CN115446320A - 一种金属颗粒循环研磨装置及其使用方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种金属颗粒循环研磨装置,包括支撑筒体(1)、升降位于支撑筒体(1)内并沿着竖直轴线旋转的旋转块体(4)、以及多个位于旋转块体(4)底端圆周均匀布置的研磨体(3);支撑筒体(1)上设有与内部连通的进料口(12)、进液口(14)以及出料管(13)、内部底端设有环形布置的弧形槽(11);旋转块体(4)下端往上同轴设有第一孔(41)、上部周侧设有多个圆周均匀分布并与第一孔(41)连通的第二孔(42);多个研磨体(3)匹配并下降位于弧形槽(11)内。一种金属颗粒循环研磨装置及其使用方法,结构简单紧凑,不仅实现对金属颗粒的循环研磨,研磨更加均匀,而且有效避免金属颗粒因研磨受力而进行吸附。
Description
技术领域
本发明涉及金属加工技术领域,具体涉及一种金属颗粒循环研磨装置及其使用方法。
背景技术
目前,在对金属进行制粉时,有机械法、化学法、气体雾化法、离心雾化法、金属热还原法等多种方式,在机械制粉的方法中常见的是通过研磨机对金属颗粒进行研磨,研磨后的金属颗粒品质是影响后续加工的重要因素;比如金属颗粒在3D打印中的运用,3D打印技术是通过逐层打印的方式来构造物体实现快速成型,因此要求金属颗粒更加均匀、粒径一致;
现有的机械研磨方式,无法实现对金属颗粒的循环研磨,并在当金属颗粒受到研磨挤压后,往往会吸附在研磨座上,需要人工实施清理;
申请号为CN202123100699.3的中国实用新型专利一种金属粉末研磨装置,其公开技术方案包括:包括研磨箱,往复机构驱动研磨头进行旋转并往复升降,研磨座滑动安装在研磨头的下方,震动机构安装在研磨座的下方;通过升降驱动机构配合弹性支撑机构实现对研磨座的有效震动,提高金属在研磨过程中的流动性;
虽然其能够提高金属粉末加工的效率,同时避免金属颗粒堵塞排料机构,但是其金属颗粒的流动性主要依靠震动,流动性有限,无法保障对金属颗粒的循环研磨、使得粒径更加均匀、一致,并且也无法解决金属颗粒受到研磨挤压后吸附在研磨座上。
发明内容
本发明目的在于提供一种金属颗粒循环研磨装置,结构简单紧凑,不仅实现对金属颗粒的循环研磨,研磨更加均匀,而且有效避免金属颗粒因研磨受力而进行吸附。
为实现上述目的,一种金属颗粒循环研磨装置,包括支撑筒体、升降位于支撑筒体内并沿着竖直轴线旋转的旋转块体、以及多个位于旋转块体底端圆周均匀布置的研磨体;
支撑筒体上设有与内部连通的进料口、进液口以及出料管、内部底端设有环形布置的弧形槽;
旋转块体下端往上同轴设有第一孔、上部周侧设有多个圆周均匀分布并与第一孔连通的第二孔;
多个研磨体匹配并下降位于弧形槽内。
进一步的,还包括支撑组件,支撑组件上端转动安装在升降平台上并与驱动组件连接进行转动、下端与旋转块体同轴固定连接;
研磨体相对于弧形槽进行弹性布置。
进一步的,所述支撑组件包括同轴布置的支撑套筒、以及支撑杆;
支撑套筒转动在升降平台上、下端设有用于放置第二弹簧的第三盲孔;
支撑杆周向限位、轴向滑动设置在支撑筒体上,并且支撑杆上端穿过支撑套筒并限位固定、上部阶梯轴处套装有第二弹簧;
第二弹簧的两端分别与支撑套筒、支撑杆接触。
进一步的,所述支撑套筒通过轴承与支撑平台连接,支撑杆通过平键或者花键与支撑套筒连接;
支撑杆的上端设有外螺纹,其穿过支撑套筒后通过螺母限位固定。
进一步的,所述旋转块体下端设有多个与研磨体对应的第二盲孔;
每个第二盲孔内设有下压组件,下压组件包括T型结构的定位杆、位于第二盲孔内并处于受压状态的第一弹簧、封闭设置在第二盲孔孔口处的第一端盖;
定位杆上端与第一弹簧接触、中部上下滑动设置在第一端盖上、下端与研磨体拆卸连接。
进一步的,所述第一端盖螺纹安装在第二盲孔处,并带动定位杆上下移动;
每个第一端盖位置高度不同,使得多个圆周布置的研磨体平面展开后成0-180°的正弦函数布置;
峰值为金属颗粒最大粒径的2-30倍。
进一步的,所述旋转块体上端设有多个与第二盲孔相对应的第一盲孔;
每个第一盲孔的孔口处通过第二端盖封闭、内部设有推动组件;
推动组件的输出端与位于第二盲孔内的推板连接、输入端穿过支撑组件周侧的贯穿孔、轴向的通孔后与驱动源连接;
第二弹簧连接在推板与定位杆之间。
进一步的,所述弧形槽外围边与支撑筒体内壁平滑过度;
所述进液口位于支撑筒体上靠近弧形槽处,出料管密封滑动安装在与支撑筒体中心处、上端靠近旋转块体处。
进一步的,所述出料管下端依次与负压组件、用于将金属颗粒与液体分离的过滤组件连接,分离后的研磨液经过净化组件、管道回流至进液口处。
本发明目的还在于提供一种金属颗粒循环研磨装置的使用方法,操作简单,在离心力作用下,研磨液与金属颗粒进行回流循环,不仅实现对金属颗粒的循环研磨,而且产生的负压能够使得研磨后的金属颗粒跟随研磨液移动,有效避免金属颗粒因研磨受力而进行吸附。
一种金属颗粒循环研磨装置的使用方法,具体包括以下步骤:
a.将金属颗粒、研磨液相应从进料口、进液口投入至支撑筒体内,研磨液高于旋转块体上的第二孔;
金属颗粒沉降至弧形槽内;
b.初始状态时,转动第一端盖,带动定位杆、以及定位杆下端的研磨体升降调整,在对第一弹簧进行压缩的同时,使得多个圆周布置的研磨体平面展开后成0-180°的正弦函数布置,通过研磨体高低位置所对应受力不同来弥补金属颗粒不同粒径的差异;
根据金属颗粒的类型、研磨粒径等参数,调整旋转块体在支撑筒体内的升降,圆周布置的研磨体对金属颗粒的作用力逐渐变化、并且作用力随着多个研磨体转动进行周期循环;
c.驱动组件启动,带动旋转块体正向转动,使得多个研磨体在弧形槽内对金属颗粒进行研磨,弧形槽内的金属颗粒受力逐渐增大、再减小然后增大进行周期循环;
d.当旋转块体转动时,在离心力作用下,旋转块体上的第二孔相对处于负压状态,研磨液带着因研磨受力而吸附在弧形槽上的金属颗粒从第一孔下端进入、再从多个第二孔排出,排出后的金属颗粒重新进入至弧形槽内进行研磨实现回流循环;
e.当金属颗粒完成研磨加工后,负压组件启动,位于支撑筒体上并靠近旋转块体中部的出料管产生的负压大于第二孔的负压,研磨后的金属颗粒从出料管中进行排出。
与现有技术相比,一种金属颗粒循环研磨装置具有以下优点:
(1)本发明由于旋转块体中部同轴设有第一孔、以及上部设有多个第二孔,当旋转块体转动时,在离心力作用下,第二孔相对处于负压状态,研磨液带着金属颗粒从第一孔下端进入、再从多个第二孔排出,排出后的金属颗粒重新进入至弧形槽内进行研磨实现回流循环,因此不仅实现对金属颗粒的循环研磨,而且负压能够使得研磨后的金属颗粒跟随研磨液进入第一孔内,有效避免金属颗粒因研磨受力而吸附在弧形槽上;
(2)本发明由于支撑组件包括同轴布置并且相互弹性伸缩的支撑套筒、以及支撑杆;当对金属颗粒进行研磨时,研磨体位于弧形槽内并弹性接触对金属颗粒进行研磨,当研磨较大的金属颗粒时,研磨体能够向上移动对第二弹簧进行压缩,当研磨较小的金属颗粒时,在弹簧作用下,研磨体微向下移动对较小粒径的金属颗粒进行研磨,因此研磨体能够始终与弧形槽保持相对弹性,以适用不同粒径的金属颗粒;
(3)本发明由于旋转块体下端设有多个与研磨体对应的第二盲孔,每个第二盲孔内设有下压组件,研磨体与不同粒径的金属颗粒挤压接触并研磨时,带动定位杆向上移动,对第一弹簧进行压缩,并在第一弹簧弹力作用下,研磨体对金属颗粒进行弹性研磨,能够使得每个研磨体根据自行研磨情况进行单独弹性接触,避免其之间的相互干扰,针对性更强;
(4)本发明由于第一端盖螺纹安装在第二盲孔上,使得多个圆周布置的研磨体平面展开后成0-180°的正弦函数布置,通过研磨体高低位置所对应受力不同来弥补金属颗粒不同粒径的差异,采用正弦函数布置使得相邻研磨体对金属颗粒研磨作用力之间能够平滑过度,力度更加平顺、均匀,并且这种作用力循环不仅针对性强,适用于不同粒径的金属颗粒混合,而且使得金属颗粒在研磨时逐渐变细,避免单一受力对不同粒径的金属颗粒研磨时造成颗粒不细致、不均匀的问题;
(5)本发明由于旋转块体上端的第一盲孔内部设有推动组件,推动组件的输出端与推板连接、输入端穿过支撑组件周侧的贯穿孔、轴向的通孔后与驱动源连接,因此推动组件启动,带动推板在第二盲孔内伸缩移动,对第一弹簧进行循环压缩,通过控制推板上下移动幅度,使得定位杆下端的研磨体在转动时,不仅能够与金属颗粒接触挤压研磨,而且能够循环产生上下移动的锤击力,增大金属粒径的破碎,使得研磨效果更好。
附图说明
图1是本发明的整体主视图;
图2是本发明中旋转块体转动时金属颗粒回流主视图;
图3是本发明中旋转块体示意图;
图4是本发明中下压组件局部主视图;
图5是本发明中支撑组件主视图;
图6是本发明中多个圆周布置的研磨体平面展开示意图;
图中:1、支撑筒体,11、弧形槽,12、进料口,13、出料管,14、进液口,15、封盖;
2、下压组件,21、定位杆,22、第一端盖,23、第一弹簧,24、推板,25、油缸,26、第二端盖;
3、研磨体,4、旋转块体,41、第一孔,42、第二孔,43、第一盲孔,44、第二盲孔,51、升降平台,52、驱动组件,6、支撑组件,61、支撑杆,62、支撑套筒,621、第三盲孔,63、第二弹簧,64、旋转接头。
具体实施方式
如图1、图2、图3所示,一种金属颗粒循环研磨装置,包括支撑筒体1、升降位于支撑筒体1内并沿着竖直轴线旋转的旋转块体4、以及多个位于旋转块体4底端圆周均匀布置的研磨体3;
支撑筒体1上设有与内部连通的进料口12、进液口14以及出料管13、内部底端设有环形布置的弧形槽11;
旋转块体4下端往上同轴设有第一孔41、上部周侧设有多个圆周均匀分布并与第一孔41连通的第二孔42;
多个研磨体3匹配并下降位于弧形槽11内;
具体的为,支撑筒体1为本装置主要的支撑结构,上端可通过封盖15封闭、内壁底端的弧形槽11为环形结构,弧形槽11截面可为半椭圆或者圆形结构,相应的研磨体3与弧形槽11匹配,比如研磨体3为球形结构,保障研磨体3能够对弧形槽11内的金属颗粒进行研磨,即在研磨体3对弧形槽11的金属颗粒压紧研磨的同时,也可通过研磨体3外形弧度与弧形槽11弧度对金属颗粒进行初步研磨;
将金属颗粒从进料口12投入至支撑筒体1内、研磨液从进液口14投入至支撑筒体1内,优选的,研磨液高于旋转块体4的第二孔42,将研磨完成后的金属颗粒从出料管13排出;
金属颗粒沉降至弧形槽11内,根据金属颗粒的类型、研磨粒径等参数,先调整旋转块体4在支撑筒体1内的升降,使得多个研磨体3位于弧形槽11内合适位置,并与金属颗粒接触;接着旋转块体4转动带动多个研磨体3在弧形槽11内转动,实现对金属颗粒的研磨,研磨液有效起到润滑、洗涤的作用,并且其内可增加抗氧化剂,防止金属颗粒进行氧化;
如图2所示,由于旋转块体4中部同轴设有第一孔41、以及上部设有多个第二孔42,当旋转块体4转动时,在离心力作用下,第二孔42相对处于负压状态,研磨液带着金属颗粒从第一孔41下端进入、再从多个第二孔42排出,排出后的金属颗粒重新进入至弧形槽11内进行研磨实现回流循环,因此不仅实现对金属颗粒的循环研磨,而且第一孔41下端位于支撑筒体1底部上方,即弧形槽11的中部,产生的负压能够使得研磨后的金属颗粒跟随研磨液进入第一孔41内,有效避免金属颗粒因研磨受力而吸附在弧形槽11上;
另外研磨体3数量为4-8个,第二孔42的数量为4-8个,其位于旋转块体4上进行错开布置,优选的,研磨体3、第二孔42的数量均为6个。
示例性的,本装置还包括支撑组件6,支撑组件6上端转动安装在升降平台51上并与驱动组件52连接进行转动、下端与旋转块体4同轴固定连接;
研磨体3相对于弧形槽11进行弹性布置;
具体的为,升降平台51可吊装位于支撑筒体1上方,比如通过液压缸与固定架连接、伸缩端与升降平台51连接;
驱动组件52包括驱动电机、与驱动电机输出端固定连接的主动轮、以及固定套装在支撑组件6上的从动轮,主动轮与从动轮之间通过绕设在其外侧的传动带连接;支撑组件6下端可通过法兰与旋转块体4连接;
升降平台51带动支撑组件6以及旋转块体4升降移动,使得研磨体3位于弧形槽11内、并可存有一定间隙,驱动电机启动,通过主动轮、传动带、从动轮带动支撑组件6、旋转块体4整体转动,实现研磨体3对弧形槽11内的金属颗粒进行研磨;
研磨体3相对于弧形槽11进行弹性布置,能够适用不同粒径的金属颗粒,避免直接刚性研磨造成金属颗粒成型效果不好、以及研磨体3的损坏;
如图5所示,作为第一种实施例,所述支撑组件6包括同轴布置的支撑套筒62、以及支撑杆61;
支撑套筒62转动在升降平台51上、下端设有用于放置第二弹簧63的第三盲孔621;
支撑杆61周向限位、轴向滑动设置在支撑筒体1上,并且支撑杆61上端穿过支撑套筒62并限位固定、上部阶梯轴处套装有第二弹簧63;
第二弹簧63的两端分别与支撑套筒62、支撑杆61接触;
具体的为,支撑套筒62外侧套装有轴承、并与支撑平台连接,支撑杆61周向限位、轴向滑动设置在支撑套筒62上,作为其连接方式的实施例,支撑杆61可通过平键或者花键与支撑套筒62连接,实现同转、轴向滑动的目的;
支撑杆61的上端设有外螺纹,其穿过支撑套筒62后通过螺母限位固定,防止支撑杆61脱离支撑套筒62,当支撑杆61轴向向上移动时,通过其阶梯轴结构对弹簧进行压缩;
当对金属颗粒进行研磨时,升降平台51带动支撑组件6向下移动,研磨体3位于弧形槽11内并弹性接触对金属颗粒进行研磨,当研磨较大的金属颗粒时,研磨体3能够向上移动对第二弹簧63进行压缩,当研磨较小的金属颗粒时,在弹簧作用下,研磨体3微向下移动对较小粒径的金属颗粒进行研磨,因此研磨体3能够始终与弧形槽11保持相对弹性,以适用不同粒径的金属颗粒。
如图4所示,作为第二种实施例,所述旋转块体4下端设有多个与研磨体3对应的第二盲孔44;
每个第二盲孔44内设有下压组件2,下压组件2包括T型结构的定位杆21、位于第二盲孔44内并处于受压状态的第一弹簧23、封闭设置在第二盲孔44孔口处的第一端盖22;
定位杆21上端与第一弹簧23接触、中部上下滑动设置在第一端盖22上、下端与研磨体3拆卸连接;
具体的为,第一端盖22与第二盲孔44、定位杆21之间均设有密封圈,避免研磨液进入至第二盲孔44内;定位杆21的下部螺纹安装有锁紧螺母,当定位杆21与研磨体3螺纹连接后,转动锁紧螺母,使得锁紧螺母抵压在研磨体3上,实现对研磨体3的锁紧固定;
当升降平台51通过支撑组件6带动旋转块体4向下移动时,使得研磨体3匹配位于弧形槽11内,研磨体3与不同粒径的金属颗粒挤压接触并研磨时,研磨体3带动定位杆21向上移动,对第一弹簧23进行压缩,并在第一弹簧23弹力作用下,研磨体3对金属颗粒进行弹性研磨;这种方式能够使得每个研磨体3根据自行研磨情况进行单独弹性接触,避免其之间的相互干扰,针对性更强;
如图4、图6所示,进一步的,所述第一端盖22螺纹安装在第二盲孔44上,并带动定位杆21上下移动;
每个第一端盖22位置高度不同,使得多个圆周布置的研磨体3平面展开后成0-180°的正弦函数布置;
峰值为金属颗粒最大粒径的2-30倍;
具体的为,初始状态时,研磨体3位于弧形槽11上方,第一端盖22螺纹安装在第二盲孔44处,带动相应的定位杆21上下移动,使得定位杆21下端的研磨体3高度不一,多个圆周布置的研磨体3平面展开后平滑曲线布置,优先的0-180°的正弦函数,峰值不宜过大,通过研磨体3高低位置所对应受力不同来弥补金属颗粒不同粒径的差异,以峰值位置为初始位置进行说明,旋转块体4正向转动时研磨体3峰值的位置由高变低、或者相应作用力由小变大;
具体的为,当升降平台51带动旋转块体4向下移动时,不同位置的研磨体3逐渐对弧形槽11内的金属颗粒弹性下压,相应的受力逐渐变化,由于金属颗粒分布不可控,受力可近似为正弦布置,即圆周布置的研磨体3对金属颗粒的作用力逐渐变化、并且作用力随着多个研磨体3转动进行周期循环;
旋转块体4正向转动时,弧形槽11内峰值位置的金属颗粒受力逐渐增大、再减小然后增大进行循环,初始位置较高的研磨体3对金属颗粒的作用力较小,适用于较大粒径金属颗粒的研磨,而初始位置较小的研磨体3对金属颗粒的作用力较大,适用于较小粒径金属颗粒的研磨;采用正弦函数布置使得相邻研磨体3对金属颗粒研磨作用力之间能够平滑过度,力度更加平顺、均匀,并且这种作用力循环不仅针对性强,适用于不同粒径的金属颗粒混合,而且使得金属颗粒在研磨时逐渐变细,避免单一受力对不同粒径的金属颗粒研磨时造成颗粒不细致、不均匀的问题;
另外驱动组件52在正转一定时间后,可带动旋转块体4反向转动,避免大粒径的金属颗粒位于初始低位置的研磨体3处造成无法顺利研磨、出现堆积等情况;
正弦函数布置的峰值不宜过大,比如峰值为金属颗粒最大粒径的2-30倍,避免峰值过大时高位置的研磨体3对大粒径的金属颗粒作用力较小、或者低位置的研磨体3对小粒径的金属颗粒作用力较大。
如图4、图5所示,进一步的,所述旋转块体4上端设有多个与第二盲孔44相对应的第一盲孔43;
每个第一盲孔43的孔口处通过第二端盖26封闭、内部设有推动组件;
推动组件的输出端与位于第二盲孔44内的推板24连接、输入端穿过支撑组件6周侧的贯穿孔、轴向的通孔后与驱动源连接;
第二弹簧63连接在推板24与定位杆21之间;
支撑组件6可为杆体结构,其为中空结构,即支撑组件6同轴设有通孔,并且通孔下端进行封闭,支撑组件6下端设有多个与推动组件相匹配、并与通孔连通的贯穿孔;
第一种实施例,推动组件为油缸25,驱动源为高压油源,油缸25的输入端通过油管与支撑组件6上的贯穿孔密封连接,支撑组件6上端通过旋转接头64与高压油源连通,因此高压油源将油液通过支撑组件6的通孔、贯穿孔、油管为每个油缸25提供高压油,并可与控制器连接用于控制通油量;
油缸25通油启动后,带动推板24在第二盲孔44内伸缩移动,可对第一弹簧23进行循环压缩,使得定位杆21下端的研磨体3在转动时,不仅能够与金属颗粒接触挤压研磨,而且能够循环产生上下移动的锤击力,增大金属粒径的破碎,使得研磨效果更好,适用于脆性金属颗粒;
第二种实施例,推动组件为电缸,驱动源为电源,电缸的导线穿过支撑组件6上的贯穿孔、通孔后,与支撑组件6上端的电滑环连接,电滑环与电源、控制器连接;电滑环主要是与旋转体连接、用于输送能源与信号的电气部件,因此能够有效实现电缸电源、控制信号的输入;
具体的为,电缸通电后,带动推板24在第二盲孔44内伸缩移动,可对第一弹簧23进行循环压缩,通过控制推板24上下移动幅度,使得定位杆21下端的研磨体3在转动时,不仅能够与金属颗粒接触挤压研磨,而且能够循环产生上下移动的锤击力,增大金属粒径的破碎,使得研磨效果更好,适用于脆性金属颗粒;相对于第一种实施例,本方式能够根据研磨情况,实现对研磨体3锤击力的单独控制,方便进行调整,适用范围更广;
比如当对较大粒径的金属颗粒,控制器控制高位置研磨体3所对应的电缸,带动推板24升降幅度增大,使研磨体3上下移动的锤击力更大,较大粒径的金属颗粒能够更好进行破碎成小颗粒;
另外需要说明的是,在第一端盖22、第二端盖26安装时、以及油管或者导线穿过贯穿孔时均进行密封处理,避免支撑套筒62内的研磨液进入。
如图1、图2所示,进一步的,所述弧形槽11外围边与支撑筒体1内壁平滑过度;
所述进液口14位于支撑筒体1上靠近弧形槽11处,出料管13密封滑动安装在与支撑筒体1中心处、上端靠近旋转块体4处;
具体的为,当弧形槽11的截面为半椭圆形或者半圆形结构时,弧形槽11外围边于支撑筒体1内壁相切,这样结构使得金属颗粒从进料口12进入至支撑筒体1内时,能够顺利沉降至弧形槽11内,方便研磨体3直接对金属颗粒进行集中研磨;
出料管13位于支撑筒体1处,其上端面可进行封闭、周侧设有出料口,即旋转块体4转动时,研磨液将研磨后的金属颗粒进入第一孔41内,因此从出料管13排出的金属颗粒更加细致;
进一步的,所述出料管13下端依次与负压组件、用于将金属颗粒与液体分离的过滤组件连接,分离后的研磨液经过净化组件、管道回流至进液口14处;
负压组件启动,可有效将金属颗粒从支撑筒体1内进入至出料管13中进行排出,排出的研磨液与金属颗粒经过过滤组件进行分离,研磨液可经过净化组件、管道回流至进液口14处,而金属颗粒可进行烘干处理。
一种金属颗粒循环研磨装置使用时,将金属颗粒、研磨液相应从进料口12、进液口14投入至支撑筒体1内,研磨液高于旋转块体4上的第二孔42;
金属颗粒沉降至弧形槽11内;
初始状态时,转动第一端盖22,带动定位杆21、以及定位杆21下端的研磨体3升降调整,在对第一弹簧23进行压缩的同时,使得多个研磨体3处于不同的高度,优选的,多个圆周布置的研磨体3平面展开后成0-180°的正弦函数布置,通过研磨体3高低位置所对应受力不同来弥补金属颗粒不同粒径的差异;
根据金属颗粒的类型、研磨粒径等参数,调整旋转块体4在支撑筒体1内的升降,圆周布置的研磨体3对金属颗粒的作用力逐渐变化、并且作用力随着多个研磨体3转动进行周期循环;
驱动组件52启动,带动旋转块体4正向转动,使得多个研磨体3在弧形槽11内对金属颗粒进行研磨,弧形槽11内某一位置的金属颗粒受力逐渐增大、再减小然后增大进行循环,初始位置较高的研磨体3对金属颗粒的作用力较小,适用于较大粒径金属颗粒的研磨,而初始位置较小的研磨体3对金属颗粒的作用力较大,适用于较小粒径金属颗粒的研磨,因此这种作用力循环不仅针对性强,适用于不同粒径的金属颗粒混合,而且使得金属颗粒在研磨时逐渐变细,避免单一受力对不同粒径的金属颗粒研磨时造成颗粒不细致、不均匀的问题;
另外推动组件启动,带动推板24在第二盲孔44内伸缩移动,对第一弹簧23进行循环压缩,通过控制推板24上下移动幅度,使得定位杆21下端的研磨体3在转动时,不仅能够与金属颗粒接触挤压研磨,而且能够循环产生上下移动的锤击力,增大金属粒径的破碎,使得研磨效果更好;
当旋转块体4转动时,在离心力作用下,旋转块体4上的第二孔42相对处于负压状态,研磨液带着金属颗粒从第一孔41下端进入、再从多个第二孔42排出,排出后的金属颗粒重新进入至弧形槽11内进行研磨实现回流循环,因此不仅实现对金属颗粒的循环研磨,而且第一孔41下端位于支撑筒体1底部上方,产生的负压能够使得研磨后的金属颗粒跟随研磨液进入第一孔41内,有效避免金属颗粒因研磨受力而吸附在弧形槽11上;
当金属颗粒完成研磨加工后,负压组件启动,位于支撑筒体1上并靠近旋转块体4中部的出料管13产生的负压大于第二孔42的负压,研磨后的金属颗粒从出料管13中进行排出,排出的研磨液与金属颗粒经过过滤组件进行分离;
分离的研磨液可经过净化组件、管道回流至进液口14处;分离后的金属颗粒可进行烘干处理,最终得到研磨后的金属粉末。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
Claims (10)
1.一种金属颗粒循环研磨装置,其特征在于,包括支撑筒体(1)、升降位于支撑筒体(1)内并沿着竖直轴线旋转的旋转块体(4)、以及多个位于旋转块体(4)底端圆周均匀布置的研磨体(3);
支撑筒体(1)上设有与内部连通的进料口(12)、进液口(14)以及出料管(13)、内部底端设有环形布置的弧形槽(11);
旋转块体(4)下端往上同轴设有第一孔(41)、上部周侧设有多个圆周均匀分布并与第一孔(41)连通的第二孔(42);
多个研磨体(3)匹配并下降位于弧形槽(11)内。
2.根据权利要求1所述的一种金属颗粒循环研磨装置,其特征在于,还包括支撑组件(6),支撑组件(6)上端转动安装在升降平台(51)上并与驱动组件(52)连接进行转动、下端与旋转块体(4)同轴固定连接;
研磨体(3)相对于弧形槽(11)进行弹性布置。
3.根据权利要求2所述的一种金属颗粒循环研磨装置,其特征在于,所述支撑组件(6)包括同轴布置的支撑套筒(62)、以及支撑杆(61);
支撑套筒(62)转动在升降平台(51)上、下端设有用于放置第二弹簧(63)的第三盲孔(621);
支撑杆(61)周向限位、轴向滑动设置在支撑筒体(1)上,并且支撑杆(61)上端穿过支撑套筒(62)并限位固定、上部阶梯轴处套装有第二弹簧(63);
第二弹簧(63)的两端分别与支撑套筒(62)、支撑杆(61)接触。
4.根据权利要求3所述的一种金属颗粒循环研磨装置,其特征在于,所述支撑套筒(62)通过轴承与支撑平台连接,支撑杆(61)通过平键或者花键与支撑套筒(62)连接;
支撑杆(61)的上端设有外螺纹,其穿过支撑套筒(62)后通过螺母限位固定。
5.根据权利要求2所述的一种金属颗粒循环研磨装置,其特征在于,所述旋转块体(4)下端设有多个与研磨体(3)对应的第二盲孔(44);
每个第二盲孔(44)内设有下压组件(2),下压组件(2)包括T型结构的定位杆(21)、位于第二盲孔(44)内并处于受压状态的第一弹簧(23)、封闭设置在第二盲孔(44)孔口处的第一端盖(22);
定位杆(21)上端与第一弹簧(23)接触、中部上下滑动设置在第一端盖(22)上、下端与研磨体(3)拆卸连接。
6.根据权利要求5所述的一种金属颗粒循环研磨装置,其特征在于,所述第一端盖(22)螺纹安装在第二盲孔(44)处,并带动定位杆(21)上下移动;
每个第一端盖(22)位置高度不同,使得多个圆周布置的研磨体(3)平面展开后成0-180°的正弦函数布置;
峰值为金属颗粒最大粒径的2-30倍。
7.根据权利要求5所述的一种金属颗粒循环研磨装置,其特征在于,所述旋转块体(4)上端设有多个与第二盲孔(44)相对应的第一盲孔(43);
每个第一盲孔(43)的孔口处通过第二端盖(26)封闭、内部设有推动组件;
推动组件的输出端与位于第二盲孔(44)内的推板(24)连接、输入端穿过支撑组件(6)周侧的贯穿孔、轴向的通孔后与驱动源连接;
第二弹簧(63)连接在推板(24)与定位杆(21)之间。
8.根据权利要求1至7任意一项所述的一种金属颗粒循环研磨装置,其特征在于,所述弧形槽(11)外围边与支撑筒体(1)内壁平滑过度;
所述进液口(14)位于支撑筒体(1)上靠近弧形槽(11)处,出料管(13)密封滑动安装在与支撑筒体(1)中心处、上端靠近旋转块体(4)处。
9.根据权利要求8所述的一种金属颗粒循环研磨装置,其特征在于,所述出料管(13)下端依次与负压组件、用于将金属颗粒与液体分离的过滤组件连接,分离后的研磨液经过净化组件、管道回流至进液口(14)处。
10.一种根据权利要求6所述金属颗粒循环研磨装置的使用方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
a.将金属颗粒、研磨液相应从进料口(12)、进液口(14)投入至支撑筒体(1)内,研磨液高于旋转块体(4)上的第二孔(42);
金属颗粒沉降至弧形槽(11)内;
b.初始状态时,转动第一端盖(22),带动定位杆(21)、以及定位杆(21)下端的研磨体(3)升降调整,在对第一弹簧(23)进行压缩的同时,使得多个圆周布置的研磨体(3)平面展开后成0-180°的正弦函数布置,通过研磨体(3)高低位置所对应受力不同来弥补金属颗粒不同粒径的差异;
根据金属颗粒的类型、研磨粒径等参数,调整旋转块体(4)在支撑筒体(1)内的升降,圆周布置的研磨体(3)对金属颗粒的作用力逐渐变化、并且作用力随着多个研磨体(3)转动进行周期循环;
c.驱动组件(52)启动,带动旋转块体(4)正向转动,使得多个研磨体(3)在弧形槽(11)内对金属颗粒进行研磨,弧形槽(11)内的金属颗粒受力逐渐增大、再减小然后增大进行周期循环;
d.当旋转块体(4)转动时,在离心力作用下,旋转块体(4)上的第二孔(42)相对处于负压状态,研磨液带着因研磨受力而吸附在弧形槽(11)上的金属颗粒从第一孔(41)下端进入、再从多个第二孔(42)排出,排出后的金属颗粒重新进入至弧形槽(11)内进行研磨实现回流循环;
e.当金属颗粒完成研磨加工后,负压组件启动,位于支撑筒体(1)上并靠近旋转块体(4)中部的出料管(13)产生的负压大于第二孔(42)的负压,研磨后的金属颗粒从出料管(13)中进行排出。
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