CN115072998B - 一种用于瓷制品的自洁釉料及其制备方法 - Google Patents

一种用于瓷制品的自洁釉料及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及瓷制品釉料制备技术领域,且公开了一种用于瓷制品的自洁釉料及其制备方法,包括如下步骤:S1、原料选取:按重量份数计选取石灰石9‑15份、二氧化硅15‑25份、三氧化二铝10‑20份、黏土8‑15份、硼砂6‑12份、氧化锌2‑8份、碳酸钡2‑4份、氧化镁2‑5份;S2、原料研磨混料;S3、煅烧熔化。本发明能有效提高釉的弹性、硬度和光泽,改善坯体和釉料的结合,增加釉的高温流动性,提高釉料的耐磨性,使其具有一定的自洁性,表面光滑不易沾染污渍,添加的氧化镁降低釉料膨胀系数,提高弹性,促进中间层形成,减少釉的碎裂倾向,改善釉料悬浮性,增宽熔融范围。

Description

一种用于瓷制品的自洁釉料及其制备方法
技术领域
本发明涉及瓷制品釉料制备技术领域,具体为一种用于瓷制品的自洁釉料及其制备方法。
背景技术
釉料本质是一种矿物原料,它按照一定的比例调配好之后,磨制成釉浆,用在胚体表面,经过高温煅烧之后,会在瓷制品的表面形成有色或无色的玻璃质薄层,使得瓷制品不仅美观大气,且表面光滑,灰尘和细菌不易停留在釉面的刮花处,便于清洗使用,整体抗腐蚀能力也得到加强。
然而大多釉料在制备过程中,对原料分别进行研磨粉碎,需要进行长时间研磨,生产制备时间长,然后再对原料进行混合搅拌,工序较为繁琐,耗时长,制备效率较低,而且原料易粘附于装置内壁上,容易浪费原料,长时间生产后,原料粘附过多,原料粘接成块,人工难以进行刮除,清理麻烦。
发明内容
(一)解决的技术问题
本发明提供的一种用于瓷制品的自洁釉料及其制备方法,以解决现有技术中的上述不足之处。
(二)技术方案
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种用于瓷制品的自洁釉料的制备方法,包括如下步骤:
S1、原料选取:按重量份数计选取石灰石9-15份、二氧化硅15-25份、三氧化二铝10-20份、黏土8-15份、硼砂6-12份、氧化锌2-8份、碳酸钡2-4份、氧化镁2-5份;
S2、原料研磨混料:将S1中原料加入研磨混料装置中,研磨混料装置对原料进行研磨,并对研磨后的原料进行搅拌混合,制得混合物;
S3、煅烧熔化:将S2中制得的混合物投入熔化炉中煅烧熔化,直至混合物煅烧成为熔块;
S4、釉料存储:将S3中制得的熔块置入水中,淬制并将熔块取出,取出熔块冷却至常温,再将冷却至常温的熔块投至球磨机内进行球磨处理,并对球磨后的熔块粉末收集分装储存。
优选的,所述S2中的研磨混料装置包括研磨箱,所述研磨箱底部设置有驱动机构,所述驱动机构一端延伸至研磨箱内并连接有研磨机构,所述研磨机构包括粉碎机构和研磨辊,所述驱动机构驱动研磨辊转动,所述研磨机构下侧设置有刮壁机构,所述刮壁机构下侧设置有搅拌机构,所述驱动机构驱动刮壁机构沿研磨箱内壁移动并带动搅拌机构转动。
优选的,所述驱动机构包括电机,所述电机输出轴一端固定连接有主动齿轮,所述主动齿轮上侧啮合有正转齿轮,所述正转齿轮内部套设有外轴,所述外轴一端与研磨箱转动连接,所述主动齿轮下侧啮合有反转齿轮,所述反转齿轮内部套设有内轴,所述电机和研磨箱通过固定架固定连接,所述反转齿轮与固定架转动连接。
优选的,所述粉碎机构包括与研磨箱内壁转动连接的外碾块,所述外碾块内部固定连接有固定杆,所述固定杆一侧与内轴固定连接,所述内轴外部活动连接有内碾块,所述内轴外部固定安装有斜盘,所述斜盘一侧抵接有顶杆,所述顶杆一端与内碾块内壁固定连接,所述内碾块与外轴滑动连接。
优选的,所述研磨机构还包括底板,所述底板一侧与外碾块通过连接杆相连接,所述底板与外轴转动连接,所述底板外侧活动连接有套筒,所述套筒上固定安装有筛网,所述套筒上固定安装有限位杆,所述外碾块上开设有滑槽,所述限位杆一端与滑槽滑动连接,所述套筒一侧与研磨箱内壁滑动连接,所述外轴两侧转动连接有转轴,每组所述转轴一端套设有从动齿轮,所述内轴外部套设有斜齿轮,所述斜齿轮两侧分别与从动齿轮相啮合,所述外轴两侧固定连接有定筒,所述定筒一侧与研磨辊活动连接,每组所述定筒外部固定连接有斜环,每组所述斜环两侧设置有滚轮,所述滚轮一侧与研磨辊内壁转动连接,所述研磨辊内壁与转轴滑动连接。
优选的,所述刮壁机构包括固定安装于内轴外部的斜台,所述斜台下侧抵接有摆杆,所述摆杆设置有两组,所述外轴两侧开设有槽口,每组所述摆杆一端与槽口内壁转动连接,每组所述摆杆一侧外部设置有橡胶软板,每组所述摆杆一侧滑动连接有套杆,每组所述套杆内壁通过弹簧与摆杆固定连接,每组所述套杆一端铰接有刮板。
优选的,所述搅拌机构包括搅拌叶,所述搅拌叶一端与外轴固定连接,所述搅拌叶设置有多组。
优选的,所述研磨箱上端设置有进料口,所述研磨箱一侧下端设置有排料口,所述研磨箱的内部底面呈倾斜状,所述研磨箱的外部固定安装有支撑架。
一种用于瓷制品的自洁釉料,所述用于瓷制品的自洁釉料适用于如上述的一种用于瓷制品的自洁釉料的制备方法。
(三)有益效果
与现有技术相比,本发明提供了一种用于瓷制品的自洁釉料及其制备方法,具备以下有益效果:
该用于瓷制品的自洁釉料,通过石灰石9-15份、二氧化硅15-25份、三氧化二铝10-20份、黏土8-15份、硼砂6-12份、氧化锌2-8份、碳酸钡2-4份、氧化镁2-5份,能有效提高釉的弹性、硬度和光泽,改善坯体和釉料的结合,增加釉的高温流动性,提高釉料的耐磨性,使其具有一定的自洁性,表面光滑不易沾染污渍,添加的氧化镁降低釉料膨胀系数,提高弹性,促进中间层形成,减少釉的碎裂倾向,改善釉料悬浮性,增宽熔融范围。
通过驱动机构带动粉碎机构中外碾块与内碾块反向转动,对原料进行碾磨初步粉碎,有效提高研磨效率,研磨机构中研磨辊在沿外轴轴心公转的同时自转,增强研磨辊对原料的研磨效果,同时研磨辊相对转轴轴线往复移动,研磨辊外侧壁对原料进行揉搓,从而有效提升对原料的研磨效果,提高釉料的制备效率,搅拌机构对研磨后的原料进行搅拌,提高原料的混合性,釉料强度分布更加均匀,减少釉料的制备时间,刮壁机构对研磨箱的内壁进行刮动,有效防止原料粘附于研磨箱内壁上,降低后期的维保成本。
附图说明
图1为本发明提出的一种用于瓷制品的自洁釉料的制备方法流程框图;
图2为本发明的研磨混料装置外观示意图;
图3为本发明的研磨混料装置剖视结构示意图;
图4为本发明的研磨混料装置研磨机构剖视结构示意图;
图5为本发明图3中A处放大示意图;
图6为本发明图4中B处放大示意图;
图7为本发明图4中C处放大示意图;
图8为本发明的研磨混料装置刮壁机构结构示意图;
图9为本发明图8中D处放大示意图;
图10为本发明的研磨混料装置内部结构示意图。
图中:1、研磨箱;2、驱动机构;21、电机;22、主动齿轮;23、正转齿轮;24、外轴;25、反转齿轮;26、内轴;3、研磨机构;31、粉碎机构;311、外碾块;312、固定杆;313、内碾块;314、斜盘;315、顶杆;32、研磨辊;33、底板;34、套筒;35、筛网;36、限位杆;37、滑槽;38、转轴;39、从动齿轮;391、斜齿轮;392、定筒;393、斜环;394、滚轮;4、刮壁机构;41、斜台;42、摆杆;43、槽口;44、橡胶软板;45、套杆;46、刮板;5、搅拌机构;51、搅拌叶;6、进料口;7、排料口;8、支撑架。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例一:
请参阅图1-2,一种用于瓷制品的自洁釉料的制备方法,包括如下步骤:
S1、原料选取:按重量份数计选取石灰石9-15份、二氧化硅15-25份、三氧化二铝10-20份、黏土8-15份、硼砂6-12份、氧化锌2-8份、碳酸钡2-4份、氧化镁2-5份;
S2、原料研磨混料:将S1中原料加入研磨混料装置中,研磨混料装置对原料进行研磨,并对研磨后的原料进行搅拌混合,制得混合物;
S3、煅烧熔化:将S2中制得的混合物投入熔化炉中煅烧熔化,直至混合物煅烧成为熔块;
S4、釉料存储:将S3中制得的熔块置入水中,淬制并将熔块取出,取出熔块冷却至常温,再将冷却至常温的熔块投至球磨机内进行球磨处理,并对球磨后的熔块粉末收集分装储存;
一种用于瓷制品的自洁釉料,所述用于瓷制品的自洁釉料适用于如上述的一种用于瓷制品的自洁釉料的制备方法。
实施例二:
请参阅图2-10,本实施例在实施例一的基础上提供了一种技术方案:S2中的研磨混料装置包括研磨箱1,研磨箱1上端设置有进料口6,研磨箱1一侧下端设置有排料口7,研磨箱1的内部底面呈倾斜状,便于将原料排出,研磨箱1的外部固定安装有支撑架8,对研磨箱1进行固定;
研磨箱1底部设置有驱动机构2,驱动机构2一端延伸至研磨箱1内并连接有研磨机构3,驱动机构2包括电机21,电机21输出轴一端固定连接有主动齿轮22,主动齿轮22上侧啮合有正转齿轮23,正转齿轮23内部套设有外轴24,外轴24一端与研磨箱1转动连接,主动齿轮22下侧啮合有反转齿轮25,反转齿轮25内部套设有内轴26,电机21和研磨箱1通过固定架固定连接,将电机21固定,反转齿轮25与固定架转动连接,对反转齿轮25和内轴26进行限位固定;
研磨机构3包括粉碎机构31和研磨辊32,粉碎机构31包括与研磨箱1内壁转动连接的外碾块311,外碾块311内部固定连接有固定杆312,固定杆312一侧与内轴26固定连接,使内轴26带动外碾块311转动,内轴26外部活动连接有内碾块313,内碾块313相对内轴26转动且上下移动,内轴26外部固定安装有斜盘314,斜盘314一侧抵接有顶杆315,顶杆315一端与内碾块313内壁固定连接,斜盘314转动通过顶杆315带动内碾块313上下移动,内碾块313与外轴24滑动连接,使外轴24带动内碾块313转动;
驱动机构2驱动研磨辊32转动,研磨机构3还包括底板33,底板33一侧与外碾块311通过连接杆相连接,使底板33随外碾块311转动,底板33与外轴24转动连接,底板33外侧活动连接有套筒34,底板33相对套筒34转动,套筒34相对底板33上下移动,套筒34上固定安装有筛网35,对原料进行筛分,套筒34上固定安装有限位杆36,外碾块311上开设有滑槽37,限位杆36一端与滑槽37滑动连接,通过限位杆36沿滑槽37滑动带动套筒34上下移动,套筒34一侧与研磨箱1内壁滑动连接,限制套筒34转动,外轴24两侧转动连接有转轴38,每组转轴38一端套设有从动齿轮39,内轴26外部套设有斜齿轮391,斜齿轮391两侧分别与从动齿轮39相啮合,外轴24两侧固定连接有定筒392,定筒392一侧与研磨辊32活动连接,研磨辊32相对定筒392转动且沿定筒392轴向往复移动,每组定筒392外部固定连接有斜环393,每组斜环393两侧设置有滚轮394,滚轮394一侧与研磨辊32内壁转动连接,滚轮394沿斜环393侧面滚动,从而带动研磨辊32轴向移动,研磨辊32内壁与转轴38滑动连接,转轴38带动研磨辊32转动同时,研磨辊32可沿转轴38轴向移动;
研磨机构3下侧设置有刮壁机构4,对研磨箱1内壁进行挂动清理,避免原料粘附于研磨箱1内壁上,刮壁机构4下侧设置有搅拌机构5,搅拌机构5包括搅拌叶51,搅拌叶51一端与外轴24固定连接,搅拌叶51设置有多组,对原料进行搅拌混合;
驱动机构2驱动刮壁机构4沿研磨箱1内壁移动并带动搅拌机构5转动刮壁机构4包括固定安装于内轴26外部的斜台41,斜台41下侧抵接有摆杆42,通过斜台41转动下压摆杆42,摆杆42设置有两组,外轴24两侧开设有槽口43,每组摆杆42一端与槽口43内壁转动连接,每组摆杆42一侧外部设置有橡胶软板44,每组摆杆42一侧滑动连接有套杆45,每组套杆45内壁通过弹簧与摆杆42固定连接,每组套杆45一端铰接有刮板46通过弹簧的弹力使套杆45带动刮板46贴向研磨箱1内壁。
工作原理:启动电机21,从进料口6将原料倒入研磨箱1内,电机21带动主动齿轮22转动,主动齿轮22通过正转齿轮23带动外轴24正向转动,外轴24与内碾块313滑动连接,内碾块313转动,落至内碾块313上的原料,在离心力的作用下,原料分散向下滑落至内碾块313外侧壁与外碾块311内壁之间,主动齿轮22同时带动反转齿轮25反向转动,内轴26通过固定杆312带动外碾块311反向转动,从而外碾块311与内碾块313相配合对原料进行碾磨初步粉碎,同时,内轴26带动斜盘314反向转动,斜盘314转动时带动顶杆315上下运动,从而顶杆315带动内碾块313上下运动,对原料的粉碎研磨效果更好,提高粉碎研磨效率;
原料下落至底板33上,外轴24反转通过转轴38带动研磨辊32公转,外碾块311带动底板33反向转动,研磨辊32对原料进行碾压,内轴26转动带动从动齿轮39转动,从动齿轮39转动带动斜齿轮391转动,进而斜齿轮391带动转轴38转动,转轴38与研磨辊32滑动连接,进而研磨辊32在沿外轴24轴心公转的同时自转,增强研磨辊32对原料的研磨效果,同时,研磨辊32转动带动滚轮394转动,滚轮394沿斜环393滚动,进而研磨辊32相对转轴38轴线往复移动,研磨辊32外侧壁对原料进行揉搓,从而有效提升对原料的研磨效果;
外碾块311反转的同时,限位杆36沿滑槽37滑动,限位杆36带动套筒34沿外碾块311外侧壁做上下往复运动,从而筛网35随套筒34做上下往复运动,当筛网35向下移动时,底板33相对筛网35向上运动,从而原料相对向上运动,原料经筛网35筛分后落至研磨箱1底部,在研磨的同时对原料进行筛分,提升对原料的研磨效率;
原料落至研磨箱1底部,外轴24带动搅拌叶51转动,搅拌叶51对原料进行搅拌,使原料充分混合,同时,外轴24带动摆杆42转动,弹簧的弹力推动套杆45并带动刮板46抵向研磨箱1内壁,从而刮板46对研磨箱1的内壁进行刮动,防止原料粘附于研磨箱1内壁上,同时,内轴26带动斜台41反向转动,斜台41转动时顶动摆杆42向上移动,摆杆42在自身自重和套杆45的自动的影响下,向下转动,橡胶软板44将槽口43封堵,避免原料进入外轴24内,刮板46在随外轴24转动的同时上下移动,进而刮板46的刮动清理范围增大,刮壁清理效果更好;
原料研磨混合后,研磨箱1内部底面设置为斜面,进而可从排料口7将原料排出。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种用于瓷制品的自洁釉料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、原料选取:按重量份数计选取石灰石9-15份、二氧化硅15-25份、三氧化二铝10-20份、黏土8-15份、硼砂6-12份、氧化锌2-8份、碳酸钡2-4份、氧化镁2-5份;
S2、原料研磨混料:将S1中原料加入研磨混料装置中,研磨混料装置对原料进行研磨,并对研磨后的原料进行搅拌混合,制得混合物;
所述研磨混料装置包括研磨箱(1),所述研磨箱(1)底部设置有驱动机构(2),所述驱动机构(2)包括电机(21),所述电机(21)输出轴一端固定连接有主动齿轮(22),所述主动齿轮(22)上侧啮合有正转齿轮(23),所述正转齿轮(23)内部套设有外轴(24),所述外轴(24)一端与研磨箱(1)转动连接,所述主动齿轮(22)下侧啮合有反转齿轮(25),所述反转齿轮(25)内部套设有内轴(26),所述电机(21)和研磨箱(1)通过固定架固定连接,所述反转齿轮(25)与固定架转动连接;
所述驱动机构(2)一端延伸至研磨箱(1)内并连接有研磨机构(3),所述研磨机构(3)包括粉碎机构(31)和研磨辊(32),所述粉碎机构(31)包括与研磨箱(1)内壁转动连接的外碾块(311),所述外碾块(311)内部固定连接有固定杆(312),所述固定杆(312)一侧与内轴(26)固定连接,所述内轴(26)外部活动连接有内碾块(313),所述内轴(26)外部固定安装有斜盘(314),所述斜盘(314)一侧抵接有顶杆(315),所述顶杆(315)一端与内碾块(313)内壁固定连接,所述内碾块(313)与外轴(24)滑动连接,所述驱动机构(2)驱动研磨辊(32)转动;
所述研磨机构(3)还包括底板(33),所述底板(33)一侧与外碾块(311)通过连接杆相连接,所述底板(33)与外轴(24)转动连接,所述底板(33)外侧活动连接有套筒(34),所述套筒(34)上固定安装有筛网(35),所述套筒(34)上固定安装有限位杆(36),所述外碾块(311)上开设有滑槽(37),所述限位杆(36)一端与滑槽(37)滑动连接,所述套筒(34)一侧与研磨箱(1)内壁滑动连接,所述外轴(24)两侧转动连接有转轴(38),每组所述转轴(38)一端套设有从动齿轮(39),所述内轴(26)外部套设有斜齿轮(391),所述斜齿轮(391)两侧分别与从动齿轮(39)相啮合,所述外轴(24)两侧固定连接有定筒(392),所述定筒(392)一侧与研磨辊(32)活动连接,每组所述定筒(392)外部固定连接有斜环(393),每组所述斜环(393)两侧设置有滚轮(394),所述滚轮(394)一侧与研磨辊(32)内壁转动连接,所述研磨辊(32)内壁与转轴(38)滑动连接;
所述研磨机构(3)下侧设置有刮壁机构(4),所述刮壁机构(4)下侧设置有搅拌机构(5),所述驱动机构(2)驱动刮壁机构(4)沿研磨箱(1)内壁移动并带动搅拌机构(5)转动;
S3、煅烧熔化:将S2中制得的混合物投入熔化炉中煅烧熔化,直至混合物煅烧成为熔块;
S4、釉料存储:将S3中制得的熔块置入水中,淬制并将熔块取出,取出熔块冷却至常温,再将冷却至常温的熔块投至球磨机内进行球磨处理,并对球磨后的熔块粉末收集分装储存。
2.根据权利要求1所述的一种用于瓷制品的自洁釉料的制备方法,其特征在于:所述刮壁机构(4)包括固定安装于内轴(26)外部的斜台(41),所述斜台(41)下侧抵接有摆杆(42),所述摆杆(42)设置有两组,所述外轴(24)两侧开设有槽口(43),每组所述摆杆(42)一端与槽口(43)内壁转动连接,每组所述摆杆(42)一侧外部设置有橡胶软板(44),每组所述摆杆(42)一侧滑动连接有套杆(45),每组所述套杆(45)内壁通过弹簧与摆杆(42)固定连接,每组所述套杆(45)一端铰接有刮板(46)。
3.根据权利要求1所述的一种用于瓷制品的自洁釉料的制备方法,其特征在于:所述搅拌机构(5)包括搅拌叶(51),所述搅拌叶(51)一端与外轴(24)固定连接,所述搅拌叶(51)设置有多组。
4.根据权利要求1所述的一种用于瓷制品的自洁釉料的制备方法,其特征在于:所述研磨箱(1)上端设置有进料口(6),所述研磨箱(1)一侧下端设置有排料口(7),所述研磨箱(1)的内部底面呈倾斜状,所述研磨箱(1)的外部固定安装有支撑架(8)。
5.一种用于瓷制品的自洁釉料,其特征在于,所述用于瓷制品的自洁釉料适用于权利要求1-4任意一项所述的一种用于瓷制品的自洁釉料的制备方法。
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