CN115122231A - 一种柔性抛光片及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种柔性抛光片及其制造方法，具体涉及抛光片技术领域，该柔性抛光片包括柔性基层和抛光研磨层，抛光研磨层设置在柔性基层表面上。通过加入柔性基层而制成弹性的微孔状结构材料的柔性抛光片，使抛光片上具有一定量的泡壁和泡孔，并且通过加入的抛光研磨层使抛光片的不同层面上不断地释放出具有工作面的高强度磨粒，增加抛光片整体强度的同时提高抛光效果；进一步的，柔性基层的设置，使抛光片在压力作用下与钛合金被研磨表面具有极好的贴合度和适当的研磨作用力，在研磨设备的重压下有对钛合金表面不易造成划伤的可能，有效满足对不平表面和边角曲面等复杂形状的面层抛光的目的，因而具有更高的抛光效果和效率。

Description

一种柔性抛光片及其制造方法
技术领域
本发明涉及抛光片技术领域，更具体地说，本发明涉及一种柔性抛光片及其制造方法。
背景技术
抛光片是将纳米级二氧化硅颗粒与高效粘合剂混合后，均匀地涂覆于聚酯薄膜的表面，经干燥和固化反应而成，由于抛光原始颗粒细微、粒度尺寸小于可见光的波长，所以均匀地分布后形成外观透明或半透明的抛光膜，专门为光纤连接器的最终超精密抛光设计开发的，使用后连接器端面没有任何划伤或缺陷，光纤高度和反射衰减指标均达到国际标准，使用时只需添加纯净水作为抛光介质，在抛光过程中，抛光膜的纳米涂层会逐渐地释放出抛光颗粒，参与抛光作用，使光纤端面达到高度光滑，抛光膜可以重复使用多次，但是根据抛光机的类型、抛光条件、抛光质量要求的不同，使用次数也不相同。
目前，在针对钛合金材料的板件进行抛光时，为提高其抛光片的强度，大多使用金属合金基体研磨片，基体坚硬无弹性，在研磨设备的重压下有对钛合金表面划伤的可能，大多被用于钛合金的粗磨程序；进一步的因抛光片柔性不佳，难以磨抛不平表面和边角曲面等复杂形状，抛光性能较差，因此需一种柔性抛光片来解决上述问题。
发明内容
为了克服现有技术的上述缺陷，本发明提供了一种柔性抛光片及其制造方法，本发明所要解决的技术问题是：为提高其抛光片的强度，大多使用金属合金基体研磨片，基体坚硬无弹性，在研磨设备的重压下有对钛合金表面划伤的可能，大多被用于钛合金的粗磨程序；进一步的因抛光片柔性不佳，难以磨抛不平表面和边角曲面等复杂形状，抛光性能较差的问题。
本发明的目的为：
通过加入柔性基层而制成弹性的微孔状结构材料的柔性抛光片，使抛光片上具有一定量的泡壁和泡孔，并且通过加入的抛光研磨层使抛光片的不同层面上不断地释放出具有工作面的高强度磨粒，增加抛光片整体强度的同时提高抛光效果；
进一步的，柔性基层的设置，使抛光片在压力作用下与钛合金被研磨表面具有极好的贴合度和适当的研磨作用力，在研磨设备的重压下有对钛合金表面不易造成划伤的可能，有效满足对不平表面和边角曲面等复杂形状的面层抛光的目的，因而具有更高的抛光效果和效率。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种柔性抛光片，该柔性抛光片包括柔性基层和抛光研磨层，抛光研磨层设置在柔性基层表面上。
所述柔性基层包括A组分的制备和B组分的制备。
所述A组分的制备包括以下原料：
甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂。
所述甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂的质量比为10：0.1：0.5：0.3：0.5。
所述B组分的制备包括以下原料：
聚醚多元醇、4-丁二醇、4-二氨基二苯甲烷、水和催化剂。
所述聚醚多元醇、4-丁二醇、4-二氨基二苯甲烷、水和催化剂的质量比为10：1：1.2：0.5：0.1。
所述抛光研磨层由基体磨料、滑石粉和UV树脂胶混合而成。
作为本发明的进一步方案：所述基体磨料、滑石粉和UV树脂胶的质量比为10：2：3。
作为本发明的进一步方案：所述基体磨料包括金刚石、碳化硅、氧化硅和氧化铝，所述金刚石、碳化硅、氧化硅和氧化铝的质量比为10：2：1：2。
作为本发明的进一步方案：所述UV树脂胶包括光引发剂、聚氨酯丙烯酸脂预聚物、甲基丙烯酸羟乙酯。
作为本发明的进一步方案：所述基体磨料的粒径优选为0.7-45μm，最优选为10-30μm。
作为本发明的进一步方案：所述滑石粉的粒径优选为2-25μm，最优选为10-15μm。
一种柔性抛光片的制造方法，包括以下步骤：
S1、首先进行A组分的制备，将甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂按照10：0.1：0.5：0.3：0.5的比例置入搅拌容器内进行混合反应。
S2、其次进行B组分的制备，将聚醚多元醇、4-丁二醇、4-二氨基二苯甲烷、水和催化剂按照10：1：1.2：0.5：0.1的比例置入搅拌容器内进行混合反应，使其温度控制在45-55℃，反应时间控制在20-30min。
S3、将制备的A组分与B组分进行混合，控制扩链系数为0.9，其次在300-1450r/min的转速下搅拌30-50s，再将A组分与B组分的混合液浇入模具待用，即完成柔性基层的制备。
S4、其次进行抛光研磨层的制备，将基体磨料、滑石粉和UV树脂胶按照10：2：3的比例混合15-20min，即可完成抛光研磨层的制备。
S5、将柔性基层和抛光研磨层一同置入模具内，待柔性基层和抛光研磨层呈紧贴状态并且初步成型时，初步成型的柔性抛光片再次进行热压固化，其次修整边缘处即可完成柔性抛光片的制备。
作为本发明的进一步方案：所述聚醚多元醇羟值在60-550mg KOH/g。
作为本发明的进一步方案：所述催化剂为叔胺类催化剂。
作为本发明的进一步方案：所述聚醚多元醇为甲苯二异氰酸酯或异佛尔酮二异氰酸酯其中的一种。
作为本发明的进一步方案：所述柔性基层的密度为0.2-0.8g/cm3。
作为本发明的进一步方案：所述S1中的反应条件为温度控制在65-70℃，反应时间为35-45min。
作为本发明的进一步方案：所述S5中，所述热压温度优选为60-180℃，最优选为100-125℃，且热压时间控制在50-80s，热压的压力控制在35-40MPa。
本发明的有益效果在于：通过加入柔性基层而制成弹性的微孔状结构材料的柔性抛光片，使抛光片上具有一定量的泡壁和泡孔，并且通过加入的抛光研磨层使抛光片的不同层面上不断地释放出具有工作面的高强度磨粒，增加抛光片整体强度的同时提高抛光效果；进一步的，柔性基层的设置，使抛光片在压力作用下与钛合金被研磨表面具有极好的贴合度和适当的研磨作用力，在研磨设备的重压下有对钛合金表面不易造成划伤的可能，有效满足对不平表面和边角曲面等复杂形状的面层抛光的目的，因而具有更高的抛光效果和效率。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1：
一种柔性抛光片，该柔性抛光片包括柔性基层和抛光研磨层，抛光研磨层设置在柔性基层表面上。
柔性基层包括A组分的制备和B组分的制备。
A组分的制备包括以下原料：
甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂。
甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂的质量比为10：0.1：0.5：0.3：0.5。
B组分的制备包括以下原料：
聚醚多元醇、4-丁二醇、4-二氨基二苯甲烷、水和催化剂。
聚醚多元醇、4-丁二醇、4-二氨基二苯甲烷、水和催化剂的质量比为10：1：1.2：0.5：0.1。
抛光研磨层由基体磨料、滑石粉和UV树脂胶混合而成。
基体磨料、滑石粉和UV树脂胶的质量比为10：2：3。
基体磨料包括金刚石、碳化硅、氧化硅和氧化铝，金刚石、碳化硅、氧化硅和氧化铝的质量比为10：2：1：2。
UV树脂胶包括光引发剂、聚氨酯丙烯酸脂预聚物、甲基丙烯酸羟乙酯。
基体磨料的粒径优选为0.7-45μm，最优选为10-30μm。
滑石粉的粒径优选为2-25μm，最优选为10-15μm。
一种柔性抛光片的制造方法，包括以下步骤：
S1、首先进行A组分的制备，将甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂按照10：0.1：0.5：0.3：0.5的比例置入搅拌容器内进行混合反应。
S2、其次进行B组分的制备，将聚醚多元醇、4-丁二醇、4-二氨基二苯甲烷、水和催化剂按照10：1：1.2：0.5：0.1的比例置入搅拌容器内进行混合反应，使其温度控制在45-55℃，反应时间控制在20-30min。
S3、将制备的A组分与B组分进行混合，控制扩链系数为0.9，其次在300-1450r/min的转速下搅拌30-50s，再将A组分与B组分的混合液浇入模具待用，即完成柔性基层的制备。
S4、其次进行抛光研磨层的制备，将基体磨料、滑石粉和UV树脂胶按照10：2：3的比例混合15-20min，即可完成抛光研磨层的制备。
S5、将柔性基层和抛光研磨层一同置入模具内，待柔性基层和抛光研磨层呈紧贴状态并且初步成型时，初步成型的柔性抛光片再次进行热压固化，其次修整边缘处即可完成柔性抛光片的制备。
聚醚多元醇羟值在60-550mg KOH/g。
催化剂为叔胺类催化剂。
聚醚多元醇为甲苯二异氰酸酯或异佛尔酮二异氰酸酯其中的一种。
柔性基层的密度为0.2-0.8g/cm3。
S1中的反应条件为温度控制在65-70℃，反应时间为35-45min。
S5中，热压温度优选为60-180℃，最优选为100-125℃，且热压时间控制在50-80s，热压的压力控制在35-40MPa。
实施例2：
一种柔性抛光片，该柔性抛光片包括柔性基层和抛光研磨层，抛光研磨层设置在柔性基层表面上。
柔性基层为无纺布或聚氨酯发泡海绵其中的一种。
抛光研磨层由基体磨料、滑石粉和UV树脂胶混合而成。
基体磨料、滑石粉和UV树脂胶的质量比为10：2：3。
基体磨料包括金刚石、碳化硅、氧化硅和氧化铝，金刚石、碳化硅、氧化硅和氧化铝的质量比为10：2：1：2。
UV树脂胶包括光引发剂、聚氨酯丙烯酸脂预聚物、甲基丙烯酸羟乙酯。
基体磨料的粒径优选为0.7-45μm，最优选为10-30μm。
滑石粉的粒径优选为2-25μm，最优选为10-15μm。
一种柔性抛光片的制造方法，包括以下步骤：
首先进行准备无纺布或聚氨酯发泡海绵待用，其次进行抛光研磨层的制备，将基体磨料、滑石粉和UV树脂胶按照10：2：3的比例混合15-20min，即可完成抛光研磨层的制备，将柔性基层和抛光研磨层一同置入模具内，待柔性基层和抛光研磨层呈紧贴状态并且初步成型时，初步成型的柔性抛光片再次进行热压固化，其次修整边缘处即可完成柔性抛光片的制备。
S1中的反应条件为温度控制在65-70℃，反应时间为35-45min。
S5中，热压温度优选为60-180℃，最优选为100-125℃，且热压时间控制在50-80s，热压的压力控制在35-40MPa
实施例3：
一种柔性抛光片，该柔性抛光片包括柔性基层和抛光研磨层，抛光研磨层设置在柔性基层表面上。
柔性基层包括A组分的制备和B组分的制备。
A组分的制备包括以下原料：
甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂。
甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂的质量比为10：0.1：0.5：0.3：0.5。
B组分的制备包括以下原料：
聚醚多元醇、4-丁二醇、4-二氨基二苯甲烷、水和催化剂。
聚醚多元醇、4-丁二醇、4-二氨基二苯甲烷、水和催化剂的质量比为10：1：1.2：0.5：0.1。
抛光研磨层金刚石、碳化硅和氧化铝中的一种或几种。
抛光研磨层的基体磨料的粒径优选为0.7-45μm，最优选为10-30μm。
一种柔性抛光片的制造方法，包括以下步骤：
首先进行A组分的制备，将甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂按照10：0.1：0.5：0.3：0.5的比例置入搅拌容器内进行混合反应，其次进行B组分的制备，将聚醚多元醇、4-丁二醇、4-二氨基二苯甲烷、水和催化剂按照10：1：1.2：0.5：0.1的比例置入搅拌容器内进行混合反应，使其温度控制在45-55℃，反应时间控制在20-30min，将制备的A组分与B组分进行混合，控制扩链系数为0.9，其次在300-1450r/min的转速下搅拌30-50s，再将A组分与B组分的混合液浇入模具待用，即完成柔性基层的制备。
其次进行抛光研磨层的制备，将抛光研磨层的基体磨料进行研磨混合，将柔性基层和抛光研磨层进行搅拌混合，混合完成后一同置入模具内，待柔性基层和抛光研磨层呈紧贴状态并且初步成型时，初步成型的柔性抛光片再次进行热压固化，其次修整边缘处即可完成柔性抛光片的制备。
聚醚多元醇羟值在60-550mg KOH/g。
催化剂为叔胺类催化剂。
聚醚多元醇为甲苯二异氰酸酯或异佛尔酮二异氰酸酯其中的一种。
柔性基层的密度为0.2-0.8g/cm3。
S1中的反应条件为温度控制在65-70℃，反应时间为35-45min。
S5中，热压温度优选为60-180℃，最优选为100-125℃，且热压时间控制在50-80s，热压的压力控制在35-40MPa。
实施例4：
一种柔性抛光片，该柔性抛光片包括柔性基层和抛光研磨层，抛光研磨层设置在柔性基层表面上。
柔性基层包括A组分的制备。
A组分的制备包括以下原料：
甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂。
甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂的质量比为10：0.1：0.5：0.3：0.5。
抛光研磨层由基体磨料、滑石粉和UV树脂胶混合而成。
基体磨料、滑石粉和UV树脂胶的质量比为10：2：3。
基体磨料包括金刚石、碳化硅、氧化硅和氧化铝，金刚石、碳化硅、氧化硅和氧化铝的质量比为10：2：1：2。
UV树脂胶包括光引发剂、聚氨酯丙烯酸脂预聚物、甲基丙烯酸羟乙酯。
基体磨料的粒径优选为0.7-45μm，最优选为10-30μm。
滑石粉的粒径优选为2-25μm，最优选为10-15μm。
一种柔性抛光片的制造方法，包括以下步骤：
首先进行A组分的制备，将甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂按照10：0.1：0.5：0.3：0.5的比例置入搅拌容器内进行混合反应，其次进行抛光研磨层的制备，将基体磨料、滑石粉和UV树脂胶按照10：2：3的比例混合15-20min，即可完成抛光研磨层的制备。
将柔性基层和抛光研磨层一同置入模具内，待柔性基层和抛光研磨层呈紧贴状态并且初步成型时，初步成型的柔性抛光片再次进行热压固化，其次修整边缘处即可完成柔性抛光片的制备。
催化剂为叔胺类催化剂。
S1中的反应条件为温度控制在65-70℃，反应时间为35-45min。
S5中，热压温度优选为60-180℃，最优选为100-125℃，且热压时间控制在50-80s，热压的压力控制在35-40MPa。
根据实施例1-4得出下表：
Figure BDA0003683396040000101
由上表中的对比可知：以钛合金作为抛光目标，且最优为实施例1，抛光效果最佳，通过加入柔性基层而制成弹性的微孔状结构材料的柔性抛光片，使抛光片上具有一定量的泡壁和泡孔，并且通过加入的抛光研磨层使抛光片的不同层面上不断地释放出具有工作面的高强度磨粒，增加抛光片整体强度的同时提高抛光效果；进一步的，柔性基层的设置，使抛光片在压力作用下与钛合金被研磨表面具有极好的贴合度和适当的研磨作用力，在研磨设备的重压下有对钛合金表面不易造成划伤的可能，有效满足对不平表面和边角曲面等复杂形状的面层抛光的目的，因而具有更高的抛光效果和效率。
最后应说明的几点是：虽然，上文中已经用一般性说明及具体实施例对本发明作了详尽的描述，但在本发明的基础上，以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (9)

1.一种柔性抛光片，其特征在于，该柔性抛光片包括柔性基层和抛光研磨层，抛光研磨层设置在柔性基层表面上；
所述柔性基层包括A组分的制备和B组分的制备；
所述A组分的制备包括以下原料：
甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂；
所述B组分的制备包括以下原料：
聚醚多元醇、4-丁二醇、4-二氨基二苯甲烷、水和催化剂；
所述抛光研磨层由基体磨料、滑石粉和UV树脂胶混合而成。
2.根据权利要求1所述的一种柔性抛光片，其特征在于：所述甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂的质量比为10：0.1：0.5：0.3：0.5。
3.根据权利要求1所述的一种柔性抛光片，其特征在于：所述聚醚多元醇、4-丁二醇、4-二氨基二苯甲烷、水和催化剂的质量比为10：1：1.2：0.5：0.1。
4.根据权利要求1所述的一种柔性抛光片，其特征在于：所述基体磨料、滑石粉和UV树脂胶的质量比为10：2：3。
5.根据权利要求1所述的一种柔性抛光片，其特征在于：所述基体磨料包括金刚石、碳化硅、氧化硅和氧化铝，所述金刚石、碳化硅、氧化硅和氧化铝的质量比为10：2：1：2。
6.根据权利要求1所述的一种柔性抛光片，其特征在于：所述UV树脂胶包括光引发剂、聚氨酯丙烯酸脂预聚物、甲基丙烯酸羟乙酯。
7.根据权利要求1所述的一种柔性抛光片，其特征在于：所述基体磨料的粒径优选为0.7-45μm，最优选为10-30μm。
8.根据权利要求1所述的一种柔性抛光片，其特征在于：所述滑石粉的粒径优选为2-25μm，最优选为10-15μm。
9.如权利要求1-8任一项所述的一种柔性抛光片的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、首先进行A组分的制备，将甲苯二异氰酸酯、催化剂、发泡剂、扩链剂和增塑剂按照10：0.1：0.5：0.3：0.5的比例置入搅拌容器内进行混合反应；
S2、其次进行B组分的制备，将聚醚多元醇、4-丁二醇、4-二氨基二苯甲烷、水和催化剂按照10：1：1.2：0.5：0.1的比例置入搅拌容器内进行混合反应，使其温度控制在45-55℃，反应时间控制在20-30min；
S3、将制备的A组分与B组分进行混合，控制扩链系数为0.9，其次在300-1450r/min的转速下搅拌30-50s，再将A组分与B组分的混合液浇入模具待用，即完成柔性基层的制备；
S4、其次进行抛光研磨层的制备，将基体磨料、滑石粉和UV树脂胶按照10：2：3的比例混合15-20min，即可完成抛光研磨层的制备；
S5、将柔性基层和抛光研磨层一同置入模具内，待柔性基层和抛光研磨层呈紧贴状态并且初步成型时，初步成型的柔性抛光片再次进行热压固化，其次修整边缘处即可完成柔性抛光片的制备。
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