CN115926395A

CN115926395A - 一种光学膜及其制备方法

Info

Publication number: CN115926395A
Application number: CN202211693098.4A
Authority: CN
Inventors: 邹清清; 刘楷楷; 肖定富
Original assignee: Ningbo Huizhixing New Material Technology Co ltd
Current assignee: Ningbo Huizhixing New Material Technology Co ltd
Priority date: 2022-12-28
Filing date: 2022-12-28
Publication date: 2023-04-07

Abstract

本申请实施例提供一种光学膜及其制备方法，涉及屏幕保护膜领域。本申请实施例的光学膜包括依次层叠设置的10～125μm的基材、3～25μm的底涂层、20～150nm的氧化硅层、5～100nm的AF层；氧化硅层的主要材质为无机氧化硅，AF层由含有烷氧基硅烷基团的全氟化合物形成，底涂层中含有异氰酸酯基有机硅聚合物。其在具有良好的弯折性能的同时，其硬度还大于2H/500g的，对可折叠显示屏有着良好的保护作用。

Description

一种光学膜及其制备方法

技术领域

本申请涉及屏幕保护膜领域，具体而言，涉及一种光学膜及其制备方法。

背景技术

随着柔性显示技术逐步兴起，可折叠显示屏已从概念转变为实际。因此，现有的光学膜需要在具有可弯折的基础下，还要具有更高的硬度(一般要求硬度≥2H/500g)和更高的耐磨性能，这样才能防止显示屏刮伤，以起到保护可折叠显示屏的效果。

在现有技术中，光学膜一般是包括层叠设置的基材、底涂层、AF(Anti-fingerprint，防指纹)层等层结构，含有这些层结构的光学膜，其硬度不能满足可折叠显示屏要求，而且现有技术中的可弯折性能和高硬度性能往往也不可兼得。

发明内容

本申请实施例提供一种光学膜及其制备方法，本申请实施例中的光学膜在具有良好的弯折性能的同时，其硬度还大于2H/500g，对可折叠显示屏有着良好的保护作用。

第一方面，本申请实施例提供了一种光学膜，其包括依次层叠设置的10～125μm的基材、3～25μm的底涂层、20～150nm的氧化硅层、5～100nm的AF(Anti-fingerprint，防指纹)层；氧化硅层的主要材质为无机氧化硅，AF层由含有烷氧基硅烷基团的全氟化合物形成，底涂层中含有异氰酸酯基有机硅聚合物。

在上述技术方案中，基材既能为其他层结构提供附着位点，也能和显示屏等底物进行贴合，有利于光学膜粘附在诸如可折叠显示屏之类的要保护的底物表面。底涂层能起到衔接基材和其他层结构的作用。含有无机氧化硅的氧化硅层能提升光学膜的耐磨性能。AF层既能够提高光学膜的抗水抗油和防指纹能力，也有利于增强光学膜的耐磨性。

此外，本申请实施例中，氧化硅层含有大量的Si-O键，很容易吸水导致产生-SiOH基团，由于底涂层中含有异氰酸酯基有机硅聚合物，因此在底涂层的表面会有-NCO基团，其会与-SiOH基团反应，从而增强底涂层与氧化硅层之间的附着力。另外，由于AF层是由含有烷氧基硅烷基团的全氟化合物形成的，AF层的表面会部分水解并与-SiOH基团反应，从而增强AF层和氧化硅层之间的附着力。因此，在底涂层和AF层之间加入主要材质为无机氧化硅的氧化硅层，能增强AF层的附着力，从而提升整个光学膜的耐磨耗性能。

另外，将各个层结构设置在特定的厚度范围内，能使得光学膜兼顾耐磨性能和可弯折性能。而且氧化硅层的厚度要远小于其它层结构，这是由于无机氧化硅的拉伸性能较差，在能保证其和相邻层结构具有足够的附着力的基础上，氧化硅层要尽可能地薄。申请人发现，当氧化硅层的厚度在20～150nm范围内，其可以在保证附着力的基础上，基本不影响光学膜的拉伸性能。而且在本申请中，满足上述条件的各个层结构之间相互配合，能保证光学膜的硬度大于2H/500g，从而对可折叠显示屏有着良好的保护作用。

在一种可能的实现方式中，在氧化硅层中，氧原子与硅原子的个数的比值为1.95～2.15；可选的，氧原子与硅原子的个数的比值为1.97～2.1。

在上述技术方案中，氧化硅层中的氧原子和硅原子的个数比需要控制在合适的范围内，可以使氧化硅层部分产生的-SiOH的数量较为适中，从而使氧化硅层与相邻层之间的附着力更好。

在一种可能的实现方式中，氧化硅层的厚度为20～100nm；和/或，AF层的厚度为10～80nm；和/或，底涂层的厚度为5～20μm，可选的，底涂层的厚度为5～10μm；和/或，基材的厚度为50～80μm。

在一种可能的实现方式中，基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯、三醋酸纤维素、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯、热塑性聚氨酯、聚萘二甲酸乙二酯中的至少一种。

第二方面，本申请实施例提供了上述的光学膜的制备方法，其包括以下步骤：在10～125μm的基材上表面涂布含有异氰酸酯基有机硅聚合物的底涂料，并使底涂料固化形成3～25μm的底涂层；随后在底涂层的上表面形成20～150nm的无机氧化硅层；之后使用含有烷氧基硅烷基团的全氟化合物在氧化硅层的上表面层叠5～100nm的AF层。

在上述技术方案中，使用上述制备方法制得的光学膜，具有良好的硬度和可弯折性能，可以起到很好的保护可折叠显示屏的效果。

在一种可能的实现方式中，氧化硅层是通过硅靶，在含氧气氛中反应溅射沉积得到的。

在上述技术方案中，通过溅射沉积的方式，既能很好的控制氧化硅层的厚度，又可以很好的控制氧化硅层中的氧原子和硅原子的个数比。

在一种可能的实现方式中，在溅射沉积时，硅靶为单晶硅，反应气体为氩气和氧气的混合体；可选的，单晶硅的晶向为<1,1,1>、<1,1,0>、<1,0,0>中的任一种。

在上述技术方案中，当硅靶为单晶硅，反应气体为氩气和氧气的混合体时，有利于形成高纯度的氧化硅。

在一种可能的实现方式中，在形成氧化硅层之后，形成AF层之前，还对氧化硅层进行等离子体处理或电晕处理。

在上述技术方案中，对氧化硅层进行等离子体处理或电晕处理，有利于增强氧化硅层的表面粗糙度。

在一种可能的实现方式中，底涂料的组分按照重量分数计，包括75～95份树脂基体、5～25份无机粒子填料、2～8份光引发剂、0.1～1份添加剂；且添加剂中含有50％～100％质量份的异氰酸酯基有机硅聚合物。

在一种可能的实现方式中，树脂基体为含有碳碳双键的丙烯酸树脂类聚合物，且丙烯酸树脂类聚合物的碳碳双键的官能度不小于2；可选的，碳碳双键的官能度不小于6；和/或，无机粒子填料的平均粒径不大于250nm，且无机粒子填料包括二氧化硅、金属氧化物、金属氟化物、金属硫化物、金属氮化物中的至少一种；和/或，光引发剂包括偶氮化合物、过氧化物、过硫酸盐、氧化还原引发剂中的至少一种；可选的，光引发剂包括2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮、2-羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮、2，4，6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、2，4，6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮、4-苯甲酰基-4-甲基-二苯硫醚、2-(4-甲基苄基)-2-(二甲基氨基)-1-(4-吗啉苯基)-1-丁酮、1,1-(亚甲基二-4，1-亚苯基)双[2-羟基-2-甲基-1-丙酮]、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-1-苯己酮、双2,6-二氟-3-吡咯苯基二茂钛、苯甲酰甲酸甲酯、二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、对二甲氨基苯甲酸异辛酯、4,4-双(二乙氨基)苯甲酮、异丙基硫杂蒽酮、2,4-二乙基硫杂蒽酮、2-乙基蒽醌中的至少一种。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本申请实施例提供的一种光学膜的结构示意图。

图标：001-光学膜；100-基材；200-底涂层；300-氧化硅层；400-AF层。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。

在现有技术中，用作屏幕保护的光学膜往往只含有基材、底涂层、AF层等层结构，这使得光学膜的可弯折性能和高硬度性能不可兼得，也就无法用于保护可折叠显示屏。

目前虽然也有对光学膜的结构进行改性的技术，如名称为“带有硬涂层的高分子基板”的授权专利CN110461589B中，为了达到防刮伤、高耐磨等要求，采用基板厚度1～20mm、基底固化层0.1～20μm、氧化硅层厚度3.5～9.0μm的结构，引入的氧化硅层虽然能增强光学膜的硬度，但是也会导致光学膜的可弯折性能明显下降。

为了使得光学膜既具有更好的硬度，也具有良好的可弯折性能。本申请实施例提供了一种光学膜001，其结构如图1所示。下面对本申请实施例的光学膜001及其制备方法进行具体说明。

本申请实施例中的光学膜001从下到上包括依次层叠设置的10～125μm的基材100、3～25μm的底涂层200、20～150nm的氧化硅层300、5～100nm的AF层400；氧化硅层300的主要材质为无机氧化硅，AF层400由含有烷氧基硅烷基团的全氟化合物形成，底涂层200中含有异氰酸酯基有机硅聚合物。

本申请实施例中，氧化硅层300中的无机氧化硅中的Si-O键吸水产生-SiOH基团；底涂层200中的异氰酸酯基有机硅聚合物会由于其自身的特性，分布在底涂层200的表面，因此底涂层200表面会具有-NCO基团，其可以和-SiOH基团反应，增强底涂层200与氧化硅层300之间的附着力。另外，由于AF层400是由含有烷氧基硅烷基团的全氟化合物形成的，AF层400的表面会部分水解并与-SiOH基团反应，从而增强AF层400和氧化硅层300之间的附着力。

因此，主要材质为无机氧化硅的氧化硅层300能增强底涂层200和AF层400的附着力，从而提升整个光学膜001的耐磨耗性能，使其更适应于可折叠显示屏；而且由于光学膜001的耐磨耗性能增加，其可弯折次数也极大地提升了。另外，虽然本申请实施例增加了氧化硅层300，但是其厚度仅为纳米级别，厚度要远小于其他层结构，这样基本不会影响光学膜001的柔韧性，整个光学膜001也更容易弯折。氧化硅层300的厚度具体可以是20～100nm，例如，氧化硅层300的厚度为25nm、30nm、40nm、50nm、70nm、90nm、110nm、130nm、140nm等。而且发明人发现，在20～150nm的范围内，氧化硅层300的厚度一般都是越小越好，标准是氧化硅层300的厚度不大于AF层400的厚度。

另外，在本申请实施例中，氧原子与硅原子的个数的比值为1.95～2.15，具体可以为1.97～2.1，例如1.97、2、2.1等，这样可以使氧化硅层300中Si-O键吸水产生的-SiOH的数量较多，从而使氧化硅层300与相邻层之间的附着力更好。

本申请实施例中，其他层结构的功能和效果如下：

基材100既能为其他层结构提供附着位点，也能和显示屏等底物进行贴合，有利于光学膜001粘附在诸如可折叠显示屏之类的要保护的底物表面，其材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、三醋酸纤维素(TAC)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚酰亚胺(PI)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、热塑性聚氨酯(TPU)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)中的至少一种。作为示例性的，本申请后续的实施例中，选择聚对苯二甲酸乙二醇酯作为基材100的材质，这是因为PET的透明性高(一般不小于89％)，韧性好。

另外，基材100的厚度具体可以是50～80μm，例如，可以是20μm、40μm、70μm、90μm、100μm、120μm等。

底涂层200能起到衔接基材100和其他层结构的作用，有利于增强各个层结构之间的粘结力，其厚度具体可以是5～20μm，更具体的，可以是5～10μm；例如，底涂层200的厚度可以是4μm、6μm、9μm、13μm、18μm、23μm等。

AF层400既能够提高光学膜001的抗水抗油和防指纹能力，也有利于增强光学膜001的耐磨性，其厚度通常在5～100nm之间，具体可以是10～80nm。例如，AF层400的厚度为6nm、12nm、15nm、20nm、25nm、30nm、40nm、70nm、90nm等。

本申请实施例的光学膜001的制备方法包括以下步骤：

S100、形成底涂层200：在10～125μm的基材100上表面涂布含有异氰酸酯基有机硅聚合物的底涂料，并使底涂料固化形成3～25μm的底涂层200。

在本步骤中，底涂料的组成成分按照重量份数计，包括75～95份树脂基体、5～25份无机粒子填料、2～8份光引发剂、0.1～1份添加剂；其中异氰酸酯基有机硅聚合物作为添加剂必不可少的一部分，平均每份添加剂中含有50％～100％质量份的异氰酸酯基有机硅聚合物。而且固化条件一般选用UV固化的方式。

树脂基体为含有碳碳双键的丙烯酸树脂类聚合物，且丙烯酸树脂类聚合物的碳碳双键的官能度不小于2，最好可以大于6。当然，在其他一些实施例中，丙烯酸树脂类聚合物还可以含有苯环、酰胺、酰氧和醚键等其中至少一种的官能团。

无机粒子填料的平均粒径不大于250nm，且无机粒子填料包括二氧化硅、金属氧化物、金属氟化物、金属硫化物、金属氮化物中的至少一种，优选具有高硬度的无机粒子填料如金属氧化物氧化铝、氧化钛等。

光引发剂包括偶氮化合物、过氧化物、过硫酸盐、氧化还原引发剂中的至少一种；可选的，光引发剂包括2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮、2-羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮、2，4，6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、2，4，6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮、4-苯甲酰基-4-甲基-二苯硫醚、2-(4-甲基苄基)-2-(二甲基氨基)-1-(4-吗啉苯基)-1-丁酮、1,1-(亚甲基二-4，1-亚苯基)双[2-羟基-2-甲基-1-丙酮]、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-1-苯己酮、双2,6-二氟-3-吡咯苯基二茂钛、苯甲酰甲酸甲酯、二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、对二甲氨基苯甲酸异辛酯、4,4-双(二乙氨基)苯甲酮、异丙基硫杂蒽酮、2,4-二乙基硫杂蒽酮、2-乙基蒽醌中的至少一种。

另外，在其他一些实施例中，添加剂还包括消泡剂、流平剂、平滑剂等，本领域的技术人员可以视情况添加和控制用量。

S200、形成氧化硅层300：在底涂层200的上表面形成20～150nm的无机氧化硅层300。

本步骤一般是通过硅靶，在含氧气氛中反应溅射沉积得到，这样既能很好的控制氧化硅层300的厚度，又可以很好的控制氧化硅层300中的氧原子和硅原子的个数比。具体的，硅靶为单晶硅，晶向为<1,1,1>，<1,1,0>，<1,0,0>中的任意一种；气体氛围为氩气和氧气的混合体，混入氩气的氧气时，有利于形成高纯度的氧化硅。

另外，本步骤在形成氧化硅层300之后，还会对氧化硅层300进行等离子体处理或电晕处理，这样能够增强氧化硅层300的表面粗糙度，使得氧化硅层300的表面粗糙度为3～10nm之间(表面粗糙度一般使用原子力显微镜测得)，甚至是在4～6nm之间，这样有利于提升光学膜001的爽滑性。等离子体处理一般在等离子体表面处理机中进行，功率一般在0.5kW～3kW范围内，时间一般在40ms～120ms；电晕处理一般在电晕处理机中进行，功率一般0.5kW～3kW范围内，时间一般在40ms～120ms。

S300、形成AF层400：使用含有烷氧基硅烷基团的全氟化合物在氧化硅层300的上表面形成5～100nm的AF层400。

在本步骤中，含有烷氧基硅烷基团的全氟化合物既可以自己制备，也可以使用市售的产品，例如AGC公司的SURECO@AF Series系列产品，日本大金DSX-E，UD509等。作为示例性的，本申请实施例中统一使用市售的SURECO 2101S(AGC生产)。

以下结合实施例对本申请的特征和性能作可选的详细描述。

实施例1

本实施例提供了一种光学膜001，其制备方法如下：

(1)选择65μm厚度的PET，在PET上涂布底涂料，然后经过UV光固化形成厚度为5μm的底涂层200，UV光固化时，能量为600mJ/cm²。

底涂料的组分按重量份数计，包括：

树脂：90份官能度为10，型号为EBECRYL 225的聚氨酯丙烯酸树脂，再加5份官能度为2，型号为EBECRYL 8804的聚氨酯丙烯酸树脂。

无机粒子填料：5份氧化铝(平均粒径70nm，哈利玛化成株式会社生产)。

光引发剂：4份1-羟基环己基苯基甲酮，再加上1份(2,4,6-三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦(均购于Irgacure)。

添加剂：0.5份异氰酸酯基有机硅聚合物(型号为Silmer NCO Di-50)。

(2)采用晶向为<1,1,1>的单晶靶，反应气体为氩气和氧气的混合体，在底涂层200上制备氧化硅层300；制得的氧化硅层300厚度为30nm，氧原子与硅原子个数的比值为1.97。

之后再在电晕处理机中进行电晕处理，功率为1.5kW，处理时间为50ms，使得氧化硅层300的表面粗糙度为6nm。

(3)使用SURECO 2101S(AGC生产)在氧化硅层300上形成30nm的AF层400。

形成的光学膜001，其包括依次层叠设置的65μm的基材100、5μm的底涂层200、30nm的氧化硅层300、30nm的AF层400。

实施例2～实施例13

实施例2～实施例13分别提供了一种光学膜001，其相比于实施例1，主要区别如表1所示：

表1实施例1～实施例13的光学膜001结构和制备条件

对比例1～对比例9

对比例1～9分别提供了一种光学膜，其相比于实施例1，主要区别如表2所示：

表2对比例1～对比例9的光学膜结构和制备条件

另外，对比例9在固化底涂料时，UV光固化的功率为500J/cm²。

应用例

分别对实施例1～13和对比例1～9中的光学膜进行性能测试，测试方法和判定标准具体如下：

耐磨耗/耐刮擦测试：以1000gf将钢丝绒#0000、2cm×2cm的耐磨头按压至薄膜的涂层面往返5000次，然后观察薄膜表面的损伤状态并进行判断。判断时以三波长型昼白色荧光灯(National Palook、F.L 15EX-N 15W)作为光源，从斜上方用肉眼观察反射光加以判断。其中，O：未观察到损伤；X：观察到压痕未有损伤，处于使用没有问题的水平；N：观察到明显损伤。

水接触角测试：使用去离子水，水滴大小1μL，5s内测试，取测试5个点结果的平均值。

磨后水接判定：经耐磨耗测试后，测试区域此时的水接触角≥105°以判定此时还具有防指纹效果。

硬度测试：参考ASTMD3363-00涂层铅笔硬度的标准测试方法，使用三菱铅笔测试，负载750g。

动态弯折测试：包括内弯测试弯折半径≤2mm测试20万次和外弯测试弯折半径≤6mm测试20万次，以硬化面朝上为内弯测试。以三波长型昼白色荧光灯(National Palook、F.L 15EX-N 15W)作为光源，从斜上方用肉眼观察反射光加以判断。

动摩擦系数测试：依照ASTM D1894-2014标准，使用兰光机电(FPT-F1)摩擦系数测试仪进行测定。

上述测试的结果如下表所示：

表3实施例1～13和对比例1～9的光学膜的性能测试结果

实施例1-4和对比例1的测试结果表明：随着底涂层厚度增加，硬度增加，但弯折性能下降。

实施例1，实施例3-7和对比例2的测试结果表明：增加无机填料粒子的重量，在弥补硬度的同时可提升材料的弯折性能；但是随着添加量变大，树脂的交联密度严重下降，会导致硬度下降。

实施例1，实施例8-9和对比例3的测试结果表明：氧化硅层越厚拉伸越差。

实施例1，实施例10和对比例4-6的测试结果表明：氧化硅层的加入，会明显增强AF层的附着力，从而提升了整体的耐磨耗性能。但随着原子个数比增加，氧化硅层氧化严重，附着力变差，其次个数比降低，氧化程度轻仍会使与AF层的附着力差。

实施例1，实施例11-12和对比例7的测试结果表明：粗糙度大于等于氧化硅层厚度时，耐磨耗和动摩擦系数变差。推测可能是电晕处理已破坏掉氧化硅层的结构，AF层随着表面粗糙度增加而变的不均匀，从而导致附着变差，耐磨耗变差，同时动摩擦系数变差。

实施例1，实施例13和对比例8的测试结果表明：因为AF层越厚，含氟链无法得到很好的舒展与表面，导致表面含氟量减少从而影响水接。

实施例1和对比例9的测试结果表明：底涂层固化差时，会影响整体的硬度，并且耐磨出现严重的划痕且不可恢复。

以上仅为本申请的实施例而已，并不用于限制本申请的保护范围，对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims

1.一种光学膜，其特征在于，其包括依次层叠设置的10～125μm的基材、3～25μm的底涂层、20～150nm的氧化硅层、5～100nm的AF层；

所述氧化硅层的主要材质为无机氧化硅，所述AF层由含有烷氧基硅烷基团的全氟化合物形成，所述底涂层中含有异氰酸酯基有机硅聚合物。

2.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，在所述氧化硅层中，氧原子与硅原子的个数的比值为1.95～2.15；可选地，氧原子与硅原子的个数的比值为1.97～2.1。

3.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述氧化硅层的厚度为20～100nm；

和/或，所述AF层的厚度为10～80nm；

和/或，所述底涂层的厚度为5～20μm，可选地，所述底涂层的厚度为5～10μm；

和/或，所述基材的厚度为50～80μm。

4.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述基材的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯、三醋酸纤维素、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯、热塑性聚氨酯、聚萘二甲酸乙二酯中的至少一种。

5.一种权利要求1～4任一项所述的光学膜的制备方法，其特征在于，其包括以下步骤：

在10～125μm的基材上表面涂布含有异氰酸酯基有机硅聚合物的底涂料，并使所述底涂料固化形成3～25μm的底涂层；

随后在所述底涂层的上表面形成20～150nm的无机氧化硅层；

之后使用含有烷氧基硅烷基团的全氟化合物在所述氧化硅层的上表面形成5～100nm的AF层。

6.根据权利要求5所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述氧化硅层是通过硅靶，在含氧气氛中反应溅射沉积得到。

7.根据权利要求6所述的光学膜的制备方法，其特征在于，在所述溅射沉积时，所述硅靶为单晶硅，反应气体为氩气和氧气的混合体；

可选的，所述单晶硅的晶向为<1,1,1>、<1,1,0>、<1,0,0>中的任一种。

8.根据权利要求5所述的光学膜的制备方法，其特征在于，在形成所述氧化硅层之后，形成所述AF层之前，还对所述氧化硅层进行等离子体处理或电晕处理。

9.根据权利要求5所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述底涂料的组分按照重量分数计，包括75～95份树脂基体、5～25份无机粒子填料、2～8份光引发剂、0.1～1份添加剂；且所述添加剂中含有50％～100％质量份的所述异氰酸酯基有机硅聚合物。

10.根据权利要求9所述的光学膜的制备方法，其特征在于，所述树脂基体为含有碳碳双键的丙烯酸树脂类聚合物，且所述丙烯酸树脂类聚合物的碳碳双键的官能度不小于2；可选的，所述碳碳双键的官能度不小于6；

和/或，所述无机粒子填料的平均粒径不大于250nm，且所述无机粒子填料包括二氧化硅、金属氧化物、金属氟化物、金属硫化物、金属氮化物中的至少一种；

和/或，所述光引发剂包括偶氮化合物、过氧化物、过硫酸盐、氧化还原引发剂中的至少一种；可选的，所述光引发剂包括2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮、2-羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮、2，4，6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、2，4，6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮、4-苯甲酰基-4-甲基-二苯硫醚、2-(4-甲基苄基)-2-(二甲基氨基)-1-(4-吗啉苯基)-1-丁酮、1,1-(亚甲基二-4，1-亚苯基)双[2-羟基-2-甲基-1-丙酮]、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-1-苯己酮、双2,6-二氟-3-吡咯苯基二茂钛、苯甲酰甲酸甲酯、二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、对二甲氨基苯甲酸异辛酯、4,4-双(二乙氨基)苯甲酮、异丙基硫杂蒽酮、2,4-二乙基硫杂蒽酮、2-乙基蒽醌中的至少一种。