CN115279585A - 电磁波透过性金属光泽构件 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种电磁波透过性金属光泽构件，其具备：基体、以连续状态设置于前述基体上的含有氧化铟的层、和在前述含有氧化铟的层上形成的金属层，前述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态，作为前述金属层与前述含有氧化铟的层的层叠体的薄层电阻为2.50E+8Ω/□以上。

Description

电磁波透过性金属光泽构件
技术领域
本发明涉及电磁波透过性金属光泽构件。
背景技术
以往，具有电磁波透过性及金属光泽的构件由于兼具源自其金属光泽的外观的高级感和电磁波透过性，因此适合用于发送/接收电磁波的装置。
金属光泽样的构件使用金属的情况下，电磁波的发送/接收实质上是不可能的或会受到妨碍。因此，为了不妨碍电磁波的发送/接收、不损害外观性，需要兼具金属光泽和电磁波透过性这两者的电磁波透过性金属光泽构件。
这种电磁波透过性金属光泽构件期待作为发送/接收电磁波的装置在需要通信的各种设备、例如设置有智能钥匙的汽车的门把手、车载通信设备、手机、个人电脑等电子设备等中的应用。进而，近年，随着IoT技术的发展，也期待在以往未进行通信等的冰箱等家电制品、生活设备等广阔的领域中的应用。
关于电磁波透过性金属光泽构件，专利文献1中记载了一种电磁波透过性金属光泽构件，其特征在于，具备：设置于基体的表面的含有氧化铟的层、和层叠于前述含有氧化铟的层的金属层，前述金属层包含多个部分，多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特许第6400062号公报
发明内容
发明要解决的问题
现有技术的电磁波透过性金属光泽构件中的金属层增厚厚度时，则反射率变高，容易得到金属光泽。但是，若增厚金属层的厚度，则形成为岛状的金属彼此会重合，电阻值急剧降低，因此显著损害电磁波透过性。因此，反射率与电磁波透过性呈此消彼长的关系。
本发明是为了解决现有技术中的上述问题而作出的，其目的在于，提供具有高的反射率、并且表现优异的电磁波透过性的电磁波透过性金属光泽构件。
用于解决问题的方案
本发明人等为了解决上述问题反复进行了深入研究，结果发现，通过将薄层电阻设为特定范围，能够解决上述问题，从而完成了本发明。
即，本发明如下。
〔1〕
一种电磁波透过性金属光泽构件，其具备：基体、以连续状态设置于前述基体上的含有氧化铟的层、和在前述含有氧化铟的层上形成的金属层，
前述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态，
作为前述金属层与前述含有氧化铟的层的层叠体的薄层电阻为2.50E+8Ω/□以上。
〔2〕
根据〔1〕所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，前述含有氧化铟的层的厚度为3.3nm～4.6nm。
〔3〕
根据〔1〕或〔2〕所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，前述含有氧化铟的层包含氧化铟(In2O3)、铟锡氧化物(ITO)、或铟锌氧化物(IZO)中的任意者。
〔4〕
根据〔1〕～〔3〕中任一项所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，前述金属层为含有铝或铝合金的层。
〔5〕
根据〔1〕～〔4〕中任一项所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，前述金属层的厚度为10nm～200nm。
〔6〕
根据〔1〕～〔5〕中任一项所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，前述多个部分形成为岛状。
〔7〕
根据〔1〕～〔6〕中任一项所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，前述基体为基材薄膜、树脂成型物基材、玻璃基材、或应赋予金属光泽的物品中的任意者。
发明的效果
根据本发明，能够提供具有高的反射率、并且表现优异的电磁波透过性的电磁波透过性金属光泽构件。
附图说明
图1为本发明的一实施方式的电磁波透过性金属光泽构件的截面示意图。
图2为示出本发明的一实施方式的电磁波透过性金属光泽构件的表面的电子显微镜照片(SEM图像)的图。
图3为示出本发明的一实施方式的电磁波透过性金属光泽构件的截面的电子显微镜照片(TEM图像)的图。
图4为用于对本发明的一实施方式的电磁波透过性金属光泽构件的金属层的厚度的测定方法进行说明的图。
图5为示出本发明的实施例及比较例中的电磁波透过性金属光泽构件的、含有氧化铟的层的膜厚与薄层电阻的关系的图。
具体实施方式
以下，参照添附附图，详细地对本发明进行说明，但本发明不限定于以下的实施方式，可以在不脱离本发明的主旨的范围内任意变形来实施。另外，表示数值范围的“～”以包含记载于其前后的数值作为下限值及上限值的含义来使用。
<1.基本构成>
本发明的实施方式的电磁波透过性金属光泽构件具备：基体、以连续状态设置于前述基体上的含有氧化铟的层、和在前述含有氧化铟的层上形成的金属层，前述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态，作为前述金属层与前述含有氧化铟的层的层叠体的薄层电阻为2.50E+8Ω/□以上。
图1示出本发明的一实施方式的电磁波透过性金属光泽构件1的截面示意图。另外，图2中示出本发明的一实施方式的电磁波透过性金属光泽构件1的表面的电子显微镜照片(SEM图像)的一例。
如图1所示，电磁波透过性金属光泽构件1包含：基体10、形成于基体10上的含有氧化铟的层11、和在含有氧化铟的层11上形成的金属层12。
含有氧化铟的层11设置于基体10的面。含有氧化铟的层11可以直接设置于基体10的面，也可以隔着设置于基体10的面的保护膜等间接地设置。含有氧化铟的层11优选以连续状态、换言之没有间隙地设置于基体10的面。通过以连续状态设置，能够提高含有氧化铟的层11、进而电磁波透过性金属光泽构件1的平滑性、耐腐蚀性，另外，也容易将含有氧化铟的层11在面内没有不均地成膜。
金属层12层叠于含有氧化铟的层11。金属层12包含多个部分12a。通过层叠于含有氧化铟的层11，从而这些部分12a中，至少一部分处于彼此不连续的状态，换言之，至少一部分被间隙12b隔开。由于被间隙12b隔开，因此这些部分12a的薄层电阻变大，与电波的相互作用降低，因此能够使电波透过。所述各部分12a为通过使金属蒸镀、溅射而形成的溅射颗粒的集合体。溅射颗粒在基体10等基体上形成薄膜时，基体上的颗粒的表面扩散性影响薄膜的形状。
需要说明的是，本说明书所说的“不连续的状态”是指彼此被间隙12b隔开，结果彼此电绝缘的状态。通过电绝缘，从而薄层电阻变大，得到期望的电磁波透过性。不连续的形态没有特别限定，例如，包含岛状、裂纹等。
此处“岛状”如图2的电磁波透过性金属光泽构件的金属层的表面的电子显微镜照片(SEM图像)所示，是指作为溅射颗粒的集合体的颗粒彼此各自独立、这些颗粒以彼此稍微分开或彼此一部分接触的状态铺开而成的结构。
另外，裂纹结构是指金属薄膜被裂纹割裂的结构。
裂纹结构的金属层12例如可以通过在形成于基体上的含有氧化铟的层上设置金属薄膜层、进行弯曲拉伸从而使金属薄膜层产生裂纹来形成。此时，通过在含有氧化铟的层与金属薄膜层之间设置由缺乏伸缩性、即容易因拉伸而产生裂纹的原材料形成的脆性层，能够容易地形成裂纹结构的金属层12。
如上所述，金属层12呈不连续的方式没有特别限定，从生产率的观点出发，优选采用“岛状”。
电磁波透过性金属光泽构件1的电磁波透过性与薄层电阻具有相关性。
作为电磁波透过性金属光泽构件1的金属层与含有氧化铟的层的层叠体的薄层电阻需要为2.50E+8Ω/□以上，该情况下，微波频带(28GHz)下的电波透过衰减量为小于0.1[-dB]左右。
微波频带(28GHz)下的电波透过衰减量优选小于10[-dB]、更优选小于5[-dB]、进一步优选小于2[-dB]。若微波频带(28GHz)下的电波透过衰减量为10[-dB]以上，则有90％以上的电波被阻断的问题。
电磁波透过性金属光泽构件1的薄层电阻优选为1.00E+10Ω/□以上、进一步优选为1.00E+12Ω/□以上。
这是因为，若电阻值低，则有可能由漏电流引起电路等的损伤，通过设为更高电阻，能够防止。电磁波透过性金属光泽构件1的薄层电阻可以依据JIS-Z2316-1：2014通过涡电流测定法来测定。
电磁波透过性金属光泽构件1的薄层电阻可以通过含有氧化铟的层的膜厚、金属层的膜厚及状态等来调整。
电磁波透过性金属光泽构件1的电波透过衰减量及薄层电阻受含有氧化铟的层11、金属层12的材质、厚度等的影响。
<2.基体>
作为基体10，从电磁波透过性的观点出发，例如，可举出树脂、玻璃、陶瓷等。
基体10也可以为基材薄膜、树脂成型物基材、玻璃基材、或应赋予金属光泽的物品中的任意者。
更具体而言，作为基材薄膜，例如，可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺、聚氯乙烯、聚碳酸酯(PC)、环烯烃聚合物(COP)、聚苯乙烯、聚丙烯(PP)、聚乙烯、聚环烯烃、聚氨酯、亚克力(PMMA)、ABS等均聚物、共聚物形成的透明薄膜。
利用这些构件，不会影响光亮性、电磁波透过性。其中，从之后形成含有氧化铟的层11、金属层12的观点出发，优选可耐受蒸镀、溅射等的高温。因此，上述材料中，例如，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、亚克力、聚碳酸酯、环烯烃聚合物、ABS、聚丙烯、聚氨酯。其中，从耐热性与成本的平衡良好的方面出发，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、环烯烃聚合物、聚碳酸酯、亚克力。
基材薄膜可以为单层薄膜，也可以为层叠薄膜。从加工的容易性等方面出发，厚度例如优选6μm～250μm左右。为了增强与含有氧化铟的层11、金属层12的附着力，可以实施等离子体处理、易粘接处理等。另外，优选不含颗粒。
此处，应该注意的是，基材薄膜不过是能够在其表面上形成含有氧化铟的层11的对象(基体10)的一例。基体10如上所述除了基材薄膜以外，还包含树脂成型物基材、应赋予金属光泽的物品其本身。作为树脂成型物基材、及应赋予金属光泽的物品，例如，可举出车辆用结构部件、车辆搭载用品、电子设备的壳体、家电设备的壳体、结构用部件、机械部件、各种汽车用部件、电子设备用部件、家具、厨房用品等家居用用途、医疗设备、建筑材料的部件、其他结构用部件、外装用部件等。
<3.含有氧化铟的层>
含有氧化铟的层11形成于基体10上。含有氧化铟的层11可以直接设置于基体10的面，也可以隔着设置于基体10的面的保护膜等间接地设置。含有氧化铟的层11优选以连续状态、换言之没有间隙地设置于应赋予金属光泽的基体10的面。通过以连续状态设置，能够提高含有氧化铟的层11、进而金属层12、电磁波透过性金属光泽构件1的平滑性、耐腐蚀性，另外，也容易将含有氧化铟的层11在面内没有不均地成膜。
这样，通过在基体10上具备含有氧化铟的层11、即在基体10上形成含有氧化铟的层11、并在其上层叠后述的金属层12，变得容易以不连续的状态形成金属层12。其机理的详情未必明确，但认为利用金属的蒸镀、溅射的溅射颗粒在基体上形成薄膜时，基体上的颗粒的表面扩散性影响薄膜的形状，基体的温度高、金属层对基体的润湿性小时容易形成不连续结构。而且认为，通过在基体上设置含有氧化铟的层，其表面上的金属颗粒的表面扩散性得以促进，从而容易使金属层以不连续的状态成长。
含有氧化铟的层11可以包含氧化铟(In2O3)、铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)这样的含金属物。通过使含有氧化铟的层11包含上述含金属物，也能够沿基体的面形成连续状态的膜，另外，该情况下，层叠于含有氧化铟的层11上的金属层12例如变得容易形成岛状的不连续结构，因此优选。进而，该情况下，在金属层12中，不仅包含锡(Sn)或铟(In)，而且容易包含通常难以成为不连续结构、难以应用于本用途的铝等各种金属。
作为ITO中包含的锡氧化物(SnО2)的质量比率的含有率(含有率＝(SnO2/(In2O3+SnO2))×100)没有特别限定，例如为2.5质量％～30质量％、更优选为3质量％～10质量％。另外，作为IZO中包含的氧化锌(ZnO)的质量比率的含有率(含有率＝(ZnO/(In2O3+ZnO))×100)例如为2质量％～20质量％。
含有氧化铟的层11的厚度为了容易使薄层电阻、电磁波透过性优异，优选4.6nm以下、更优选4.4nm以下、进一步优选4.0nm以下。另一方面，为了使层叠的金属层12为不连续状态、并且容易得到高的反射率，优选为3.3nm以上、更优选为3.5nm以上、进一步优选为3.8nm以上。
通过使含有氧化铟的层11的厚度为3.3nm以上且4.6nm以下，从而容易使在含有氧化铟的层11上形成的金属层12为不连续状态。另外，容易将电磁波透过性金属光泽构件的薄层电阻设为2.50E+8Ω/□以上。而且，其结果，容易得到表现高的反射率、并且具有优异的电磁波透过性的电磁波透过性金属光泽构件。
<4.金属层>
金属层12形成于含有氧化铟的层11上。金属层12为具有金属样的外观的层，优选为具有金属光泽的层。形成金属层12的材料没有特别限定，可以包含金属或树脂，也可以包含金属及树脂。
本发明的实施方式的电磁波透过性金属光泽构件中的金属层12的厚度只要为可将薄层电阻设为2.50E+8Ω/□以上的范围，就没有特别限制，例如，可以设定为10nm～200nm的宽范围。为该范围时，成品率提高，可实现稳定的生产。
另外，从发挥充分的金属光泽的观点出发，金属层12的厚度优选10nm以上，另一方面，从薄层电阻、电磁波透过性的观点出发，优选200nm以下。金属层12的厚度更优选10nm～100nm、进一步优选10nm～70nm。该厚度适于生产率良好地形成均匀的膜、得到反射率高的电磁波透过性金属光泽构件。
金属层12形成于含有氧化铟的层11上，包含至少一部分处于彼此不连续的状态的多个部分。
金属层12在含有氧化铟的层11上为连续状态的情况下，可得到充分的金属光泽，但电波透过衰减量变得非常大，因此，无法确保电磁波透过性。
金属层12可发挥充分的光亮性自不必说，优选熔点较低。这是因为，金属层12优选通过使用溅射的薄膜生长来形成。基于这样的理由，作为金属层12，熔点为约1100℃以下的金属是适合的，例如，优选包含选自铝(Al)、锌(Zn)、铅(Pb)、铜(Cu)、银(Ag)中的至少一种金属、及以该金属为主成分的合金中的任意者。特别是，基于物质的光亮性、稳定性、价格等理由，金属层12更优选包含铝或铝合金。另外，使用铝合金的情况下，优选将铝含量设为50质量％以上。
金属层12的部分12a的圆当量直径没有特别限定，通常为10～1000nm左右。多个部分12a的平均粒径是指多个部分12a的圆当量直径的平均值。
部分12a的圆当量直径为与部分12a的面积相当的正圆的直径。
另外，各部分12a彼此的距离没有特别限定，通常为10～1000nm左右。
<5.其他层>
另外，本发明的实施方式的电磁波透过性金属光泽构件1除了具备上述的含有氧化铟的层11及金属层12以外，还可以根据用途具备其他层。
作为其他层，可举出用于调整色调等外观的高折射材料等光学调整层(色调调整层)、用于提高耐擦伤性等耐久性的保护层(耐擦伤性层)、阻挡层(耐腐蚀层)、易粘接层、硬涂层、防反射层、光取出层、防眩层等。
<6.电磁波透过性金属光泽构件的制造方法>
对本实施方式的电磁波透过性金属光泽构件的制造方法的一例进行说明。虽然没有特别说明，但对于使用基材薄膜以外的基体的情况，也可以通过同样的方法进行制造。
另外，在基体10上形成含有氧化铟的层11时，在金属层12的形成前，通过真空蒸镀、溅射、离子镀等在基体10上形成含有氧化铟的层11。其中，从即使大面积也能够严格地控制厚度的方面出发，优选溅射。
通过溅射形成含有氧化铟的层11的情况下，作为以铟为主成分的金属靶，没有特别限制，例如，除了铟以外，还可以含有锡(Sn)及锌(Zn)等。作为组成式，可以表示为InXM1-X(0.7≤x≤1、M＝选自Sn及Zn的至少1种金属元素)。此处，“主成分”是指在金属靶中的全部成分中含有比例(质量基准)最多的成分。
铟优选在金属靶中含有70质量％以上，更优选含有90质量％以上。
含有锡(Sn)的情况下，在金属靶中例如优选含有2.5～30质量％、更优选含有3～10质量％。
含有锌(Zn)的情况下，在金属靶中例如优选含有2～20质量％、更优选含有5～15质量％。
作为非活性气体，通常使用氩、氮等非活性气体。另外，可以组合使用氧气等反应性气体。
溅射中使用的电源例如可以为DC电源、AC电源、MF电源及RF电源中的任意者，另外，可以为它们的组合。
如上所述那样形成的含有氧化铟的层优选包含氧化铟(In2O3)、铟锡氧化物(ITO)、及铟锌氧化物(IZO)等铟的氧化物。
接着，在含有氧化铟的层11上层叠金属层12。该情况下，例如也可以使用真空蒸镀、溅射等方法。需要说明的是，优选在含有氧化铟的层11与金属层12之间不插入其他层、而是直接接触。
<7.电磁波透过性金属光泽构件的用途>
本实施方式的电磁波透过性金属光泽构件由于具有电磁波透过性，因此优选用于发送/接收电磁波的装置、物品及其部件等。例如，可举出车辆用结构部件、车辆搭载用品、电子设备的壳体、家电设备的壳体、结构用部件、机械部件、各种汽车用部件、电子设备用部件、家具、厨房用品等家居用用途、医疗设备、建筑材料的部件、其他结构用部件、外装用部件等。
更具体而言，车辆相关的可举出仪表板、中控台盒、门把、门饰板(door trim)、变速杆、踏板类、手套箱、保险杠、发动机罩、挡泥板(fender)、后备箱(trunk)、门、顶盖、柱(pillar)、座椅、方向盘、ECU盒、电装部件、引擎周边部件、驱动系统·齿轮周边部件、吸气·排气系统部件、冷却系统部件等。
作为电子设备及家电设备，更具体而言，可举出冰箱、洗衣机、吸尘器、微波炉、空调、照明设备、电热水器、电视、钟、换气扇、投影仪、扬声器等家电制品类、个人电脑、手机、智能电话、数码相机、平板型PC、便携式音乐播放器、便携式游戏机、充电器、电池等电子信息设备等。
实施例
以下，举出实施例及比较例，更具体地对本发明进行说明。关于电磁波透过性金属光泽构件1，准备各种试样并进行电磁波透过性的评价。
需要说明的是，作为基体10，使用基材薄膜。
<电磁波透过性>
(薄层电阻)
使用Hiresta(Mitsubishi Chemical Analytech Co.,Ltd.制Hiresta-UPMCP-HT450装置)，依据JIS-Z2316，通过涡电流测定法测定作为金属层与含有氧化铟的层的层叠体的薄层电阻(Ω/□)。
从基材的金属层侧按压测定端子，测定使用1000V的施加电压测定30秒钟时的薄层电阻(电阻值)。测定值以1000V无法测定的情况下(1.00×108Ω/□以下)，将施加电压变更为100V来测定薄层电阻(电阻值)。
(薄层电阻的评价)
2.50E+8(Ω/□)以上：〇
小于2.50E+8(Ω/□)：×
<反射率>
使用分光光度计(Hitachi High-Technologies Corporation制U-4100装置)，借助粘合剂，将遮光性的黑色亚克力板贴合于薄膜的透明基材侧，制作评价用样品。
接着，在5°正反射(波长：380nm～780nm)的条件下对金属层面的视感反射率Y的值实施测定。
<金属层的状态>
利用前述Hiresta利用测定下限无法测定的情况下，利用非接触电阻计(Mitsubishi Chemical Analytech Co.,Ltd.制Hiresta UPMCP-HT450)测定薄层电阻。
(金属层的评价)
1.00E+3(Ω/□)以上：〇
小于1.00E+3(Ω/□)：×
<金属层的厚度>
考虑金属层中的不均、更详细而言考虑图1所示的部分12a的厚度的不均，将部分12a的厚度的平均值设为金属层的厚度(Al膜厚(nm))。需要说明的是，各个部分12a的厚度采用垂直方向上距离基体10最厚的部位的厚度。以下，方便起见，将该平均值称为“最大的厚度”。图3中示出电磁波透过性金属光泽构件的截面的电子显微镜照片(TEM图像)的例子。
求最大的厚度时，首先，对于图3所示那样的电磁波透过性金属光泽构件的表面出现的金属层，适当地抽出如图4所示的边长5cm的正方形区域3，选择通过将该正方形区域3的纵边及横边各自的中心线A、B分别4等分而得到的合计5个部位的点“a”～“e”作为测定部位。
接着，在选择的测定部位各自处的如图3所示的截面图像中，抽出包含大约5个部分12a的视角区域。求出所述合计5个部位的测定部位各自中的大约5个部分12a、即25个(5个×5个部位)的部分12a的各自的厚度(nm)，将它们的平均值作为“最大的厚度”。
<含有氧化铟的层的厚度>
准备将含有氧化铟的层按各个厚度进行了调整的样品，对利用扫描型荧光X射线分析装置ZSX Primus II测定的净峰强度，测定透射型电子显微镜照片(TEM图像))，计算含有氧化铟的层的厚度，制作厚度相对于净峰强度的标准曲线。对于含有氧化铟的层的厚度，使用其标准曲线并通过荧光X射线的净峰强度来算出。
求出它们的平均值，作为含有氧化铟的层的厚度(ITO膜厚(nm))。
[实施例1]
作为基材薄膜，使用形成了不含有颗粒的硬涂层的PET薄膜(厚度50μm)，使用MF-AC磁控溅射，沿基材薄膜的面在其上直接成膜为4.4nm的厚度的ITO层。形成ITO层时的基材薄膜的温度设定为90℃。ITO中包含的锡氧化物(SnО2)的含有率(含有率＝(SnO2/(In2O3+SnO2))×100)为10wt％。接着，使用交流溅射(MF-AC：40kHz)，在ITO层上形成34.5nm的厚度的铝(Al)层，得到金属光泽物品(金属薄膜)。得到的铝层为不连续层。形成Al层时的基材薄膜的温度设定为90℃。
[实施例2～4]
对于实施例2～4，将实施例1中的ITO层的厚度分别变更为4.1nm、3.8nm、3.4nm，将Al层的厚度分别变更为34.5nm、33.1nm、35.1nm，除此以外，同样地成膜。
[比较例1]
对于比较例1，将实施例1中的ITO层的厚度变更为3.2nm，除此以外，同样地成膜。Al的厚度为32.7nm。
[比较例2～5]
对于比较例2～5，将实施例1中的ITO层的厚度分别变更为2.5nm、5.2nm、6.1nm、8.1nm，将Al层的厚度分别变更为32.5nm、36.9nm、29.1nm、29.1nm，除此以外，同样地成膜。
[比较例6]
作为基材薄膜，使用形成了不含有颗粒的硬涂层的PET薄膜(厚度50μm)。
首先，使用DC磁控溅射，沿基材薄膜的面，在其上直接形成4.8nm的厚度的ITO层。形成ITO层时的基材薄膜的温度设定为130℃。ITO中包含的锡氧化物(SnО2)的含有率(含有率＝(SnO2/(In2O3+SnO2))×100)为10wt％。
接着，使用交流溅射(AC：40kHz)，在ITO层上形成38.0nm的厚度的铝(Al)层，得到金属光泽物品(金属薄膜)。得到的铝层为不连续层。形成Al层时的基材薄膜的温度设定为130℃。
以下的表1中示出各实施例及比较例的评价结果。另外，将示出含有氧化铟的层的膜厚(nm)与薄层电阻(电阻值Ω/□)的关系的图示于图5。
[表1]
Figure BDA0003847231720000151
根据表1可明确，实施例1～4的金属光泽构件的薄层电阻为2.50E+8Ω/□以上，表现优异的电磁波透过性。另外，反射率也充分。认为这是因为促进了岛状的不连续结构的金属层的形成。
另一方面，比较例1～6的层叠构件与实施例相比，薄层电阻低、电磁波透过性差。认为这是因为，比较例1及2中电阻值非常小、ITO层的厚度薄、无法充分形成岛状，因此表现源自金属层的低电阻。另外，关于比较例3～6，不是比较例1、2程度那样的低电阻，但为小于2.50E+8Ω/□的值。认为这是因为：ITO层厚，因此虽然充分形成了岛状，但表现源自ITO层的电阻值。
需要说明的是，对于以上的实施例中特别使用的铝(Al)以外的金属，认为锌(Zn)、铅(Pb)、铜(Cu)、银(Ag)等熔点较低的金属也可通过同样的手法形成不连续结构。
本发明不限定于前述实施例，也可以在不脱离发明的主旨的范围内进行适宜变更并具体化。
产业上的可利用性
本发明的电磁波透过性金属光泽构件可以用于发送/接收电磁波的装置、物品及其部件等。例如，也可以用于车辆用结构部件、车辆搭载用品、电子设备的壳体、家电设备的壳体、结构用部件、机械部件、各种汽车用部件、电子设备用部件、家具、厨房用品等家居用用途、医疗设备、建筑材料的部件、其他结构用部件、外装用部件等要求外观性和电磁波透过性这两者的各种用途中。
参照特定的方式详细地对本发明进行了说明，但可以在不脱离本发明的精神和范围下进行各种变更及修正对于本领域技术人员而言是显而易见的。
本申请基于2020年3月17日申请的日本专利申请(特愿2020-046758)，其内容作为参考被并入本申请中。
附图标记说明
1 电磁波透过性金属光泽构件
10 基体
11 含有氧化铟的层
12 金属层
12a 部分
12b 间隙。

Claims (7)

1.一种电磁波透过性金属光泽构件，其具备：基体、以连续状态设置于所述基体上的含有氧化铟的层、和在所述含有氧化铟的层上形成的金属层，
所述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态，
作为所述金属层与所述含有氧化铟的层的层叠体的薄层电阻为2.50E+8Ω/□以上。
2.根据权利要求1所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，所述含有氧化铟的层的厚度为3.3nm～4.6nm。
3.根据权利要求1或2所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，所述含有氧化铟的层包含氧化铟(In2O3)、铟锡氧化物(ITO)、或铟锌氧化物(IZO)中的任意者。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，所述金属层为含有铝或铝合金的层。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，所述金属层的厚度为10nm～200nm。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，所述多个部分形成为岛状。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的电磁波透过性金属光泽构件，其中，所述基体为基材薄膜、树脂成型物基材、玻璃基材、或应赋予金属光泽的物品中的任意者。
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