CN115305003A - 一种超疏水耐指纹材料的制备方法及其应用 - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 230000003075 superhydrophobic effect Effects 0.000 title claims abstract description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 59
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 57
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 38
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 34
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical class O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 16
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 239000004970 Chain extender Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 11
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000012974 tin catalyst Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 55
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 52
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 16
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 14
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 10
- -1 alkoxy compound Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 claims description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 7
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 claims description 7
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 claims description 6
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 3
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FAEGGADNHFKDQX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,4,4,5,5,5-nonafluoro-2-(trifluoromethyl)pent-2-ene Chemical compound FC(F)(F)C(C(F)(F)F)=C(F)C(F)(F)C(F)(F)F FAEGGADNHFKDQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CDAVUOSPHHTNBU-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-tetradecafluorohept-1-ene Chemical compound FC(F)=C(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F CDAVUOSPHHTNBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FYQFWFHDPNXORA-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooct-1-ene Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C=C FYQFWFHDPNXORA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LCERLGUDBYDXGU-UHFFFAOYSA-N 6-[chloro(dimethyl)silyl]-2-methylhex-1-en-3-one Chemical compound CC(=C)C(=O)CCC[Si](C)(C)Cl LCERLGUDBYDXGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YENIOYBTCIZCBJ-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-methoxypropan-2-ol Chemical compound CC(O)=O.COCC(C)O YENIOYBTCIZCBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940069096 dodecene Drugs 0.000 claims description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)C=C MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- PIZSEPSUZMIOQF-UHFFFAOYSA-N platinum;2,4,6,8-tetrakis(ethenyl)-2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound [Pt].C=C[Si]1(C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O1 PIZSEPSUZMIOQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims description 2
- DKFGYGJKRWRIPR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1-phenylethenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(=C)C1=CC=CC=C1 DKFGYGJKRWRIPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VDRSDNINOSAWIV-UHFFFAOYSA-N [F].[Si] Chemical class [F].[Si] VDRSDNINOSAWIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZHPNWZCWUUJAJC-UHFFFAOYSA-N fluorosilicon Chemical compound [Si]F ZHPNWZCWUUJAJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 11
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 30
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 5
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 2
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012271 agricultural production Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011538 cleaning material Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- ZRDRRLQUBZPUOP-UHFFFAOYSA-N trichloro(hydroxy)silane Chemical compound O[Si](Cl)(Cl)Cl ZRDRRLQUBZPUOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/24—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials for applying particular liquids or other fluent materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
- C09D7/62—Additives non-macromolecular inorganic modified by treatment with other compounds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
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Abstract
本发明属于超疏水耐指纹材料技术领域，具体涉及一种超疏水耐指纹材料的制备方法及其应用，制备方法包括：1）制备单体A，在反应釜中加入单体A、扩链剂B、封端剂C、氟硅树脂良溶剂、有机锡类催化剂制备改性氟硅树脂；2）在反应容器中加入改性二氧化硅溶胶和3‑（异丁烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷得到改性纳米二氧化硅溶胶；3）将基材浸入改性纳米二氧化硅溶胶，提拉固化，得固化后基材，再将改性氟硅树脂复配溶液喷涂至固化后基材的表面，固化得到超疏水耐指纹材料；应用为经过上述处理的材料能获得双疏防污防指纹效果。本发明通过制备疏水材料，再用疏水材料使得基材涂层具有双疏防污防指纹效果，且涂层附着力强，涂层不易被破坏，易于制备。
Description
技术领域
本发明属于超疏水耐指纹材料技术领域，具体涉及一种超疏水耐指纹材料的制备方法及其应用。
背景技术
近年来，具有特殊浸润性能的超疏水材料受到人们广泛关注，超疏水材料在医学生物、工农业生产和日常生活中，如自清洁材料、油水分离材料、抗污织布、减阻材料等都有着极其广阔的应用前景。然而目前超疏水材料用于基材表面，即在基层表面形成涂层时，制备工艺复杂，超疏水涂层附着力差，性能单一，涂层易被破坏导致出现性能大幅度降低的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种超疏水耐指纹材料的制备方法及其应用，通过先制备疏水材料，即改性氟硅树脂复配溶液和改性纳米二氧化硅溶胶，再将改性纳米二氧化硅溶胶构造的纳米粗糙基片上喷涂改性氟硅树脂复配溶液的方法实现基材涂层具有双疏防污防指纹效果，且涂层附着力强，涂层不易被破坏，易于制备。
一种超疏水耐指纹材料的制备方法，超疏水耐指纹材料包括改性氟硅树脂复配溶液和改性纳米二氧化硅溶胶，该制备方法包括如下步骤：
1）改性氟硅树脂复配溶液的制备包括以下步骤：
制备单体A：向反应釜中加入含Si-H官能团的氯硅烷A1、氟代烯烃和/或氟代酰胺A2、α-烯烃烷氧基化合物A3、铂系催化剂A4、四氢呋喃溶剂，搅拌混匀并加热，反应结束生成单体A；
在反应釜中加入单体A、扩链剂B、封端剂C以及氟硅树脂良溶剂，升温后搅拌均匀，再加入纯水，搅拌反应，降温至常温，减压旋蒸脱去杂质得到无色有粘度的液体，所述液体为改性氟硅树脂，所述改性氟硅树脂为氟代不饱和官能团烯烷氧基改性硅树脂，再加入有机锡类催化剂得到改性氟硅树脂复配溶液；
2）改性纳米二氧化硅溶胶的制备：在反应容器中加入改性二氧化硅溶胶和3-（异丁烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷，混合升温后机械搅拌，搅拌结束后冷却至室温得到改性纳米二氧化硅溶胶；
3）将经过清洁的基材浸入步骤2）制备的改性纳米二氧化硅溶胶中，提拉基材，固化，得到固化后基材，再将步骤1）制备的改性氟硅树脂复配溶液喷涂至固化后基材的表面，固化，得到超疏水耐指纹材料。
优选的，所述单体A为包括以下至少一种的混合物：
采用上述技术方案，以氟取代带有不饱和双键的烯烃或酰胺，α-烯烃烷氧基化合物通过硅氢加成改性多氢氯硅烷，提供特异性的功能结构单体A，再经过单体A聚合扩链交联形成氟代不饱和官能团烯烷氧基改性硅树脂。
优选的，所述含Si-H官能团的氯硅烷A1为包括二氯二氢硅烷和三氯一氢硅烷中至少一种的混合物；
所述α-烯烃烷氧基化合物A3为包括三乙氧基（1-苯基乙烯基）硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、三异丙氧基(乙烯基)硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷中至少一种的混合物；
所述铂系催化剂A4为1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂和铂（0）-2,4,6,8-四甲基-2,4,6,8-四乙烯基环四硅氧烷络合物溶液中的至少一种；
其中，A1、A2、A3的摩尔比为2:1-4:1-4，铂系催化剂A4加入量为100-200ppm，所述四氢呋喃溶剂加入量为A1、A2、A3、A4四者总质量的2-3倍。
优选的，所述氟代烯烃和/或氟代酰胺A2为包括1H,1H,2H-全氟-1-十二烯、全氟庚-1-烯、7H-全氟庚酰氟、全氟-2-甲基-2-戊烯、1H，1H，2H-全氟壬-1-烯、全氟己基乙烯、1H,1H,2H-全氟-1-癸烯、1H,1H,2H-全氟-1-己烯中至少一种的混合物；
其中，所述氟代烯烃中的不饱和双键包括碳碳双键和碳氢双键中的至少一种；所述氟代酰胺中的不饱和双键包括碳碳双键和碳氢双键中的至少一种。
优选的，单体A的制备步骤中，搅拌混匀并加热的具体参数为：控制体系反应温度为50-70℃，所述反应釜内压力为2Mpa，搅拌反应时间为12-20h，反应全程是在无水阻氧条件下进行，所述无水阻氧是在N2保护下；
采用上述技术方案，通入惰性气体N2，避免水和氧气对实验过程的影响。
改性氟硅树脂复配溶液的制备步骤中，所述扩链剂B和封端剂C均为改性氯硅烷，所述氟硅树脂良溶剂为三氟乙醇、六氟异丙醇、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、丙二醇甲醚醋酸中的至少一种。
优选的，所述扩链剂B包括二甲基二氯硅烷，所述封端剂C包括甲基丙烯酰基丙基二甲基氯硅烷；
所述单体A、扩链剂B、封端剂C的摩尔比为1-10:1-5:0.1-0.5，所述氟硅树脂良溶剂加入量为A、B、C三者总质量的3-6倍。
优选的，改性氟硅树脂复配溶液的制备步骤中，升温后搅拌均匀，再加入纯水，搅拌反应的具体参数为：升温至40-50℃后搅拌均匀，再加入纯水，搅拌反应8-12h；
所述有机锡类催化剂包括二月桂酸二丁基锡,所述有机锡类催化剂加入量为10ppm。
优选的，所述改性纳米二氧化硅溶胶的制备中的所述改性二氧化硅溶胶为疏水性二氧化硅溶胶，疏水基团包括甲基、乙基、辛基、苯基以及乙撑中的至少一种；
所述改性二氧化硅溶胶和所述3-（异丁烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷的质量比为1.1-1.5:0.05-0.1。
优选的，所述改性纳米二氧化硅溶胶的制备中，混合升温后机械搅拌的具体参数为：混合升温至50-60℃，机械搅拌的时间为1-2h。
本发明的另一目的是提供一种基于所述超疏水耐指纹材料实现基材表面双疏防污防指纹效果的方法：在步骤3）中，将经过清洁的基材浸入步骤2）制备的改性纳米二氧化硅溶胶中，以3-8μm/min的速度提拉基材，转入100-120℃烘箱固化30-60min，再将步骤1）制备的改性氟硅树脂复配溶液喷涂至粗糙化的固化后基材表面，控制膜厚在200-300nm，转入烘箱60-120℃固化30-60min，经过上述处理的基材表面即可获得双疏防污防指纹效果。
本发明的有益效果是：
第一，以氟取代带有不饱和双键的烯烃或酰胺，α-烯烃烷氧基化合物通过硅氢加成改性多氢氯硅烷，提供特异性的功能结构单体A，再经过单体A聚合扩链交联形成氟代不饱和官能团烯烷氧基改性硅树脂。
第二，在改性纳米二氧化硅溶胶构造的纳米粗糙基片上喷涂改性氟硅树脂复配溶液实现基材表面涂层的双疏防污防指纹效果，双疏为疏水疏油，疏水性即水接触角度可达到144-150°，疏油性即油接触角可达到68-78°，硬度能够达到4H，耐磨次数在200g载荷下可达到2135-2532次，且涂层附着力强，涂层不易被破坏，易于制备。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1是本发明的单体A结构示意图。
具体实施方式
实施例1
一种超疏水耐指纹材料的制备方法，超疏水耐指纹材料包括改性氟硅树脂复配溶液和改性纳米二氧化硅溶胶，该制备方法包括如下步骤：
1）改性氟硅树脂复配溶液的制备包括以下步骤：
制备单体A：配方如下述表1所示：
表1：
向反应釜中加入如上述表1的各组分，搅拌混匀并加热，具体为：控制体系反应温度50℃，容器压力2Mpa，搅拌反应15h，反应全程是在N2保护无水阻氧条件下进行，反应结束生成单体A，单体A为混合物，结构参照图1；
表2：
在反应釜中加入如上述表2的各组分，升温50℃搅拌均匀，再加入5.4g纯水，搅拌反应8h，降温至常温，洗去反应体系中的酸，减压旋蒸脱去杂质得到无色有粘度的液体，即为改性氟硅树脂，改性氟硅树脂为氟代不饱和官能团烯烷氧基改性硅树脂，再加入10ppm有机锡类催化剂，即二月桂酸二丁基锡，得到改性氟硅树脂复配溶液；
2）改性纳米二氧化硅溶胶的制备：在单口烧瓶中加入50.6g甲基改性二氧化硅溶胶和2.1g 3-（异丁烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷，混合升温至60℃后机械搅拌1h，搅拌结束后冷却至室温得到改性纳米二氧化硅溶胶待用；
3）将经过清洁的玻璃基片浸入步骤2）制备的改性纳米二氧化硅溶胶中，以5μm/min的速度提拉玻璃基材，转入120℃烘箱固化30min，再将步骤1）制备的改性氟硅树脂复配溶液喷涂至粗糙化的固化后玻璃基材表面，控制膜厚在200nm，转入烘箱80℃固化30min，经过上述处理的玻璃基材表面即可获得双疏防污防指纹效果，双疏为疏水疏油。
实施例2
一种超疏水耐指纹材料的制备方法，超疏水耐指纹材料包括改性氟硅树脂复配溶液和改性纳米二氧化硅溶胶，该制备方法包括如下步骤：
1）改性氟硅树脂复配溶液的制备包括以下步骤：
制备单体A：配方如下述表3所示：
表3：
向反应釜中加入如上述表3的各组分，搅拌混匀并加热，具体为：控制体系反应温度55℃，容器压力2Mpa，搅拌反应15h，反应全程是在N2保护无水阻氧条件下进行，反应结束生成单体A，单体A为混合物，结构参照图1；
表4：
在反应釜中加入如上述表4的各组分，升温50℃搅拌均匀，再加入9g纯水，搅拌反应8.5h，降温至常温，洗去反应体系中的酸，减压旋蒸脱去杂质得到无色有粘度的液体，即为改性氟硅树脂，改性氟硅树脂为氟代不饱和官能团烯烷氧基改性硅树脂，再加入10ppm有机锡类催化剂，即二月桂酸二丁基锡，得到改性氟硅树脂复配溶液；
2）改性纳米二氧化硅溶胶的制备：在单口烧瓶中加入80.4g乙基改性二氧化硅溶胶和2.8g 3-（异丁烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷，混合升温至60℃后机械搅拌2h，搅拌结束后冷却至室温得到改性纳米二氧化硅溶胶待用；
3）将经过清洁的玻璃基片浸入步骤2）制备的改性纳米二氧化硅溶胶中，以5μm/min的速度提拉玻璃基材，转入120℃烘箱固化30min，再将步骤1）制备的改性氟硅树脂复配溶液喷涂至粗糙化的固化后玻璃基材表面，控制膜厚在200nm，转入烘箱80℃固化30min，经过上述处理的玻璃基材表面即可获得双疏防污防指纹效果，双疏为疏水疏油。
实施例3
一种超疏水耐指纹材料的制备方法，超疏水耐指纹材料包括改性氟硅树脂复配溶液和改性纳米二氧化硅溶胶，该制备方法包括如下步骤：
1）改性氟硅树脂复配溶液的制备包括以下步骤：
制备单体A：配方如下述表5所示：
表5：
向反应釜中加入如上述表5的各组分，搅拌混匀并加热，具体为：控制体系反应温度60℃，容器压力2Mpa，搅拌反应20h，反应全程是在N2保护无水阻氧条件下进行，反应结束生成单体A，单体A为混合物，结构参照图1；
表6：
在反应釜中加入如上述表6的各组分，升温50℃搅拌均匀，再加入14.4g纯水，搅拌反应8h，降温至常温，洗去反应体系中的酸，减压旋蒸脱去杂质得到无色有粘度的液体，即为改性氟硅树脂，改性氟硅树脂为氟代不饱和官能团烯烷氧基改性硅树脂，再加入10ppm有机锡类催化剂，即二月桂酸二丁基锡，得到改性氟硅树脂复配溶液；
2）改性纳米二氧化硅溶胶的制备：在单口烧瓶中加入60.8g苯基改性二氧化硅溶胶和3.2g 3-（异丁烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷，混合升温至60℃后机械搅拌2h，搅拌结束后冷却至室温得到改性纳米二氧化硅溶胶待用；
3）将经过清洁的玻璃基片浸入步骤2）制备的改性纳米二氧化硅溶胶中，以5μm/min的速度提拉玻璃基材，转入120℃烘箱固化30min，再将步骤1）制备的改性氟硅树脂复配溶液喷涂至粗糙化的固化后玻璃基材表面，控制膜厚在200nm，转入烘箱80℃固化30min，经过上述处理的玻璃基材表面即可获得双疏防污防指纹效果，双疏为疏水疏油。
实施例4
一种超疏水耐指纹材料的制备方法，超疏水耐指纹材料包括改性氟硅树脂复配溶液和改性纳米二氧化硅溶胶，该制备方法包括如下步骤：
1）改性氟硅树脂复配溶液的制备包括以下步骤：
制备单体A：配方如下述表7所示：
表7：
向反应釜中加入如上述表7的各组分，搅拌混匀并加热，具体为：控制体系反应温度65℃，容器压力2Mpa，搅拌反应15h，反应全程是在N2保护无水阻氧条件下进行，反应结束生成单体A，单体A为混合物，结构参照图1；
表8：
在反应釜中加入如上述表8的各组分，升温45℃搅拌均匀，再加入18g纯水，搅拌反应12h，降温至常温，洗去反应体系中的酸，减压旋蒸脱去杂质得到无色有粘度的液体，即为改性氟硅树脂，改性氟硅树脂为氟代不饱和官能团烯烷氧基改性硅树脂，再加入10ppm有机锡类催化剂，即二月桂酸二丁基锡，得到改性氟硅树脂复配溶液；
2）改性纳米二氧化硅溶胶的制备：在单口烧瓶中加入80.4g辛基改性二氧化硅溶胶和2.8g 3-（异丁烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷，混合升温至60℃后机械搅拌2h，搅拌结束后冷却至室温得到改性纳米二氧化硅溶胶待用；
3）将经过清洁的玻璃基片浸入步骤2）制备的改性纳米二氧化硅溶胶中，以5μm/min的速度提拉玻璃基材，转入120℃烘箱固化30min，再将步骤1）制备的改性氟硅树脂复配溶液喷涂至粗糙化的固化后玻璃基材表面，控制膜厚在200nm，转入烘箱80℃固化30min，经过上述处理的玻璃基材表面即可获得双疏防污防指纹效果，双疏为疏水疏油。
实施例5
一种超疏水耐指纹材料的制备方法，超疏水耐指纹材料包括改性氟硅树脂复配溶液和改性纳米二氧化硅溶胶，该制备方法包括如下步骤：
1）改性氟硅树脂复配溶液的制备包括以下步骤：
制备单体A：配方如下述表9所示：
表9：
向反应釜中加入如上述表9的各组分，搅拌混匀并加热，具体为：控制体系反应温度70℃，容器压力2Mpa，搅拌反应15h，反应全程是在N2保护无水阻氧条件下进行，反应结束生成单体A，单体A为混合物，结构参照图1；
表10：
在反应釜中加入如上述表10的各组分，升温50℃搅拌均匀，再加入20g纯水，搅拌反应12h，降温至常温，洗去反应体系中的酸，减压旋蒸脱去杂质得到无色有粘度的液体，即为改性氟硅树脂，改性氟硅树脂为氟代不饱和官能团烯烷氧基改性硅树脂，再加入10ppm有机锡类催化剂，即二月桂酸二丁基锡，得到改性氟硅树脂复配溶液；
2）改性纳米二氧化硅溶胶的制备：在单口烧瓶中加入80.4g乙撑改性二氧化硅溶胶和2.8g 3-（异丁烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷，混合升温至60℃后机械搅拌2h，搅拌结束后冷却至室温得到改性纳米二氧化硅溶胶待用；
3）将经过清洁的玻璃基片浸入步骤2）制备的改性纳米二氧化硅溶胶中，以5μm/min的速度提拉玻璃基材，转入120℃烘箱固化30min，再将步骤1）制备的改性氟硅树脂复配溶液喷涂至粗糙化的固化后玻璃基材表面，控制膜厚在200nm，转入烘箱80℃固化30min，经过上述处理的玻璃基材表面即可获得双疏防污防指纹效果，双疏为疏水疏油。
取实施例1-5和市面上现有的疏水涂层材料（fw-8800疏水涂层）作为对比例1制作样片进行测试，疏水性以水接触角（水滴角）θ水表征，疏油性以油接触角（油滴角）θ油表征，仪器为接触角测量仪，液滴大小为20μl，材料分别为纯水和正十六烷，测试温湿度控制在25±2℃/40%RH。膜层硬度参照GB/T 6739-93方法用QHQ-A型铅笔硬度计测定。透光率采用岛津UV-2000控制波段在380nm-790nm测试。耐磨性采用往复式耐磨测试仪，负载200g，磨材选用无尘纸，温湿度控制在25±2℃/40%RH。测试数据如下述表11：
表11：
在改性纳米二氧化硅溶胶构造的纳米粗糙基片上喷涂改性氟硅树脂复配溶液实现基材表面的双疏防污防指纹效果，疏水性即水接触角度可达到144-150°，疏油性即油接触角可达到68-78°，而且硬度能够达到4H，耐磨次数在200g载荷下可达到2135-2532次。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种超疏水耐指纹材料的制备方法，其特征在于，超疏水耐指纹材料包括改性氟硅树脂复配溶液和改性纳米二氧化硅溶胶，该制备方法包括如下步骤：
1）改性氟硅树脂复配溶液的制备包括以下步骤：
制备单体A：向反应釜中加入含Si-H官能团的氯硅烷A1、氟代烯烃和/或氟代酰胺A2、α-烯烃烷氧基化合物A3、铂系催化剂A4、四氢呋喃溶剂，搅拌混匀并加热，反应结束生成单体A；
在反应釜中加入单体A、扩链剂B、封端剂C以及氟硅树脂良溶剂，升温后搅拌均匀，再加入纯水，搅拌反应，降温至常温，减压旋蒸脱去杂质得到无色有粘度的液体，所述液体为改性氟硅树脂，所述改性氟硅树脂为氟代不饱和官能团烯烷氧基改性硅树脂，再加入有机锡类催化剂得到改性氟硅树脂复配溶液；
2）改性纳米二氧化硅溶胶的制备：在反应容器中加入改性二氧化硅溶胶和3-（异丁烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷，混合升温后机械搅拌，搅拌结束后冷却至室温得到改性纳米二氧化硅溶胶；
3）将经过清洁的基材浸入步骤2）制备的改性纳米二氧化硅溶胶中，提拉基材，固化，得到固化后基材，再将步骤1）制备的改性氟硅树脂复配溶液喷涂至固化后基材的表面，固化，得到超疏水耐指纹材料。
2.根据权利要求1所述的超疏水耐指纹材料的制备方法，其特征在于，所述单体A为包括以下至少一种结构的混合物：
3.根据权利要求1所述的超疏水耐指纹材料的制备方法，其特征在于，所述含Si-H官能团的氯硅烷A1为包括二氯二氢硅烷和三氯一氢硅烷中至少一种的混合物；
所述α-烯烃烷氧基化合物A3为包括三乙氧基（1-苯基乙烯基）硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、三异丙氧基(乙烯基)硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷中至少一种的混合物；
所述铂系催化剂A4包括1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂和铂（0）-2,4,6,8-四甲基-2,4,6,8-四乙烯基环四硅氧烷络合物溶液中的至少一种；
其中，A1、A2、A3的摩尔比为2:1-4:1-4，铂系催化剂A4加入量为100-200ppm，所述四氢呋喃溶剂加入量为A1、A2、A3、A4四者总质量的2-3倍。
4.根据权利要求1所述的超疏水耐指纹材料的制备方法，其特征在于，所述氟代烯烃和/或氟代酰胺A2为包括1H,1H,2H-全氟-1-十二烯、全氟庚-1-烯、7H-全氟庚酰氟、全氟-2-甲基-2-戊烯、1H，1H，2H-全氟壬-1-烯、全氟己基乙烯、1H,1H,2H-全氟-1-癸烯、1H,1H,2H-全氟-1-己烯中至少一种的混合物；
其中，所述氟代烯烃中的不饱和双键包括碳碳双键和碳氢双键中的至少一种；所述氟代酰胺中的不饱和双键包括碳碳双键和碳氢双键中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的超疏水耐指纹材料的制备方法，其特征在于，单体A的制备步骤中，搅拌混匀并加热的具体参数为：控制体系反应温度为50-70℃，所述反应釜内压力为2Mpa，搅拌反应时间为12-20h，反应全程是在无水阻氧条件下进行，所述无水阻氧是在N2保护下；
改性氟硅树脂复配溶液的制备步骤中，所述扩链剂B和封端剂C均为改性氯硅烷，所述氟硅树脂良溶剂包括三氟乙醇、六氟异丙醇、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、丙二醇甲醚醋酸中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的超疏水耐指纹材料的制备方法，其特征在于，所述扩链剂B包括二甲基二氯硅烷，所述封端剂C包括甲基丙烯酰基丙基二甲基氯硅烷；
所述单体A、扩链剂B、封端剂C的摩尔比为1-10:1-5:0.1-0.5，所述氟硅树脂良溶剂加入量为A、B、C三者总质量的3-6倍。
7.根据权利要求1所述的超疏水耐指纹材料的制备方法，其特征在于，改性氟硅树脂复配溶液的制备步骤中，升温后搅拌均匀，再加入纯水，搅拌反应的具体参数为：升温至40-50℃后搅拌均匀，再加入纯水，搅拌反应8-12h；
所述有机锡类催化剂包括二月桂酸二丁基锡,所述有机锡类催化剂加入量为10ppm。
8.根据权利要求1所述的超疏水耐指纹材料的制备方法，其特征在于，所述改性纳米二氧化硅溶胶的制备中的所述改性二氧化硅溶胶为疏水性二氧化硅溶胶，疏水基团包括甲基、乙基、辛基、苯基以及乙撑中的至少一种；
所述改性二氧化硅溶胶和所述3-（异丁烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷的质量比为1.1-1.5:0.05-0.1。
9.根据权利要求1所述的超疏水耐指纹材料的制备方法，其特征在于，所述改性纳米二氧化硅溶胶的制备中，混合升温后机械搅拌的具体参数为：混合升温至50-60℃，机械搅拌的时间为1-2h。
10.一种超疏水耐指纹材料在获得双疏防污防指纹效果中的应用，其特征在于，所述超疏水耐指纹材料由权利要求1-9中任意一项所述的制备方法制得，该应用包括：
在步骤3）中，将经过清洁的基材浸入步骤2）制备的改性纳米二氧化硅溶胶中，以3-8μm/min的速度提拉基材，转入100-120℃烘箱固化30-60min，再将步骤1）制备的改性氟硅树脂复配溶液喷涂至粗糙化的固化后基材表面，控制膜厚在200-300nm，转入烘箱60-120℃固化30-60min，经过上述处理的基材表面即可获得双疏防污防指纹效果。
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|---|---|
| CN (1) | CN115305003A (zh) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103408707A (zh) * | 2013-08-08 | 2013-11-27 | 中科院广州化学有限公司 | 两亲性可交联氟硅树脂、水性涂料及其制备的超双疏涂层 |
| CN106866972A (zh) * | 2017-02-21 | 2017-06-20 | 陕西科技大学 | 触摸屏玻璃用氟硅防污防指纹树脂的制备方法及应用 |
| CN107254054A (zh) * | 2017-07-03 | 2017-10-17 | 陕西科技大学 | 一种溶剂型疏水疏油性纳米杂化氟硅树脂的制备方法及其应用 |
| CN109401373A (zh) * | 2018-09-30 | 2019-03-01 | 福建师范大学 | 一种超疏水疏油硅溶胶的制备方法 |
| CN111019447A (zh) * | 2019-10-31 | 2020-04-17 | 东南大学 | 一种水性耐磨超双疏纳米复合涂层及其制备方法 |
-
2022
- 2022-09-29 CN CN202211194525.4A patent/CN115305003A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103408707A (zh) * | 2013-08-08 | 2013-11-27 | 中科院广州化学有限公司 | 两亲性可交联氟硅树脂、水性涂料及其制备的超双疏涂层 |
| CN106866972A (zh) * | 2017-02-21 | 2017-06-20 | 陕西科技大学 | 触摸屏玻璃用氟硅防污防指纹树脂的制备方法及应用 |
| CN107254054A (zh) * | 2017-07-03 | 2017-10-17 | 陕西科技大学 | 一种溶剂型疏水疏油性纳米杂化氟硅树脂的制备方法及其应用 |
| CN109401373A (zh) * | 2018-09-30 | 2019-03-01 | 福建师范大学 | 一种超疏水疏油硅溶胶的制备方法 |
| CN111019447A (zh) * | 2019-10-31 | 2020-04-17 | 东南大学 | 一种水性耐磨超双疏纳米复合涂层及其制备方法 |
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