CN115386842A - 塑料安瓿真空外镀模组及一体成型机 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种塑料安瓿真空外镀模组,包括用于在塑料安瓿的表面植入静电的静电植入组件、用于将植入静电的塑料安瓿密封于封闭空腔内的密封组件、与密封组件连接的用于抽取塑料安瓿所处封闭空腔的空气以形成真空环境的抽真空组件、与密封组件连接的用于将镀层物料气化并电解为等离子体并向塑料安瓿所处封闭空腔输入等离子体以使塑料安瓿的外表面静电吸附等离子体进而形成阻隔镀层的等离子体产生组件以及用于将塑料安瓿转移至静电植入组件内植入静电和将植入静电的塑料安瓿转移至密封组件内的转移组件。此外,本发明还公开了一种包括上述塑料安瓿真空外镀模组的塑料安瓿一体成型机。

Description

塑料安瓿真空外镀模组及一体成型机
技术领域
本发明涉及塑料安瓿加工技术领域,特别地,涉及一种塑料安瓿真空外镀模组。此外,本发明还涉及一种包括上述塑料安瓿真空外镀模组的塑料安瓿一体成型机。
背景技术
塑料安瓿是一种广泛应用于医药行业中的容器,且相对于玻璃安瓿具备安全和便于打开的优点,但阻隔性相对较低,而氧气、二氧化碳、水蒸气等气体的透过会对塑料安瓿内部的药液质量产生很大的影响,为保证药品的质量,提高塑料安瓿的阻隔性尤其重要。
现有的阻隔方案通常是对塑料安瓿进行密封包装,在塑料安瓿的外部套设阻隔袋,并在阻隔袋中填充氮气等惰性气体来阻隔外界氧气、二氧化碳和水蒸气,但这样就需要额外的包装设备进行包装,同时需要额外使用阻隔袋和氮气等资源,且包装后的塑料安瓿成品的体积也会相应增大,而需要更大的外包盒,保存不便,生产成本高,使用过程中需要打开阻隔袋。
现有的塑料安瓿的加工,为提高产品的阻隔性,包装产品品质,加工过程复杂,成本相对较高,如中国实用新型专利CN206156069U,通过阻隔性膜材形成阻隔腔,在阻隔腔内设置吸氧剂以包装塑料安瓿,成本高,保存和试样部方便。
发明内容
本发明提供了一种塑料安瓿真空外镀模组及一体成型机,以解决现有的塑料安瓿的阻隔方案成本高,保存和使用不方便的技术问题。
根据本发明的一个方面,提供一种塑料安瓿真空外镀模组,包括用于在塑料安瓿的表面植入静电的静电植入组件、用于将植入静电的塑料安瓿密封于封闭空腔内的密封组件、与密封组件连接的用于抽取塑料安瓿所处封闭空腔的空气以形成真空环境的抽真空组件、与密封组件连接的用于将镀层物料气化并电解为等离子体并向塑料安瓿所处封闭空腔输入等离子体以使塑料安瓿的外表面静电吸附等离子体进而形成阻隔镀层的等离子体产生组件以及用于将塑料安瓿转移至静电植入组件内植入静电和将植入静电的塑料安瓿转移至密封组件内的转移组件。
作为上述技术方案的进一步改进:
进一步地,等离子体产生组件包括用于接收并气化镀层物料以产生镀层气体的气化单元、与气化单元连接的用于抽取气化单元的内腔的空气以形成真空环境的抽真空单元、布设于气化单元上的用于对气化单元施加电压以在真空环境下将镀层气体电解为等离子体的电解单元以及分别与密封组件和气化组件连接的用于将等离子体通入塑料安瓿所处封闭空腔的传输单元。
进一步地,气化单元包括用于接收并将镀层物料密封于收纳空腔内的气化壳体以及布设于气化壳体上的用于高温气化收纳空腔内的镀层物料的加热器。
进一步地,抽真空单元包括与气化壳体连接的用于连通镀层物料所处收纳空腔的第一抽气导管、布设于第一抽气导管上的用于控制抽气流量的第一抽气控制阀以及与第一抽气导管连接的用于通过第一抽气导管抽取镀层物料所处收纳空腔内的空气以形成真空环境的第一抽真空器。
进一步地,电解单元包括布设于气化壳体的第一侧壁上的第一电极、布设于气化壳体的第二侧壁上的第二电极以及分别与第一电极和第二电极电连接的用于向第一电极和第二电极提供电压的第一供压电源,第一电极和第二电极相对布设并用于通电后电解收纳空腔内的镀层气体以产生等离子体。
进一步地,传输单元包括分别与固定组件和气化壳体连接的用于将收纳空腔内的等离子体通入塑料安瓿所处封闭空腔的传输导管以及布设于传输导管上的用于控制等离子体流量的传输控制阀。
进一步地,静电植入组件包括用于布设于塑料安瓿的第一侧的第一电离线、布设于塑料安瓿的第二侧的第二电离线以及分别与第一电离线和第二电离线电连接的用于向第一电离线和第二电离线提供电压的第二供压电源,第一电离线和第二电离线相对布设并用于形成电离空气的电离区域以在塑料安瓿经过时植入静电。
进一步地,密封组件包括用于布设于塑料安瓿的第一侧的第一密封罩、与第一密封罩连接的用于驱动第一密封罩朝靠近或者远离塑料安瓿的方向移动的第一驱动件、用于布设于塑料安瓿的第二侧的第二密封罩以及与第二密封罩连接的用于驱动第二密封罩朝靠近或者远离塑料安瓿的方向移动的第二驱动件,第一密封罩和第二密封罩相对布设并用于相互靠近围合形成密封塑料安瓿的封闭空腔或者相互远离形成塑料安瓿的转移间隙。
进一步地,抽真空组件包括与密封组件连接的用于连通塑料安瓿所处封闭空腔的第二抽气导管、布设于第二抽气导管上的用于控制抽气流量的第二抽气控制阀以及与第二抽气导管连接的用于通过第二抽气导管抽取塑料安瓿所处封闭空腔的空气以形成真空环境的第二抽真空器。
根据本发明的另一方面,还提供了一种塑料安瓿一体成型机,其包括上述的塑料安瓿真空外镀模组。
本发明具有以下有益效果:
本发明的塑料安瓿真空外镀模组,首先通过转移组件将塑料安瓿转移至静电植入组件,静电植入组件对塑料安瓿的表面植入静电;再通过转移组件将已植入静电的塑料安瓿转移至密封组件内,密封组件将植入静电的塑料安瓿密封于封闭空腔内;然后通过抽真空组件抽取塑料安瓿所处封闭空腔的空气以形成真空环境;最后通过等离子体产生组件气化并电解镀层物料以产生等离子体,并将等离子体通入塑料安瓿所处封闭空腔内,真空环境下的塑料安瓿通过静电均匀吸附等离子体以形成阻隔镀层,从而大大提高塑料安瓿的阻隔性,尽可能阻隔外界氧气、二氧化碳和水蒸气,以保证塑料安瓿的内部药液的质量;本方案通过转移组件、静电植入组件、密封组件、抽真空组件和等离子体产生组件相互协同配合,以在塑料安瓿的表面形成阻隔镀层,大大提高塑料安瓿的阻隔性,相对于现有技术,无需进行额外的密封包装,塑料安瓿的体积基本不变,取出塑料安瓿后可直接使用,在提高阻隔性的同时,大大降低了生产成本,且保存和使用方便,实用性强,适于广泛推广和应用。
除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图,对本发明作进一步详细的说明。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1是本发明优选实施例的塑料安瓿真空外镀模组的剖面示意图;
图2是本发明优选实施例的塑料安瓿真空外镀模组的部分剖面示意图;
图3是本发明优选实施例的塑料安瓿一体成型机的结构示意图。
图例说明:
100、真空外镀模组;110、静电植入组件;111、第一电离线;112、第二电离线;120、密封组件;121、第一密封罩;122、第二密封罩;130、抽真空组件;131、第二抽气导管;132、第二抽气控制阀;133、第二抽真空器;140、等离子体产生组件;141、气化单元;142、传输单元;150、转移组件;151、第一支撑台;152、第二支撑台;200、注压模组;300、冲裁模组。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的实施例进行详细说明,但是本发明可以由下述所限定和覆盖的多种不同方式实施。
图1是本发明优选实施例的塑料安瓿真空外镀模组的剖面示意图;图2是本发明优选实施例的塑料安瓿真空外镀模组的部分剖面示意图;图3是本发明优选实施例的塑料安瓿一体成型机的结构示意图。
如图1和图2所示,本实施例的塑料安瓿真空外镀模组,真空外镀模组100包括用于在塑料安瓿的表面植入静电的静电植入组件110、用于将植入静电的塑料安瓿密封于封闭空腔内的密封组件120、与密封组件120连接的用于抽取塑料安瓿所处封闭空腔的空气以形成真空环境的抽真空组件130、与密封组件120连接的用于将镀层物料气化并电解为等离子体并向塑料安瓿所处封闭空腔输入等离子体以使塑料安瓿的外表面静电吸附等离子体进而形成阻隔镀层的等离子体产生组件140以及用于将塑料安瓿转移至静电植入组件110内植入静电和将植入静电的塑料安瓿转移至密封组件120内的转移组件150。具体地,本发明的塑料安瓿真空外镀模组,首先通过转移组件150将塑料安瓿转移至静电植入组件110,静电植入组件110对塑料安瓿的表面植入静电;再通过转移组件150将已植入静电的塑料安瓿转移至密封组件120内,密封组件120将植入静电的塑料安瓿密封于封闭空腔内;然后通过抽真空组件130抽取塑料安瓿所处封闭空腔的空气以形成真空环境;最后通过等离子体产生组件140气化并电解镀层物料以产生等离子体,并将等离子体通入塑料安瓿所处封闭空腔内,真空环境下的塑料安瓿通过静电均匀吸附等离子体以形成阻隔镀层,从而大大提高塑料安瓿的阻隔性,尽可能阻隔外界氧气、二氧化碳和水蒸气,以保证塑料安瓿的内部药液的质量;本方案通过转移组件150、静电植入组件110、密封组件120、抽真空组件130和等离子体产生组件140相互协同配合,以在塑料安瓿的表面形成阻隔镀层,大大提高塑料安瓿的阻隔性,相对于现有技术,无需进行额外的密封包装,塑料安瓿的体积基本不变,取出塑料安瓿后可直接使用,在提高阻隔性的同时,大大降低了生产成本,且保存和使用方便,实用性强,适于广泛推广和应用。如图3所示,可选地,塑料安瓿真空外镀模组用于成品塑料安瓿的外镀,此时,转移组件150为传送带或者夹瓶转移机构中的一种。应当理解的是,传送带或者夹瓶转移机构属于本领域技术人员的公知技术,此处不过多赘述。可选地,另一实施例中,塑料安瓿真空外镀模组用于已经注压形成但尚未冲裁的条带状塑料安瓿的外镀,转移组件150包括用于靠近可注压形成条带状塑料安瓿的注压模组200布设的第一支撑台151、与第一支撑台151保持预设间隙以容纳静电植入组件110和密封组件120的用于靠近可冲裁条带状塑料安瓿以获得塑料安瓿成品的冲裁模组300布设的第二支撑台152,以及用于将条带状塑料安装从注压模组200中依次输送至第一支撑台151上、静电植入组件110上、密封组件120内、第二支撑台152上和冲裁模组300内的输送单元;具体地,注压模组200注压获得条带状塑料安瓿后,输送单元使条带状塑料安瓿通过第一支撑台151并输送至静电植入组件110内,以在条带状塑料安瓿的表面植入静电,在静电植入完成后,再输送至密封组件120内密封,然后通过抽真空组件130和等离子体产生组件140相互配合在条带状塑料安瓿的表面形成阻隔镀层,最后使条带状塑料安瓿通过第二支撑台152并输送至冲裁模组300中冲裁,以获得塑料安瓿成品,实现高阻隔性塑料安瓿的一体化连续生产。可选地,输送单元为驱动气缸或者驱动油缸中的一种。可选地,镀层物料为硅、二氧化硅、铝或者其他相同性质的材料。应当理解的是,真空环境是指真空度达到要求。
如图1所示,本实施例中,等离子体产生组件140包括用于接收并气化镀层物料以产生镀层气体的气化单元141、与气化单元141连接的用于抽取气化单元141的内腔的空气以形成真空环境的抽真空单元、布设于气化单元141上的用于对气化单元141施加电压以在真空环境下将镀层气体电解为等离子体的电解单元以及分别与密封组件120和气化组件连接的用于将等离子体通入塑料安瓿所处封闭空腔的传输单元142。具体地,气化单元141接收合适的镀层物料后,以气化镀层物料以产生镀层气体,抽真空单元抽取气化单元141的内腔的空气以形成真空环境,电解单元对气化单元141施加电压以在真空环境下将镀层气体电解为等离子体,传输单元142即可将等离子体通入塑料安瓿所处封闭空腔,在真空环境下形成阻隔镀层。
本实施例中,气化单元141包括用于接收并将镀层物料密封于收纳空腔内的气化壳体以及布设于气化壳体上的用于高温气化收纳空腔内的镀层物料的加热器。具体地,气化壳体接收并将镀层物料密封于收纳空腔内,以便于抽真空单元进行抽真空,以及后续镀层气体的密封,然后通过加热器加热以提高收纳空腔内的温度,进而高温气化收纳空腔内的镀层物料,从而获得镀层气体。可选地,当镀层物料为铝丝是,真空环境的真空度为4x10- 4mba,收纳空腔加热后的温度为1300-1400℃。应当理解的是,加热器的具体结构属于本领域技术人员的公知技术,此处不过多赘述。
本实施例中,抽真空单元包括与气化壳体连接的用于连通镀层物料所处收纳空腔的第一抽气导管、布设于第一抽气导管上的用于控制抽气流量的第一抽气控制阀以及与第一抽气导管连接的用于通过第一抽气导管抽取镀层物料所处收纳空腔内的空气以形成真空环境的第一抽真空器。具体地,在气化壳体将镀层物料密封于收纳空腔后,打开第一抽气控制阀和第一抽真空器,以抽取镀层物料所处收纳空腔内的空气,进而形成真空环境,然后关闭第一抽气控制阀,以保持真空环境的真空度,并阻止外界气体流入或者镀层气体流出。
本实施例中,电解单元包括布设于气化壳体的第一侧壁上的第一电极、布设于气化壳体的第二侧壁上的第二电极以及分别与第一电极和第二电极电连接的用于向第一电极和第二电极提供电压的第一供压电源,第一电极和第二电极相对布设并用于通电后电解收纳空腔内的镀层气体以产生等离子体。具体地,在抽真空单元抽真空完成后,第一供压电源分别向第一电极和第二电极电压,以使第一电极和第二电极向气化壳体施加电极,以在真空环境中电解收纳空腔内的镀层气体,进而产生等离子体。
如图1所示,本实施例中,传输单元142包括分别与固定组件和气化壳体连接的用于将收纳空腔内的等离子体通入塑料安瓿所处封闭空腔的传输导管以及布设于传输导管上的用于控制等离子体流量的传输控制阀。具体地,在收纳空腔内的等离子体产生,且封闭空腔已密封塑料安瓿并抽取真空后,打开传输控制阀,以通过传输导管将收纳空腔内的等离子体通入塑料安瓿所处封闭空间,进而与塑料安瓿的表面的静电吸附形成阻隔镀层。
如图2所示,本实施例中,静电植入组件110包括用于布设于塑料安瓿的第一侧的第一电离线111、布设于塑料安瓿的第二侧的第二电离线112以及分别与第一电离线111和第二电离线112电连接的用于向第一电离线111和第二电离线112提供电压的第二供压电源,第一电离线111和第二电离线112相对布设并用于形成电离空气的电离区域以在塑料安瓿经过时植入静电。具体地,当转移组件150将塑料安瓿转移至静电植入组件110所处工位时,第二供压电源分别向第一电离线111和第二电离线112提供电压,以使第一电离线111和第二电离线112形成电离空气产生正负离子的电离区域,以在塑料安瓿的表面植入静电。可选地,第二供压电源提供的电压范围为30KV-120KV。
如图2所示,本实施例中,密封组件120包括用于布设于塑料安瓿的第一侧的第一密封罩121、与第一密封罩121连接的用于驱动第一密封罩121朝靠近或者远离塑料安瓿的方向移动的第一驱动件、用于布设于塑料安瓿的第二侧的第二密封罩122以及与第二密封罩122连接的用于驱动第二密封罩122朝靠近或者远离塑料安瓿的方向移动的第二驱动件,第一密封罩121和第二密封罩122相对布设并用于相互靠近围合形成密封塑料安瓿的封闭空腔或者相互远离形成塑料安瓿的转移间隙。具体地,当转移组件150将塑料安瓿转移至密封组件120所处工位时,第一驱动件驱动第一密封罩121靠近塑料安瓿,第二密封件驱动第二密封罩122靠近塑料安瓿,以使第一密封罩121和第二密封罩122相互靠近形成密封塑料安瓿的封闭空间,便于后续的抽真空和外镀;在塑料安瓿的表面镀上阻隔镀层后,第一驱动件驱动第一密封罩121远离塑料安瓿,第二驱动件驱动第二密封罩122远离塑料安瓿,以使第一密封罩121和第二密封罩122相互远离形成塑料安瓿转移的转移间隙,进而可通过转移组件150转移塑料安瓿。可选地,第一驱动件为驱动气缸或者驱动油缸。可选地,第二驱动件为驱动气缸或者驱动油缸。可选地,第一密封罩121和条带状塑料安瓿之间设有密封条。可选地,第二密封罩122和条带状塑料安瓿之间设有密封条。
如图1所示,本实施例中,抽真空组件130包括与密封组件120连接的用于连通塑料安瓿所处封闭空腔的第二抽气导管131、布设于第二抽气导管131上的用于控制抽气流量的第二抽气控制阀132以及与第二抽气导管131连接的用于通过第二抽气导管131抽取塑料安瓿所处封闭空腔的空气以形成真空环境的第二抽真空器133。具体地,在密封组件120将塑料安瓿密封于封闭空腔内后,打开第二抽气控制阀132和第二抽真空器133,以抽取塑料安瓿所处封闭空腔内的空气,进而形成真空环境,然后关闭第二抽气控制阀132,以保持真空环境的真空度,并阻止外界气体流入或者等离子体流出。
如图3所示,本实施例的塑料安瓿一体成型机,包括上述的塑料安瓿真空外镀模组。具体地,塑料安瓿一体成型机还包括用于注压形成条带状塑料安瓿的注压模组200以及用于冲裁条带状塑料安瓿以获得塑料安瓿成品的冲裁模组300,转移组件150包括靠近注压模组200布设的第一支撑台151、与第一支撑台151保持预设间隙以容纳静电植入组件110和密封组件120并靠近冲裁模组300布设的第二支撑台152,以及用于将条带状塑料安装从注压模组200中依次输送至第一支撑台151上、静电植入组件110上、密封组件120内、第二支撑台152上和冲裁模组300内的输送单元;注压模组200注压获得条带状塑料安瓿后,输送单元使条带状塑料安瓿通过第一支撑台151并输送至静电植入组件110内,以在条带状塑料安瓿的表面植入静电,在静电植入完成后,再输送至密封组件120内密封,然后通过抽真空组件130和等离子体产生组件140相互配合在条带状塑料安瓿的表面形成阻隔镀层,最后使条带状塑料安瓿通过第二支撑台152并输送至冲裁模组300中冲裁,以获得塑料安瓿成品,实现高阻隔性塑料安瓿的一体化连续生产,大大提高生产效率,降低成本。应当理解的是,注压模组200的具体结构属于本领与技术人员的公知技术,此处不过多赘述。应当理解的是,图3为冲裁模组300的简单示意,冲裁模组300的具体结构属于本领域技术人员的公知技术,此处不过多赘述。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种塑料安瓿真空外镀模组,其特征在于,包括用于在塑料安瓿的表面植入静电的静电植入组件(110)、用于将植入静电的塑料安瓿密封于封闭空腔内的密封组件(120)、与密封组件(120)连接的用于抽取塑料安瓿所处封闭空腔的空气以形成真空环境的抽真空组件(130)、与密封组件(120)连接的用于将镀层物料气化并电解为等离子体并向塑料安瓿所处封闭空腔输入等离子体以使塑料安瓿的外表面静电吸附等离子体进而形成阻隔镀层的等离子体产生组件(140)以及用于将塑料安瓿转移至静电植入组件(110)内植入静电和将植入静电的塑料安瓿转移至密封组件(120)内的转移组件(150)。
2.根据权利要求1所述的塑料安瓿真空外镀模组,其特征在于,等离子体产生组件(140)包括用于接收并气化镀层物料以产生镀层气体的气化单元(141)、与气化单元(141)连接的用于抽取气化单元(141)的内腔的空气以形成真空环境的抽真空单元、布设于气化单元(141)上的用于对气化单元(141)施加电压以在真空环境下将镀层气体电解为等离子体的电解单元以及分别与密封组件(120)和气化组件连接的用于将等离子体通入塑料安瓿所处封闭空腔的传输单元(142)。
3.根据权利要求2所述的塑料安瓿真空外镀模组,其特征在于,气化单元(141)包括用于接收并将镀层物料密封于收纳空腔内的气化壳体以及布设于气化壳体上的用于高温气化收纳空腔内的镀层物料的加热器。
4.根据权利要求3所述的塑料安瓿真空外镀模组,其特征在于,抽真空单元包括与气化壳体连接的用于连通镀层物料所处收纳空腔的第一抽气导管、布设于第一抽气导管上的用于控制抽气流量的第一抽气控制阀以及与第一抽气导管连接的用于通过第一抽气导管抽取镀层物料所处收纳空腔内的空气以形成真空环境的第一抽真空器。
5.根据权利要求3所述的塑料安瓿真空外镀模组,其特征在于,电解单元包括布设于气化壳体的第一侧壁上的第一电极、布设于气化壳体的第二侧壁上的第二电极以及分别与第一电极和第二电极电连接的用于向第一电极和第二电极提供电压的第一供压电源,第一电极和第二电极相对布设并用于通电后电解收纳空腔内的镀层气体以产生等离子体。
6.根据权利要求3所述的塑料安瓿真空外镀模组,其特征在于,传输单元(142)包括分别与固定组件和气化壳体连接的用于将收纳空腔内的等离子体通入塑料安瓿所处封闭空腔的传输导管以及布设于传输导管上的用于控制等离子体流量的传输控制阀。
7.根据权利要求1-6中任意一项所述的塑料安瓿真空外镀模组,其特征在于,静电植入组件(110)包括用于布设于塑料安瓿的第一侧的第一电离线(111)、布设于塑料安瓿的第二侧的第二电离线(112)以及分别与第一电离线(111)和第二电离线(112)电连接的用于向第一电离线(111)和第二电离线(112)提供电压的第二供压电源,第一电离线(111)和第二电离线(112)相对布设并用于形成电离空气的电离区域以在塑料安瓿经过时植入静电。
8.根据权利要求1-6中任意一项所述的塑料安瓿真空外镀模组,其特征在于,密封组件(120)包括用于布设于塑料安瓿的第一侧的第一密封罩(121)、与第一密封罩(121)连接的用于驱动第一密封罩(121)朝靠近或者远离塑料安瓿的方向移动的第一驱动件、用于布设于塑料安瓿的第二侧的第二密封罩(122)以及与第二密封罩(122)连接的用于驱动第二密封罩(122)朝靠近或者远离塑料安瓿的方向移动的第二驱动件,第一密封罩(121)和第二密封罩(122)相对布设并用于相互靠近围合形成密封塑料安瓿的封闭空腔或者相互远离形成塑料安瓿的转移间隙。
9.根据权利要求1-6中任意一项所述的塑料安瓿真空外镀模组,其特征在于,抽真空组件(130)包括与密封组件(120)连接的用于连通塑料安瓿所处封闭空腔的第二抽气导管(131)、布设于第二抽气导管(131)上的用于控制抽气流量的第二抽气控制阀(132)以及与第二抽气导管(131)连接的用于通过第二抽气导管(131)抽取塑料安瓿所处封闭空腔的空气以形成真空环境的第二抽真空器(133)。
10.一种塑料安瓿一体成型机,其特征在于,包括权利要求1-9中任意一项所述的塑料安瓿真空外镀模组。
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JP3362230B2 (ja) * 1992-10-08 2003-01-07 日本パーカライジング株式会社 静電粉体塗装装置
CN2460530Y (zh) * 2001-01-12 2001-11-21 黄胜兴 塑料瓶内壁非晶碳镀膜机
JP4067817B2 (ja) * 2001-12-07 2008-03-26 日精エー・エス・ビー機械株式会社 容器のコーティング装置
CN1260387C (zh) * 2004-01-08 2006-06-21 西安交通大学 热等离子体雾态气化制备薄膜的装置
US10913995B2 (en) * 2017-07-14 2021-02-09 Stolle Machinery Company, Llc Pretreatment assembly and method for treating work pieces
CN110331385A (zh) * 2019-07-01 2019-10-15 大连理工大学 一种用于细管内壁镀膜的低温化学气相沉积装置
CN217202952U (zh) * 2022-02-17 2022-08-16 广东思泉新材料股份有限公司 Cvd和pecvd复合镀膜设备
CN218345532U (zh) * 2022-09-20 2023-01-20 湖南千山制药机械股份有限公司 塑料安瓿真空外镀模组及一体成型机

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