CN115128875A - 阵列基板、阵列基板制备方法及显示面板 - Google Patents

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Abstract

本申请提供一种阵列基板、阵列基板制备方法及显示面板，涉及显示技术领域，其中，该方法包括显示区和位于显示区外围的非显示区，显示区中包括多行栅极线；非显示区中包括第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路，第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路均在列方向上与栅极线并列设置，每条栅极线分别通过一条第一输出走线与第一栅极驱动电路电连接，并分别通过一条第二输出走线与第二栅极驱动电路电连接，各第一输出走线和各第二输出走线的阻抗均相同。本申请提供的技术方案可以实现LCD的窄边框化。

Description

阵列基板、阵列基板制备方法及显示面板
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及阵列基板、阵列基板制备方法及显示面板。
背景技术
随着液晶显示技术的不断成熟，液晶面板(Liquid Crystal Display，LCD)已广泛应用于各个领域。
目前，LCD中普遍采用较少栅极驱动器技术(Gate Driver Less，GDL)将LCD的栅极线的栅极驱动电路制作在阵列基板上，以降低生产成本。
但是目前的栅极驱动电路设计，会占用LCD较多的空间，使LCD难以实现窄边框化。
发明内容
有鉴于此，本申请提供一种阵列基板、阵列基板制备方法及显示面板，用以实现LCD的窄边框化。
为了实现上述目的，第一方面，本申请实施例提供一种阵列基板，包括：显示区和位于所述显示区外围的非显示区；
所述显示区中包括多行栅极线；
所述非显示区中包括第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路，所述第一栅极驱动电路和所述第二栅极驱动电路均在列方向上与所述栅极线并列设置；
每条所述栅极线分别通过一条第一输出走线与所述第一栅极驱动电路电连接，并分别通过一条第二输出走线与所述第二栅极驱动电路电连接；
各所述第一输出走线和各所述第二输出走线的阻抗均相同。
作为本申请实施例一种可选的实施方式，每条所述栅极线分别通过一个第一过孔与对应的第一输出走线电连接，并分别通过一个第二过孔与对应的第二输出走线电连接，所述第一过孔和所述第二过孔相对于所述栅极线的中心点对称设置。
作为本申请实施例一种可选的实施方式，所述第一栅极驱动电路和所述第二栅极驱动电路在行方向上并列设置。
作为本申请实施例一种可选的实施方式，所述第一输出走线的一端与所述第一栅极驱动电路电连接，所述第二输出走线的一端与所述第二栅极驱动电路电连接，所述第一输出走线和所述第二输出走线的另一端均沿所述列方向延伸至所述显示区的边缘。
作为本申请实施例一种可选的实施方式，所述第二栅极驱动电路位于所述第一栅极驱动电路和所述显示区之间，所述第二输出走线包括电阻补偿段。
作为本申请实施例一种可选的实施方式，所述第二输出走线的电阻补偿段弯曲设置。
作为本申请实施例一种可选的实施方式，所述非显示区还包括印制电路板，所述印制电路板位于所述显示区的一侧，所述第一栅极驱动电路和所述第二栅极驱动电路均位于所述显示区的另一侧。
作为本申请实施例一种可选的实施方式，所述非显示区还包括信号线，所述信号线分别与所述第一栅极驱动电路和所述第二栅极驱动电路电连接，所述信号线用于控制所述第一栅极驱动电路和所述第二栅极驱动电路输出扫描信号。
第二方面，本申请实施例提供一种阵列基板制备方法，用于制备上述第一方面或第一方面任一项所述的阵列基板，所述方法包括：
在衬底基板上形成第一金属层，所述第一金属层包括多条栅极线；
在所述第一金属层上依次形成绝缘层、有源层、欧姆接触层和第二金属层；
在所述绝缘层和所述第二金属层上形成钝化层；
对所述绝缘层和所述钝化层进行刻蚀，形成过孔；
在所述过孔处和所述钝化层上形成第三金属层，所述第三金属层包括多条第一输出走线和第二输出走线；
在所述钝化层上形成像素电极层。
第三方面，本申请实施例提供一种显示面板，包括上述第一方面或第一方面任一项所述的阵列基板，与所述阵列基板对向设置的彩膜基板，以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层。
本申请实施例提供的阵列基板、阵列基板制备方法及显示面板，包括：显示区和位于显示区外围的非显示区，显示区中包括多行栅极线；非显示区中包括第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路，第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路均在列方向上与栅极线并列设置，每条栅极线分别通过一条第一输出走线与第一栅极驱动电路电连接，并分别通过一条第二输出走线与第二栅极驱动电路电连接，
各第一输出走线和各第二输出走线的阻抗均相同。上述方案中，第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路均在列方向上与栅极线并列设置，这样可以减小阵列基板的非显示区在行方向上的面积，从而实现LCD的窄边框化；并且每条栅极线分别通过一条第一输出走线与第一栅极驱动电路电连接，并分别通过一条第二输出走线与第二栅极驱动电路电连接，因此，第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路都可以向每条栅极线输出扫描信号，这样在一个栅极驱动电路失效的情况下，另一个栅极驱动电路仍然可以向栅极线输出扫描信号，从而能够增强栅极驱动电路驱动栅极线工作时的稳定性；另外，由于各第一输出走线和各第二输出走线的阻抗均相同，因此，各栅极线接收到的扫描信号也趋于一致，从而在LCD显示纯色画面时，各行的亮度更均匀。
附图说明
图1为本申请实施例提供的阵列基板的截面图；
图2为本申请实施例提供的一阵列基板的结构示意图；
图3为本申请实施例提供的另一阵列基板的结构示意图；
图4为本申请实施例提供的阵列基板制备方法的流程示意图；
图5为本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。
附图标记说明：
1-阵列基板；2-对向基板；
3-显示介质层；
1A-显示区； 1B-非显示区；
111-衬底基板； 112-第一金属层；
113-绝缘层； 114-有源层；
115-欧姆接触层； 116-第二金属层；
117-钝化层； 118-过孔；
119-第三金属层； 120-像素电极层；
121-第一栅极驱动电路； 122-第二栅极驱动电路；
123-信号线； 124-印制电路板；
1121-栅极线； 1161源电极；
1162-漏电极； 1171-接触孔；
1181-第一过孔； 1182-第二过孔；
1191-第一输出走线； 1192-第二输出走线。
具体实施方式
下面结合本申请实施例中的附图对本申请实施例进行描述。本申请实施例的实施方式部分使用的术语仅用于对本申请的具体实施例进行解释，而非旨在限定本申请。下面这几个具体的实施例可以相互结合，对于相同或相似的概念或过程可能在某些实施例不再赘述。
图1为本申请实施例提供的阵列基板的截面图，如图1所示，本实施例提供的阵列基板可以包括：衬底基板111、于衬底基板111上形成的第一金属层112、绝缘层113、有源层114、欧姆接触层115、第二金属层116、钝化层117、过孔118、第三金属层119、以及像素电极层120。
衬底基板111的材料可以是石英、玻璃、有机聚合物、硅、金属以及其他半导体材料。
第一金属层112可以采用溅射工艺形成，第一金属层112可以是铝、钼、铜、银中的一种或多种，以上述材料形成的第一金属层112能够实现低阻抗、高附着的效果。
绝缘层113、有源层114和欧姆接触层115依次设置在第一金属层112上。
绝缘层113、有源层114和欧姆接触层115可以采用等离子体增强化学气相沉积工艺形成。
欧姆接触层115的材料可以是三氢化磷掺杂的氢化非晶硅或者其他半导体材料，使用上述材料形成的欧姆接触层115，可以使有源层114与第二金属层116的金属电极之间形成良好的欧姆接触，降低有源层114与第二金属层116之间的接触电阻，提高电子的传输速率。
第二金属层116位于欧姆接触层115上方，第二金属层116可以包括源电极1161和漏电极1162，源电极1161和漏电极1162之间可以形成沟道区。
第二金属层116可以采用溅射工艺形成，第二金属层116的材料可以包括铝、钼、铜、银中的一种或多种，以上述材料形成的第二金属层116能够实现低阻抗、高附着的效果。
钝化层117覆盖绝缘层113、有源层114、欧姆接触层115和第二金属层116，钝化层117可以采用等离子体增强化学气相沉积工艺形成，钝化层117用于保护下方的绝缘层113、有源层114、欧姆接触层115和第二金属层116。
过孔118设置在绝缘层113和钝化层117中，第三金属层119可以采用溅射工艺在过孔118处和钝化层117上方形成，第三金属层119的材料可以包括铝、钼、铜、银中的一种或多种，以上述材料形成的第三金属层119能够实现低阻抗、高附着的效果。
像素电极层120可以采用溅射工艺，在钝化层117背离第二金属层116的表面形成金属薄膜，然后对金属薄膜进行曝光显影形成。
钝化层117上可以有暴露漏电极1162的接触孔1171，像素电极层120可以通过接触孔1171与漏电极1162连接。
图2为本申请实施例提供的一阵列基板的结构示意图，如图2所示，本实施例提供的阵列基板可以包括显示区1A和位于显示区1A外围的非显示区1B，其中，显示区1A中可以包括多行栅极线1121。非显示区1B中可以包括第一栅极驱动电路121和第二栅极驱动电路122。
每条栅极线1121可以分别通过一条第一输出走线1191与第一栅极驱动电路121电连接，并分别通过一条第二输出走线1192与第二栅极驱动电路122电连接，这样每条栅极线1121都会接收第一栅极驱动电路121的扫描信号和第二栅极驱动电路122的扫描信号，从而在一个栅极驱动电路失效的情况下，另一个栅极驱动电路仍然可以向栅极线1121输出扫描信号，这样可以增强栅极驱动电路驱动栅极线1121工作时的稳定性。
可以理解的是，对于一般的大尺寸显示面板来说，其阵列基板的栅极线1121延伸方向(即行方向)的长度比数据线延伸方向(即列方向)的长度长很多，因此，将栅极驱动电路在列方向上与栅极线1121并列设置，能够增加栅极驱动电路的长度，相对应的，栅极驱动电路的宽度就可以设置的较窄，这样即使如图2所示的，在列方向上与栅极线1121并列设置两个栅极驱动电路(即第一栅极驱动电路121和第二栅极驱动电路122)，也不会造成显示面板在列方向上过宽。
栅极线1121可以形成于第一金属层112，第一输出走线1191和第二输出走线1192可以形成于第三金属层119，显示区1A还可以包括多条数据线(未示出)，数据线可以形成于第二金属层116。
每条栅极线1121可以分别通过一个第一过孔1181与对应的第一输出走线1191电连接，并分别通过一个第二过孔1182与对应的第二输出走线1192电连接。由于栅极线1121存在阻抗，扫描信号在栅极线1121上传输时会随着传输距离的增加而减弱，因此，可以将每条栅极线1121对应的第一过孔1181和第二过孔1182相对于该栅极线1121的中心点对称设置，这样每条栅极线1121接收的2个扫描信号在该栅极线1121上传输的最远距离也一致，从而可以使每条栅极线1121上的2个扫描信号的减弱程度趋于一致，进而可以增强每条栅极线1121上的扫描信号的稳定性。
由于各第一输出走线1191连接不同的栅极线1121，各第二输出走线1192也连接不同的栅极线1121，并且连接同一栅极线1121的第一输出走线1191和第二输出走线1192分别连接第一栅极驱动电路121和第二栅极驱动电路122，从而各第一输出走线1191和各第二输出走线1192的长度会有所差异，导致各第一输出走线1191和各第二输出走线1192的阻抗有差异，使LCD的显示纯白画面时，亮度不均。因此，可以将各第一输出走线1191和各第二输出走线1192的阻抗设置的均相同，这样各行栅极线1121接收到的扫描信号的减弱程度也趋于一致，由于各第一栅极驱动电路121和各第二栅极驱动电路122输出的扫描信号基本相同，因此各行栅极线1121接收到的扫描信号也趋于一致，从而在LCD显示纯色画面时，各行的亮度会更均匀。
可以理解的是，本申请实施例中所述的“相同”或“相等”等类似的概念，都并非是绝对的概念，在数值上可以允许存在一定的误差。
具体地，在实现各第一输出走线1191和各第二输出走线1192的阻抗相同时，可以采用调整各第一输出走线1191和各第二输出走线1192粗细的方式。
为了便于制造，也可以如图2中所示的，第一输出走线1191的一端与第一栅极驱动电路121电连接，第二输出走线1192的一端与第二栅极驱动电路122电连接，第一输出走线1191和第二输出走线1192的另一端均沿列方向延伸至显示区1A的边缘。本申请实施例后续也以该实现方式为例进行示例性说明。
第二栅极驱动电路122可以位于第一栅极驱动电路121和显示区1A之间，此时，第二栅极驱动电路122到显示区1A下边缘的距离比第一栅极驱动电路121到显示区1A下边缘的距离近，为了使第一输出走线1191和第二输出走线1192的阻抗相同，可以在第二输出走线1192上设置电阻补偿段。
电阻补偿段的线路可以设置的较细，通过减小线路的横截面积来补偿第二输出走线1192的阻抗；电阻补偿段也可以弯曲设置，通过增加第二输出走线1192的长度来补偿第二输出走线1192的阻抗，这样可以减小由于电阻补偿段的第二输出走线1192过细导致的断线风险。
图3为本申请实施例提供的另一阵列基板的结构示意图，如图3所示，第一栅极驱动电路121和第二栅极驱动电路122可以均在列方向上与栅极线1121并列设置，这样第一栅极驱动电路121和第二栅极驱动电路122与显示区1A下边缘的的距离均相同，采用直线方式形成的第一输出走线1191和第二输出走线1192的阻抗也均相同，从而无需在第二输出走线1192上设置电阻补偿段，能够减少电路的复杂度。
非显示区1B还可以包括多条信号线123和印制电路板(Printed Circuit Board，PCB)124，信号线123可以是时钟信号线、开启电压信号线、复位信号线和电源信号线等，各信号线123均与PCB124电连接，形成线路密集的扇形区域。PCB124可以位于显示区1A的一侧，第一栅极驱动电路121和第二栅极驱动电路122可以均位于显示区1A的另一侧，这样能够避免因第一栅极驱动电路121、第二栅极驱动电路122与扇形区域的线路之间互相影响，而导致的扇形区域亮度不均的情况发生。
本申请实施例提供的阵列基板，包括：包括：显示区和位于显示区外围的非显示区，显示区中包括多行栅极线；非显示区中包括第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路，第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路均在列方向上与栅极线并列设置，每条栅极线分别通过一条第一输出走线与第一栅极驱动电路电连接，并分别通过一条第二输出走线与第二栅极驱动电路电连接，各第一输出走线和各第二输出走线的阻抗均相同。上述方案中，第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路均在列方向上与栅极线并列设置，这样可以减小阵列基板的非显示区在行方向上的面积，从而实现LCD的窄边框化；并且每条栅极线分别通过一条第一输出走线与第一栅极驱动电路电连接，并分别通过一条第二输出走线与第二栅极驱动电路电连接，因此，第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路都可以向每条栅极线输出扫描信号，这样在一个栅极驱动电路失效的情况下，另一个栅极驱动电路仍然可以向栅极线输出扫描信号，从而能够增强栅极驱动电路驱动栅极线工作时的稳定性；另外，由于各第一输出走线和各第二输出走线的阻抗均相同，因此，各栅极线接收到的扫描信号也趋于一致，从而在LCD显示纯色画面时，各行的亮度更均匀。
基于同一发明构思，本申请实施例还提供了一种阵列基板制备方法，用于制备上述实施例中的阵列基板，图4为本申请实施例提供的阵列基板制备方法的流程示意图，如图4所示，该方法可以包括如下步骤：
S110、在衬底基板上形成第一金属层。
在制备阵列基板时，可以首先提供一个衬底基板111，衬底基板111的材料可以是石英、玻璃、有机聚合物、硅、金属以及其他半导体材料，本实施例以衬底基板111的材料为玻璃为例进行示例性说明。
然后，可以采用溅射工艺在衬底基板111上形成第一金属层112，在形成第一金属层112时，可以对第一金属层112进行图案化处理，具体可以采用包括涂布光刻胶、曝光、显影、湿刻、去除光刻胶等工艺的方式等对第一金属层112进行图案化处理。图案化处理后的第一金属层112可以包括多条栅极线1121。
第一金属层112可以是铝、钼、铜、银中的一种或多种，以上述材料形成的第一金属层112能够实现低阻抗、高附着以及在图案化处理时加工工艺简单的效果。
需说明的是，衬底基板111若选用导电材料时，则需要在衬底基板111上形成阵列基板的构件前，先在衬底基板111上形成绝缘层，以免衬底基板111与阵列基板的构件之间发生短路。
S120、在第一金属层上依次形成绝缘层、有源层、欧姆接触层和第二金属层。
绝缘层113、有源层114和欧姆接触层115可以采用等离子体增强化学气相沉积工艺形成。
欧姆接触层115的材料可以是三氢化磷掺杂的氢化非晶硅或者其他半导体材料，使用上述材料形成的欧姆接触层115，可以使有源层114与第二金属层116的金属电极之间形成良好的欧姆接触，降低有源层114与第二金属层116之间的接触电阻，提高电子的传输速率。
第二金属层116可以采用溅射工艺形成，第二金属层116的材料可以包括铝、钼、铜、银中的一种或多种，以上述材料形成的第二金属层116能够实现低阻抗、高附着的效果。
在形成有源层114、欧姆接触层115和第二金属层116时，可以分别对有源层114、欧姆接触层115和第二金属层116进行图案化处理，使有源层114、欧姆接触层115和第二金属层116形成图案。图案化处理后的第二金属层116可以包括多条数据线。
S130、在绝缘层和第二金属层上形成钝化层。
具体地，可以在先对第二金属层116进行刻蚀，去除第二金属层116的中间区域，形成源电极1161和漏电极1162，然后对中间区域的欧姆接触层115和有源层114进行刻蚀，形成沟道区。
在对第二金属层116、欧姆接触层115和有源层114刻蚀后，可以采用等离子体增强化学气相沉积工艺在第二金属层116、欧姆接触层115、有源层114和绝缘层113的外侧形成钝化层117，钝化层117用于保护下方的绝缘层113、有源层114、欧姆接触层115和第二金属层116。
S140、对绝缘层和钝化层进行刻蚀，形成过孔。
具体地，可以对绝缘层113和与绝缘层113相邻的钝化层117进行刻蚀，暴漏出绝缘层113下方的第一金属层112，绝缘层113和钝化层117被刻蚀的部分即为过孔118。
S150、在过孔处和钝化层上形成第三金属层。
具体地，可以采用溅射工艺在过孔118处和钝化层117上方形成第三金属层119。第三金属层119的材料可以包括铝、钼、铜、银中的一种或多种，以上述材料形成的第三金属层119能够实现低阻抗、高附着的效果。
在形成第三金属层119时，可以对第三金属层119进行图案化处理，图案化处理后的第三金属层119可以包括多条第一输出走线1191和第二输出走线1192。
S160、在钝化层上形成像素电极层。
具体地，可以采用溅射工艺，在钝化层117背离第二金属层116的表面形成金属薄膜，然后可以采用图案化处理的方式形成像素电极层120。
钝化层117上可以有暴露漏电极1162的接触孔1171，以使像素电极层120可以通过接触孔1171与漏电极1162连通。
由于本实施例中的阵列基板制备方法能够制备上述实施例中的阵列基板，即基于本实施例中的阵列基板制备方法制备的阵列基板具有上述阵列基板的实施例的所有技术特征以及技术效果，具体参照上述实施例，在此不再进行赘述。
基于同一发明构思，本申请实施例还提供了一种显示面板，图5为本申请实施例提供的显示面板的结构示意图，如图5所示，本实施例提供的显示面板可以包括：包括上述实施例中的阵列基板1、对向基板2和显示介质层3。
其中，阵列基板1与对向基板2相对设置，显示介质层3位于阵列基板1和对向基板2之间。
对向基板2可以是彩膜基板，显示介质层3中可以充填液晶。
由于本实施例中的显示面板包括上述实施例中阵列基板，即本实施例中的显示面板具有上述阵列基板的实施例的所有技术特征以及技术效果，具体参照上述实施例，在此不再进行赘述。
在本申请中出现的对步骤进行的命名或者编号，并不意味着必须按照命名或者编号所指示的时间/逻辑先后顺序执行方法流程中的步骤，已经命名或者编号的流程步骤可以根据要实现的技术目的变更执行次序，只要能达到相同或者相类似的技术效果即可。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述或记载的部分，可以参见其它实施例的相关描述。
在本申请所提供的实施例中，应该理解到，所揭露的装置/设备和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置/设备实施例仅仅是示意性的，例如，所述模块或单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通讯连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通讯连接，可以是电性，机械或其它的形式。
应当理解，当在本申请说明书和所附权利要求书中使用时，术语“包括”指示所描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在，但并不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或其集合的存在或添加。
在本申请的描述中，除非另有说明，“/”表示前后关联的对象是一种“或”的关系，例如，A/B可以表示A或B；本申请中的“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况，其中A，B可以是单数或者复数。
并且，在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”是指两个或多于两个。“以下至少一项”或其类似表达，是指的这些项中的任意组合，包括单项或复数项的任意组合。例如，a，b，或c中的至少一项，可以表示：a，b，c，a-b，a-c，b-c，或a-b-c，其中a，b，c可以是单个，也可以是多个。
如在本申请说明书和所附权利要求书中所使用的那样，术语“如果”可以依据上下文被解释为“当...时”或“一旦”或“响应于确定”或“响应于检测到”。类似地，短语“如果确定”或“如果检测到[所描述条件或事件]”可以依据上下文被解释为意指“一旦确定”或“响应于确定”或“一旦检测到[所描述条件或事件]”或“响应于检测到[所描述条件或事件]”。
另外，在本申请说明书和所附权利要求书的描述中，术语“第一”、“第二”、“第三”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的实施例能够以除了在这里图示或描述的内容以外的顺序实施。
在本申请说明书中描述的参在本申请说明书中描述的参考“一个实施例”或“一些实施例”等意味着在本申请的一个或多个实施例中包括结合该实施例描述的特定特征、结构或特点。由此，在本说明书中的不同之处出现的语句“在一个实施例中”、“在一些实施例中”、“在其他一些实施例中”、“在另外一些实施例中”等不是必然都参考相同的实施例，而是意味着“一个或多个但不是所有的实施例”，除非是以其他方式另外特别强调。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：显示区和位于所述显示区外围的非显示区；
所述显示区中包括多行栅极线；
所述非显示区中包括第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路，所述第一栅极驱动电路和所述第二栅极驱动电路均在列方向上与所述栅极线并列设置；
每条所述栅极线分别通过一条第一输出走线与所述第一栅极驱动电路电连接，并分别通过一条第二输出走线与所述第二栅极驱动电路电连接；
各所述第一输出走线和各所述第二输出走线的阻抗均相同。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，每条所述栅极线分别通过一个第一过孔与对应的第一输出走线电连接，并分别通过一个第二过孔与对应的第二输出走线电连接，所述第一过孔和所述第二过孔相对于所述栅极线的中心点对称设置。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一栅极驱动电路和所述第二栅极驱动电路在行方向上并列设置。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一输出走线的一端与所述第一栅极驱动电路电连接，所述第二输出走线的一端与所述第二栅极驱动电路电连接，所述第一输出走线和所述第二输出走线的另一端均沿所述列方向延伸至所述显示区的边缘。
5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第二栅极驱动电路位于所述第一栅极驱动电路和所述显示区之间，所述第二输出走线包括电阻补偿段。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第二输出走线的电阻补偿段弯曲设置。
7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述非显示区还包括印制电路板，所述印制电路板位于所述显示区的一侧，所述第一栅极驱动电路和所述第二栅极驱动电路均位于所述显示区的另一侧。
8.根据权利要求1-7任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述非显示区还包括信号线，所述信号线分别与所述第一栅极驱动电路和所述第二栅极驱动电路电连接，所述信号线用于控制所述第一栅极驱动电路和所述第二栅极驱动电路输出扫描信号。
9.一种阵列基板制备方法，其特征在于，用于制备如权利要求1-8任一项所述的阵列基板，所述方法包括：
在衬底基板上形成第一金属层，所述第一金属层包括多条栅极线；
在所述第一金属层上依次形成绝缘层、有源层、欧姆接触层和第二金属层；
在所述绝缘层和所述第二金属层上形成钝化层；
对所述绝缘层和所述钝化层进行刻蚀，形成过孔；
在所述过孔处和所述钝化层上形成第三金属层，所述第三金属层包括多条第一输出走线和第二输出走线；
在所述钝化层上形成像素电极层。
10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的阵列基板，与所述阵列基板相对设置的对向基板，以及位于所述阵列基板和所述对向基板之间的显示介质层。
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