CN115398027A - 蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法 - Google Patents

Abstract

蒸镀掩模具备掩模框架以及掩模部，该掩模框架具备：主体部，具有第一表面、与第一表面相反侧的第一背面以及贯通第一表面与第一背面之间的第一开口部；以及框状部，具备第二表面以及与第二表面相反侧的第二背面，且具备贯通第二表面与第二背面之间的第二开口部，该掩模框架构成为能够以第二表面上的第二开口部的位置与第一表面上的第一开口部的位置对齐的方式在第一背面侧将框状部能够拆卸地安装于主体部，该掩模部具有多个掩模孔，且以覆盖第二开口部的方式接合于第二背面。

Description

蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法

技术领域

本发明涉及蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法。

背景技术

在有机EL显示装置的制造中，使用真空蒸镀来形成有机EL显示元件所具备的有机发光层。在通过真空蒸镀形成有机发光层时，为了将具有规定形状的有机发光层形成于蒸镀对象中的规定位置而使用蒸镀掩模。蒸镀掩模具备多个掩模部以及掩模框架。各掩模部是形成有多个掩模孔的金属箔。多个掩模孔具有与有机发光层的形状以及配置相应的形状以及配置。掩模框架具有用于使蒸镀材料到达安装于掩模框架的掩模部的框架孔。各掩模部以堵塞彼此不同的一个框架孔的方式与掩模框架接合(例如，参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2019/054462号

发明内容

发明要解决的课题

然而，掩模部相对于掩模框架的接合例如使用焊接。在掩模部的接合使用焊接的情况下，在掩模框架形成接合了掩模部的接合痕。接合痕是在掩模框架中的掩模部所焊接的部分形成的凹陷。

另一方面，当使用了一个蒸镀掩模的蒸镀进行多次时，有时掩模部的一部分变形、或者在掩模部的一部分堆积蒸镀材料。对于这一点，在上述蒸镀掩模中，能够仅将需要更换的掩模部从掩模框架拆卸，并将新的掩模部与掩模框架进行接合。然而，在掩模框架上由于掩模部的接合而形成有接合痕，因此为了抑制由于接合痕而掩模部相对于掩模框架的位置偏移、或者掩模部相对于掩模框架未被接合的情况，需要对接合痕进行加工。因此，对应于需要对接合痕进行加工的情况，掩模部相对于掩模框架的重新接合变得繁琐。

另外，上述课题不限定于掩模部的接合使用焊接的情况，在掩模部的接合使用粘合的情况下也是共通的。在掩模部的接合使用粘合的情况下，作为接合痕而形成有粘合层。

本发明的目的在于提供能够容易地进行掩模部相对于掩模框架的重新接合的蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法。

用于解决课题的手段

用于解决上述课题的蒸镀掩模具备掩模框架以及掩模部，上述掩模框架具备：主体部，具备第一表面、与上述第一表面相反侧的第一背面、以及贯通上述第一表面与上述第一背面之间的第一开口部；以及框状部，具备第二表面以及与上述第二表面相反侧的第二背面，且具备贯通上述第二表面与上述第二背面之间的第二开口部，上述掩模框架构成为，能够以上述第二表面上的上述第二开口部的位置与上述第一表面上的上述第一开口部的位置对齐的方式，在上述第一背面侧将上述框状部能够拆卸地安装于上述主体部，上述掩模部具有多个掩模孔，且以覆盖上述第二开口部的方式与上述第二背面接合。

用于解决上述课题的蒸镀掩模的制造方法包括：对具有贯通第二表面与第二背面之间的第二开口部的框状部接合掩模部的步骤；以及对具有贯通第一表面与第一背面之间的第一开口部的主体部安装上述框状部的步骤，上述接合掩模部的步骤包括以覆盖上述第二开口部的方式在上述第二背面接合上述掩模部的步骤，上述安装框状部的步骤包括以上述第二表面上的上述第二开口部的位置与上述第一表面上的上述第一开口部的位置对齐的方式在上述第一背面侧将上述框状部能够拆卸地安装于上述主体部的步骤。

用于解决上述课题的显示装置的制造方法包括：使用通过上述蒸镀掩模的制造方法制造出的蒸镀掩模在蒸镀对象上形成图案的步骤。

根据上述蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法，在将蒸镀掩模所具备的掩模部更换为新的掩模部时，能够与能够从主体部拆卸的框状部一起将掩模部从主体部拆卸。由此，由于掩模部相对于框状部的接合而形成于框状部的接合痕也被从主体部去除。因此，通过对主体部安装新的框状部且对新的框状部接合新的掩模部，由此能够得到蒸镀掩模。如此，在对掩模框架重新接合掩模部时，不需要对掩模框架具有的接合痕进行加工，因此容易进行掩模部相对于掩模框架的重新接合。

附图说明

图1是表示第一实施方式中的蒸镀掩模的构造的立体图。

图2是表示图1所示的蒸镀掩模中的一部分构造的截面图。

图3是表示图2所示的蒸镀掩模中的一部分构造的截面图。

图4是表示图2所示的蒸镀掩模具备的掩模部的构造的平面图。

图5是将图2所示的蒸镀掩模具备的掩模部的构造放大表示的截面图。

图6是用于说明蒸镀掩模的制造方法的工序图。

图7是用于说明蒸镀掩模的制造方法的工序图。

图8是用于说明蒸镀掩模的制造方法的工序图。

图9是用于说明蒸镀掩模的制造方法的工序图。

图10是用于说明蒸镀掩模的制造方法的工序图。

图11是用于说明蒸镀掩模的制造方法的工序图。

图12是用于说明蒸镀掩模的制造方法的工序图。

图13是将图12所示的区域A放大表示的截面图。

图14是用于说明蒸镀掩模的制造方法的工序图。

图15是用于说明蒸镀掩模的制造方法的工序图。

图16是用于说明蒸镀掩模的作用的作用图。

图17是将蒸镀装置的构成与蒸镀掩模以及蒸镀对象一起示意地表示的装置构成图。

图18是表示第二实施方式中的蒸镀掩模的构造的平面图。

图19是表示沿着图18所示的XIX-XIX线的构造的截面图。

图20是表示图18所示的固定部以及固定部的周边构造的截面图。

图21是表示沿着图18所示的XIX-XIX线的构造的截面图。

图22是表示图18所示的固定部以及固定部的周边构造的截面图。

图23是表示第三实施方式中的蒸镀掩模的构造的平面图。

图24是沿着图23所示的XXIV-XXIV线的构造的截面图。

图25是表示第四实施方式中的蒸镀掩模的构造的平面图。

图26是表示沿着图25所示的XXVI-XXVI线的构造的截面图。

图27是表示第五实施方式中的蒸镀掩模的构造的平面图。

图28是表示沿着图27所示的XXVIII-XXVIII线的构造的截面图。

具体实施方式

[第一实施方式]

参照图1至图17对蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法的第一实施方式进行说明。以下，对蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法依次进行说明。

[蒸镀掩模]

蒸镀掩模具备掩模框架和掩模部。掩模框架具备主体部和框状部。主体部具备表面、与表面相反侧的背面、以及贯通表面与背面之间的第一贯通孔。框状部具备表面、与表面相反侧的背面、以及贯通表面与背面之间的第二贯通孔。掩模框架构成为，在与主体部的表面相对的主体部的背面侧，能够以第二开口部中的表面的开口与第一开口部中的表面的开口对置的方式将框状部安装于主体部，以及能够将框状部从主体部拆卸。掩模部具有多个掩模孔，并以覆盖第二开口部的方式与框状部的背面接合。

即，主体部具备第一表面、与第一表面相反侧的第一背面、以及贯通第一表面与第一背面之间的第一开口部。框状部具备第二表面、以及与第二表面相反侧的第二背面。框状部具备贯通第二表面与第二背面之间的第二开口部。掩模框架构成为，能够以第二表面上的第二开口部的位置与第一表面上的第一开口部的位置对齐的方式，在第一背面侧将框状部以能够拆卸的方式安装于主体部。

以下，参照图1至图5对第一实施方式的蒸镀掩模进行说明。图1表示从与蒸镀掩模的掩模框架所具备的主体部的背面对应的视点观察的蒸镀掩模的立体构造。

如图1所示，蒸镀掩模10具备掩模框架11以及多个掩模部12。掩模框架11具有多个框架孔11H。各掩模部12以覆盖彼此不同的一个框架孔11H的方式与掩模框架11接合。

掩模框架11的外形例如具有四边形状。掩模框架11具备表面11F以及与表面11F相反侧的背面11R。在蒸镀掩模10搭载于蒸镀装置时，掩模框架11的背面11R与蒸镀对象S对置，与此相对，掩模框架11的表面11F与蒸镀源对置。在从与掩模框架11的背面11R对置的视点观察时，掩模框架11的外形大于蒸镀对象S。另外，在图1所示的例子中，掩模框架11的外形大于蒸镀对象S，但掩模框架11的外形也可以小于蒸镀对象S。

在从与背面11R对置的视点观察时，各框架孔11H具有长方形。多个框架孔11H在第一方向D1、以及与第一方向D1正交的第二方向D2上，隔开相等的间隔而排列为矩形格子状。另外，框架孔11H也可以不具有长方形。例如，框架孔11H也可以具有正方形、圆形以及椭圆形等形状。另外，多个框架孔11H也可以包括具有第一形状的框架孔11H以及具有第二形状的框架孔11H。多个框架孔11H也可以不排列为矩形格子状。例如，多个框架孔11H也可以排列为交错格子状。另外，多个框架孔11H也可以在第一方向D1以及第二方向D2的至少一方上不规则地排列。

从与掩模框架11的背面11R对置的视点观察时，掩模部12具有能够覆盖框架孔11H的形状以及大小。在本实施方式中，掩模部12具有长方形。掩模部12相对于一个框架孔11H各安装有一个。因此，蒸镀掩模10具备与框架孔11H相同数量的掩模部12。

掩模框架11以及掩模部12为金属制。形成掩模框架11的金属与形成掩模部12的金属优选相同。由此，蒸镀掩模10的线膨胀系数与掩模部12的线膨胀系数之差较小，因此即使在蒸镀掩模10的使用时蒸镀掩模10被加热，也能够抑制掩模部12变形。结果，能够抑制使用蒸镀掩模10形成的图案的位置处的精度降低。

形成掩模部12的材料能够使用以铁和镍为主成分的合金即铁-镍系合金。形成掩模部12的材料例如是含有30质量％以上的镍、以及余量的铁的合金。形成掩模部12的材料，在铁-镍系合金中进而优选含有36质量％的镍的合金即因瓦合金。形成掩模部12的材料也可以是含有42质量％的镍的合金即42合金。掩模部12除了铁以及镍以外，也可以含有铬、锰、碳以及钴等添加物。

在形成掩模部12的材料为铁-镍-钴系的合金的情况下，该材料是以铁、镍以及钴为主成分、且例如含有30质量％以上的镍、3质量％以上的钴以及余量的铁的合金。在铁-镍-钴系合金中进而优选将含有32质量％的镍以及4质量％以上5质量％以下的钴的合金即超因瓦合金作为用于形成掩模部12的材料。在超因瓦合金中，与32质量％的镍以及4质量％以上5质量％以下的钴相对的余量，有时包含作为主成分的铁以外的添加物。添加物例如为铬、锰以及碳等。铁-镍-钴系合金所含的添加物最大为0.5质量％以下。

另外，蒸镀对象S优选为玻璃基板。在蒸镀对象S为玻璃基板的情况下，掩模部12为因瓦合金制，由此能够抑制蒸镀对象S的线膨胀系数与掩模部12的线膨胀系数之差变大。另外，蒸镀对象S也可以是玻璃基板与树脂层的层叠体。在该情况下，也可以在蒸镀对象S所具备的树脂层形成图案。另外，蒸镀对象S也可以是树脂膜。形成树脂层以及树脂膜的材料例如优选为聚酰亚胺树脂。

图2表示沿着与掩模框架11的背面11R正交的面的、蒸镀掩模10的截面构造。图2仅表示蒸镀掩模10的截面构造中的包括一个框架孔11H和一个掩模部12的局部构造。

如图2所示，掩模框架11具备主体部11A以及多个框状部11B。主体部11A具备表面11AF、与表面11AF相反侧的背面11AR、以及多个第一开口部11AH。表面11AF是第一表面的一个例子，背面11AR是第一背面的一个例子。第一开口部11AH贯通表面11AF与背面11AR之间。主体部11A具有第一开口部11AH中的主体部11A的背面11AR处的开口被扩开而成的阶差部AH1。

各框状部11B具有以划分出与彼此不同的第一开口部11AH中的表面11AF的开口对置的第二开口部11BH的方式嵌入阶差部AH1的框状。换言之，各框状部11B的第二开口部11BH的表面11BF处的位置，与不同于与其他第二开口部11BH的表面11BF处的位置对齐的第一开口部11AH的表面11AF处的位置的、第一开口部11AH的表面11AF处的位置对齐。

各框状部11B具备表面11BF和背面11BR。表面11BF是第二表面的一个例子，背面11BR是第二背面的一个例子。框状部11B的背面11BR是向与阶差部AH1相反侧露出的露出面的一个例子。各框状部11B构成为，能够从主体部11A的阶差部AH1拆卸。

各掩模部12具有多个掩模孔12H。各掩模部12以覆盖彼此不同的一个框状部11B所具有的第二开口部11BH的方式，与框状部11B的背面11BR接合。换言之，各掩模部12接合于不同于与其他掩模部12接合的框状部11B的、框状部11B的背面11BR。掩模部12例如通过焊接与框状部11B的背面11BR接合。

在将蒸镀掩模10所具备的掩模部12更换为新的掩模部12时，能够将掩模部12与能够从主体部11A拆卸的框状部11B一起从主体部11A拆卸。由此，由于掩模部12相对于框状部11B的接合而形成于框状部11B的接合痕也被从主体部11A去除。因此，通过对主体部11A嵌合新的框状部11B，且对新的框状部11B接合新的掩模部12，由此能够得到蒸镀掩模10。如此，在对掩模框架11重新接合掩模部12时，不需要针对掩模框架11所具有的接合痕的加工，因此能够容易地进行掩模部12相对于掩模框架11的重新接合。

框状部11B位于阶差部AH1，因此与主体部11A不具有阶差部AH1的情况相比，能够减小主体部11A的背面11AR与掩模部12之间的间隙。因此，在蒸镀掩模10与蒸镀对象相接触的情况下，能够减小蒸镀对象中与蒸镀掩模10接触的部分与未与蒸镀掩模10接触的部分被作用的力之差。

在与主体部11A的背面11AR对置的俯视时，框状部11B的外形具有矩形状，且框状部11B划分出矩形状的区域。框状部11B具备掩模部12所接合的背面11BR以及与背面11BR相反侧的表面11BF。背面11BR是相对于表面11BF位于与主体部11A的表面11AF相反侧的面。

在与主体部11A的背面11AR正交的截面中，框状部11B的第二开口部11BH具有梯形状。另一方面，在与主体部11A的背面11AR正交的截面中，主体部11A的各第一开口部11AH具有在表面11AF开口且具有梯形状的部分、与在背面11AR开口且具有长方形的部分相连接而成的形状。框状部11B嵌入于主体部11A的阶差部AH1，由此通过主体部11A的第一开口部11AH、框状部11B的第二开口部11BH形成一个框架孔11H。在与主体部11A的背面11AR正交的截面中，框架孔11H具有梯形状。

另外，在与主体部11A的背面11AR正交的截面中，框架孔11H也可以具有梯形状以外的形状。例如，框架孔11H可以具有从表面11AF朝向背面11AR变得尖细的半圆弧状，也可以具有矩形状。

框架孔11H是从蒸镀源气化或者升华的蒸镀材料的通路。框架孔11H具有梯形状、换言之为沿着从主体部11A的表面11AF朝向背面11AR的方向而顶端变尖细的形状，由此能够抑制掩模框架11的阴影效应。

在与主体部11A的背面11AR正交的截面中，框状部11B具有主体部11A的阶差部AH1的深度D以上的厚度TB。在本实施方式中，主体部11A的阶差部AH1所具有的深度D与框状部11B所具有的厚度TB相等。在框状部11B嵌入于主体部11A的阶差部AH1的情况下，框状部11B的背面11BR与主体部11A的背面11AR成为齐平面。因此，能够抑制主体部11A的背面11AR相对于框状部11B的背面11BR突出，由此能够抑制在掩模部12与蒸镀对象S之间形成间隙。

另外，在框状部11B的厚度TB大于阶差部AH1的深度D的情况下，框状部11B的背面11BR相对于主体部11A的背面11AR突出。因此，与框状部11B的背面11BR和主体部11A的背面11AR成为齐平面的情况相同，能够抑制主体部11A的背面11AR相对于框状部11B的背面11BR突出，由此能够抑制在掩模部12与蒸镀对象S之间形成间隙。

在与主体部11A的背面11AR正交的截面中，框状部11B的厚度TB薄于主体部11A的厚度TA。主体部11A的厚度TA例如可以为5mm以上50mm以下。框状部11B的厚度TB例如可以为100μm以上10mm以下。

上述掩模框架11的表面11F是主体部11A的表面11AF。与此相对，掩模框架11的背面11R由主体部11A的背面11AR、各框状部11B的背面11BR形成。

另外，在与主体部11A的背面11AR正交的截面中，也可以是，框状部11B中的将表面11BF与背面11BR相连的侧面具有曲率中心在框状部11B内或者在框状部11B的厚度方向上位于相对于框状部11B的掩模部12侧那样的曲率。另外，在从与主体部11A的背面11AR对置的视点观察时，也可以是，第二开口部11BH中的背面11BR的开口所具有的角部具有曲率中心位于该开口内那样的曲率。另外，在从与主体部11A的背面11AR对置的视点观察时，也可以是，框状部11B的外缘所具有的角部具有曲率中心位于框状部11B内那样的曲率。

另外，在从与主体部11A的背面11AR对置的视点观察时，也可以是，阶差部AH1的内缘所具有的角部具有曲率中心位于阶差部AH1的内缘所包围的区域内那样的曲率。另外，在从与主体部11A的表面11AF对置的视点观察时，也可以是，第一开口部11AH中的表面11AF的开口所具有的角部具有曲率中心位于该开口内那样的曲率。

由于各角部具有曲率，因此与各角部不具有曲率的情况相比，在将框状部11B相对于主体部11A嵌入时，能够抑制框状部11B与主体部11A所具有的角部接触而引起的损伤、主体部11A与框状部11B所具有的角部接触而引起的损伤。

掩模框架11能够具备将框状部11B固定于主体部11A的固定部。图3示意性地表示固定部的一个例子。固定部将框状部11B以能够从主体部11A拆卸的方式固定于主体部11A。

在框状部11B由具有磁性的金属形成的情况下，主体部11A能够具备以能够从主体部11A拆卸的方式通过磁吸附将框状部11B固定于主体部11A的固定部。由此，框状部11B磁吸附于主体部11A，因此与使用螺钉等紧固部件将框状部11B相对于主体部11A固定的情况相比，与主体部11A相对的框状部11B的位置处的精度不易降低。

例如，如图3所示，主体部11A能够在主体部11A的内部具备磁铁11AM。磁铁11AM例如是永久磁铁。磁铁11AM能够具有第一状态与第二状态。第一状态是磁铁11AM位于沿着对阶差部AH1进行划分的面的位置的状态，由此磁铁11AM通过磁吸附将框状部11B固定于主体部11A。另一方面，第二状态是与第一状态相比、磁铁11AM从对阶差部AH1进行划分的面远离的状态，在磁铁11AM具有第二状态的情况下，磁铁11AM解除框状部11B相对于主体部11A的固定。

因此，在磁铁11AM为第一状态的情况下，能够将框状部11B固定于主体部11A。然后，通过将磁铁11AM的状态从第一状态变更为第二状态，能够将已固定于主体部11A的框状部11B从主体部11A拆卸。

图4示意性地表示与框状部11B接合的掩模部12的平面构造。图5表示沿着与掩模部12扩展的平面正交的截面的掩模部12的构造。

如图4所示，掩模部12具备形成有多个掩模孔12H的掩模区域12A、以及不具有掩模孔12H的周边区域12B。周边区域12B包围掩模区域12A。周边区域12B的一部分与框状部11B接合。

在图4所示的例子中，掩模部12仅具备一个掩模区域12A。另外，掩模部12也可以具有多个掩模区域12A。在掩模部12具备多个掩模区域12A的情况下，彼此相邻的掩模区域12A被周边区域12B相互区分。另外，也可以是，在蒸镀掩模10所具备的多个掩模部12的全部中，各掩模部12所具有掩模区域12A的数量相同。或者，也可以是，在多个掩模部12中包括具备第一数量的掩模区域12A的掩模部12、以及具备第二数量的掩模区域12A的掩模部12。第二数量与第一数量不同。

如图5所示，掩模部12具备表面12F以及与表面12F相反侧的背面12R。表面12F是用于通过在掩模框架11的框架孔11H所划分出的区域中露出而在蒸镀装置内与蒸镀源对置的面。背面12R是用于在蒸镀装置内与蒸镀对象S接触的面。

掩模部12可以由单个金属板形成，也可以由多个金属板形成。在掩模部12由多个金属板形成的情况下，多个金属板在掩模部12的厚度方向上层叠。对掩模孔12H进行划分的孔侧面在沿着掩模部12的厚度方向的截面中，具有从表面12F朝向背面12R而顶端变尖细的半圆弧状。各掩模孔12H从彼此相邻的掩模孔12H分离。另外，各掩模孔12H也可以与彼此相邻的掩模孔12H相连。

表面12F是与掩模框架11的框状部11B接合的面。表面12F包括掩模孔12H的开口即表面开口H1。背面12R包括掩模孔12H的开口即背面开口H2。在从与表面12F对置的视点观察时，表面开口H1的大小大于背面开口H2。各掩模孔12H是从蒸镀源气化或者升华的蒸镀粒子通过的通路。从蒸镀源气化或者升华的蒸镀粒子从表面开口H1朝向背面开口H2在掩模孔12H内前进。在掩模孔12H中，由于表面开口H1大于背面开口H2，因此在从朝向掩模部12飞行的蒸镀粒子观察蒸镀对象时，能够减少由于蒸镀掩模10而成为阴影的部分、即能够抑制阴影效应。

掩模部12的厚度例如为1μm以上15μm以下。根据这种较薄的掩模部12，能够抑制对于从表面开口H1进入的蒸镀粒子的阴影效应。

[蒸镀掩模的制造方法]

参照图6至图15对蒸镀掩模10的制造方法进行说明。

蒸镀掩模10的制造方法包括：对具有贯通表面11BF与背面11BR之间的第二开口部11BH的框状部11B接合掩模部12的步骤；以及对具有贯通表面11AF与背面11AR之间的第一开口部11AH的主体部11A安装具有第二开口部11BH的框状部11B的步骤。接合掩模部12的步骤包括以覆盖第二开口部11BH的方式在框状部11B的背面11BR接合掩模部12的步骤。

安装框状部11B的步骤包括：在与主体部11A的表面11AF相对的主体部11A的背面11AR侧，以第二开口部11BH的表面11BF处的开口与第一开口部11AH中的表面11AF的开口对置、且能够从主体部11A拆卸的方式安装框状部11B的步骤。即，安装框状部11B的步骤包括：以第二表面上的第二开口部11BH的位置与第一表面上的第一开口部11AH的位置对齐的方式，在第一背面侧将框状部11B以能够拆卸的方式安装于主体部11A的步骤。以下，参照附图对蒸镀掩模10的制造方法更详细地进行说明。

另外，图6至图11示出从准备用于形成掩模部12的基材的工序到形成掩模部12为止的工序。另外，图12至图15示出从将掩模部12与掩模框架11接合的工序到从掩模部12拆卸支承体的工序。另外，在图12至图15中，为了方便图示而示出掩模框架11仅具有一个框架孔11H、且蒸镀掩模10具有一个掩模部12的构造。

如图6至图11所示，在蒸镀掩模10的制造方法中，首先准备用于形成掩模部12的基材20(参照图6)。掩模部12的基材20具备用于形成掩模部12的金属板21、以及用于支承金属板21的支承体22。支承体22由树脂层22a以及玻璃基板22b形成。在基材20中，树脂层22a由金属板21与玻璃基板22b夹持。

如上述那样，金属板21可以由铁-镍系合金形成。玻璃基板22b可以由从由无碱玻璃、石英玻璃、结晶玻璃、硼硅酸盐玻璃、高硅酸盐玻璃、多孔玻璃、钠钙玻璃构成的组中选择的任一种形成。

接着，对金属板21从表面21F进行蚀刻，由此使金属板21的厚度减薄。例如，能够将金属板21的厚度减少到蚀刻前的金属板21的厚度的1/2以下的厚度(参照图7)。然后，在金属板21的表面21F上形成抗蚀剂层PR(参照图8)。对抗蚀剂层PR进行曝光以及显影，由此在表面21F上形成抗蚀剂掩模RM(参照图9)。

接下来，使用抗蚀剂掩模RM对金属板21从表面21F进行湿式蚀刻。由此，在金属板21形成多个掩模孔12H(参照图10)。在金属板21的湿式蚀刻中，在表面21F形成表面开口H1，然后，在背面21R形成小于表面开口H1的背面开口H2。接着，从表面21F去除抗蚀剂掩模RM，由此制造出掩模部12(参照图11)。另外，金属板21的表面21F对应于掩模部12的表面12F，金属板21的背面21R对应于掩模部12的背面12R。

在准备基材20的工序(参照图6)中包括：在金属板21与玻璃基板22b之间夹持树脂层22a，经由树脂层22a将金属板21与玻璃基板22b接合的工序。在金属板21、树脂层22a以及玻璃基板22b被接合时，首先，在金属板21以及玻璃基板22b各自所具有的面中，至少与树脂层22a相接的面被进行CB(Chemical bonding)处理。金属板21以及玻璃基板22b中被进行CB处理的面为对象面。在CB处理中，例如，在对象面上涂敷药液，由此向对象面赋予对于树脂层22a具有反应性的官能团等。在CB处理中，例如向对象面赋予Si系化合物等。

然后，在将金属板21、树脂层22a以及玻璃基板22b按照记载的顺序重叠之后，对它们进行热压。此时，使金属板21的对象面以及玻璃基板22b的对象面与树脂层22a接触。由此，向对象面赋予的官能团与位于树脂层22a的表面的官能团反应，由此金属板21与树脂层22a被接合，且玻璃基板22b与树脂层22a被接合。

树脂层22a优选为聚酰亚胺制。在该情况下，金属板21的线膨胀系数、树脂层22a的线膨胀系数以及玻璃基板22b的线膨胀系数为相同程度。因此，在制造蒸镀掩模10的过程中，即使由金属板21、树脂层22a以及玻璃基板22b形成的层叠体被加热，也能够抑制由于形成层叠体的层间的线膨胀系数之差引起的层叠体的翘曲。

制造金属板21的方法使用电解或者轧制。作为通过这些方法获得的金属板21的后处理，适当地使用研磨、退火等。在金属板21的制造中使用电解的情况下，在电解所使用的电极的表面上形成金属板21。然后，使金属板21从电极的表面分型。由此，制造出金属板21。在上述接合工序中，优选经由树脂层22a将具有10μm以上的厚度的金属板21与玻璃基板22b接合。另外，在通过轧制来制造金属板21的情况下，金属板21的厚度优选为15μm以上。在通过电解来制造金属板21的情况下，金属板21的厚度优选为10μm以上。

在对金属板21形成抗蚀剂掩模RM之前使金属板21的厚度减少的薄板化工序(参照图7)中，能够使用湿式蚀刻。如上述那样，在薄板化工序中，能够将薄板化后的金属板21的厚度减少到薄板化前的金属板21的厚度的1/2以下。因此，能够使金属板21的厚度为掩模部12的厚度的2倍以上。由此，即使掩模部12所要求的厚度如上述那样为15μm以下这样薄度，在将金属板21与玻璃基板22b接合之前，也能够使用刚性比蒸镀掩模10所具有的掩模部12高的金属板21。因此，与将具有与掩模部12相同厚度的金属板21与玻璃基板22b接合的情况相比，更容易将金属板21与玻璃基板22b接合。另外，能够省略使金属板21的厚度减少的工序。

用于通过湿式蚀刻使金属板21薄板化的蚀刻液能够使用酸性的蚀刻液。在金属板21由因瓦合金形成的情况下，蚀刻液只要是能够对因瓦合金进行蚀刻的蚀刻液即可。酸性的蚀刻液例如可以是对高氯酸铁溶液以及高氯酸铁溶液与三氯化铁溶液的混合液中的任一种混和了高氯酸、盐酸、硫酸、蚁酸以及醋酸中的任一种而得到的溶液。对表面21F进行蚀刻的方式能够使用浸入式、喷淋式、旋涂式中的任一种。

在用于对金属板21形成多个掩模孔12H的蚀刻工序(参照图10)中，作为蚀刻液而能够使用酸性的蚀刻液。在金属板21由因瓦合金形成时，蚀刻液能够使用在上述薄板化工序中能够使用的蚀刻液中的任一种。用于形成掩模孔12H的蚀刻方式中也能够使用在薄板化工序中能够使用的方式中的任一种。

另外，准备基材20的工序能够包括：在将金属板21、树脂层22a以及玻璃基板22b相互接合之前，从金属板21中的一个面使金属板21薄板化的工序。在该情况下，准备基材20的工序所包含的薄板化工序是第一薄板化工序，在准备基材20的工序之后进行的薄板化工序是第二薄板化工序。

在第一薄板化工序中，金属板21被从第一面进行蚀刻而薄板化。与此相对，在第二薄板化工序中，金属板21被从与第一面不同的第二面进行蚀刻而薄板化。第一面被蚀刻之后得到的面是金属板21中与树脂层22a接合的面，且是被进行CB处理的面。

通过对金属板21的第一面与第二面的两方进行蚀刻，由此能够从第一面与第二面的两方对金属板21的残留应力进行调节。由此，与仅对一个面进行蚀刻的情况相比，能够抑制蚀刻后的金属板21的残留应力产生偏差。因此，在将从金属板21得到的掩模部12与掩模框架11接合的情况下，能够抑制掩模部12产生褶皱。在金属板21中，通过第一面的蚀刻而获得的面对应于掩模板的背面12R，通过第二面的蚀刻而获得的面对应于掩模部12的表面12F。

另外，对于金属板21从第一面进行蚀刻时的蚀刻量为第一蚀刻量，从第二面进行蚀刻时的蚀刻量为第二蚀刻量。第一蚀刻量与第二蚀刻量可以相等、也可以不同。在第一蚀刻量与第二蚀刻量不同的情况下，可以是第一蚀刻量大于第二蚀刻量，也可以是第二蚀刻量大于第一蚀刻量。但是，在第二蚀刻量大于第一蚀刻量的情况下，金属板21由树脂层22a与玻璃基板22b支承的状态下的蚀刻量更大，因此金属板21的处理性良好，结果，金属板21的蚀刻较容易。

如图12至图15所示，掩模框架11的一部分与掩模部12一部分被接合(参照图12)。此时，以各掩模部12各覆盖一个彼此不同的框架孔11H的方式，将多个掩模部12与单个的掩模框架11接合。然后，从树脂层22a拆卸玻璃基板22b(参照图14)。接着，从各掩模部12拆卸树脂层22a(参照图15)。由此，能够得到上述蒸镀掩模10。

如图12所示，在将掩模框架11的一部分与掩模部12的一部分进行接合的工序中，首先准备掩模框架11。此时，通过将框状部11B嵌入主体部11A的阶差部AH1，由此形成掩模框架11。掩模框架11可以是因瓦合金制，也可以由因瓦合金以外的金属形成。因瓦合金以外的金属例如可以是不锈钢。用于形成主体部11A的金属与用于形成框状部11B的金属，可以相互相同、也可以彼此不同。

在将掩模部12与掩模框架11的框状部11B接合的工序(参照图12)中，作为接合方法能够使用激光焊接。穿过玻璃基板22b与树脂层22a对掩模部12中的周边区域12B所包含的部分照射第一激光光线L1。因此，玻璃基板22b以及树脂层22a需要相对于第一激光光线L1具有透射性。换言之，第一激光光线L1需要具有能够透射玻璃基板22b以及树脂层22a的波长。通过沿着第二开口部11BH的边缘间歇地照射第一激光光线L1，由此形成间歇的接合部。另一方面，通过沿着第二开口部11BH的边缘连续地持续照射第一激光光线L1，由此形成连续的接合部。由此，掩模部12被焊接于掩模框架11的框状部11B。第一激光光线L1所具有的波长优选为355nm。

图13将图12所示的区域A放大表示。在区域A中包含通过掩模部12相对于框状部11B的焊接而形成的接合痕，在图13中示意性地示出接合痕。

如图13所示，各框状部11B具备通过掩模部12相对于该框状部11B的焊接而形成的焊接痕11BW。在相对于框状部11B激光焊接掩模部12时，对掩模部12以及框状部11B照射第一激光光线L1。通过对掩模部12照射第一激光光线L1，掩模部12中第一激光光线L1所照射的部位以沿着从框状部11B的背面11BR朝向表面11BF的方向向框状部11B凹入的方式变形。由此，在框状部11B形成有掩模部12的一部分凹入的量的凹陷。即，框状部11B所具有焊接痕11BW是形成于背面11BR的凹陷。

拆卸支承体22的工序包括第一工序(参照图14)和第二工序(参照图15)。在第一工序中，对树脂层22a与玻璃基板22b的界面照射第二激光光线L2。第二激光光线L2具有透射玻璃基板22b且由树脂层22a吸收的波长。由此，从树脂层22a拆卸玻璃基板22b。第二激光光线L2所具有的波长优选为308nm或355nm。

在第一工序中，通过对树脂层22a与玻璃基板22b的界面照射第二激光光线L2，由此使树脂层22a吸收第二激光光线L2的热量。由此，树脂层22a被加热，由此能够降低树脂层22a与玻璃基板22b之间的化学结合强度。然后，将玻璃基板22b从树脂层22a拆卸。在第一工序中，优选对接合部的整体照射第二激光光线L2，但只要能够使接合部整体中的玻璃基板22b与树脂层22a之间的结合强度降低，则也可以对接合部的一部分照射第二激光光线L2。

在第二激光光线L2所具有的波长中，优选玻璃基板22b的透射率高于树脂层22a的透射率。由此，与玻璃基板22b的透射率低于树脂层22a的透射率的情况相比，能够提高树脂层22a中形成玻璃基板22b与树脂层22a的界面的部分被加热的效率。

如上述那样，树脂层22a优选为聚酰亚胺制。树脂层22a在聚酰亚胺中进而优选由有色的聚酰亚胺形成。玻璃基板22b优选为透明。

在第二工序中，在第一工序之后使用药液LM使树脂层22a溶解，由此从掩模部12拆卸树脂层22a。药液LM能够使用能够使形成树脂层22a的材料溶解的液体，且是对于形成掩模部12的材料不具有反应性的液体。药液LM例如能够使用碱性的溶液。碱性的溶液例如可以是氢氧化钠水溶液。另外，在图15中，作为使树脂层22a与药液LM接触的方法而例示了浸入法，但使树脂层22a与药液LM接触的方法也能够使用喷射式以及旋涂式。

如此，在从掩模部12拆卸支承体22的工序中，通过第一工序从树脂层22a拆卸玻璃基板22b，且通过第二工序从掩模部12拆卸树脂层22a。因此，与通过基于对玻璃基板22b、树脂层22a以及掩模部12的层叠体施加的外力而产生的界面破坏来从掩模部12拆卸支承体22的情况相比，能够减小对掩模部12作用的外力。由此，能够抑制由于支承体22的拆卸而引起的掩模部12的变形，进而能够抑制掩模部12所具有的掩模孔12H的变形。

另外，如上述那样，对于框状部11B，可以在向主体部11A的阶差部AH1嵌入了框状部11B之后接合掩模部12，也可以在向主体部11A的阶差部AH1嵌入框状部11B之前接合掩模部12。

[蒸镀掩模的作用]

参照图16说明对框状部11B焊接了掩模部12的蒸镀掩模10的作用。图16表示从掩模框架11的主体部11A将掩模部12与框状部11B一起拆卸的工序。

如图16所示，在将已接合于掩模框架11的掩模部12更换为新的掩模部12时，掩模部12与框状部11B一起被从主体部11A拆卸。因此，通过掩模部12相对于掩模框架11的焊接而形成的焊接痕11BW与框状部11B一起被从主体部11A去除。

通过掩模部12的焊接而形成于掩模框架11的焊接痕11BW是在掩模框架11中形成于掩模部12所接合的面的凹陷。因此，为了从掩模框架11去除焊接痕11BW，需要从掩模框架11去除焊接痕11BW的加工、或者填埋焊接痕11BW的加工。在除了需要加工的掩模部12以外的掩模部12相对于掩模框架11接合的状态下，难以进行这些加工。因此，在掩模部12被焊接于框状部11B的情况下，能够更显著地得到通过在掩模框架11所具备的框状部11B接合有掩模部12而带来的效果。

另外，为了从掩模框架11去除焊接痕11BW，在将掩模框架11中包含焊接痕11BW的部分从掩模框架11中的除此以外的部分去除的情况下，框状部11B所划分的第二开口部11BH也有时被扩开。由此，在从与框状部11B的表面11BF对置的视点观察时，框状部11B所划分的第二开口部11BH的大小会改变。

在将新的掩模部12与掩模框架11接合时，也可以在将框状部11B嵌入于主体部11A之后，相对于框状部11B接合掩模部12。在该情况下，从与框状部11B一起安装于主体部11A的掩模部12拆卸玻璃基板22b以及树脂层22a。因此，在从掩模部12拆卸树脂层22a时，例如，需要以仅掩模部12以及树脂层22a与药液LM接触的方式将掩模框架11固定。

或者，也可以在相对于框状部11B接合了掩模部12之后，将框状部11B嵌入于主体部11A。在该情况下，从与框状部11B接合的掩模部12拆卸玻璃基板22b以及树脂层22a。因此，在从掩模部12拆卸树脂层22a时，例如，需要以仅掩模部12以及树脂层22a与药液LM接触的方式将框状部11B固定。

无论在哪种情况下，都会通过相对于框状部11B焊接掩模部12而在框状部11B形成焊接痕11BW。但是，框状部11B的焊接痕11BW被与作为更换对象的掩模部12一起从主体部11A去除，因此掩模部12相对于掩模框架11的重新接合较容易。另外，通过如此相对于掩模框架11重新接合掩模部12，由此能够对一个掩模框架11进行再利用。

[显示装置的制造方法]

参照图17对显示装置的制造方法进行说明。

显示装置的制造方法包括：使用通过蒸镀掩模10的制造方法制造的蒸镀掩模10，在蒸镀对象S上形成图案的步骤。以下，与蒸镀装置的一个例子一起对形成图案的工序进行说明。

如图17所示，蒸镀装置30具备收容蒸镀掩模10与蒸镀对象S的收容槽31。收容槽31构成为，将蒸镀对象S与蒸镀掩模10保持在收容槽31内的规定位置。保持蒸镀材料Mvd的保持部32以及对蒸镀材料Mvd进行加热的加热部33位于收容槽31内。保持部32所保持的蒸镀材料Mvd例如是有机发光材料。收容槽31使蒸镀对象S与蒸镀掩模10以蒸镀掩模10位于蒸镀对象S与保持部32之间、且蒸镀掩模10与保持部32对置的方式位于收容槽31内。蒸镀掩模10在掩模部12的背面12R与蒸镀对象S紧贴的状态下配置在收容槽31内。

在形成图案的工序中，蒸镀材料Mvd被加热部33加热，由此蒸镀材料Mvd气化或者升华。气化或者升华的蒸镀材料Mvd穿过蒸镀掩模10的掩模部12所具备的掩模孔12H而附着于蒸镀对象S。由此，具有与蒸镀掩模10所具有的掩模孔12H的形状以及位置对应的形状的有机层被形成在蒸镀对象S的规定位置。另外，蒸镀材料Mvd也可以是用于形成显示层的像素电路所具备的像素电极的金属材料等。

如以上说明的那样，根据蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法的第一实施方式，能够得到以下记载的效果。

(1-1)在相对于掩模框架11重新接合掩模部12时，不需要对掩模框架11所具有的接合痕进行加工，因此能够容易地将掩模部12相对于掩模框架11进行重新接合。

(1-2)框状部11B的背面11BR与主体部11A的背面11AR为齐平面，因此能够抑制主体部11A的背面11AR相对于框状部11B的背面11BR突出，由此能够抑制在掩模部12与蒸镀对象S之间形成间隙。

(1-3)框状部11B磁吸附于主体部11A，因此与使用螺钉等紧固部件将框状部11B相对于主体部11A进行固定的情况相比，框状部11B相对于主体部11A的位置处的精度不易降低。

(1-4)在向框状部11B焊接掩模部12的情况下，通过掩模部与掩模框架11所具备的框状部11B接合，能够更显著地得到容易将掩模部12重新结合这样的效果。

(1-5)框状部11B位于阶差部AH1，因此能够减小主体部11A的背面11AR与掩模部12之间的间隙，由此能够减小蒸镀对象中与蒸镀掩模10接触的部分与未与蒸镀掩模10接触的部分被作用的力之差。

[第一实施方式的变更例]

另外，上述第一实施方式能够如以下那样变更地实施。

[固定部]

·固定部也可以不具备永久磁铁，例如也可以具备电磁铁。或者，固定部也可以不通过磁吸附而例如通过静电力以及真空吸附等将框状部11B相对于主体部11A进行固定。此外，或者，固定部也可以通过紧固部件将框状部11B相对于主体部11A进行固定。此外，或者，固定部也可以是含有铟的粘接材。

·主体部11A也可以不具有固定部。在该情况下，通过相对于嵌入在主体部11A所具有的阶差部AH1中的框状部11B接合掩模部12，能够得到符合上述(1-1)的效果。

[框状部]

·在与主体部11A的背面11AR正交的截面中，框状部11B所具有的厚度TB也可以小于主体部11A所具有的阶差部AH1的深度D。在该情况下也是，通过相对于嵌入在主体部11A所具有的阶差部AH1中的框状部11B接合掩模部12，能够得到符合上述(1-1)的效果。

此外，在该情况下，在与主体部11A的背面11AR正交的截面中，优选掩模部12的背面12R从主体部11A的背面11AR突出。由此，能够抑制在掩模部12与蒸镀对象S之间形成间隙，结果，能够提高形成于蒸镀对象S的图案的形状的精度。

[主体部]

·主体部11A也可以仅具备一个第一开口部11AH。在该情况下，蒸镀掩模10只要具备一个框状部11B与一个掩模部12即可。在该情况下，通过相对于嵌入在主体部11A所具有的阶差部AH1中的框状部11B接合掩模部12，由此能够得到符合上述(1-1)的效果。

·主体部11A也可以不具有阶差部AH1。在该情况下，框状部11B能够位于主体部11A所具有的平坦的背面11AR上。在该情况下，由于掩模框架11具有主体部11A与框状部11B，因此也能够得到符合上述(1-1)的效果。

[接合]

·掩模部12相对于框状部11B的接合并不限于激光焊接，例如也可以使用电阻焊接以及超声波焊接等。无论在这些中的那种情况下，通过相对于嵌入在主体部11A所具有的阶差部AH1中的框状部11B接合掩模部12，都能够得到符合上述(1-1)的效果。

·掩模部12相对于框状部11B的接合并不限于焊接，也可以使用粘合。在该情况下，作为将掩模部12与框状部11B接合的接合痕，而形成粘合层。通过相对于框状部11B粘合掩模部12且将框状部11B嵌入主体部11A，由此通过将形成有作为接合痕的粘合层的框状部11B更换为新的框状部11B，能够从主体部11A去除粘合层。

另外，在框状部11B与掩模部12的接合使用粘合的情况下，搭载蒸镀掩模10的蒸镀装置优选具备对蒸镀掩模10进行冷却的冷却部。另外，在提高框状部11B与掩模部12的接合的强度以及耐热性的观点下，掩模部12优选通过焊接与框状部11B接合。

[第二实施方式]

参照图18至图22对蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法的第二实施方式进行说明。在第二实施方式中，与第一实施方式相比，将框状部固定于主体部的构造不同。因此，以下，对这样的不同点详细地进行说明，另一方面，对于第二实施方式中与第一实施方式共通的构造，赋予与第一实施方式相同的附图标记并省略该构造的详细说明。

[蒸镀掩模]

图18表示从与掩模框架的背面对置的视点观察的蒸镀掩模的构造。另外，图18仅示出蒸镀掩模中的一个第一开口部与该第一开口部周边的构造。

如图18所示，蒸镀掩模40具备掩模框架41与掩模部12。与第一实施方式的掩模框架11相同，掩模框架41具备主体部41A与框状部41B。掩模框架41具备固定部41C。固定部41C将框状部41B固定于主体部41A。在图18所示的例子中，掩模框架41具备三个固定部41C。通过三个固定部41C将框状部41B固定于主体部41A，因此能够以较高的精度来决定掩模部12所扩展的平面上的框状部41B的位置。

在图18所示的例子中，框状部41B的外形具有矩形状。固定部41C分别位于框状部41B中对置的一对边中的一条边的各个端部、以及另一条边的中央部。固定部是第一位置调整部的一个例子。

图19表示沿着图18所示的XIX-XIX线的截面。XIX-XIX线是穿过两个固定部41C的线段。

如图19所示，与第一实施方式的主体部11A相同，主体部41A具备第一开口部41AH以及阶差部AH1。第一开口部41AH贯通表面41AF与背面41AR之间。主体部41A的阶差部AH1是位于背面41AR的凹陷，并且在与背面41AR对置的俯视时包围第一开口部41AH。

与第一实施方式的框状部11B相同，框状部41B具备第二开口部41BH。第二开口部41BH贯通表面41BF与背面41BR之间。在从与主体部41A的表面41AF对置的视点观察时，第二开口部41BH位于第一开口部41AH划分的区域内。框状部41B还具备固定孔BH1。本实施方式的框状部41B具备与固定部41C相同数量的固定孔BH1。各固定孔BH1构成为，能够供一个固定部41C位于该固定孔BH1。固定部41C以能够从主体部41A拆卸的方式将框状部41B固定于主体部41A。

在框状部41B的背面41BR接合有掩模部12。通过在第一实施方式以及第一实施方式的变更例中将掩模部12与框状部41B接合的方法中的任一种，将掩模部12与框状部41B接合。

图20表示掩模框架41中的一个固定部41C以及该固定部41C的周边构造。

如图20所示，固定部41C具备螺纹部41C1与吸附部41C2。在对固定孔BH1进行划分的面，形成有供螺纹部41C1螺合的未图示的槽。螺纹部41C1的外周面具有能够与固定孔BH1的槽螺合的形状。螺纹部41C1具有沿着从框状部41B的背面41BR朝向表面41BF的方向延伸的棒状。在螺纹部41C1的整体位于固定孔BH1内的情况下，在螺纹部41C1中，离背面41BR的距离较小的端部为基端，与基端相反侧的端部为前端。吸附部41C2位于螺纹部41C1的前端。

吸附部41C2由磁铁形成。主体部41A由强磁性体形成。或者，主体部41A的一部分且是包括吸附部41C2所接触的区域的部分由强磁性体形成。由此，在吸附部41C2与主体部41A接触的情况下，吸附部41C2被固定于主体部41A，由此框状部41B被固定于主体部41A。另外，图19以及图20表示吸附部41C2从主体部41A分离的状态，且是框状部41B未被固定于主体部41A的状态。

[固定方法]

参照图19至图22对框状部41B相对于主体部41A的固定方法进行说明。

如图19以及图20所示，在框状部41B未被固定于主体部41A的状态下，以吸附部41C2与主体部41A不接触的方式，固定部41C被安装于框状部41B。通过使固定部41C向第一旋转方向旋转，由此以使吸附部41C2接近框状部41B的表面41BF的方式变更固定部41C相对于框状部41B的位置。通过使固定部41C旋转到吸附部41C2与框状部41B的表面41BF成为齐平面，能够使吸附部41C2与主体部41A接触。由此，能够通过吸附部41C2所具有的磁力将框状部41B固定于主体部41A。

如图21所示，通过使固定部41C进一步向第一旋转方向旋转，由此能够使螺纹部41C1的前端从框状部41B的表面41BF突出。

如图22所示，框状部41B的表面41BF与螺纹部41C1的前端之间的距离为固定部41C的突出量。突出量越小，则框状部41B的背面41BR与主体部41A的背面41AR之间的距离越小。换言之，突出量越大，则框状部41B的背面41BR与主体部41A的背面41AR之间的距离越大。如此，根据固定部41C，在主体部41A的厚度方向上，能够使框状部41B相对于主体部41A的位置在第一位置与第二位置之间进行变更。因此，能够通过固定部41C来抑制由于多个框状部41B之间的厚度偏差而引起的掩模部12的位置偏移。

另外，在从主体部41A拆卸框状部41B时，只要使固定部41C向第二旋转方向旋转即可。第二旋转方向是与第一旋转方向相反的方向。由此，通过使螺纹部41C1的前端位于固定孔BH1内，由此能够在吸附部41C2与主体部41A之间形成间隙。结果，能够解除框状部41B相对于主体部41A的固定。

如此，根据本实施方式的蒸镀掩模40，通过固定部41C能够将框状部41B固定于主体部41A。并且，通过固定部41C能够变更框状部41B的背面41BR与主体部41A的背面41AR之间的距离。换言之，通过固定部41C，能够变更掩模部12的厚度方向上的框状部41B的位置。

如以上说明的那样，根据蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法的第二实施方式，除了上述(1-1)、(1-3)、(1-4)以外还能够得到以下记载的效果。

(2-1)通过固定部41C能够将框状部41B固定于主体部41A。

(2-2)通过固定部41C能够变更掩模部12的厚度方向上的框状部41B的位置。因此，通过固定部41C能够抑制由于多个框状部41B之间的厚度偏差而引起的掩模部12的位置偏移。

(2-3)通过用三个固定部41C将框状部41B固定于主体部41A，由此能够以较高的精度来决定掩模部12所扩展的平面上的框状部41B的位置。

[第二实施方式的变更例]

以上说明的第二实施方式能够如以下那样变更地实施。

[固定部]

·掩模框架41也可以具备四个以上的固定部41C。例如，在掩模框架41具备四个固定部41C的情况下，固定部41C可以分别位于框状部51B的角部。

·掩模框架41也可以仅具备两个固定部41C。在该情况下，固定部41C可以分别位于框状部41B的角部中的位于相同对角线上的角部。

[第三实施方式]

参照图23以及图24对蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法的第三实施方式进行说明。在第三实施方式中，与第一实施方式相比，将框状部固定于主体部的构造不同。因此，以下，对这样的不同点详细地进行说明，另一方面，在第三实施方式中对于与第一实施方式共通的构造，赋予与第一实施方式标注相同的附图标记而省略该构造的详细说明。

[蒸镀掩模]

图23表示从与掩模框架的背面对置的视点观察的蒸镀掩模的构造。另外，在图23中仅示出蒸镀掩模中的一个第一开口部以及该第一开口部的周边构造。

如图23所示，蒸镀掩模50具备掩模框架51与掩模部12。与第一实施方式的掩模框架11相同，掩模框架51具备主体部51A与框状部51B。主体部51A具有第一开口部51AH。在图23所示的例子中，第一开口部51AH的外形具有矩形状。主体部51A具备从对第一开口部51AH进行划分的侧面向第一开口部51AH内突出的多个支承台51A1。支承台51A1自从主体部51A的背面51AR朝向表面51AF的中途向第一开口部51AH内突出。

在图23所示的例子中，主体部51A针对每一个第一开口部51AH具备多个支承台51A1。在本例中，主体部51A针对每一个第一开口部51AH具备三个支承台51A1。在从与背面51AR对置的视点观察时，在第一开口部51AH所具有的角部中的在X轴上相邻的两个角部分别存在有支承台51A1。剩余的支承台51A1位于沿着X轴延伸的侧面中的与两个角部所位于的侧面对置的侧面的中央部。在从与背面51AR对置的视点观察时，各支承台51A1具有四边形状。

主体部51A还具备从对第一开口部51AH进行划分的侧面向第一开口部51AH内突出的多个固定片51A2。各固定片51A2自从主体部51A的背面51AR朝向表面51AF(参照图24)的中途向第一开口部51AH内突出。在图23所示的例子中，从对第一开口部51AH进行划分的侧面中的沿着Y轴延伸的侧面分别向第一开口部51AH内突出有一对固定片51A2。另外，从对第一开口部51AH进行划分的侧面中的沿着X轴延伸的侧面、且是支承台51A1未位于的侧面的中央部向第一开口部51AH内突出有一对固定片51A2。

框状部51B位于由X轴、与X轴正交的Y轴规定的XY平面上。与XY平面正交的轴为Z轴。框状部51B具备框主体51B1以及多个突出片51B2。框主体51B1具有矩形框状。框状部51B位于第一开口部51AH内。各突出片51B2位于框状部51B的表面51BF(参照图24)。各突出片51B2从框主体51B1朝向主体部51A的表面51AF而向下方延伸。在图23所示的例子中，框状部51B具备三个突出片51B2。在从与框状部51B的背面51BR对置的视点观察时，一个突出片51B2位于一对固定片51A2之间。另外，在图23中，框状部51B所划分的第二开口部由掩模部12覆盖。

图24表示沿着图23所示的XXIV-XXIV线的截面。

如图24所示，掩模框架51还具备X轴调整用螺钉51C、固定用螺钉51E以及Z轴调整用螺钉51F。在X轴上，框状部51B的突出片51B2由一对固定片51A2夹持，且由X轴调整用螺钉51C与固定用螺钉51E夹持。X轴调整用螺钉51C将突出片51B2安装于一对固定片51A2中的一方。固定用螺钉51E将突出片51B2安装于一对固定片51A2中的另一方。通过变更X轴调整用螺钉51C相对于突出片51B2的紧固量，能够变更X轴上的框状部51B的位置。

另外，掩模框架51还具备两个Y轴调整用螺钉51D和两个固定用螺钉51E(参照图23)。剩余的突出片51B2分别为，在Y轴上由一对固定片51A2夹持且由Y轴调整用螺钉51D与固定用螺钉51E夹持。Y轴调整用螺钉51D将突出片51B2安装于一对固定片51A2中的一方。固定用螺钉51E将突出片51B2安装于一对固定片51A2中的另一方。通过变更Y轴调整用螺钉51D相对于突出片51B2的紧固量，能够变更Y轴上的框状部51B的位置。

即，在本实施方式中，由X轴调整用螺钉51C、Y轴调整用螺钉51D、以及固定用螺钉51E构成第二位置调整部的一个例子。根据第二位置调整部，在框状部51B所扩展的平面中，能够将框状部51B相对于主体部51A的位置在第三位置与第四位置之间变更。因此，能够通过第二位置调整部抑制多个框状部51B之间的第二开口部的位置偏移。

Z轴调整用螺钉51F具有沿着Z轴延伸的棒状。Z轴调整用螺钉51F穿过沿着Z轴贯通支承台51A1的贯通孔，由此Z轴调整用螺钉51F被安装于主体部51A。在Z轴调整用螺钉51F与框状部51B接触的状态下，Z轴调整用螺钉51F中的与框状部51B接触的端部为前端，与前端相反侧的端部为基端。未图示的吸附部位于Z轴调整用螺钉51F的前端。吸附部由磁铁形成。框状部51B的框主体51B1由强磁性体形成。或者，框主体51B1的一部分、且是包括Z轴调整用螺钉51F所接触的区域的部分由强磁性体形成。由此，在Z轴调整用螺钉51F与框主体51B1接触的情况下，框主体51B1被固定于Z轴调整用螺钉51F。通过变更Z轴调整用螺钉51F的前端从支承台51A1突出的量，能够变更Z轴上的框状部51B的位置。即，在本实施方式中，Z轴调整用螺钉51F是第一位置调整部的一个例子。根据Z轴调整用螺钉51F，在主体部51A的厚度方向即Z轴上，能够通过Z轴调整用螺钉51F抑制由于多个框状部51B之间的厚度偏差而引起的掩模部12的位置偏移。

[固定方法]

以下，对框状部51B相对于主体部51A的固定方法进行说明。另外，在将框状部51B向主体部51A固定时，能够使用保持框状部51B的保持台。例如，在从与主体部51A的背面51AR对置的视点观察时，保持台在第一开口部51AH之中能够位于比支承台51A1靠内侧的区域。保持台具备载放部与升降部。框状部51B载放于载放部。升降部能够构成为，在Z轴上使载放部升降，以改变框状部51B相对于主体部51A的位置。

在本实施方式的蒸镀掩模50中，在将框状部51B向主体部51A进行固定时，首先，在使框状部51B保持于保持台的状态下，通过三个Z轴调整用螺钉51F来决定Z轴上的框状部51B的位置。此时，将各Z轴调整用螺钉51F从支承台51A1突出的量设定为规定的大小，接着将框状部51B相对于Z轴调整用螺钉51F进行固定。然后，使用固定用螺钉51E将各突出片51B2固定于固定片51A2。接着，在使用X轴调整用螺钉51C将框状部51B的突出片51B2固定于主体部51A的固定片51A2的同时，决定X轴上的框状部51B的位置。另外，在使用Y轴调整用螺钉51D将突出片51B2固定于固定片51A2的同时，决定Y轴中的框状部51B的位置。由此，在XY平面上以及Z轴上的规定位置处，框状部51B被固定于主体部51A。

另外，通过从框状部51B拆卸X轴调整用螺钉51C、Y轴调整用螺钉51D以及Z轴调整用螺钉51F，由此能够解除框状部51B相对于主体部51A的固定。

如以上说明的方式，蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法，除了上述(1-1)、(1-3)、(1-4)以外还能够得到以下记载的效果。

(3-1)使用X轴调整用螺钉51C以及Y轴调整用螺钉51D能够对XY平面上的框状部51B的位置进行调整。由此，能够抑制多个框状部51B之间的第二开口部的位置偏移。

(3-2)使用Z轴调整用螺钉51F能够对Z轴上的框状部51B的位置进行调整。由此，能够通过Z轴调整用螺钉51F抑制由于多个框状部51B之间的厚度偏差而引起的掩模部12的位置偏移。

[第三实施方式的变更例]

以上说明的第三实施方式能够如以下那样变更地实施。

[支承台]

·主体部51A也可以具备四个以上的支承台51A1。例如，在主体部51A具备四个支承台51A1的情况下，各支承台51A1也可以从第一开口部51AH的角部突出。另外，在主体部51A具备四个以上的支承台51A1的情况下，掩模框架51也可以具备与支承台51A1相同数量的Z轴调整用螺钉51F。

·主体部51A的支承台51A1也可以具有遍及第一开口部51AH的整周向第一开口部51AH突出的形状。即，主体部51A也可以具备第一开口部51AH中的主体部51A的背面51AR的开口扩开而成的阶差部。

[罩]

·蒸镀掩模50可以具备覆盖支承台51A1、固定片51A2以及突出片51B2的罩。在从与主体部51A的表面51AF对置的视点观察时，罩覆盖支承台51A1、固定片51A2以及突出片51B2。由此，在蒸镀掩模50搭载于蒸镀装置的情况下，罩位于蒸镀源与支承台51A1、固定片51A2以及突出片51B2之间。因此，通过罩能够抑制蒸镀材料附着于支承台51A1、固定片51A2以及突出片51B2。由此，通过罩还能够抑制蒸镀材料附着于X轴调整用螺钉51C、Y轴调整用螺钉51D、固定用螺钉51E、Z轴调整用螺钉51F。

[第四实施方式]

参照图25以及图26对蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法的第四实施方式进行说明。在第四实施方式中，与第一实施方式相比，将框状部固定于主体部的构造不同。因此，以下，对这样的不同点进行详细说明，另一方面，在第四实施方式中对于与第一实施方式共通的构造，赋予与第一实施方式相同的附图标记并省略该构造的详细说明。

[蒸镀掩模]

图25表示从与掩模框架的背面对置的视点观察的蒸镀掩模的构造。另外，在图25中仅示出蒸镀掩模中的一个第一开口部以及该第一开口部周边的构造。

如图25所示，蒸镀掩模60具备掩模框架61和掩模部12。与第一实施方式的掩模框架11相同，掩模框架61具备主体部61A和框状部61B。框状部61B具备框主体61B1和多个突出片61B2。框主体61B1具有矩形框状，并构成为能够支承掩模部12。框主体61B1位于由X轴、与X轴正交的Y轴规定的XY平面上。与XY平面正交的轴为Z轴。

突出片61B2从框主体61B1的边缘朝向比缘靠外侧突出。在图25所示的例子中，框状部61B具备三个突出片61B2。框状部61B具备从框主体61B1的边缘中的沿着X轴延伸的边沿着Y轴延伸的突出片61B2。框状部61B具备从框主体61B1的边缘中的沿着Y轴延伸的一条边沿着X轴延伸的突出片61B2、以及从框主体61B1的边缘中的沿着Y轴延伸的另一条边沿着X轴延伸的突出片61B2。

主体部61A具备支承部61A1以及多个固定片61A2。支承部61A1具有多个第一开口部61AH。各固定片61A2支承于支承部61A1。固定片61A2位于第一开口部61AH周围。在各固定片61A2固定有一个突出片61B2。在从与XY平面对置的视点观察时，在框状部61B固定于主体部61A的状态下，各固定片61A2具有将固定于该固定片61A2的突出片61B2包围的U字状。通过在固定片61A2固定有突出片61B2，由此支承部61A1对框主体61B1进行支承。

掩模框架61还具备X轴调整用螺钉61C、Y轴调整用螺钉61D以及固定用螺钉61E。在图25所示的例子中，掩模框架61具备一个X轴调整用螺钉61C、两个Y轴调整用螺钉61D以及三个固定用螺钉61E。

X轴调整用螺钉61C与一个固定用螺钉61E一起将沿着Y轴延伸的突出片61B2固定于包围该突出片61B2的固定片61A2。X轴调整用螺钉61C以及固定用螺钉61E在沿着X轴夹持着突出片61B2的状态下，将突出片61B2固定于固定片61A2。X轴调整用螺钉61C以及固定用螺钉61E均是具有能够相对于对形成于固定片61A2的贯通孔进行划分的侧面进行螺合的形状的螺钉。通过变更X轴调整用螺钉61C的紧固量，能够变更X轴上的突出片61B2的位置，进而变更框状部61B的位置。

各Y轴调整用螺钉61D与一个固定用螺钉61E一起将沿着X轴延伸的突出片61B2固定于包围该突出片61B2的固定片61A2。Y轴调整用螺钉61D以及固定用螺钉61E在沿着Y轴夹持着突出片61B2的状态下，将突出片61B2固定于固定片61A2。Y轴调整用螺钉61D以及固定用螺钉61E均是具有能够相对于对形成于固定片61A2的贯通孔进行划分的侧面进行螺合的螺钉。通过变更Y轴调整用螺钉61D的紧固量，能够变更Y轴上的突出片61B2的位置，进而变更框状部61B的位置。

即，在本实施方式中，通过X轴调整用螺钉61C、Y轴调整用螺钉61D以及固定用螺钉61E构成第二位置调整部的一个例子。

掩模框架61还具备多个Z轴调整用螺钉61F。在图25所示的例子中，具备三个Z轴调整用螺钉61F。在从与XY平面对置的视点观察时，一个Z轴调整用螺钉61F位于框主体61B1的边缘中的沿着Y轴延伸的固定片61A2所位于的部分附近。剩余的Z轴调整用螺钉61F分别位于框主体61B1所具有的角部中的在X轴上相邻的两个角部、且是与上述一个Z轴调整用螺钉61F所位于的部分一起形成三角形的顶部。

图26表示沿着图25所示的XXVI-XXVI线的截面。

如图26所示，各Z轴调整用螺钉61F安装在形成于支承部61A1的贯通孔中。各Z轴调整用螺钉61F具备螺纹部61F1和吸附部61F2。螺纹部61F1具有沿着Z轴延伸的棒状。在Z轴调整用螺钉61F安装于支承部61A1的状态下，螺纹部61F1的端部中的离框状部61B的距离较小的端部为前端，与前端相反侧的端部为基端。吸附部61F2位于螺纹部61F1的前端。

吸附部61F2由磁铁形成。框状部61B的框主体61B1由强磁性体形成。或者，框主体61B1的一部分且是包括吸附部61F2所接触的区域的部分由强磁性体形成。由此，在吸附部61F2与框主体61B1接触的情况下，吸附部61F2被固定于框主体61B1。通过变更Z轴调整用螺钉61F从支承部61A1突出的量，由此能够变更Z轴上的框状部61B的位置。即，在本实施方式中，Z轴调整用螺钉61F是第一位置调整部的一个例子。

[固定方法]

以下，对框状部61B相对于主体部61A的固定方法进行说明。另外，在第四实施方式中，在将框状部61B向主体部61A进行固定时，能够使用与第三实施方式所记载的保持台相同的保持台。

在本实施方式的蒸镀掩模60中，在将框状部61B向主体部61A进行固定时，首先，在使保持台保持了框状部61B的状态下，调整Z轴调整用螺钉61F从支承部61A1突出的量，使位于Z轴调整用螺钉61F的前端的吸附部61F2吸附于框状部61B。由此，通过三个Z轴调整用螺钉61F来决定Z轴上的框状部61B的位置。然后，使用固定用螺钉61E将各突出片61B2固定于固定片61A2。接着，使用一个X轴调整用螺钉61C以及两个Y轴调整用螺钉61D来决定XY平面上的框状部61B的位置。由此，在XY平面上以及Z轴上的规定位置处，框状部61B被固定于主体部61A。另外，通过将X轴调整用螺钉61C、Y轴调整用螺钉61D以及Z轴调整用螺钉61F从框状部61B拆卸，由此能够解除框状部61B相对于主体部61A的固定。

如以上说明的那样，根据蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法的第四实施方式，除了上述(1-1)、(1-3)、(1-4)以外，还能够得到以下记载的效果。

(4-1)使用X轴调整用螺钉61C以及Y轴调整用螺钉61D，能够调整XY平面上的框状部61B的位置。由此，能够抑制多个框状部61B之间的第二开口部的位置偏移。

(4-2)使用Z轴调整用螺钉61F，能够调整Z轴上的框状部61B的位置。由此，能够通过Z轴调整用螺钉61F来抑制由多个框状部61B之间的厚度偏差而引起的掩模部12的位置偏移。

[第四实施方式的变更例]

以上说明的第四实施方式能够如以下那样变更地实施。

[框状部]

·框状部61B也可以具备四个以上的突出片61B2。例如，在框状部61B具备四个突出片61B2的情况下，框状部61B可以具备从框主体61B1的边缘中的沿着X轴延伸的一对边分别各突出两个的突出片61B2。在该情况下，主体部61A只要具有与突出片61B2相同数量的固定片61A2即可。

[Z轴调整用螺钉]

·掩模框架61也可以具备四个以上的Z轴调整用螺钉61F。例如，在掩模框架61具备四个Z轴调整用螺钉61F的情况下，在从与XY平面对置的视点观察时，Z轴调整用螺钉61F可以分别位于与框主体61B1的角部重叠的位置。

[第五实施方式]

参照图27以及图28对蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法的第五实施方式进行说明。在第五实施方式中，与第一实施方式相比，将框状部固定于主体部的构造不同。因此，以下，对这样的不同点进行详细说明，另一方面，在第五实施方式中对于与第一实施方式共通的构造，赋予与第一实施方式相同的附图标记而省略该构造的详细说明。

[蒸镀掩模]

图27表示从与掩模框架的背面对置的视点观察的蒸镀掩模的构造。另外，在图27中仅示出了蒸镀掩模中的一个第一开口部以及该第一开口部周边的构造。

如图27所示，蒸镀掩模70具备掩模框架71和掩模部12。与第一实施方式的掩模框架11相同，掩模框架71具备主体部71A和框状部71B。框状部71B具有矩形框状。框状部71B位于由X轴、与X轴正交的Y轴规定的XY平面上。与XY平面正交的轴为Z轴。

主体部71A具有第一开口部71AH。在从与主体部71A的背面71AR对置的视点观察时，第一开口部71AH的外形具有矩形状。在从与背面71AR对置的视点观察时，上述框状部71B位于第一开口部71AH内。主体部71A针对每一个第一开口部71AH具备多个凹陷71A1。多个凹陷71A1包括沿着X轴夹持第一开口部71AH的两对凹陷71A1、以及沿着Y轴夹持第一开口部71AH的两对凹陷71A1。在沿着X轴夹持第一开口部71AH的两对凹陷71A1中，各凹陷71A1与第一开口部71AH所具有的彼此不同的角部相邻。在沿着Y轴夹持第一开口部71AH的两对凹陷71A1中，各凹陷71A1与第一开口部71AH所具有的彼此不同的角部相邻。

掩模框架71还具备多个X轴调整用螺钉71C、多个Y轴调整用螺钉71D以及多个Z轴调整部71E。在图27所示的例子中，掩模框架71具备四个X轴调整用螺钉71C。

X轴调整用螺钉71C在框状部71B的角部各安装有一个。各X轴调整用螺钉71C具有从框状部71B的角部朝向框状部71B外延伸的棒状。在X轴调整用螺钉71C中，安装于框状部71B的端部为前端，与前端相反侧的端部为基端。X轴调整用螺钉71C的未图示的前端具有球状，保持在形成于框状部71B的槽内。因此，X轴调整用螺钉71C的前端未固定于框状部71B。X轴调整用螺钉71C穿过形成在第一开口部71AH与凹陷71A1之间的贯通孔，由此，X轴调整用螺钉71C被支承于主体部71A。X轴调整用螺钉71C的基端位于凹陷71A1内。通过变更X轴调整用螺钉71C向凹陷71A1内突出的量，由此能够变更X轴上的框状部71B的位置。X轴调整用螺钉71C突出的量能够通过X轴调整用螺钉71C的紧固量来变更。

掩模框架71具备四个Y轴调整用螺钉71D。Y轴调整用螺钉71D在框状部71B的角部各安装有一个。各Y轴调整用螺钉71D具有从框状部71B的角部朝向框状部71B外延伸的棒状。在Y轴调整用螺钉71D中，安装于框状部71B的端部为前端，与前端相反侧的端部为基端。Y轴调整用螺钉71D的未图示的前端具有球状，保持在形成于框状部71B的槽内。因此，Y轴调整用螺钉71D的前端未固定于框状部71B。Y轴调整用螺钉71D穿过形成在第一开口部71AH与凹陷71A1之间的贯通孔，由此，Y轴调整用螺钉71D被支承于主体部71A。Y轴调整用螺钉71D的基端位于凹陷71A1内。通过变更Y轴调整用螺钉71D向凹陷71A1内突出的量，由此能够变更Y轴上的框状部71B的位置。Y轴调整用螺钉71D突出的量能够通过Y轴调整用螺钉71D的紧固量来变更。

即，在本实施方式中，通过X轴调整用螺钉71C以及Y轴调整用螺钉71D构成第二位置调整部的一个例子。

图28表示沿着图27所示的XXVIII-XXVIII线的截面。

如图28所示，主体部71A具备第一开口部71AH中的主体部71A的背面71AR的开口扩开而成的阶差部AH1。掩模框架71具备四个Z轴调整部71E。在Z轴上，在对阶差部AH1进行划分的侧面与框状部71B的角部之间存在有一个Z轴调整部71E。

各Z轴调整部71E为弹性体，例如为弹簧。通过在Z轴调整部71E上载放框状部71B，由此Z轴调整部71E根据从框状部71B赋予的负载而收缩。因此，Z轴上的框状部71B的位置根据Z轴调整部71E的弹力、以及框状部71B对Z轴调整部71E赋予的负载来决定。另外，Z轴调整部71E被赋予的负载中不仅包括基于框状部71B的重量的负载，可以还包括基于框状部71B上所载放的蒸镀对象的负载。蒸镀对象如上述那样例如为玻璃基板。在玻璃基板中，在与框状部71B接触的面上形成有用于将形成于玻璃基板的像素与其他像素隔开的堤岸。因此，在框状部51B上载放有玻璃基板的情况下，经由玻璃基板所具有的堤岸，基于玻璃基板的负载被赋予给Z轴调整部71E。

[固定方法]

以下，对框状部71B相对于主体部71A的固定方法进行说明。另外，在第五实施方式中，在将框状部71B向主体部71A进行固定时，能够使用与第三实施方式所记载的保持台相同的保持台。

在本实施方式的蒸镀掩模70中，在将框状部71B向主体部71A进行固定时，首先，在使保持台保持了框状部71B的状态下，使框状部71B保持安装于主体部71A的X轴调整用螺钉71C以及Y轴调整用螺钉71D。接着，调整X轴调整用螺钉71C向凹陷71A1内突出的量以及Y轴调整用螺钉71D向凹陷71A1内突出的量的至少一方。由此，在XY平面上的规定位置处，将框状部71B固定于主体部71A。然后，通过从框状部71B拆卸保持台，由此使框状部71B的负载作用于Z轴调整部71E。由此，框状部71B在Z轴上的规定位置处由Z轴调整部71E支承。另外，通过将X轴调整用螺钉71C以及Y轴调整用螺钉71D从框状部71B拆卸，由此能够解除框状部71B相对于主体部71A的固定。

如以上说明的那样，根据蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法的第五实施方式，除了上述(1-1)、(1-4)以外，还能够得到以下记载的效果。

(5-1)使用X轴调整用螺钉71C以及Y轴调整用螺钉71D，能够调整XY平面上的框状部61B的位置。由此，能够抑制多个框状部71B之间的第二开口部的位置偏移。

[第五实施方式的变更例]

另外，上述第五实施方式能够如以下那样变更地实施。

[X轴调整用螺钉]

·掩模框架71也可以仅具有三个X轴调整用螺钉71C。在该情况下，可以省略上述掩模框架71所具备的四个X轴调整用螺钉71C中的任一个。

[Y轴调整用螺钉]

·掩模框架71也可以仅具有三个Y轴调整用螺钉71D。在该情况下，可以省略上述掩模框架71所具备的四个Y轴调整用螺钉71D中的任一个。

附图标记说明

10、40、50、60、70：蒸镀掩模；

11、41、51、61、71：掩模框架；

11A、41A、51A、61A、71A：主体部；

11AF、11BF、11F、12F、41AF、41BF、51AF、51BF：表面；

11AH、41AH、51AH、61AH、71AH：第一开口部；

11AR、11BR、11R、12R、41AR、41BR、51AR、51BR、71AR：背面；

11B、41B、51B、61B、71B：框状部；

11BH、41BH：第二开口部；

12：掩模部；

12H：掩模孔。

Claims (9)

1.一种蒸镀掩模，其中，

具备掩模框架以及掩模部，

上述掩模框架具备：

主体部，具备第一表面、与上述第一表面相反侧的第一背面、以及贯通上述第一表面与上述第一背面之间的第一开口部；以及

框状部，具备第二表面以及与上述第二表面相反侧的第二背面，且具备贯通上述第二表面与上述第二背面之间的第二开口部，

上述掩模框架构成为，能够以上述第二表面上的上述第二开口部的位置与上述第一表面上的上述第一开口部的位置对齐的方式，在上述第一背面侧将上述框状部能够拆卸地安装于上述主体部，

上述掩模部具有多个掩模孔，且以覆盖上述第二开口部的方式与上述第二背面接合。

2.如权利要求1所述的蒸镀掩模，其中

上述掩模部是多个掩模部中的一个，

上述主体部具备多个第一开口部，上述第一开口部是上述多个第一开口部中的一个，

上述掩模框架具备多个框状部，上述框状部是上述多个框状部中的一个，

各框状部的上述第二开口部在上述第二表面上的位置与不同于与其他第二开口部在上述第二表面上的位置对齐的上述第一开口部在上述第一表面上的位置的、上述第一开口部在上述第一表面上的位置对齐，

各掩模部通过焊接接合于不同于其他掩模部所接合的框状部的、上述框状部的上述第二背面，

各框状部具备通过上述掩模部相对于该框状部的焊接而形成的焊接痕，上述焊接痕是形成于上述第二背面的凹陷。

3.如权利要求1或2所述的蒸镀掩模，其中

上述框状部由具有磁性的金属形成，

上述掩模框架还具备固定部，该固定部以能够相对于上述主体部拆卸的方式通过磁吸附将上述框状部固定于上述主体部。

4.如权利要求1至3中任一项所述的蒸镀掩模，其中

上述掩模框架具备第一位置调整部，该第一位置调整部构成为，能够在上述主体部的厚度方向上将上述框状部相对于上述主体部的位置在第一位置与第二位置之间变更。

5.如权利要求1至4中任一项所述的蒸镀掩模，其中

上述掩模框架具备第二位置调整部，该第二位置调整部构成为，能够在上述框状部扩展的平面中将上述框状部相对于上述主体部的位置在第三位置与第四位置之间变更。

6.如权利要求1至5中任一项所述的蒸镀掩模，其中

上述主体部具有上述第一开口部在上述第一背面处的开口扩开而成的阶差部，

上述框状部构成为位于上述阶差部。

7.如权利要求6所述的蒸镀掩模，其中

上述框状部在与上述第二背面正交的截面中具有上述主体部的上述阶差部的深度以上的厚度。

8.一种蒸镀掩模的制造方法，包括：

对具有贯通第二表面与第二背面之间的第二开口部的框状部接合掩模部的步骤；以及

对具有贯通第一表面与第一背面之间的第一开口部的主体部安装上述框状部的步骤，

上述接合掩模部的步骤包括以覆盖上述第二开口部的方式在上述第二背面接合上述掩模部的步骤，

上述安装框状部的步骤包括以上述第二表面上的上述第二开口部的位置与上述第一表面上的上述第一开口部的位置对齐的方式在上述第一背面侧将上述框状部能够拆卸地安装于上述主体部的步骤。

9.一种显示装置的制造方法，包括：

使用通过权利要求8所述的蒸镀掩模的制造方法制造出的蒸镀掩模，在蒸镀对象上形成图案的步骤。

Images