CN115390339A - 光学单元以及智能手机 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种光学单元以及智能手机。光学单元具备：固定体；能够相对于所述固定体移动地配置的可动体；支撑所述可动体的支撑机构；以及使所述可动体相对于所述固定体摆动的摆动机构。所述可动体具有：具有光轴的光学元件；以及保持所述光学元件的保持件，所述保持件具有底部和侧部，所述支撑机构支撑所述保持件的所述底部，所述光学元件的底面在沿着所述光轴延伸的光轴方向上与所述支撑机构重叠的位置上，位于从所述保持件的所述底部的上表面离开的位置。

Description

光学单元以及智能手机

技术领域

本发明涉及光学单元以及智能手机。

背景技术

在利用照相机拍摄静止图像或运动图像时，有时因手抖而导致拍摄到的图像模糊。用于防止这种图像模糊的能够进行鲜明摄影的手抖动校正装置正在实用化。振动在照相机发生振动的情况下，手抖动校正装置根据振动来校正照相机模块的位置和姿势，由此能够消除图像的振动。

正在研究将手抖动校正装置搭载于薄型的智能手机等(例如，参照专利文献1)。在专利文献1的手抖动校正装置中，通过将安装有摄像元件的基板固定于壳体内的对焦单元壳体，来实现薄型化。

现有技术文献

专利文献1:日本特开2020-95136号公报

但是，在专利文献1的手抖动校正装置中，当受到落下等冲击时，装置受到较大的损伤，有时无法适当地校正手抖。特别是，由于可动体被配置成能够相对于固定体移动，因此在受到冲击时若可动体剧烈地移动而与周围碰撞，则有时装置受到较大的损伤。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种能够降低对光学单元的冲击的光学单元以及智能手机。

根据本发明的某一观点的示例性光学单元包括：固定体；能够相对于所述固定体移动地配置的可动体；支撑所述可动体的支撑机构；以及使所述可动体相对于所述固定体摆动的摆动机构。所述可动体具有：具有光轴的光学元件；以及保持所述光学元件的保持件，所述保持件具有底部和侧部，所述支撑机构支撑所述保持件的所述底部，所述光学元件的底面在沿着所述光轴延伸的光轴方向上与所述支撑机构重叠的位置上，位于从所述保持件的所述底部的上表面离开的位置。

根据本发明另一个观点的示例性智能手机具备如上所述的光学单元。

本发明的效果如下。

根据本发明的一个示例性观点，可以减小对光学单元产生的的冲击。

附图说明

图1是具备本实施方式的光学单元的智能手机的示意性立体图。

图2是本实施方式的光学单元的示意性立体图。

图3A是本实施方式的光学单元的示意图。

图3B是本实施方式的光学单元的示意图。

图4A是本实施方式的光学单元的示意图。

图4B是本实施方式的光学单元的示意图。

图5A是本实施方式的光学单元的示意图。

图5B是本实施方式的光学单元的示意图。

图6A是本实施方式的光学单元的示意性立体图。

图6B是本实施方式的光学单元的示意性立体图。

图7是本实施方式的光学单元的示意性分解立体图。

图8是本实施方式的光学单元中的可动体和固定体的示意性分解图。

图9是本实施方式的光学单元中的光学元件和保持件的示意性分解图。

图10是沿着图6B的X-X线的示意性剖视图。

图11是图10的局部放大图。

图12A是本实施方式的光学单元中的固定体和支撑机构的示意性立体图。

图12B是本实施方式的光学单元中的固定体和支撑机构的示意性分解立体图。

图13A是本实施方式的光学单元中的保持件的示意性立体图。

图13B是本实施方式的光学单元中的保持件的示意性立体图。

图14是本实施方式的光学单元中的可动体和固定体的示意性分解图。

图15A是本实施方式的光学单元中的保持件的示意性立体图。

图15B是本实施方式的光学单元中的保持件的示意性立体图。

图16是本实施方式的光学单元的示意性分解立体图。

图17是本实施方式的光学单元的示意性剖视图。

图18A是本实施方式的光学单元的示意性立体图。

图18B是本实施方式的光学单元的示意性立体图。

图18C是本实施方式的光学单元的示意性立体图。

图19是本实施方式的光学单元的示意性剖视图。

图中：100—光学单元，110—可动体，112—光学元件，114—保持件，120—固定体，130—支撑机构，140—摆动机构，170—电路基板，180—电路基板。

具体实施方式

在下文中，将参考附图对根据本发明的光学单元和智能手机的示例性实施方式进行说明。另外，在图中，对相同或相当的部分标注相同的参照符号而不重复说明。另外，在本申请说明书中，为了容易理解发明，有时记载相互正交的X轴、Y轴以及Z轴。这里应当注意的是，X轴、Y轴和Z轴不限制光学单元在使用时的朝向。

本实施方式的光学单元适合用作智能手机的光学部件。

首先，参照图1说明具备本实施方式的光学单元100的智能手机200。图1是具备本实施方式的光学单元100的智能手机200的示意性立体图。

如图1所示，本实施方式的智能手机200具备光学单元100。作为一例，光学单元100搭载于智能手机200。在智能手机200中，光L经由光学单元100从外部入射，基于入射到光学单元100的光来拍摄被摄体像。光学单元100用于对智能手机200振动时的拍摄图像的振动进行校正。另外，光学单元100也可以具备摄像元件，光学单元100也可以具备向摄像元件传递光的光学部件。智能手机200通过具备光学单元100，能够校正智能手机200中的振动。

光学单元100优选被制作成小型。由此，能够实现智能手机200自身的小型化，或者能够在不使智能手机200大型化的情况下而在智能手机200内搭载其他部件。

另外，光学单元100的用途并不限定于智能手机200，可以用于照相机和摄像机等没有特别限定的各种装置。例如，光学单元100也可以搭载在例如带照相机的移动电话机、行车记录仪等摄影设备、或者搭载在头盔、自行车、无线电控制直升机等移动体上的动作照相机以及可穿戴照相机上。

接着，参照图1和图2对本实施方式的光学单元100进行说明。图2是本实施方式的光学单元100的示意性立体图。

如图2所示，光学单元100包括可动体110、固定体120和罩190。可动体110具有至少具有摄像元件的光学元件112。在此，固定体120由罩190覆盖。

光学元件112具有光轴Pa。光轴Pa从光学元件112的+Z方向侧的面的中心向Z方向延伸。沿着光轴Pa的光入射到光学元件112。在光学元件112的+Z方向侧的表面配置有光学元件112的光入射面。光轴Pa相对于光入射面在法线方向上延伸。光轴Pa在光轴方向Dp上延伸。光轴方向Dp平行于光学元件112的光入射面的法线。

与光轴方向Dp正交的方向是与光轴Pa交叉且与光轴Pa垂直的方向。在本说明书中，有时将与光轴Pa正交的方向记载为"径向"。径向外侧表示径向中的远离光轴Pa的方向。在图2中，R表示径向的一例。另外，有时将以光轴Pa为中心旋转的方向记载为“周向”。在图2中，S表示周向。

若将可动体110插入固定体120并将可动体110安装于固定体120，则光学元件112的光轴Pa相对于Z轴方向平行。若可动体110从该状态相对于固定体120移动，则光学元件112的光轴Pa摆动，因此光轴Pa不再处于与Z轴方向平行的状态。

以下，以可动体110相对于固定体120不移动，保持光轴Pa相对于Z轴方向平行的状态为前提进行说明。即，在以光轴Pa为基准说明可动体110、固定体120等的形状、位置关系、动作等的记载中，只要对光轴Pa的倾斜没有特别记载，则以光轴Pa为与Z轴方向平行的状态为前提。

可动体110能够以至少在第一方向(例如Z方向)上延伸的第一旋转轴为中心旋转。可动体110收纳在固定体120中。另外，在将可动体110收纳于固定体120的情况下，可动体110的整体也可以不位于固定体120的内部，可动体110的一部分也可以从固定体120露出或突出。

接着，参照图1～图3B对本实施方式的光学单元100进行说明。图3A是本实施方式的光学单元100的示意图，图3B是本实施方式的光学单元100的示意性分解图。在图3A和3B中，省略了罩190。

如图3A和图3B所示，光学单元100包括可动体110、固定体120、支撑机构130和摆动机构140。

可动体110具有光学元件112和保持件114。光学元件112至少具有摄像元件。光学元件112被收纳在保持件114中。保持件114保持光学元件112。

支撑机构130相对于固定体120支撑可动体110。摆动机构140使可动体110相对于固定体120摆动。

在本实施方式的光学单元100中，通过使光学元件112位于至少部分地离开保持件114的位置，在光学单元100受到冲击时，保持件114的底面因冲击而挠曲变形，从而能够降低冲击。另外，优选保持件114的底面中相对于冲击比较弱的支撑机构130附近挠曲，但即使在保持件114的底面挠曲的情况下也不与光学元件112接触，由此能够降低光学单元100内部的冲击的影响。

＜可动体110>

在此，可动体110为薄型的大致长方体形状。当沿Z轴观察时，可动体110具有旋转对称结构。可动体110的沿X轴方向的长度与可动体110的沿Y轴方向的长度大致相等。另外，可动体110的沿Z轴方向的长度比可动体110的沿X轴方向或Y轴方向的长度小。

可动体110具有光学元件112和保持件114。光学元件112为在一部分具有突起部分的大致长方体形状。保持件114收纳光学元件112。保持件114为一侧的面的一部分开口的大致中空的长方体形状。

光学元件112具有底面112a和侧面112b。在此，侧面112b在与底面112a正交的方向上延伸。

保持件114具有底部114a和侧部114b。侧部114b从底部114a的外缘向+Z方向突出。保持件114的底部114a具有上表面114a1和下表面114a2。底部114a的上表面114a1与光学元件112对置。底部114a的下表面114a2与固定体120对置。

在此，光学元件112的底面112a的至少一部分与保持件114的底部114a的至少一部分接触。因此，光学元件112由保持件114的底部114a支撑。

＜固定体120>

固定体120具有开口部120h。可动体110载置在固定体120的内侧。典型地，可动体110从固定体120的外侧安装于固定体120的内侧。

固定体120具有底部121和侧部122。底部121在XY平面上扩展。底部121为薄板形状。侧部122从底部121向+Z方向突出。

＜支撑机构130>

支撑机构130支撑可动体110。支撑机构130配置在固定体120上。典型的，支撑机构130配置在固定体120的底部121上。

例如，支撑机构130也可以通过粘接剂粘接于固定体120。或者，支撑机构130也可以与固定体120一体地树脂成型。即，支撑机构130和固定体120也可以是单一的部件。当支撑机构130配置在固定体120上时，支撑机构130从固定体120朝向可动体110突出。因此，即使在可动体110相对于固定体120摆动的情况下，也能够抑制可动体110与固定体120碰撞。

＜摆动机构140>

摆动机构140使可动体110相对于固定体120摆动。通过摆动机构140，在可动体110的旋转中心在光轴Pa上被固定的状态下，可动体110相对于固定体120摆动。

摆动机构140使可动体110相对于固定体120摆动。通过摆动机构140，能够以旋转中心为基准使可动体110相对于固定体120摆动。

在具备光学元件112的光学设备中，若在拍摄时光学设备倾斜，则光学元件112倾斜，拍摄图像紊乱。为了避免拍摄图像的紊乱，光学单元100基于由陀螺仪等检测单元检测出的加速度、角速度以及振动量等来校正光学元件112的倾斜。在本实施方式中，光学单元100通过使可动体110在以X轴为旋转轴的旋转方向(偏转方向)、以Y轴为旋转轴的旋转方向(俯仰方向)以及以Z轴为旋转轴的旋转方向(滚动方向)上摆动(旋转)，来校正光学元件112的倾斜。

例如，可动体110的俯仰、偏转以及滚动的校正如下进行。当在光学单元100中产生俯仰方向、偏转方向以及滚动方向中的至少一个方向的振动时，通过未图示的磁传感器(霍尔元件)检测振动，基于该结果驱动摆动机构140而使可动体110摆动。另外，也可以使用振动检测传感器(陀螺仪)等来检测光学单元100的振动。基于振动的检测结果向摆动机构140提供电流来校正该振动。

另外，摆动机构140以外的摆动机构也可以使可动体110相对于固定体120摆动。X轴方向是与光学元件112的光轴Pa延伸的光轴方向Dp正交的方向，成为偏转方向的旋转的轴。Y轴方向是与光学元件112的光轴Pa延伸的光轴方向Dp正交的方向，成为俯仰方向的旋转的轴。Z轴方向与光轴方向Dp平行，成为滚动方向的旋转的轴。

在本实施方式的光学单元100中，光学元件112的底面112a具有从保持件114的底部114a离开的区域112a1。区域112a1在沿着光轴Pa延伸的光轴方向Dp上与支撑机构130重叠的位置上，位于离开保持件114的底部114a的上表面的位置。区域112a1的X方向的长度及Y方向的长度与保持件114的底部114a的下表面114a2中的由支撑机构130支撑的区域的外缘的X方向的长度及Y方向的长度大致相等。

这样，本实施方式的光学单元100具备可动体110、固定体120、支撑机构130和摆动机构140。可动体110被配置成能够相对于固定体120移动。支撑机构130支撑可动体110。摆动机构140使可动体110相对于固定体120摆动。可动体110具有光学元件112和保持件114。光学元件112具有光轴Pa。保持件114保持光学元件112。

保持件114具有底部114a和侧部114b。支撑机构130支撑保持件114的底部114a。光学元件112的底面112a在沿着光轴Pa延伸的光轴方向Dp上与支撑机构130重叠的位置上，位于离开保持件114的底部114a的上表面的位置。

光学元件112的底面112a在沿着光轴Pa延伸的光轴方向Dp上与支撑机构130重叠的位置处相对于保持件114的底部114a的上表面114a1离开，由此，即使光学单元100受到冲击，也能够抑制保持件114的底部114a的上表面114a1中的、在沿着光轴Pa延伸的光轴方向Dp上与支撑机构130重叠的位置与光学元件112的底面112a碰撞，能够降低保持件114的底部114a与支撑机构130的接触部分的冲击。

另外，在图3A及图3B所示的光学单元100中，光学元件112的底面112a中的隔着保持件114的底部114a与支撑机构130对置的部分(区域112a1)凹陷，但本实施方式并不限定于此。也可以使比光学元件112的底面112a中的隔着保持件114的底部114a与支撑机构130对置的部分(区域112a1)靠径向外侧的部分也凹陷。

接着，参照图1～图4A对本实施方式的光学单元100进行说明。图4A是本实施方式的光学单元100的示意图。

如图4A所示，光学元件112的底面112a中的从保持件114的底部114a离开的区域112a1比保持件114的底部114a的下表面114a2中的被支撑机构130支撑的区域的外缘宽。因此，区域112a1的X方向的长度及Y方向的长度分别比保持件114的底部114a的下表面114a2中的由支撑机构130支撑的区域的外缘的X方向的长度及Y方向的长度大。

这样，光学元件112的底面112a从在光轴方向Dp上与支撑机构130重叠的位置起的径向外侧，位于从保持件114的底部114a的上表面114a1离开的位置。

光学元件112的底面112a从在沿着光轴延伸的光轴方向Dp上与支撑机构130重叠的位置在径向R上也相对于保持件114的底部114a的上表面114a1离开，由此，即使光学单元100受到冲击，也能够抑制保持件114的底部114a的上表面114a1与光学元件112的底面112a强烈碰撞，能够降低保持件114的底部114a与支撑机构130的接触部分的冲击。

另外，在图3A～图4A所示的光学单元100中，光学元件112的底面112a与保持件114的底部114a的上表面114a1部分地接触，但本实施方式并不限定于此。光学元件112的底面112a的任何区域都可以不与保持件114的底部114a的上表面114a1接触。

接着，参照图1～图4B对本实施方式的光学单元100进行说明。图4B是本实施方式的光学单元100的示意图。

如图4B所示，在保持件114的侧部114b中的内周面上设有台阶。另外，光学元件112的侧面112b为台阶形状。光学元件112由保持件114的侧部114b的台阶支撑。

光学元件112的底面112a的整个面位于从保持件114的底部114a的上表面114a1离开的位置。因此，光学元件112的底面112a的任何区域都不与保持件114的底部114a的上表面114a1接触。因此，即使光学单元100受到冲击，通过使光学元件112相对于保持件114的底部114a的整个面分离，也能够降低保持件114的底部114a与支撑机构130的接触部分的冲击。

此外，支撑机构130支撑保持件114的底部114a。光学元件112由保持件114的侧部114b支撑。即使光学单元100受到冲击，通过使光学元件112相对于保持件114的底部114a分离，也能够降低保持件114的底部114a与支撑机构130的接触部分的冲击。

另外，支撑机构130也可以支撑从保持件114的底部114a向光轴方向Dp突起的凸部。或者，支撑机构130也可以支撑在保持件114的底部114a沿光轴方向Dp凹陷的凹部。

接着，参照图1～图5A对本实施方式的光学单元100进行说明。图5A是本实施方式的光学单元100的示意图。

如图5A所示，保持件114具有底部114a、侧部114b和凸部114p。凸部114p位于保持件114的底部114a。凸部114p从保持件114的底部114a向-Z方向(光轴方向Dp)突出。例如，凸部114p是球面的一部分的形状。由于在与光学元件112不同的保持件114上设置凸部114p，因此能够高精度地构成凸部114p。

支撑机构130支撑保持件114的凸部114p。例如，支撑机构130是球形的。支撑机构130配置在固定体120上。

保持件114的底部114a包括沿光轴方向Dp突起的凸部114p。可动体110经由支撑机构130相对于固定体120滑动。保持件114的底部114a具有沿着光轴方向Dp的凸部114p，由此可动体110能够经由支撑机构130相对于固定体120滑动。

另外，在图5A所示的光学单元100中，保持件114具有在光轴方向Dp上突起的凸部114p，但本实施方式不限于此。保持件114也可以具有在光轴方向Dp上凹陷的凹部。

接着，参照图1～图5B对本实施方式的光学单元100进行说明。图5B是本实施方式的光学单元100的示意图。

如图5B所示，保持件114具有底部114a、侧部114b和凹部114d。凹部114d位于保持件114的底部114a。凹部114d从保持件114的底部114a向+Z方向凹陷。由于在与光学元件112不同的保持件114上设置凹部114d，因此能够高精度地构成凹部114d。

保持件114的凹部114d与支撑机构130对应，保持件114的凹部114d与支撑机构130卡合。支撑机构130朝向保持件114的凹部114d向光轴方向Dp突出。根据保持件114的凹部114d与支撑机构130的接触部分，保持件114能够在被支撑机构130支撑的状态下滑动。

这样，保持件114的底部114a包括在光轴方向Dp上凹陷的凹部114d。可动体110经由支撑机构130相对于固定体120滑动。保持件114的底部114a具有沿着光轴方向Dp的凹部114d，由此可动体110能够经由支撑机构130相对于固定体120滑动。

接着，参照图1～图6B对本实施方式的光学单元100进行说明。图6A和图6B是本实施方式的光学单元100的示意性立体图。图6B省略了罩190。

如图6A和图6B所示，光学单元100包括可动体110、固定体120、电路基板170和罩190。可动体110具有：至少具有摄像元件的光学元件112；以及保持件114。在此，固定体120由罩190覆盖。光学元件112具有电路基板112C。电路基板112C和电路基板170的一部分从固定体120和罩190的内部延伸到外部。电路基板112C相对于固定体120及罩190在-X方向上延伸。电路基板170相对于固定体120及罩190在-Y方向上延伸。

固定体120位于可动体110的周围。可动体110插入固定体120并保持在固定体120上。电路基板112C可以安装在固定体120的外侧面上。电路基板112C和电路基板170例如包括柔性电路基板(Flexible Printed Circuit:FPC)。典型的是，电路基板170传送用于使可动体110摆动的信号。电路基板112C传送在光学元件112中得到的信号。

电路基板112C与光学元件112电连接。电路基板112C将在光学元件112中得到的摄像信号输出到外部。

可动体110能够以至少在第一方向(例如Z方向)上延伸的第一旋转轴为中心旋转。可动体110和电路基板170收纳在固定体120中。

如图6B所示，可动体110具有光学元件112和保持件114。光学元件112被收纳在保持件114中。保持件114保持光学元件112。

接着，参照图1～图7对本实施方式的光学单元100进行说明。图7是本实施方式的光学单元100的示意性分解立体图。

如图7所示，光学单元100包括可动体110、固定体120、支撑机构130、摆动机构140、电路基板170和罩190。

支撑机构130相对于固定体120支撑可动体110。摆动机构140使可动体110相对于固定体120摆动。根据本实施方式的光学单元100，由于将支撑可动体110的支撑机构130配置在摆动机构140的内侧，因此能够稳定地支撑可动体110，并且能够降低可动体110的摆动阻力。

＜可动体110>

在此，可动体110具有光学元件112和保持件114。保持件114收纳光学元件112。

在从Z方向观察时，保持件114具有相对于光轴Pa对称的结构。根据上述结构，能够使光学单元100受到冲击时的保持件114的挠曲均匀化。

光学元件112具有照相机模块112M。照相机模块112M包括透镜单元112L和电路基板112C。在透镜单元112L内内置有摄像元件。电路基板112C具有多条布线。多条布线彼此绝缘。电路基板112C传送在摄像元件中生成的信号。另外，电路基板112C传送驱动摄像元件的信号。电路基板112C的一部分配置在透镜单元112L与保持件114之间。

这样，光学元件112具有照相机模块112M。照相机模块112M包括透镜单元112L和与透镜单元112L电连接的电路基板112C。电路基板112C与保持件114的底部114a的上表面114a1对置。因此，即使光学单元100受到冲击，也能够抑制保持件114的底部114a与电路基板112C接触。

电路基板112C具有平坦部分112p、引出部分112q、周围部分112r和外部端子连接部分112s。平坦部分112p与周围部分112r电连接。在外部端子连接部分112s上连接有外部端子。通过电路基板112C，在光学元件112中取得的摄像信号被输出到外部端子。

平坦部分112p是在XY平面上扩展的薄板形状。在平坦部分112p的+Z方向侧配置有透镜单元112L。平坦部分112p夹在透镜单元112L与保持件114之间。另外，平坦部分112p的至少一部分位于从保持件114的底部114a的上表面114a1离开的位置。

引出部分112q相对于平坦部分112p位于+X方向侧。引出部分112q连接平坦部分112p和周围部分112r。

周围部分112r连接引出部分112q与外部端子连接部分112s。周边部分112r包围平坦部分112p。周围部分112r线状地包围平坦部分112p的周围。周围部分112r分支并包围平坦部分112p。

周围部分112r具有第一布线部分112g和第二布线部分112h。第一布线部分112g相对于平坦部分112p位于+Y方向侧。第二布线部分112h相对于平坦部分112p位于-Y方向侧。

在外部端子连接部分112s上连接有外部端子。通过外部端子，能够输入输出来自摄像元件的信号以及向摄像元件的电力。外部端子连接部分112s位于平坦部分112p的-X方向侧。外部端子连接部分112s与第一布线部分112g的端部连接。另外，外部端子连接部分112s与第二布线部分112h的端部连接。

＜固定体120>

固定体120具有底部121和侧部122。底部121在XY平面上扩展。底部121为薄板形状。侧部122从底部121向+Z方向突出。

侧部122具有第一侧部122a、第二侧部122b和第三侧部122c。当可动体110安装于固定体120时，第一侧部122a、第二侧部122b及第三侧部122c位于可动体110的周围。第二侧部122b与第一侧部122a连接，第三侧部122c与第二侧部122b连接。

第一侧部122a相对于可动体110位于+Y方向。在第一侧部122a上设置有贯穿孔。第二侧部122b相对于可动体110位于-X方向上。在第二侧部122b上设置有贯穿孔。第三侧部122c相对于可动体110位于-Y方向上。在第三侧部122c上设置有贯穿孔。

这样，通过第一侧部122a、第二侧部122b及第三侧部122c，在将可动体110安装于固定体120的情况下，可动体110的三方被包围。另一方面，在可动体110的+X方向侧未设置侧部。但是，也可以在可动体110的+X方向侧设置侧部。

＜支撑机构130>

支撑机构130支撑可动体110。支撑机构130配置在固定体120上。在此，支撑机构130在同一圆周上支撑可动体110。

＜摆动机构140>

摆动机构140使可动体110相对于固定体120摆动。通过摆动机构140，在可动体110的旋转中心在光轴Pa上被固定的状态下，可动体110相对于固定体120摆动。

摆动机构140使可动体110相对于固定体120摆动。通过摆动机构140，能够使可动体110相对于固定体120摆动。例如，通过摆动机构140，可动体110相对于固定体120摆动。此时，可动体110的旋转中心位于光轴Pa上。

摆动机构140包括第一摆动机构142、第二摆动机构144和第三摆动机构146。第一摆动机构142、第二摆动机构144及第三摆动机构146使可动体110相对于固定体120分别绕不同的轴摆动。

第一摆动机构142使可动体110相对于固定体120摆动。通过第一摆动机构142，在可动体110的旋转中心被固定在XZ平面内的状态下，可动体110绕X轴摆动。在此，X轴方向成为偏转方向的旋转的轴。第一摆动机构142相对于可动体110位于+Y方向侧。

第一摆动机构142包括磁铁142a和线圈142b。磁铁142a被磁化，以使朝向径向外侧的面的磁极以沿着X轴方向延伸的磁化分极线为界而不同。磁铁142a的沿Z轴方向的一侧的端部具有一种极性，另一侧的端部具有另一种极性。

磁铁142a配置于保持件114的侧部114b的+Y方向侧。线圈142b配置在电路基板170上。线圈142b位于贯穿固定体120的第一侧部122a的贯穿孔中。

通过控制流过线圈142b的电流的方向和大小，能够改变从线圈142b产生的磁场的方向和大小。因此，通过从线圈142b产生的磁场与磁铁142a的相互作用，第一摆动机构142使可动体110绕X轴摆动。

第二摆动机构144使可动体110相对于固定体120摆动。通过第二摆动机构144，在可动体110的旋转中心被固定在YZ平面内的状态下，可动体110绕Y轴摆动。在此，Y轴方向是俯仰方向的旋转的轴。第二摆动机构144相对于可动体110位于-X方向侧。

第二摆动机构144包括磁铁144a和线圈144b。磁铁144a被磁化，以使朝向径向外侧的面的磁极以沿着Y轴方向延伸的磁化分极线为界而不同。磁铁144a的沿Z轴方向的一侧的端部具有一种极性，另一侧的端部具有另一种极性。

磁铁144a配置在保持件114的侧部114b的-X方向侧。线圈144b配置在电路基板170上。线圈144b位于贯穿固定体120的第二侧部122b的贯穿孔中。

通过控制流过线圈144b的电流的方向和大小，能够改变从线圈144b产生的磁场的方向和大小。因此，通过从线圈144b产生的磁场与磁铁144a的相互作用，第二摆动机构144使可动体110绕Y轴摆动。

第三摆动机构146使可动体110相对于固定体120摆动。详细地说，通过第三摆动机构146，在可动体110的旋转中心被固定在XZ平面内的状态下，可动体110绕Z轴摆动。在此，Z轴方向与光轴Pa平行，成为滚动方向的旋转的轴。第三摆动机构146相对于可动体110位于-Y方向侧。

第三摆动机构146包括磁铁146a和线圈146b。磁铁146a被磁化，以使朝向径向外侧的面的磁极以沿着Z轴方向延伸的磁化分极线为界而不同。磁铁146a的沿X轴方向的一侧的端部具有一种极性，另一侧的端部具有另一种极性。

磁铁146a配置在保持件114的侧部114b的-Y方向侧。线圈146b配置在电路基板170上。线圈146b位于贯穿固定体120的第三侧部122c的贯穿孔中。

通过控制流过线圈146b的电流的方向和大小，能够改变从线圈146b产生的磁场的方向和大小。因此，通过从线圈146b产生的磁场与磁铁146a的相互作用，第三摆动机构146使可动体110绕Z轴摆动。

另外，在本说明书中，有时将磁铁142a、磁铁144a及磁铁146a总称为磁铁140a。另外，在本说明书中，有时将线圈142b、线圈144b以及线圈146b总称为线圈140b。

摆动机构140具有设置于可动体110的磁铁140a和设置于固定体120的线圈140b。在此，磁铁140a配置在可动体110上，线圈140b配置在固定体120上。但是，也可以将磁铁140a配置在固定体120上，将线圈140b配置在可动体110上。这样，磁铁140a和线圈140b的一方可以配置在可动体110和固定体120的一方，磁铁140a和线圈140b的另一方可以配置在可动体110和固定体120的另一方。通过控制流过线圈140b的电流的方向和大小，能够改变从线圈140b产生的磁场的方向和大小。因此，通过从线圈140b产生的磁场与磁铁140a的相互作用，摆动机构140能够使可动体110摆动。

光学单元100还具备磁性体142c、磁性体144c和磁性体146c。磁性体142c、磁性体144c及磁性体146c配置在电路基板170上。磁性体142c与电路基板170中的线圈142b对置地配置。磁性体144c与电路基板170中的线圈144b对置地配置。磁性体146c与电路基板170中的线圈146b对置地配置。磁性体142c、磁性体144c以及磁性体146c可以是硬磁性体。

光学单元100还具备磁铁148a和磁性体148c。磁铁148a配置在保持件114的侧部114b的+X方向侧。磁性体148c配置在固定体120的+X方向侧。磁铁148a和磁性体148c彼此对置。磁性体148c可以是硬磁性体。

接着，参照图1～图8对本实施方式的光学单元100进行说明。图8是本实施方式的光学单元100中的可动体110和固定体120的示意性分解图。另外，在图8中，为了避免附图过于复杂，省略可动体110的电路基板112C而示出。

如图8所示，可动体110具有光学元件112和保持件114。保持件114具有底部114a、侧部114b和凸部114p。底部114a在XY平面上扩展。底部114a为大致长方体形状。侧部114b从底部114a的外缘向+Z方向突出。凸部114p从保持件114的底部114a向光轴Pa延伸的光轴方向Dp突出。凸部114p为半球状。凸部114p位于保持件114的底部114a的下表面114a2的中央。

可动体110收纳在固定体120中。在固定体120上配置有支撑机构130。支撑机构130支撑可动体110。支撑机构130与保持件114的凸部114p接触而支撑可动体110。

固定体120具有底部121、侧部122、相对于底部121在光轴方向Dp上凹陷的凹部124。在固定体120上配置有支撑机构130。支撑机构130配置于固定体120的凹部124。凹部124与保持件114的凸部114p相互面对。

凹部124包括第一凹部124a、第二凹部124b和第三凹部124c。第一凹部124a、第二凹部124b及第三凹部124c等间隔地配置在以光轴Pa为中心的同一圆周上。在本说明书中，有时将第一凹部124a、第二凹部124b及第三凹部124c总称为凹部124。

支撑机构130支撑可动体110。支撑机构130配置在固定体120上。支撑机构130位于固定体120的凹部124与保持件114的凸部114p之间。

支撑机构130从固定体120的底部121朝向保持件114的凸部114p突出。即使在可动体110相对于固定体120摆动的情况下，也能够抑制可动体110与固定体120碰撞。

支撑机构130具有多个支撑部130s。多个支撑部130s分别为相同的形状。在此，支撑机构130包括第一支撑部132、第二支撑部134和第三支撑部136。在本说明书中，有时将第一支撑部132、第二支撑部134及第三支撑部136总称为支撑部130s。

第一支撑部132、第二支撑部134和第三支撑部136分别配置于第一凹部124a、第二凹部124b和第三凹部124c。因此，第一支撑部132、第二支撑部134及第三支撑部136等间隔地配置在以光轴Pa为中心的同一圆周上。因此，能够相对于固定体120稳定地支撑可动体110。

第一支撑部132、第二支撑部134和第三支撑部136具有球形或球面的一部分的形状。第一支撑部132、第二支撑部134及第三支撑部136的球面形状的部分与保持件114的凸部114p接触，由此能够使可动体110相对于支撑机构130滑动。

保持件114的底部114a具有向光轴方向Dp突起的凸部114p。支撑机构130具有相对于光轴Pa配置在同一圆周上的多个支撑部130s。多个支撑部130s相对于保持件114的凸部114p位于径向外侧。通过配置在同一圆周上的支撑部130s，能够充分地支撑光学元件112。

支撑部130s具有球面或球面的一部分的形状。因此，能够通过支撑部130s使可动体110滑动。

另外，在图8中，在保持件114的底部114a设置有凸部114p，但如图5B所示，也可以在保持件114的底部114a设置凹部114q。在这种情况下，在光轴方向Dp上观察时，优选凹部114q与多个支撑部130s重叠。由此，即使在光学单元100受到冲击的情况下，也能够抑制多个支撑部130s与保持件114接触。

接着，参照图1～图9对本实施方式的光学单元100进行说明。图9是本实施方式的光学单元100中的光学元件112和保持件114的示意性分解立体图。

如图9所示，光学元件112被收纳在保持件114中。光学元件112的外周面与保持件114的内周面对置。在将光学元件112收纳于保持件114的情况下，光学元件112的底面112a位于从保持件114的底部114a的上表面114a1离开的位置。

在光学元件112的侧面112b设置有突起部112v。突出部112v从侧面112b向径向外侧突出。在此，在从光轴Pa观察的情况下，突起部112v从侧面112b等间隔地设置在三个方向上。突起部112v位于从光学元件112的底面112a沿Z轴方向离开长度La的位置。

在保持件114的侧部114b设置有凹部114w。凹部114w从保持件114的侧部114b的内周面向径向外侧凹陷。凹部114w的大小与突起部112v大致相等或比突起部112v稍大。在此，在从光轴Pa观察的情况下，凹部114w从侧部114b的内周面等间隔地设置在三个方向上。凹部114w位于从保持件114的底部114a的上表面114a1沿Z轴方向高出长度Lb的位置。

通过将光学元件112的突起部112v嵌入保持件114的凹部114w，能够将光学元件112安装于保持件114。光学元件112的底面112a位于从保持件114的底部114a的上表面114a1离开的位置。

光学元件112的突起部112v与光学元件112的底面112a之间的长度La比保持件114的凹部114w与底部114a的上表面114a1之间的长度Lb小。因此，在将光学元件112安装在保持件114上时，光学元件112的底面112a不与保持件114的底部114a的上表面114a1接触，光学元件112由保持件114的侧部114b支撑。

接着，参照图1～图11对本实施方式的光学单元100进行说明。图10是沿着图6B的X-X线的本实施方式的光学单元100的示意性剖视图。另外，在图10中仅示出了第二支撑部134，但第一支撑部132和第三支撑部136也同样。

如图10所示，在光学元件112中，透镜单元112L与平坦部分112p重叠。例如，透镜单元112L粘接于平坦部分112p。因此，平坦部分112p的底面成为光学元件112的底面112a。

光学元件112的底面112a位于从保持件114的底部114a的上表面114a1离开的位置。在光学元件112的底面112a与保持件114的底部114a的上表面114a1之间存在间隙D。间隙D相当于图10所示的保持件114的凹部114w和底部114a的上表面114a1之间的长度Lb、与光学元件112的突起部112v和光学元件112的底面112a之间的长度La之差。

在本实施方式的光学单元100中，在隔着保持件114与第二支撑部134对置的部分设置有光学元件112与保持件114之间的间隙D。因此，在光学单元100受到冲击时，保持件114能够挠曲，因此能够降低保持件114与第二支撑部134之间的冲击。

另外，在间隙D过小的情况下，若光学单元100受到的冲击大，则存在挠曲的保持件114与光学元件112碰撞的情况。因此，间隙D越大，越能够减少保持件114与第二支撑部134之间的冲击。另一方面，若间隙D过大，则光学元件112的+Z方向的位置变大，因此难以使光学单元100小型化。在一个例子中，间隙D的优选长度为0.1mm以上且0.5mm以下。

图11是图10的局部放大图。保持件114的底部114a具有凸部114p和平板部114f。平板部114f位于凸部114p的径向外侧。平板部114f位于凸部114p与侧部114b之间。

这样，保持件114的底部114a还具有厚度均匀的平板部114f。通过平板部114f，保持件114的底部114a容易挠曲，能够降低保持件114的底部114a与支撑机构130的接触部分的冲击。

另外，平板部114f位于比底部114a的凸部114p靠径向外侧的位置。另外，平板部114f也可以位于比底部114a的凹部114d(图5B)靠径向外侧的位置。在该情况下，保持件114的底部114a容易挠曲，能够降低保持件114的底部114a与支撑机构130的接触部分的冲击。

另外，在保持件114的底部114a中，在平板部114f与侧部114b之间设有弯曲的弯曲部114r。这样，保持件114的底部114a还具有将保持件114的平板部114f与侧部114b之间弯曲地连接的弯曲部114r。根据上述结构，能够通过弯曲部114r提高平板部114f的强度。

另外，在保持件114的底部114a设置有从侧部114b沿着光轴方向Dp突出的外周突出部114s。外周突出部114s从底部114a沿着光轴方向Dp突出。

这样，保持件114的底部114a还具有从侧部114b向光轴方向Dp突出的外周突出部114s。根据上述结构，能够通过外周突出部114s提高保持件114的底部114a的强度。

接着，参照图1～图12B对本实施方式的光学单元100进行说明。图12A是本实施方式的光学单元100中的固定体120和支撑机构130的示意性立体图。图12B是本实施方式的光学单元100中的固定体120的示意性立体图。

如图12A所示，在固定体120上配置有第一支撑部132、第二支撑部134及第三支撑部136。第一支撑部132、第二支撑部134以及第三支撑部136设置在以光轴Pa为中心的同一圆周上。第一支撑部132、第二支撑部134和第三支撑部136分别为球状。

如图12B所示，在固定体120的内周面120s上设有凹部124。凹部124与支撑机构130对应地设置。详细地说，凹部124包括与第一支撑部132对应的第一凹部124a、与第二支撑部134对应的第二凹部124b、与第三支撑部136对应的第三凹部124c。

接着，参照图1～图13B对本实施方式的光学单元100进行说明。图13A和图13B是本实施方式的光学单元100中的保持件114的示意性立体图。图13A是从+Z方向观察到的保持件114的示意性立体图，图13B是从-Z方向观察的保持件114的示意性立体图。

如图13A和13B所示，保持件114具有底部114a和侧部114b。侧部114b包围底部114a的侧方。在侧部114b的上表面(+Z方向侧)设有凹部114w。

在保持件114的底部114a设置有凸部114p、平板部114f以及外周突出部114s。凸部114p从保持件114的底部114a向-Z方向突起。在凸部114p的径向外侧设有平板部114f。在平板部114f的径向外侧设置有外周突出部114s。

另外，在图3A～图13B所示的保持件114中，凸部114p的径向外侧是平坦的，但本实施方式不限于此。凸部114p的径向外侧也可以不平坦。

接着，参照图1～图14对本实施方式的光学单元100进行说明。图14是本实施方式的光学单元100中的保持件114的示意性立体图。

如图14所示，保持件114具有底部114a和侧部114b。底部114a具有凸部114p、平板部114f和凹部114q。凹部114q设置于底部114a的下表面114a2。例如，凹部114q比平板部114f向+Z方向凹陷。或者，凹部114q也可以是底部114a的贯穿孔。

凹部114q位于凸部114p的径向外侧。凹部114q与配置在固定体120上的第一支撑部132～第三支撑部136对应地配置。通过凹部114q能够抑制第一支撑部132～第三支撑部136与保持件114的底部114a碰撞。

另外，在保持件114的底部114a设置有凹部114q。通过在保持件114的底部114a设置凹部114q，能够使保持件114的底部114a容易地挠曲。

接着，参照图1～图15B对本实施方式的光学单元100进行说明。图15A和图15B是本实施方式的光学单元100中的保持件114的示意性立体图。图15A是从+Z方向观察到的保持件114的示意性立体图，图15B是从-Z方向观察到的保持件114的示意性立体图。

如图15A和图15B所示，保持件114具有底部114a和侧部114b。底部114a具有凸部114p、平板部114f和贯穿孔114h。贯穿孔114h设置于底部114a的下表面114a2。贯穿孔114h也可以是底部114a的贯穿孔。

贯穿孔114h位于凸部114p的径向外侧。贯穿孔114h与配置在固定体120上的第一支撑部132～第三支撑部136对应地配置。通过贯穿孔114h能够抑制第一支撑部132～第三支撑部136与保持件114的底部114a碰撞。

凹部114q具有贯穿保持件114的底部114a的贯穿孔114h。通过贯穿孔114h，即使在光学单元100受到冲击的情况下，也能够抑制多个支撑部130s与保持件114接触。

贯穿孔114h从光轴Pa的周围以光轴Pa为中心呈放射状延伸。保持件114的底部114a的贯穿孔114h以光轴Pa为中心呈放射状延伸，由此能够使保持件114的底部114a均匀地挠曲，能够降低保持件114的底部114a与支撑机构130的接触部分的冲击。

另外，在图3～图15所示的光学单元100中，可动体110(电路基板112C)与保持件114之间空出，但本实施方式不限于此。也可以在可动体110(电路基板112C)和保持件114之间配置部件。

接着，参照图1～图17对本实施方式的光学单元100进行说明。图16是本实施方式的光学单元100的示意性分解立体图，图17是本实施方式的光学单元100的示意性剖视图。图16及图17的光学单元100除了在电路基板112C与保持件114之间配置缓冲部件118这一点以外，具有与图7及图10的光学单元100所示的光学单元100相同的结构，为了避免冗长而省略重复的说明。

如图16及图17所示，光学单元100还具备位于保持件114的底部114a与光学元件112之间的缓冲部件118。缓冲部件118能够与光学元件112和保持件114一起相对于固定体120移动。因此，缓冲部件118是可动体110的一部分。

缓冲部件118由弹性材料构成。缓冲部件118的弹性模量高于光学元件112和保持件114的弹性模量。具体地，缓冲部件118的弹性模量高于光学元件112和保持件114的彼此面对的部分的弹性模量。例如，缓冲部件118由硅酮或橡胶构成。

缓冲部件118也可以在光学元件112和保持件114的一方粘贴片状的部件。或者，缓冲部件118可以通过将缓冲部件118的材料涂布到光学元件112和保持件114中的一个上来制造。

通过使缓冲部件118位于保持件114的底部114a与光学元件112之间，即使保持件114的底部114a发生变形也能够抑制冲击传递到光学元件112，能够降低保持件114的底部114a与支撑机构130的接触部分的冲击。

缓冲部件118与保持件114的底部114a和光学元件112中的至少一方分离地配置。通过将缓冲部件118与保持件114的底部114a和光学元件112中的至少一方分离地配置，能够降低保持件114的底部114a与支撑机构130的接触部分的冲击。

典型地，缓冲部件118的厚度(沿Z轴方向的长度)比可动体110(电路基板112C)与保持件114之间的间隙D小。例如，也可以在电路基板112C与缓冲部件118之间存在间隙，并且缓冲部件118与保持件114之间存在间隙。或者，也可以是电路基板112C和缓冲部件118接触，而在缓冲部件118与保持件114之间存在间隙。或者，也可以是缓冲部件118和保持件114接触，而在电路基板112C与缓冲部件118之间存在间隙。

但是，缓冲部件118的厚度(沿着Z轴方向的长度)也可以与可动体110(电路基板112C)与保持件114之间的间隙D相等。在这种情况下，电路基板112C可以与缓冲部件118接触，并且缓冲部件118可以与保持件114接触。

另外，在参照图5～图17进行的上述说明中，从Z方向观察时，可动体110及固定体120为大致正方形状，但本实施方式并不限定于此。从Z方向观察时，可动体110及固定体120也可以是向一个方向延伸的矩形状。

另外，在参照图5～图17进行的上述说明中，电路基板112C包围可动体110，但本实施方式并不限定于此。电路基板112C也可以不包围可动体110。

接着，参照图18A和图18B对本实施方式的光学单元100进行说明。图18A和图18B是本实施方式的光学单元100的示意性立体图。另外，在图18B中，为了避免附图过于复杂，省略了覆盖固定体120的罩190。

如图18A及图18B所示，光学单元100具备可动体110、固定体120、支撑机构130、摆动机构140及电路基板170。在此，固定体120在X轴方向上延伸。罩190相对于固定体120位于+Z方向侧。罩190覆盖固定体120的开口部。电路基板170或电路基板112C例如包括柔性电路基板。

电路基板112C在X方向上延伸。电路基板112C相对于固定体120及罩190在+X方向上延伸。

电路基板170在X方向上延伸。电路基板170相对于固定体120及罩190在-X方向上延伸。在电路基板170上安装有线圈142b、144b以及146b。

固定体120与可动体110一起收纳电路基板112C。电路基板112C被分离为两个。电路基板112C具有第一布线部分112g和第二布线部分112h。第一布线部分112g和第二布线部分112h可以由单一的电路基板构成，也可以由不同的电路基板构成。

第一布线部分112g和第二布线部分112h具有对称结构。从Z方向观察时，第一布线部分112g和第二布线部分112h对称。第一布线部分112g和第二布线部分112h分别具有向Y方向弯折的弯折部。电路基板112C具有波纹结构。

另外，在图18B所示的光学单元100中，电路基板112C具有波纹结构，但本实施方式不限于此。

接着，参照图18A～图18C对本实施方式的光学单元100进行说明。图18C是本实施方式的光学单元100的示意性立体图。在图18C中，为了避免附图过于复杂，与覆盖固定体120的罩190一起省略了电路基板170。

如图18C所示，光学单元100包括可动体110、固定体120、支撑机构130、摆动机构140以及电路基板170。在此，固定体120在X轴方向上延伸。罩190相对于固定体120位于+Z方向侧。罩190覆盖固定体120的开口部。电路基板112C和电路基板170例如由柔性电路基板构成。

电路基板112C在X方向上延伸。电路基板112C相对于固定体120及罩190在+X方向上延伸。

电路基板170在X方向上延伸。电路基板170相对于固定体120及罩190在-X方向上延伸。在电路基板170上安装有线圈142b、144b以及146b。

固定体120与可动体110一起收纳电路基板112C。电路基板112C被分离为两个。电路基板112C具有第一布线部分112g和第二布线部分112h。第一布线部分112g和第二布线部分112h可以由单一的电路基板构成，也可以由不同的电路基板构成。

第一布线部分112g和第二布线部分112h具有对称结构。从Z方向观察时，第一布线部分112g和第二布线部分112h对称。

另外，在图2～图18所示的光学单元100中，通过使光学元件112的底面112a位于离开保持件114的底部114a的上表面114a1的位置，光学元件112的底面112a与保持件114的底部114a的上表面114a1之间的空间具有所谓的缓冲功能，构成缓冲功能的部件配置在可动体110上，但本实施方式不限于此。也可以在固定体120上配置构成缓冲功能的部件。

接着，参照图19对本实施方式的光学单元100进行说明。图19是本实施方式的光学单元100的示意性剖视图。

如图19所示，光学单元100除了可动体110、固定体120、支撑机构130及摆动机构140之外，还具备缓冲部件180。缓冲部件180配置在固定体120与支撑机构130之间。详细地说，缓冲部件180配置于固定体120的凹部124，位于固定体120与支撑机构130之间。

根据本实施方式的光学单元100，通过缓冲部件180能够抑制对保持件114的底部114a与支撑机构130的接触部分施加强负荷，能够抑制对保持件114的底部114a和支撑机构130中的至少一方产生损伤。

进而，如图19所示，通过使光学元件112的底面112a(平坦部分112p的底面)与保持件114的底部114a的上表面114a1分离，能够抑制对保持件114的底部114a与支撑机构130的接触部分施加强负荷。

另外，在图19所示的光学单元100中，光学元件112的底面112a(平坦部分112p的底面)与保持件114的底部114a的上表面114a1分离，但本实施方式不限于此。也可以使光学元件112的底面112a(平坦部分112p的底面)与保持件114的底部114a的上表面114a1接触。例如，光学元件112的底面112a(平坦部分112p的底面)的整个面也可以与保持件114的底部114a的上表面114a1接触。

另外，在图2～图19所示的光学单元100及其各部件中，可动体110为大致薄板形状，但本实施方式不限于此。可动体110也可以是大致球体形状，固定体120也可以根据可动体110的形状可摆动地支撑可动体110。

智能手机200具备本实施方式的光学单元100。能够降低智能手机200中的电路基板112C的弹性阻力。

另外，作为本实施方式的光学单元100的用途的一例，在图1中图示了智能手机200，但光学单元100的用途并不限定于此。光学单元100适合用作数码照相机或摄像机。例如，光学单元100可以用作行车记录仪的一部分。或者，光学单元100也可以搭载在用于飞行物体(例如无人机)的摄影机上。

以上，参照附图对本发明的实施方式进行了说明。但是，本发明不限于上述实施方式，在不脱离其主旨的范围内能够以各种方式实施。另外，通过适当组合上述实施方式中公开的多个构成要素，能够形成各种发明。例如，也可以从实施方式所示的全部构成要素中删除几个构成要素。进而，也可以适当组合不同的实施方式的构成要素。为了便于理解，附图以各自的构成要素为主体而示意性地示出，图示的各构成要素的厚度、长度、个数、间隔等有时根据附图制作的方便而与实际不同。另外，上述实施方式所示的各构成要素的材质、形状、尺寸等为一例，没有特别限定，在实质上不脱离本发明的效果的范围内能够进行各种变更。

Claims (20)

1.一种光学单元，其具备：

固定体；

相对于所述固定体能够移动地配置的可动体；

支撑所述可动体的支撑机构；以及

使所述可动体相对于所述固定体摆动的摆动机构，

该光学单元的特征在于，

所述可动体具有：

具有光轴的光学元件；以及

保持所述光学元件的保持件，

所述保持件具有底部和侧部，

所述支撑机构支撑所述保持件的所述底部，

所述光学元件的底面在沿着所述光轴延伸的光轴方向上与所述支撑机构重叠的位置上，位于从所述保持件的所述底部的上表面离开的位置。

2.根据权利要求1所述的光学单元，其特征在于，

所述光学元件的所述底面从在所述光轴方向上与所述支撑机构重叠的位置起的径向外侧，位于从所述保持件的所述底部的所述上表面离开的位置。

3.根据权利要求1或2所述的光学单元，其特征在于，

所述光学元件的所述底面的整个面位于从所述保持件的所述底部的所述上表面离开的位置。

4.根据权利要求1～3任一项所述的光学单元，其特征在于，

所述支撑机构支撑所述保持件的所述底部，

所述光学元件被所述保持件的所述侧部支撑。

5.根据权利要求1～4任一项所述的光学单元，其特征在于，

还具备缓冲部件，该缓冲部件位于所述保持件的所述底部与所述光学元件之间。

6.根据权利要求5所述的光学单元，其特征在于，

所述缓冲部件与所述保持件的所述底部和所述光学元件中的至少一方分离地配置。

7.根据权利要求1～6任一项所述的光学单元，其特征在于，

所述保持件的所述底部包括在所述光轴方向上突起的凸部或在所述光轴方向上凹陷的凹部，

所述可动体经由所述支撑机构相对于所述固定体滑动。

8.根据权利要求7所述的光学单元，其特征在于，

所述保持件的所述底部还具有厚度均匀的平板部。

9.根据权利要求8所述的光学单元，其特征在于，

所述平板部位于比所述底部的所述凸部或所述凹部更靠径向外侧的位置。

10.根据权利要求8或9所述的光学单元，其特征在于，

所述保持件的所述底部还具有弯曲部，该弯曲部弯曲地连接所述保持件的所述平板部与所述侧部之间。

11.根据权利要求1～10任一项所述的光学单元，其特征在于，

所述保持件的所述底部还具有从所述侧部向所述光轴方向突出的外周突出部。

12.根据权利要求7所述的光学单元，其特征在于，

在所述保持件的所述底部设置有凹部。

13.根据权利要求12所述的光学单元，其特征在于，

所述凹部包括贯穿所述保持件的所述底部的贯穿孔。

14.根据权利要求13所述的光学单元，其特征在于，

所述贯穿孔从所述光轴的周围以所述光轴为中心呈放射状延伸。

15.根据权利要求14所述的光学单元，其特征在于，

所述保持件的所述底部具有在所述光轴方向上突起的凸部，

所述支撑机构具有相对于所述光轴配置在同一圆周上的多个支撑部，

所述多个支撑部相对于所述保持件的所述凸部位于径向外侧。

16.根据权利要求15所述的光学单元，其特征在于，

在所述光轴方向上观察时，所述凹部与所述多个支撑部重叠。

17.根据权利要求15或16所述的光学单元，其特征在于，

所述支撑部具有球面或球面的一部分的形状。

18.根据权利要求1～17任一项所述的光学单元，其特征在于，

所述保持件具有相对于所述光轴对称的结构。

19.根据权利要求1～18任一项所述的光学单元，其特征在于，

所述光学元件具有照相机模块，

所述照相机模块包括透镜单元和与所述透镜单元电连接的电路基板，

所述电路基板与所述保持件的所述底部的所述上表面对置。

20.一种智能手机，其特征在于，

具备权利要求1～19中任一项所述的光学单元。

Images