CN115160918A - 用于制备硬化膜的原料组合物、硬化膜和硬化膜组件 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及薄膜领域,具体而言,涉及一种用于制备硬化膜的原料组合物、硬化膜和硬化膜组件。硬化膜包括基底层和AF层,AF层的厚度为0.5μm‑1.5μm;基底层的原料包括:聚氨酯丙烯酸树脂、丙烯酸脂类单体、光引发剂、第一溶剂以及纳米材料。通过基底层原料的选择和配置,基底层表面形成锯齿状结构,有利于提高其与AF层的层间附着力;同时减少硬化膜与保护膜剥离后停留在硬化膜表面的保护膜成分,有效避免硬化膜与保护膜贴合后,出现动摩擦系数爬升的问题。而AF层能为硬化膜提供很好的爽滑度。

Description

用于制备硬化膜的原料组合物、硬化膜和硬化膜组件
技术领域
本申请涉及薄膜领域,具体而言,涉及一种用于制备硬化膜的原料组合物、硬化膜和硬化膜组件。
背景技术
随着电子产品的日益普及,对硬化膜的需求也愈加旺盛,硬化膜在贴合于电子产品的屏幕上之前,需要在硬化膜表面贴合保护膜对硬化膜进行保护,避免其表面被划伤;例如,现有技术中常采用硅胶、亚克力或聚氨酯材料制成的保护膜对硬化膜进行保护,但是保护膜中的部分物质会转移至硬化膜的表面,降低硬化膜的爽滑度。
发明内容
本申请实施例的目的在于提供一种用于制备硬化膜的原料组合物、硬化膜和硬化膜组件,其旨在改善现有的硬化膜与保护膜分离后,硬化膜爽滑度被降低的问题。
本申请提供一种技术方案,硬化膜包括基底层以及覆盖所述基底层表面的AF层,AF层的厚度为0.5μm-1.5μm:
所述基底层的原料包括按照重量份数计的以下组分:
聚氨酯丙烯酸树脂5-30份、丙烯酸脂类单体3-10份、光引发剂0.5-3份、第一溶剂10-40份以及纳米材料5-30份;
其中,所述纳米材料包括质量比为3:(2-4.5)的第一纳米粒子和第二纳米粒子,所述第一纳米粒子的D90粒径为20-100nm;所述第二纳米粒子的D90粒径为100-500nm;
通过基底层原料的选择和配置,并在基底层表面制备一层AF层制备硬化膜,使基底层表面形成锯齿状结构,有利于提高其与AF层的层间附着力;同时这种锯齿结构使保护膜易于剥离,保护膜剥离后,减少了硬化膜上的保护膜成分,或在硬化膜上的保护膜成分容易被去除,从而解决硬化膜与保护膜贴合剥离后爽滑度下降、动摩擦系数爬升的问题。
在本申请的一些实施例中,所述AF层的原料包括按照重量份数计的以下组分:丙烯酸树脂的低聚物10-30份、引发剂0.5-2份、硅氧烷0.05-0.2份、含氟助剂0.5-1份以及第二溶剂10-40份。
在本申请的一些实施例中,含氟助剂选自全氟共聚物中的至少一种。
在本申请的一些实施例中,所述第一纳米粒子的D90粒径为20-50nm;所述第二纳米粒子的D90粒径为100-150nm。
在本申请的一些实施例中,基底层的原料包括按照重量份数计的以下组分:
聚氨酯丙烯酸树脂25-30份、丙烯酸脂类单体8-10份、光引发剂2-3份、第一溶剂30-40份以及所述纳米材料25-30份。
在本申请的一些实施例中,纳米材料包括质量比为3:(2-3)的所述第一纳米粒子和所述第二纳米粒子。
在本申请的一些实施例中,第一纳米粒子和所述第二纳米粒子各自独立地选自氧化铝、二氧化硅、二氧化钛以及二氧化锆中的至少一种;
可选地,所述第一纳米粒子和所述第二纳米粒子均包括二氧化硅。
在本申请的一些实施例中,丙烯酸脂类单体选自季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、乙氧基乙基丙烯酸酯、三羟基甲基丙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、丙氧基戊二醇二丙烯酸酯、异冰片基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯和三异氰脲酸三丙烯酸酯中的至少一种。
在本申请的一些实施例中,第一溶剂和所述第二溶剂各自独立地选自乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、二甲苯、丙二醇甲醚和二丙二醇甲醚、丙酮、丁酮、环己酮、甲基异丁酮、异丙醇和异丁醇中的至少一种。
本申请还提供一种硬化膜组件,硬化膜组件包括基材、保护膜和上述的硬化膜,基材与基底层连接,保护膜与AF层连接。
本申请还提供一种用于制备硬化膜的原料组合物,用于制备硬化膜的原料组合物包括基底层原料和AF层原料,AF层的厚度为0.5μm-1.5μm;
所述基底层原料包括按照重量份数计的以下组分:
聚氨酯丙烯酸树脂5-30份、丙烯酸脂类单体3-10份、光引发剂0.5-3份、第一溶剂10-40份以及纳米材料5-30份;
其中,所述纳米材料包括质量比为3:(2-4.5)的第一纳米粒子和第二纳米粒子,所述第一纳米粒子的D90粒径为20-100nm;所述第二纳米粒子的D90粒径为100-500nm;
所述AF层原料包括按照重量份数计的以下组分:丙烯酸树脂的低聚物10-30份、引发剂0.5-2份、硅氧烷0.05-0.2份、含氟助剂0.5-1份、第二溶剂10-40份。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1示出了本申请实施例提供的硬化膜组件的结构示意图。
图标:01-保护膜;02-AF层;03-基底层;04-基材。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者,按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市售购买获得的常规产品。
下面对本申请实施例的用于制备硬化膜的原料组合物、硬化膜和硬化膜组件进行具体说明。
一种硬化膜,硬化膜包括基底层以及覆盖所述基底层表面的AF层,即硬化膜包括基底层和AF(Anti-fingerprint,防指纹)层,AF层覆盖基底层的表面,AF层的厚度为0.5μm-1.5μm。
在本申请中,基底层的原料包括按照重量份数计的以下组分:
聚氨酯丙烯酸树脂5-30份、丙烯酸脂类单体3-10份、光引发剂0.5-3份、第一溶剂10-40份以及纳米材料5-30份;
其中,纳米材料包括质量比为3:(2-4.5)的第一纳米粒子和第二纳米粒子,第一纳米粒子的D90粒径为20-100nm;第二纳米粒子的D90粒径为100-500nm。
作为示例性地,聚氨酯丙烯酸树脂占基底层的原料重量份例如可以为5份、6份、8份、10份、12份、14份、16份、18份、20份、22份、23份、25份、26份、28份、30份等等。
丙烯酸脂类单体例如可以选自季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、乙氧基乙基丙烯酸酯、三羟基甲基丙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、丙氧基戊二醇二丙烯酸酯、异冰片基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯和三异氰脲酸三丙烯酸酯中的至少一种。
作为示例性地,丙烯酸脂类单体占基底层的原料重量份例如可以为3份、4份、5份、6份、7份、8份、9份、10份等等。
光引发剂例如可以选用2-羟基-2-甲基苯丙酮(1173)、1-羟环己基苯酮(184)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮(907)、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦(光引发剂TPO)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉苯基)丁酮(369)、苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦(819)、光引发剂、二苯甲酮(BP)、4-甲基二苯甲酮和2,4,6-三甲基二苯甲酮中的至少一种。
光引发剂占基底层的原料重量份例如可以为0.5份、0.6份、1份、1.2份、1.8份、2.2份、2.5份、2.8份、3份等等。
第一溶剂例如可以选自乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、二甲苯、丙二醇甲醚和二丙二醇甲醚、丙酮、丁酮、环己酮、甲基异丁酮、异丙醇和异丁醇中的至少一种。
作为示例性地,第一溶剂占基底层的原料重量份例如可以为10份、12份、14份、15份、20份、22份、25份、28份、30份、32份、35份、36份、38份、40份等等。
纳米材料包括第一纳米粒子和第二纳米粒子,第一纳米粒子和第二纳米粒子的质量比为3:(2-4.5);在一些实施例中,第一纳米粒子和第二纳米粒子的质量比为3:(2-3)。
纳米材料占基底层的原料重量份为5-30份,例如,纳米材料占基底层的原料重量份可以为5份、6份、7份、8份、10份、13份、16份、19份、23份、26份、29份、30份等等。
第一纳米粒子和第二纳米粒子的质量比例如可以为3:2、3:2.3、3:2.5、3:2.8、3:2.9、3:3、3:3.2、3:3.5、3:3.8、3:3.9、3:4、3:4.1、3:4.5等等。
第一纳米粒子的D90粒径为20-100nm;第二纳米粒子的D90粒径为100-500nm;在本申请的一些实施例中,第一纳米粒子的D90粒径为20-50nm;所述第二纳米粒子的D90粒径为100-150nm。
作为示例性地,第一纳米粒子的D90粒径可以为20nm、30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm、100nm等等。
作为示例性地,第二纳米粒子的D90粒径为100nm、150nm、200nm、250nm、300nm、350nm、400nm、450nm、500nm等等。
在本申请的一些实施例中,第一纳米粒子和第二纳米粒子均各自独立地选自氧化铝、二氧化硅、二氧化钛以及二氧化锆中的至少一种。例如,因硅系无机物对层间附着的提升,效果更好,第一纳米粒子和第二纳米粒子均包括二氧化硅。可以理解的是,在本申请的其他实施例中,第一纳米粒子和第二纳米粒子也可以选用其他无机粒子。
AF层中的全氟助剂可以降低硬化膜的动摩擦系数,而基底层中含有上述任一组合的第一纳米粒子和第二纳米粒子,能够减小硬化膜与保护膜剥离后的动摩擦系数,爬升变化小,且爬升范围都小于0.05。上述任一组合的第一纳米粒子和第二纳米粒子可以促进基底层与AF层的附着力,避免剥离硬化膜与保护膜过程中基底层与AF层分离。
作为示例性地,在本申请的一些实施例中,AF层的原料包括按照重量份数计的以下组分:丙烯酸树脂的低聚物10-30份、引发剂0.5-2份、硅氧烷0.05-0.2份、含氟助剂0.5-1份、第二溶剂10-40份。
例如,丙烯酸树脂占AF层原料的重量份例如可以为10份、12份、13份、16份、18份、20份、23份、26份、28份、30份等等。
引发剂例如可以选用2-羟基-2-甲基苯丙酮(1173)、1-羟环己基苯酮(184)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮(907)、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦(光引发剂TPO)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉苯基)丁酮(369)、苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦(819)、光引发剂、二苯甲酮(BP)、4-甲基二苯甲酮和2,4,6-三甲基二苯甲酮中的至少一种。
硅氧烷例如可以选用γ-氨基三甲氧基硅烷、γ-氨基三乙氧基硅烷、γ-羟基三甲氧基硅烷、γ-羟基三乙氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三乙氧基硅烷、γ-巯丙基三甲氧基硅烷、γ-巯丙基三乙氧基硅烷、γ-巯丙基甲基二甲氧基硅烷和γ-巯丙基甲基二乙氧基硅烷中的至少一种。
硅氧烷占AF层原料的重量份例如可以为0.05份、0.06份、0.08份、0.1份、0.12份、0.14份、0.16份、0.17份、0.19份、0.2份等等。
在一些实施例中,例如,含氟助剂选用全氟丙烯酸酯共聚物、乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)、聚四氟乙烯(PTFE)、氟化乙丙共聚物(FEP)、全氟烷氧基树脂(PFA)、聚氯三氟乙烯(PCTFE)、乙烯一氯三氟乙烯共聚合物(ECTFE)、聚偏氟乙烯(PVDF)和聚氟乙烯等中的至少一种;在一些实施例中,含氟助剂为全氟共聚物。
含氟助剂占AF层原料的重量份例如可以为0.5份、0.6份、0.7份、0.8份、0.9份、1.0份等等。
第二溶剂占AF层原料的重量份例如可以为10份、13份、16份、18份、20份、22份、24份、26份、29份、30份、31份、32份、34份、39份、40份等等。
第二溶剂例如可以选自乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、二甲苯、丙二醇甲醚和二丙二醇甲醚、丙酮、丁酮、环己酮、甲基异丁酮、异丙醇和异丁醇中的至少一种。
采用上述任一种AF层的原料形成的AF层覆盖基底层的表面,该AF层与基底层的纳米材料形成锯齿状结合,增加两者的层间附着力,避免后期剥离硬化膜和保护膜后AF层受到损伤,造成爽滑度下降。AF层原料中的硅氧烷也可以促进在具有锯齿状结构的基底层表面铺展,避免因为AF层过薄而表面不平整的问题。
基于此,基底层中的纳米材料的粒径不宜过大,也不宜过小;纳米材料的粒径过大会导致AF层不能较好地覆盖纳米粒子,导致硬化膜爽滑度降低。此外,如果纳米材料的粒径过大,AF层无法填充纳米粒子之间的凹坑,从而使得硬化原膜、带胶贴合后硬化膜的动摩擦系数都在0.1以上,不满足结构设计要求。如果纳米材料中的纳米粒子的粒径过小,导致基底层的表面粗糙度较小,层间附着力降低,且锯齿状结构不明显,虽然硬化膜爽滑度小于0.1,但是带胶贴合后的硬化膜动摩擦系数提升明显,在0.1以上,不满足规格设计。
在一些实施例中,AF层的厚度为0.5μm-1.5μm,例如厚度可以为0.5μm、0.8μm、0.9μm、1.0μm、1.2μm、1.3μm、1.5μm等等。AF层涂层太薄可能会出现固化不良的问题,且涂层偏薄容易出现涂布膜面外观不平整的问题;AF层涂层太厚,贴合后硬化膜会出现滑爽度明显提升的问题。
本申请实施例提供的硬化膜至少具有以下优点:
通过基底层原料的选择和配置,并在基底层表面制备一层AF层以形成硬化膜,基底层表面形成锯齿状结构,有利于提高其与AF层的层间附着力,减少与保护膜剥离后停留在硬化膜表面的保护膜成分,或在硬化膜上的保护膜成分容易被去除,从而减轻与保护膜剥离后硬化膜表面爽滑度爬升现象;硬化膜的动摩擦系数和与保护膜贴合后的动摩擦系数的差值较小。
本申请还提供一种硬化膜组件,硬化膜组件包括保护膜和上述任一种硬化膜,保护膜贴合于硬化膜的AF层表面。
图1示出了本申请实施例提供的硬化膜组件的结构示意图,请参阅图1,硬化膜组件包括保护膜01、基材04和硬化膜;硬化膜包括基底层03和AF层02;保护膜01贴合于AF层02的表面;基材04贴合于基底层03远离AF层02的表面。需要说明的是,图1仅仅是示意图,并非限制保护膜01、AF层02、基底层03、基材04的厚度比例等。
该硬化膜组件在使用时,需要剥离保护膜和硬化膜,基于本申请的硬化膜的优点,本申请提供的硬化膜组件贴合于显示产品上后仍然具有较好的爽滑度。
本申请还提供一种用于制备硬化膜的原料组合物,用于制备硬化膜的原料组合物包括基底层原料和AF层原料,AF层的厚度为0.5μm-1.5μm;基底层原料包括按照重量份数计的以下组分:聚氨酯丙烯酸树脂5-30份、丙烯酸脂类单体3-10份、光引发剂0.5-3份、第一溶剂10-40份以及纳米材料5-30份;其中,纳米材料包括质量比为3:(2-4.5)的第一纳米粒子和第二纳米粒子,第一纳米粒子粒径为20-100nm;第二纳米粒子粒径为100-500nm;AF层原料包括按照重量份数计的以下组分:丙烯酸树脂的低聚物10-30份、引发剂0.5-2份、硅氧烷0.05-0.2份、含氟助剂0.5-1份、第二溶剂10-40份。
承上所述,本申请提供的用于制备硬化膜的原料组合物是在制备成硬化膜之前的原料组合物,该原料组合物包括基底层原料和AF层原料,该原料组合物的具体材料和选择可以参阅上述关于硬化膜的描述,此处不再进行赘述。
以下结合实施例对本申请的特征和性能作进一步的详细描述。
实施例1
本实施例提供一种用于制备硬化膜的原料组合物和一种硬化膜。
用于制备硬化膜的原料组合物包括基底层原料和AF层原料;
其中,基底层原料包括按照重量份数计的以下组分:
聚氨酯丙烯酸树脂30份、季戊四醇三丙烯酸酯6份、丙氧基戊二醇二丙烯酸酯4份、光引发剂184(1-羟环己基苯酮)2份和TPO(2,4,6(三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦)0.5份、乙酸丁酯20份、丁酮10份、甲苯10份、D90的粒径为20nm纳米SiO2 15份和D90的粒径为100nm的TiO2 10份。
AF层原料包括按照重量份数计的以下组分:
聚氨酯丙烯酸树脂20份、引发剂184 1.5份、硅烷偶联剂γ-巯丙基三甲氧基硅烷0.085份、全氟醚基烷化合物0.8份以及甲基异丁酮20份、甲苯5份、丁酮5份。
硬化膜通过上述原料组合物制备得到,具体包括:在基材层表面涂一层基底层原料,UV固化后形成基底层;在基底层表面涂一层AF层原料,然后UV固化后形成一层厚度为1μm的AF层。
实施例2
本实施例提供一种用于制备硬化膜的原料组合物和一种硬化膜。
用于制备硬化膜的原料组合物包括基底层原料和AF层原料;
其中,基底层原料及组分同实施例1。
AF层原料包括按照重量份数计的以下组分:
其中AF层组分含量同实施例1,只是将全氟醚基烷化合物替换为氟改性聚硅氧烷。
硬化膜通过上述原料组合物制备得到,制备方法与实施例1相同。
实施例3
本实施例提供一种用于制备硬化膜的原料组合物和一种硬化膜。
用于制备硬化膜的原料组合物包括基底层原料和AF层原料;
其中,基底层组分和含量同实施例1,只是将100nm TiO2换成150nm ZrO2
AF层原料及组分同实施例1。
硬化膜通过上述原料组合物制备得到,制备方法与实施例1相同。
实施例4
本实施例提供一种用于制备硬化膜的原料组合物和一种硬化膜。
用于制备硬化膜的原料组合物包括基底层原料和AF层原料;
其中,基底层组分和含量同实施例1,只是将20nm SiO2变换成50nm SiO2,100nmTiO2换成150nm ZnO。
AF层原料及组分同实施例1。
硬化膜通过上述原料组合物制备得到,制备方法与实施例1相同。
实施例5
本实施例提供一种用于制备硬化膜的原料组合物和一种硬化膜。
用于制备硬化膜的原料组合物包括基底层原料和AF层原料;
其中,基底层组分和含量同实施例1,只是将20nm SiO2变换成50nm SiO2
AF层原料及组分同实施例1。
硬化膜通过上述原料组合物制备得到,制备方法与实施例1相同。
实施例6
本实施例提供一种用于制备硬化膜的原料组合物和一种硬化膜。
用于制备硬化膜的原料组合物包括基底层原料和AF层原料;
其中,基底层组分和含量同实施例1,只是将SiO2与TiO2的比例由3:2变成了3:4.5。
AF层原料及组分同实施例1。
硬化膜通过上述原料组合物制备得到,制备方法与实施例1相同。
实施例7
本实施例提供一种用于制备硬化膜的原料组合物和一种硬化膜。
用于制备硬化膜的原料组合物包括基底层原料和AF层原料;
其中,基底层组分和含量同实施例1。
AF层原料及组分同实施例1。
硬化膜通过上述原料组合物制备得到,制备方法与实施例1相同,只是固化后的AF层厚度变成了0.5μm。
实施例8
本实施例提供一种用于制备硬化膜的原料组合物和一种硬化膜。
用于制备硬化膜的原料组合物包括基底层原料和AF层原料;
其中,基底层组分和含量同实施例1。
AF层原料及组分同实施例1。
硬化膜通过上述原料组合物制备得到,制备方法与实施例1相同,只是固化后的AF层厚度变成了1.5μm。
对比例1
本对比例提供一种用于制备硬化膜的原料组合物和一种硬化膜。
用于制备硬化膜的原料组合物包括基底层原料和AF层原料;
其中,基底层原料包括按照重量份数计的以下组分:
聚氨酯丙烯酸树脂30份、季戊四醇三丙烯酸酯6份、丙氧基戊二醇二丙烯酸酯4份、光引发剂184(1-羟环己基苯酮)2份和TPO(2,4,6(三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦)0.5份、乙酸丁酯20份、丁酮10份、甲苯10份、D90的粒径为20nm纳米SiO2 25份。
AF层原料包括按照重量份数计的以下组分:
聚氨酯丙烯酸树脂20份、引发剂184 1.5份、硅烷偶联剂γ-巯丙基三甲氧基硅烷0.085份、全氟醚基烷化合物0.8份以及甲基异丁酮20份、甲苯5份、丁酮5份。
硬化膜通过上述原料组合物制备得到,具体包括:在基材层表面涂一层基底层原料,UV固化后形成基底层;在基底层表面涂一层AF层原料,然后UV固化后形成一层厚度为1μm的AF层。
对比例2
本对比例与对比例1基本相同,区别在于基底层中25份纳米粒子为D90粒径100nm的TiO2
对比例3
本对比例与实施3基本相同,区别在于基底层中20nm SiO2变换成10nm SiO2
对比例4
本对比例与实施1基本相同,区别在于基底层中100nm TiO2变换成1μm TiO2
对比例5
本对比例与实施1基本相同,区别在于AF层厚度由1μm变成了0.3μm。
对比例6
本对比例与实施1基本相同,区别在于AF层厚度由1μm变成了2.5μm。
综上,实施例1-实施例8以及对比例1-对比例6中硬化膜的条件如表1。
表1硬化膜的条件
Figure BDA0003780319220000131
Figure BDA0003780319220000141
对实施例1-实施例8、对比例1-对比例6提供的硬化膜进行测试:
硬化膜动摩擦系数的测试方法如下:将样品裁成80mm*200mm大小放在摩擦系数仪上硬化面朝上用带有天平纸的滑块进行测试
层间附着力的测试方法如下:参照ASTM D3359 method B
贴合后动摩擦系数的测试方法如下:用保护膜贴合、常温放置7天后,撕掉保护膜,再按照硬化膜动摩擦系数的测试方法测试,测试结果如表2所示。
表2硬化膜的性能
Figure BDA0003780319220000142
从表1和表2可以看出:本申请实施例提供的硬化膜附着好,原膜动摩擦系数与带胶贴合之后的动摩擦系数均小于0.1,而且贴保护膜后摩擦系数爬升变化小:差值都小于0.05。
从对比例1和对比例2中可以看出:单一使用20nm小粒子时,贴合后摩擦系数爬升明显;而单一使用100nm大粒子,又会出现附着变差的情况。
从对比例3中可以看出:纳米粒子粒径过小时,层间附着力较差。换言之,粒径过小,在表面形成的“锯齿”结构和表面粗糙度均不是特别明显。
从对比例4可以看出:使用1μm的粒子,虽然贴合后动摩擦系数不会出现明显爬升,但是因为粒径过大,表面的“锯齿”结构太深,造成AF层无法填充完整,从而使得硬化膜和贴合后的硬化膜的摩擦系数都在0.1以上,不满足结构设计要求。
从对比例5和对比例6可以看出:AF层过薄,摩擦系数较高;而过厚时,贴合后摩擦系数爬升明显。换言之,AF层的厚度与粒子形成的“锯齿”结构,共同影响。
以上所述仅为本申请的优选实施例而已,并不用于限制本申请,对于本领域的技术人员来说,本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种硬化膜,其特征在于,所述硬化膜包括基底层以及覆盖所述基底层表面的AF层,所述AF层的厚度为0.5μm-1.5μm:
所述基底层的原料包括按照重量份数计的以下组分:
聚氨酯丙烯酸树脂5-30份、丙烯酸脂类单体3-10份、光引发剂0.5-3份、第一溶剂10-40份以及纳米材料5-30份;
其中,所述纳米材料包括质量比为3:(2-4.5)的第一纳米粒子和第二纳米粒子,所述第一纳米粒子的D90粒径为20-100nm;所述第二纳米粒子的D90粒径为100-500nm。
2.根据权利要求1所述的硬化膜,其特征在于,所述AF层的原料包括按照重量份数计的以下组分:丙烯酸树脂的低聚物10-30份、引发剂0.5-2份、硅氧烷0.05-0.2份、含氟助剂0.5-1份以及第二溶剂10-40份。
3.根据权利要求2所述的硬化膜,其特征在于,所述含氟助剂选自全氟共聚物中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的硬化膜,其特征在于,所述第一纳米粒子的D90粒径为20-50nm;所述第二纳米粒子的D90粒径为100-150nm。
5.根据权利要求4所述的硬化膜,其特征在于,所述纳米材料包括质量比为3:(2-3)的所述第一纳米粒子和所述第二纳米粒子。
6.根据权利要求1所述的硬化膜,其特征在于,所述基底层的原料包括按照重量份数计的以下组分:
所述聚氨酯丙烯酸树脂25-30份、所述丙烯酸脂类单体8-10份、所述光引发剂2-3份、所述第一溶剂30-40份以及所述纳米材料25-30份。
7.根据权利要求1-6任一项所述的硬化膜,其特征在于,所述第一纳米粒子和所述第二纳米粒子各自独立地选自氧化铝、二氧化硅、二氧化钛以及二氧化锆中的至少一种;
可选地,所述第一纳米粒子和所述第二纳米粒子均包括二氧化硅。
8.根据权利要求1-6任一项所述的硬化膜,其特征在于,所述丙烯酸脂类单体选自季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、乙氧基乙基丙烯酸酯、三羟基甲基丙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、丙氧基戊二醇二丙烯酸酯、异冰片基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯和三异氰脲酸三丙烯酸酯中的至少一种;
可选地,所述第一溶剂选自乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、二甲苯、丙二醇甲醚和二丙二醇甲醚、丙酮、丁酮、环己酮、甲基异丁酮、异丙醇和异丁醇中的至少一种。
9.一种硬化膜组件,其特征在于,所述硬化膜组件包括基材、保护膜和权利要求1-8任一项所述的硬化膜,所述基材与所述基底层连接,所述保护膜与所述AF层连接。
10.一种用于制备硬化膜的原料组合物,其特征在于,所述用于制备硬化膜的原料组合物包括基底层原料和AF层原料,所述AF层的厚度为0.5μm-1.5μm;
所述基底层原料包括按照重量份数计的以下组分:
聚氨酯丙烯酸树脂5-30份、丙烯酸脂类单体3-10份、光引发剂0.5-3份、第一溶剂10-40份以及纳米材料5-30份;
其中,所述纳米材料包括质量比为3:(2-4.5)的第一纳米粒子和第二纳米粒子,所述第一纳米粒子的D90粒径为20-100nm;所述第二纳米粒子的D90粒径为100-500nm;
所述AF层原料包括按照重量份数计的以下组分:丙烯酸树脂的低聚物10-30份、引发剂0.5-2份、硅氧烷0.05-0.2份、含氟助剂0.5-1份、第二溶剂10-40份。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115926395A (zh) * 2022-12-28 2023-04-07 宁波惠之星新材料科技股份有限公司 一种光学膜及其制备方法

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001348514A (ja) * 2000-06-05 2001-12-18 Nippon Steel Chem Co Ltd 凹凸形状形成用コーティング剤
GB0809149D0 (en) * 2008-05-20 2008-06-25 Lehane Anthony A process for applying a moisture tolerant floor coating
JP2009084327A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Dainippon Printing Co Ltd ハードコートフィルム
CN102504625A (zh) * 2011-10-29 2012-06-20 合肥乐凯科技产业有限公司 一种防指纹污染透明硬化膜
JP2017066169A (ja) * 2015-09-28 2017-04-06 日本製紙株式会社 ハードコートフィルム
US20180346751A1 (en) * 2016-03-14 2018-12-06 Korea Innotec Co., Ltd. Highly functional af hard coating film
CN111944439A (zh) * 2020-08-21 2020-11-17 四川羽玺科技有限公司 一种超爽滑保护膜及其制备方法和应用
CN113667339A (zh) * 2021-09-18 2021-11-19 江苏皇冠新材料科技有限公司 一种基材涂料的制备方法及使用该涂料的可印刷硬化膜
CN113736122A (zh) * 2021-07-28 2021-12-03 宁波惠之星新材料科技有限公司 一种具有抗静电效果的超爽滑薄膜
CN113929948A (zh) * 2021-09-27 2022-01-14 宁波惠之星新材料科技有限公司 一种高耐磨高水接触角硬化膜
CN114349997A (zh) * 2021-12-14 2022-04-15 合肥乐凯科技产业有限公司 一种防爆膜用光学膜

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001348514A (ja) * 2000-06-05 2001-12-18 Nippon Steel Chem Co Ltd 凹凸形状形成用コーティング剤
JP2009084327A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Dainippon Printing Co Ltd ハードコートフィルム
GB0809149D0 (en) * 2008-05-20 2008-06-25 Lehane Anthony A process for applying a moisture tolerant floor coating
CN102504625A (zh) * 2011-10-29 2012-06-20 合肥乐凯科技产业有限公司 一种防指纹污染透明硬化膜
JP2017066169A (ja) * 2015-09-28 2017-04-06 日本製紙株式会社 ハードコートフィルム
US20180346751A1 (en) * 2016-03-14 2018-12-06 Korea Innotec Co., Ltd. Highly functional af hard coating film
CN111944439A (zh) * 2020-08-21 2020-11-17 四川羽玺科技有限公司 一种超爽滑保护膜及其制备方法和应用
CN113736122A (zh) * 2021-07-28 2021-12-03 宁波惠之星新材料科技有限公司 一种具有抗静电效果的超爽滑薄膜
CN113667339A (zh) * 2021-09-18 2021-11-19 江苏皇冠新材料科技有限公司 一种基材涂料的制备方法及使用该涂料的可印刷硬化膜
CN113929948A (zh) * 2021-09-27 2022-01-14 宁波惠之星新材料科技有限公司 一种高耐磨高水接触角硬化膜
CN114349997A (zh) * 2021-12-14 2022-04-15 合肥乐凯科技产业有限公司 一种防爆膜用光学膜

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
余宗萍;王锐;余宗宝;杨鹏飞;: "紫外光固化涂料摩擦力系数影响因素的研究", no. 10 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115926395A (zh) * 2022-12-28 2023-04-07 宁波惠之星新材料科技股份有限公司 一种光学膜及其制备方法

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