞬间增大间隙32(最好通过收起引出托轮17)的设备(未示出)，以使接头部位不经涂敷而通过辊子。这样做有以下几个优点：

(1)间隙狭小时接头可能产生飞溅污染；

(2)在接头处的涂层是不均匀的，且任何非寻常的增厚涂层会变松脱，

例如当不能适当地干燥时就是如此，而这又会导致污染；

(3)如欲丢弃接头部位，浪费较少。当接头部位不涂敷时，刮平组件19最好在遇到接头时处于收起位置。不然未涂敷的基底带14与柔性膜20间的接触会将柔性膜从其安装处拉出。

由图4可见，在支持辊30两端各有一切口，形成锥面36；支持辊圆柱表面长度较基底带14的宽度小。基底带上的反张力将其边缘38拉向锥面，以使边缘保持不涂敷。锥面36还保持基底带平整，此功能在图1和图2的装置中不需要，因其中支持辊15和凹版辊12间的压力使基底带保持平整。锥面相对于支持辊的轴线的锥角以5～30°为好，10～20°更好。

在图5的装置中，将柔性基底带14先  绕过输入惰辊40和引出惰辊17，两辊中至少有一个可以移动，以迫使基底带以短弧与凹版辊相靠。和图1中一样，基底带被拉辊23以恒速超速驱动，且由牵引/挤压辊组件45保持反张力，从而保持基底带牢固地与凹版辊相靠。柔性基底带应具有适当的刚度和抗张强度，以能无折皱地经受住反张力。为此，厚度小于1或2mil(25或50μm)的基底带最好在图1、2或图3、4的装置中涂敷，这两装置中的反张力可比图5装置中的低。

基底带的宽度小于凹版辊的沟纹区长度，以便可涂敷基底带的全宽度。由于全宽度的涂层在刮平时难免把湿分散体扩展到导辊上，分散体应是不刮自平的。但当惰辊40或17具有锥面边缘，而基底带的边缘行经此锥面时，则基底带可有无涂敷的边缘。

在图5的装置中，可将输入惰辊40由图示位置移至靠近凹版辊(可与图3、4中支持辊30的位置相近的位置)，且亦可将引出惰辊17移至靠近凹版辊。

图5的装置与图3、4的装置不同之处在于：(1)用输入惰辊40代替被动的支持辊30；(2)由牵引/挤压辊组件45代替被动的支持辊30和挤压辊34保持基底带的反张力；(3)删去图3、4中的被动支持辊30和刮平装置19。由于删去零部件，图5之装置在制造、运转和维修方面较图3、4之装置经济。

在图5的装置中，接头可凭借瞬间抽回惰辊40或17而无涂敷地通过。

图1至5的每种装置都提供正向和反向差速凹版涂敷。在正向和反向两者中，速比的变化都导致不同的涂层厚度。图解结果示于图6至8中。

参看图6，曲线50和52表示干涂层厚度与速比的关系。曲线是在使用螺旋角各为45°和80°的凹版辊时观察求得的，在正向差速凹版涂敷中，采用图1、2的装置。每条曲线的实线部分指示获得稳定合并转印效果的范围。

在图7中，曲线55表示干涂层厚度和速比的关系。曲线是在图1、2的装置上的反向差速凹版涂敷中观察求得的。在曲线的全长范围内获得了稳定的合并转印效果。

在图8中，曲线58表示干涂层厚度和速比的关系。曲线是在图5的装置上进行反向差速凹版涂敷时观察求得的。在曲线58的全长范围内获得了稳定的合并转印效果。

如图6、7、8各图所示，仅仅通过改变速比，即可在差速凹版涂敷中得到均匀的不同厚度的干涂层，因而允许用给定的凹版辊得到不同厚度的涂层。但如果干涂层厚度变化很大，也许需要换一根凹版辊以改变辊子的其他因素，如齿角、螺距和沟脊宽度。

在本发明的差速凹版涂敷中，齿角以70°～140°为好，而螺距以5～250沟/英寸(2～100沟/cm)为好。如齿角明显小于70°或沟的螺距大于250沟/英寸(100沟/cm)，则流体的分散体可能转印不均匀，特别是当其粘度高时。而且，较大的齿角容易清洁。另一方面，在齿角显著地大于140°时则难于制得精密的沟。理想的齿角为100～120°。

虽然由凹版辊驱动基底带时成肋率很重要，但在差速凹版辊涂敷中重要性很小，而在反向凹版涂敷中几无重要性。16-3

实例1

将图1和2的装置用于以正向差速凹版涂敷将可磁化涂层涂敷于柔性基底带上，基底带含有双轴定向聚对苯二甲酸乙酯薄膜，其厚度为0.56mil(14μm)，宽度为12.5英寸(31.8cm)。支持辊15在切口26间的圆柱表面长度为12.375英寸(31.4cm)。每个切口的深度为0.125英寸(0.3cm)。凹版辊的显著特征是：

直径      10英寸(25cm)

宽度      20英寸(50cm)

螺旋角    45°

螺距      50沟/英寸(19.7沟/cm)

沟脊宽度  3.4mil(86μm)

齿角      115°连续供给凹版辊的物料是针状Fe₂O₃微粒在聚氨基甲酸乙酯粘合剂的甲基乙基酮溶液〕中的分散体。分散体的固含量为38％而在10000sec^-1剪切速率下的粘度为20cps。敷层装置包括一钢刮板以便从沟脊刮下分散体。

当基底带以1000ft/min(305m/min)速度前进时，通过改变凹版辊的表面速度以不同速比涂敷若干涂层。每一种涂层都被刮平、磁定向和干燥，以提供均匀厚度的可磁化层。将不同速比下各可磁化层的厚度作图，得图6中曲线50。无论在显微镜下检查或将其用于录放信息，每一种可磁化层实际上都无缺陷。

实例2

将图1和图2的装置用于涂敷可磁化涂层，采用与实例1相同的方式通过正向差速凹版涂敷，但凹版辊的螺旋角为80°，而齿角为120°。将不同速比下各可磁化层的厚度作图，得图6中曲线52。

实例3

通过反向凹版涂敷，将图1和图2的装置用于涂敷可磁化涂层于与实例1相同的柔性基底带上。凹版辊的显著特征是：

直径      10英寸(25cm)

宽度      20英寸(50cm)

螺旋角    45°

螺距      40沟/英寸(15.7沟/cm)

沟脊宽度  13.8mil(350μm)

齿角      90°涂敷作业按照实例1的步骤进行，但分散体的固含量为34％，在10000sec^-1剪切速率下的粘度为15cps，且基底带以1000ft/min(305m/min)的速度前进。将不同速比下各可磁化层的厚度作图，得图7中曲线55。

实例4

通过反向凹版涂敷，将图5的装置用于涂敷可磁化涂层于与实例1相同的柔性基底带上。基底带与凹版辊的接触弧约为3～6°。凹版辊的显著特征是：

直径      10英寸(25cm)

宽度      20英寸(50cm)

螺旋角    45°

螺距      160沟/英寸(63沟/cm)

沟脊宽度  2.8mil(71μm)

齿角      70°涂敷作业按照实例1的步骤进行，但分散体的固含量为15％而在10000sec^-1剪切速率下的粘度为14cps，且基底带以500ft/min(150m/min)的速度前进。将不同速比下各可磁化层的厚度作图，得图8中曲线58。

权利要求书

按照条约第19条的修改

1.一种装置，用于涂敷可磁化微粒和粘合剂的流体分散体于纵向前进的柔性长带状基底件14上，以生产磁记录介质的可磁化层，所述装置包括：

a)一个凹版辊12，

b)以恒速转动凹版辊的装置，

c)连续提供可磁化微粒与粘合剂的流体分散体至正在旋转的凹版辊12的装置10，

d)具有一个非柔性表面的支持辊30，

e)以恒速独立转动支持辊的装置，所说恒速与凹版辊的表面速度无关，

f)一柔性挤压辊34，其位置决定于保证基底件14与位于凹版辊12之上游的支持辊30相靠的需要，而使支持辊30能以其表面速度驱动基底件14，

g)与支持辊30和凹版辊12中至少一个相连接的保持间隙的装置，用以保持支持辊30和凹版辊12之间的间隙，及

h)强制基底件14以一弧面与凹版辊12相接触并使流体分散体从凹版辊12转移至基底件14的强制装置。

2.如权利要求1所述的装置，其特征为：所述保持间隙的装置能将间隙保持在50与1250μm之间。

3.如权利要求1或2所述的装置，其特征为：所述强制装置包括一个位于凹版辊12的下游的引出惰辊17，和调节引出惰辊17位置、使引出角α的数值可在正负20°之间变化的装置；角α是以凹版辊12与支持辊30的连心线的垂线为基准，量至引出的基底带所得的角。

4.如权利要求3所述的装置，其特征为：所述用于调节引出惰辊17位置的装置可以调节而强使基底件14与凹版辊12以3°至6°的弧面相接触。

5.如权利要求1至4中之一条所述的装置，其特征为：支持辊的每端具有锥面36。

6.如权利要求5所述的装置，其特征为：锥面与支持辊30的轴线成5°至30°的角。

7.如权利要求1至7中之一所述的装置，其特征在于：它还包括一在凹版辊12下游的拉辊23和超速驱动拉辊的装置，以便在基底件14中建立足够的反张力，以保持其牢固地靠在凹版辊12上。

8.一种装置，用于涂敷可磁化微粒和粘合剂的流体分散体于纵向前进的柔性长带状基底件14上，以生产磁记录介质的可磁化层，所述装置包括：

a)一个凹版辊12，

b)以恒速转动凹版辊12的装置，

c)连续提供可磁化微粒与粘合剂的流体分散体至正在旋转的凹版辊的装置10，

d)具有非柔性表面的一个支持辊15，30，

e)以恒定的表面速度独立转动支持辊15，30的装置，所述恒定的表面速度与凹版辊12的表面速度无关，

f)一柔性挤压辊34，其位置决定于保证基底件14与位于凹版辊12之上游的支持辊15，30相靠的需要，而使支持辊15，30能以其表面速度驱动基底件14，

g)与支持辊15，30和凹版辊12中至少一个相连接的装置，用以保持支持辊15，30和凹版辊12之间的间隙，也为了增加支持辊和凹版辊间的间隙，而使接头不涂敷地通过，及

h)强制基底件14以一弧面与凹版辊12相接触并使流体分散体从凹版辊12转移至基底件14的装置。

Claims (8)

1.一种装置，用于涂敷可磁化微粒和粘合剂的流体分散体于纵向前进的柔性长带状基底件14上，以生产磁记录介质的可磁化层，所述装置包括：

a)一个凹版辊12，

b)以恒速转动凹版辊的装置，

c)连续提供可磁化微粒与粘合剂的流体分散体至正在旋转的凹版辊12的装置10，

d)具有一个表面的支持辊30，

e)以恒速独立转动支持辊的装置，所说恒速与凹版辊的表面速度不同，

f)一柔性挤压辊34，其位置决定于保证基底件14与位于凹版辊12之上游的支持辊30相靠的需要，而使支持辊30能以其表面速度驱动基底件14，

g)与支持辊30和凹版辊12中至少一个相连接的保持间隙的装置，用以保持支持辊30和凹版辊12之间的间隙，及

h)强制基底件14以一弧面与凹版辊12相接触并使流体分散体从凹版辊12转移至基底件14的强制装置。

2.如权利要求1所述的装置，其特征为：所述保持间隙的装置能将间隙保持在50与1250μm之间。

3.如权利要求1或2所述的装置，其特征为：所述强制装置包括一个位于凹版辊12的下游的引出惰辊17，和调节引出惰辊17位置、使引出角α的数值可在正负20°之间变化的装置；角α是以凹版辊12与支持辊30的连心线的垂线为基准，量至引出的基底带所得的角。

4.如权利要求3所述的装置，其特征为：所述用于调节引出惰辊17位置的装置可以调节而强使基底件14与凹版辊12以3°至6°的弧面相接触。

5.如权利要求1至4中之一条所述的装置，其特征为：支持辊的每端具有锥面36。

6.如权利要求5所述的装置，其特征为：锥面与支持辊30的轴线成5°至30°的角。

7.如权利要求1至7中之一所述的装置，其特征在于：它还包括一在凹版辊12下游的拉辊23和超速驱动拉辊的装置，以便在基底件14中建立足够的反张力，以保持其牢固地靠在凹版辊12上。

8.一种装置，用于涂敷可磁化微粒和粘合剂的流体分散体于纵向前进的柔性长带状基底件14上，以生产磁记录介质的可磁化层，所述装置包括：

a)一个凹版辊12，

b)以恒速转动凹版辊12的装置，

c)连续提供可磁化微粒与粘合剂的流体分散体至正在旋转的凹版辊的装置10，

d)一个支持辊15，30，

e)以恒速独立转动支持辊15，30的装置，所述恒速与凹版辊12的表面速度不同，

f)一挤压辊34，其位置决定于保证基底件14与位于凹版辊12之上游的支持辊15，30相靠的需要，而使支持辊15，30能以其表面速度驱动基底件14，

g)与支持辊15，30和凹版辊12中至少一个相连接的装置，用以保持支持辊15，30和凹版辊12之间的间隙，也为了增加支持辊和凹版辊间的间隙，而使接头不涂敷地通过，及

h)强制基底件14以一弧面与凹版辊12相接触并使流体分散体从凹版辊12转移至基底件14的装置。

Images