CN115069666B - 一种硅溶胶的制备方法及装置 - Google Patents

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Abstract

本发明属于先进无机非金属材料技术领域,具体的说是一种硅溶胶的制备方法及装置,其中硅溶胶的制备装置包括外筒和内筒;所述内筒的上端呈广口状,内筒侧壁呈筛网状,内筒的下端开放状,且内筒的下端对称设有半圆状的封堵板,封堵板的外边缘转动连接在内筒的下端边缘位置,封堵板的平端边缘中间位置与外筒内底面之间设有开合机构,开合机构用于封堵板的打开和闭合控制;所述内筒侧壁内铺设管体,管体的一端连通外界泵体,管体上设有多个喷头,喷头固接在内筒内侧壁上;所述外筒底部侧壁开设出料窗,出料窗上滑动连接有卸料板;硅原料置于流动的超纯水中清洗,提高硅原料清洗效果。

Description

一种硅溶胶的制备方法及装置
技术领域
本发明属于先进无机非金属材料技术领域,具体的说是一种硅溶胶的制备方法及装置。
背景技术
硅溶胶为纳米级的二氧化硅颗粒在水中或溶剂中的分散液,是用途极为广泛的无机高分子材料;硅溶胶是由无数胶团共同形成的网络结构,因此具有大的比表面积、高吸附性,其特殊的高分散度、高耐火绝热性等优良的性能被广泛应用在精密铸造业,纺织业,催化工业,造纸和涂料工业。
硅溶胶在制备过程中,首先要对颗粒状的硅原料进行清洁,降低后期硅溶胶在投入生产二次加工时,其中的杂质影响产品的品质,或则影响到加工生产设备正常运转。
目前对于硅原料的清洁方式为,将硅原料投入到桶体内,然后在桶体清洁,之后将硅原料连同清洁液一起倾倒过滤网上,将清洁液过滤掉,之后过滤网上留下硅原料,此时的硅原料表面依旧残留有部分杂质,而这些杂质以贴附的方式停留在硅原料表面,使得硅原料清洗不够彻底。
为此,本发明提供一种硅溶胶的制备方法及装置。
发明内容
为了弥补现有技术的不足,解决背景技术中所提出的至少一个技术问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:本发明所述的一种硅溶胶的制备装置,包括外筒和内筒;所述内筒的上端呈广口状,内筒侧壁呈筛网状,内筒的下端呈开放状,且内筒的下端对称设有半圆状的封堵板,封堵板的外边缘转动连接在内筒的下端边缘位置,封堵板的平端边缘中间位置与外筒内底面之间设有开合机构,开合机构用于封堵板的打开和闭合控制;所述内筒侧壁内铺设管体,管体的一端连通外界泵体,管体上设有多个喷头,喷头固接在内筒内侧壁上;所述外筒底部侧壁开设出料窗,出料窗上滑动连接有卸料板;硅溶胶在制备过程中,首先要对颗粒状的硅原料进行清洁,降低后期硅溶胶在投入生产二次加工时,其中的杂质影响产品的品质,或则影响到加工生产设备正常运转,目前对于硅原料的清洁方式为,将硅原料投入到桶体内,然后在桶体清洁,之后将硅原料连同清洁液一起倾倒过滤网上,将清洁液过滤掉,之后过滤网上留下硅原料,此时的硅原料表面依旧残留有部分杂质,而这些杂质以贴附的方式停留在硅原料表面,使得硅原料清洗不够彻底;
将硅原料投入到内筒内,然后外界泵体首先将超纯水注入到管体内,从喷头内喷出,流淌在内筒和外筒内,然后将超声波清洗机的发射端置于内筒和外筒之间的缝隙内,驱动超声波清洗机,然后硅原料在内筒内得到清洗,然后打开出料窗,释放超纯水,然后依次注入盐酸酸溶液和超纯水;在最后注入超纯水时后,打开出料窗,待外筒和内筒内的超纯水释放干净后,在注入超纯水,同时出料窗处于打开状态,此时超纯水对内筒内的硅原料进行冲刷清洁,使得硅原料置于流动的超纯水中清洗,提高硅原料清洗效果,以及流动的超纯水也可以外筒内底面的杂质清洁干净,之后通过吊装设备,上提内筒,内筒上封堵板配合开合机构,封堵板打开,硅原料落入到外筒内底面的斜坡上,沿着出料窗排出。
优选的,所述开合机构包括基块;所述基块对称固接在外筒内底面,基块上转动连接有连接杆的一端,连接杆的另一端插入套管的一端内,套管的另一端转动连接在封堵板的平端边缘中间位置;吊装设备可选用气缸作为升降动力源,气缸的活塞杆固接在内筒的广口边缘位置,上拉内筒,内筒下端的封堵板在套管和连接杆的限制下,封堵板打开,此时内筒内的硅原料流出,沿着外筒内底面斜坡流出;上述硅原料清洗后,不需要将内筒上提取出内筒,倾倒出硅原料,内筒呈筛网状,在外筒内便可对硅原料的倾斜,方便快捷,减少劳动力。
优选的,所述喷头呈圆周阵列安装在内筒内侧壁上,且喷头的喷水方向水平倾斜设置,且所有喷头的喷水方向均朝同一方向设置;因硅原料表面附有杂质,一些杂质附着较为顽固,单靠超声波清洗,难以清洗掉,喷头的喷水方水平倾斜设置,使得在喷水超纯水,或则盐酸溶液时,推动颗粒状的硅原料在内筒内旋转,旋转相互挤压摩擦,有助于将硅原料表面顽固污渍清洗掉,同时硅原料在内筒内旋转,也可以对内筒表面进行摩擦清洁,将内筒表面附着的杂物清洗掉,有助于硅原料的清洁。
优选的,所述喷头的喷水方向倾斜向上设置,倾斜指向内筒的上端口,且内筒的上端口内侧壁上设有环形的挡板,挡板外圈固接在内筒内侧壁上,挡板上表面设置成向内筒中心位置倾斜状态;因硅原料密度大于超纯水或者盐酸溶液的密度,在硅原料投入超纯水或者盐酸溶液中,硅原料沉淀在内筒底部,超纯水或者盐酸溶液喷出时,冲击硅原料上,硅原料依旧停留在内筒底部,硅原料之间相互交错叠摞,使得部分硅原料未能直接触及到均有冲击力的超纯水或者盐酸溶液,清洗效果不佳,为此将喷头的喷水方向倾斜向上设置,倾斜指向内筒的上端口;超纯水或者盐酸溶液喷出时,上推硅原料,使得硅原料悬空在内筒的中部或者上半部内,减小硅原料沉淀的量,有助于对硅原料的清洗。
优选的,每个所述喷头的喷水方向前方设有摆动板,摆动板中间位置通过扭簧转动连接在内筒内侧壁上,且摆动板置于竖直状态,摆动板与喷头靠近的面上开设凹槽,摆动板与喷头远离的面上设有毛刷;超纯水或者盐酸溶液从喷头内排出后,冲击在摆动板上,摆动板抖动,带动其上的毛刷摆动,在硅原料经过毛刷时,毛刷对硅原料表面摩擦清洗,提高硅原料清洗效果,再者摆动板上设置的凹槽,有助于超纯水或者盐酸溶液集中冲击摆动板上,提高摆动板的摆动幅度,增大其摆动面域,使得更对的硅原料得以清洗。
优选的,所述喷头包括外壳体和内堵塞;所述外壳体的一端连通管体,外壳体的另一端喷水眼内开设滑槽,内堵塞的内端通过弹簧滑动连接在滑槽内,内堵塞内端开设深孔,深孔的侧壁上对称开设溢出孔,溢出孔倾斜设置,且倾斜朝上摆动板设置;在将硅原料投入内筒内过程中,部分硅原料的颗粒小于喷头的喷眼,使得硅原料落入到喷眼内,堵塞喷头;为此设置内堵塞;在喷头不使用的情况,喷头的喷眼,也就是滑槽的外槽口,内堵塞的外端填塞封堵住滑槽,防止硅原料落入到喷眼内,在喷头使用的情况,超纯水或者盐酸溶液的液压冲击在深孔内,外推内堵塞,内堵塞的外端凸出滑槽,此时超纯水或者盐酸溶液从溢出孔喷出,冲击在摆动板上,实现硅原料的清洗。
优选的,所述溢出孔内设水滴状的分流板;所述分流板的尖端指向深孔,分流板的凸起部位指向溢出孔喷水方向;分流板的设置,使得超纯水或者盐酸溶液从溢出孔排出时,超纯水或者盐酸溶液被分成多条水流,同时水流以紊乱的状态冲击排出,一部分超纯水或者盐酸溶液冲击在硅原料上,另一部分冲击在摆动板的凹槽内,使得超纯水或者盐酸溶液排出时的冲击效果,充分得到利用,有助于提高硅原料的清洗效果。
优选的,所述连接杆的另一端外侧壁对称设有凸点,凸点嵌入在套管内侧壁上开设的卡槽内;硅原料成颗粒状,同时清洗后的硅原料表面粘附有超纯水,使得硅原料易于粘附在封堵板上,因此设置卡槽与凸点,在内筒上提过程中,封堵板、套管和连接杆逐渐置于同一竖直线上,套管与连接杆之间相互远离,同时凸点依次嵌入在卡槽内,使得套管的振动,同时振动力传递到封堵板上,封堵板振动,有助于硅原料的下落,减少硅原料粘附的量。
一种硅溶胶的制备方法,该方法适用于上述任意一种硅溶胶的制备装置,该制备方法包括以下步骤:
S1:硅圆颗粒物料选用,通过筛网筛选出50-200目的硅圆颗粒物,去除内部的杂物,密封存储备用;
S2:硅圆颗粒物料的清洗,首先将硅圆颗粒物料投入内筒内,之后外界泵体将超纯水注入管体内,从喷头喷处,灌满外筒,然后将超声波清洗机的发射端置于内筒与外筒之间内侧壁上,进行超声波清洗,之后释放超纯水;
S3:之后注入盐酸溶液,进行酸洗,除去硅圆颗粒物料表面的污渍,释放盐酸溶液,接着注入超纯水,进行超声波清洗,释放超纯水,之后再次注入超纯水进行漂洗,同时出料窗处于打开状态,备用;
S4:将清洁后的硅圆颗粒物料与碱性催化剂搅拌混合反应,反应过程中通入直流电,生成硅溶胶。
优选的,所述碱性催化剂的溶质为氢氧化钠和氢氧化钾其中的一种。
本发明的有益效果如下:
1.本发明所述的一种硅溶胶的制备方法及装置,注入超纯水,出料窗处于打开状态,此时超纯水对内筒内的硅原料进行冲刷清洁,使得硅原料置于流动的超纯水中清洗,提高硅原料清洗效果,以及流动的超纯水也可以外筒内底面的杂质清洁干净,之后通过吊装设备,上提内筒,内筒上封堵板配合开合机构,封堵板打开,硅原料落入到外筒内底面的斜坡上,沿着出料窗排出。
2.本发明所述的一种硅溶胶的制备方法及装置,喷头的喷水方水平倾斜设置,使得在喷水超纯水,或则盐酸溶液时,推动颗粒状的硅原料在内筒内旋转,旋转相互挤压摩擦,有助于将硅原料表面顽固污渍清洗掉,同时硅原料在内筒内旋转,也可以对内筒表面进行摩擦清洁,将内筒表面附着的杂物清洗掉,有助于硅原料的清洁。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步说明。
图1是本发明中制备装置的立体图;
图2是本发明中制备装置的剖视图;
图3是本发明中内筒的剖视图;
图4是本发明中内筒的俯视剖视图;
图5是本发明中喷头的剖视图;
图6是本发明中内堵塞的剖视图;
图7是本发明中连接杆与套管配合剖视图;
图8是本发明中硅溶胶的制备方法流程图;
图中:1、外筒;2、内筒;3、封堵板;4、管体;5、喷头;6、出料窗;7、基块;8、连接杆;9、套管;挡10、板;11、摆动板;12、外壳体;13、滑槽;14、内堵塞;15、弹簧;16、深孔;17、溢出孔;18、分流板;19、凸点;20、卡槽。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。
实施例一:
参照图1和图2,一种硅溶胶的制备装置,包括外筒1和内筒2;所述内筒2的上端呈广口状,内筒2侧壁呈筛网状,内筒2的下端呈开放状,且内筒2的下端对称设有半圆状的封堵板3,封堵板3的外边缘转动连接在内筒2的下端边缘位置,封堵板3的平端边缘中间位置与外筒1内底面之间设有开合机构,开合机构用于封堵板3的打开和闭合控制;所述内筒2侧壁内铺设管体4,管体4的一端连通外界泵体,管体4上设有多个喷头5,喷头5固接在内筒2内侧壁上;所述外筒1底部侧壁开设出料窗6,出料窗6上滑动连接有卸料板;硅溶胶为纳米级的二氧化硅颗粒在水中或溶剂中的分散液,是用途极为广泛的无机高分子材料;硅溶胶是由无数胶团共同形成的网络结构,因此具有大的比表面积、高吸附性,其特殊的高分散度、高耐火绝热性等优良的性能被广泛应用在精密铸造业,纺织业,催化工业,造纸和涂料工业;
硅溶胶在制备过程中,首先要对颗粒状的硅原料进行清洁,降低后期硅溶胶在投入生产二次加工时,其中的杂质影响产品的品质,或则影响到加工生产设备正常运转,目前对于硅原料的清洁方式为,将硅原料投入到桶体内,然后在桶体清洁,之后将硅原料连同清洁液一起倾倒过滤网上,将清洁液过滤掉,之后过滤网上留下硅原料,此时的硅原料表面依旧残留有部分杂质,而这些杂质以贴附的方式停留在硅原料表面,使得硅原料清洗不够彻底;
将硅原料投入到内筒2内,然后外界泵体首先将超纯水注入到管体4内,从喷头5内喷出,流淌在内筒2和外筒1内,然后将超声波清洗机的发射端置于内筒2和外筒1之间的缝隙内,驱动超声波清洗机,然后硅原料在内筒2内得到清洗,然后打开出料窗6,释放超纯水,然后依次注入盐酸酸溶液和超纯水;在最后注入超纯水时后,打开出料窗6,待外筒1和内筒2内的超纯水释放干净后,在注入超纯水,同时出料窗6处于打开状态,此时超纯水对内筒2内的硅原料进行冲刷清洁,使得硅原料置于流动的超纯水中清洗,提高硅原料清洗效果,以及流动的超纯水也可以外筒1内底面的杂质清洁干净,之后通过吊装设备,上提内筒2,内筒2上封堵板3配合开合机构,封堵板3打开,硅原料落入到外筒1内底面的斜坡上,沿着出料窗6排出。
参照图3,所述开合机构包括基块7;所述基块7对称固接在外筒1内底面,基块7上转动连接有连接杆8的一端,连接杆8的另一端插入套管9的一端内,套管9的另一端转动连接在封堵板3的平端边缘中间位置;吊装设备可选用气缸作为升降动力源,气缸的活塞杆固接在内筒2的广口边缘位置,上拉内筒2,内筒2下端的封堵板3在套管9和连接杆8的限制下,封堵板3打开,此时内筒2内的硅原料流出,沿着外筒1内底面斜坡流出;上述硅原料清洗后,不需要将内筒2上提取出内筒2,倾倒出硅原料,内筒2呈筛网状,在外筒1内便可对硅原料的倾斜,方便快捷,减少劳动力。
参照图3和图4,所述喷头5呈圆周阵列安装在内筒2内侧壁上,且喷头5的喷水方向水平倾斜设置,且所有喷头5的喷水方向均朝同一方向设置;因硅原料表面附有杂质,一些杂质附着较为顽固,单靠超声波清洗,难以清洗掉,喷头5的喷水方水平倾斜设置,使得在喷水超纯水,或则盐酸溶液时,推动颗粒状的硅原料在内筒2内旋转,旋转相互挤压摩擦,有助于将硅原料表面顽固污渍清洗掉,同时硅原料在内筒2内旋转,也可以对内筒2表面进行摩擦清洁,将内筒2表面附着的杂物清洗掉,有助于硅原料的清洁。
参照图3和图4,所述喷头5的喷水方向倾斜向上设置,倾斜指向内筒2的上端口,且内筒2的上端口内侧壁上设有环形的挡板10,挡板10外圈固接在内筒2内侧壁上,挡板10上表面设置成向内筒2中心位置倾斜状态;因硅原料密度大于超纯水或者盐酸溶液的密度,在硅原料投入超纯水或者盐酸溶液中,硅原料沉淀在内筒2底部,超纯水或者盐酸溶液喷出时,冲击硅原料上,硅原料依旧停留在内筒2底部,硅原料之间相互交错叠摞,使得部分硅原料未能直接触及到均有冲击力的超纯水或者盐酸溶液,清洗效果不佳,为此将喷头5的喷水方向倾斜向上设置,倾斜指向内筒2的上端口;超纯水或者盐酸溶液喷出时,上推硅原料,使得硅原料悬空在内筒2的中部或者上半部内,减小硅原料沉淀的量,有助于对硅原料的清洗;以及挡板10的设置,防止倾斜向上的喷头5,喷出的超纯水或者盐酸溶液喷,喷射到外筒外,污染工作环境。
参照图3,每个所述喷头5的喷水方向前方设有摆动板11,摆动板11中间位置通过扭簧转动连接在内筒2内侧壁上,且摆动板11置于竖直状态,摆动板11与喷头5靠近的面上开设凹槽111,摆动板11与喷头5远离的面上设有毛刷;摆动板11在设置时,摆动板11与喷头5不正对设置,使得摆动板的侧边缘与超纯水或者盐酸溶液喷出的一部分水流接触,还有另一部水流冲击在上硅原料,保证另一部分水流推动硅原料在内筒2中旋转清洗;超纯水或者盐酸溶液从喷头5内排出后,冲击在摆动板11上,摆动板11抖动,带动其上的毛刷摆动,在硅原料经过毛刷时,毛刷对硅原料表面摩擦清洗,提高硅原料清洗效果,再者摆动板11上设置的凹槽111,有助于超纯水或者盐酸溶液集中冲击摆动板11上,提高摆动板11的摆动幅度,增大其摆动面域,使得更对的硅原料得以清洗。
参照图5和图6,所述喷头5包括外壳体12和内堵塞14;所述外壳体12的一端连通管体4,外壳体12的另一端喷水眼内开设滑槽13,内堵塞14的内端通过弹簧15滑动连接在滑槽13内,内堵塞14内端开设深孔16,深孔16的侧壁上对称开设溢出孔17,溢出孔17倾斜设置,且倾斜朝上摆动板11设置;在将硅原料投入内筒2内过程中,部分硅原料的颗粒小于喷头5的喷眼,使得硅原料落入到喷眼内,堵塞喷头5;为此设置内堵塞14;在喷头5不使用的情况,喷头5的喷眼,也就是滑槽13的外槽口,内堵塞14的外端填塞封堵住滑槽13,防止硅原料落入到喷眼内,在喷头5使用的情况,超纯水或者盐酸溶液的液压冲击在深孔16内,外推内堵塞14,内堵塞14的外端凸出滑槽13,此时超纯水或者盐酸溶液从溢出孔17喷出,冲击在摆动板11上,实现硅原料的清洗。
参照图6,所述溢出孔17内设水滴状的分流板18;所述分流板18的尖端指向深孔16,分流板18的凸起部位指向溢出孔17喷水方向;分流板18的设置,使得超纯水或者盐酸溶液从溢出孔17排出时,超纯水或者盐酸溶液被分成多条水流,同时水流以紊乱的状态冲击排出,一部分超纯水或者盐酸溶液冲击在硅原料上,另一部分冲击在摆动板11的凹槽111内,使得超纯水或者盐酸溶液排出时的冲击效果,充分得到利用,有助于提高硅原料的清洗效果。
实施例二:
参照图7,对比实施例一,作为本发明的另一种实施方式,其中所述连接杆8的另一端外侧壁对称设有凸点19,凸点19嵌入在套管9内侧壁上开设的卡槽20内;硅原料成颗粒状,同时清洗后的硅原料表面粘附有超纯水,使得硅原料易于粘附在封堵板3上,因此设置卡槽20与凸点19,在内筒2上提过程中,封堵板3、套管9和连接杆8逐渐置于同一竖直线上,套管9与连接杆8之间相互远离,同时凸点19依次嵌入在卡槽20内,使得套管9的振动,同时振动力传递到封堵板3上,封堵板3振动,有助于硅原料的下落,减少硅原料粘附的量。
参照图8,一种硅溶胶的制备方法,该方法适用于上述任意一种硅溶胶的制备装置,该制备方法包括以下步骤:
S1:硅圆颗粒物料选用,通过筛网筛选出50-200目的硅圆颗粒物,去除内部的杂物,密封存储备用;
S2:硅圆颗粒物料的清洗,首先将硅圆颗粒物料投入内筒2内,之后外界泵体将超纯水注入管体4内,从喷头5喷处,灌满外筒1,然后将超声波清洗机的发射端置于内筒2与外筒1之间内侧壁上,进行超声波清洗,之后释放超纯水;
S3:之后注入盐酸溶液,进行酸洗,除去硅圆颗粒物料表面的污渍,释放盐酸溶液,接着注入超纯水,进行超声波清洗,释放超纯水,之后再次注入超纯水进行漂洗,同时出料窗6处于打开状态,备用;
S4:将清洁后的硅圆颗粒物料与碱性催化剂搅拌混合反应,反应过程中通入直流电,生成硅溶胶。
所述碱性催化剂的溶质为氢氧化钠和氢氧化钾其中的一种。
工作原理:将硅原料投入到内筒2内,然后外界泵体首先将超纯水注入到管体4内,从喷头5内喷出,流淌在内筒2和外筒1内,然后将超声波清洗机的发射端置于内筒2和外筒1之间的缝隙内,驱动超声波清洗机,然后硅原料在内筒2内得到清洗,然后打开出料窗6,释放超纯水,然后依次注入盐酸酸溶液和超纯水;在最后注入超纯水时后,打开出料窗6,待外筒1和内筒2内的超纯水释放干净后,在注入超纯水,同时出料窗6处于打开状态,此时超纯水对内筒2内的硅原料进行冲刷清洁,使得硅原料置于流动的超纯水中清洗,提高硅原料清洗效果,以及流动的超纯水也可以外筒1内底面的杂质清洁干净,之后通过吊装设备,上提内筒2,内筒2上封堵板3配合开合机构,封堵板3打开,硅原料落入到外筒1内底面的斜坡上,沿着出料窗6排出;
吊装设备可选用气缸作为升降动力源,气缸的活塞杆固接在内筒2的广口边缘位置,上拉内筒2,内筒2下端的封堵板3在套管9和连接杆8的限制下,封堵板3打开,此时内筒2内的硅原料流出,沿着外筒1内底面斜坡流出;上述硅原料清洗后,不需要将内筒2上提取出内筒2,倾倒出硅原料,内筒2呈筛网状,在外筒1内便可对硅原料的倾斜,方便快捷,减少劳动力;
因硅原料表面附有杂质,一些杂质附着较为顽固,单靠超声波清洗,难以清洗掉,喷头5的喷水方水平倾斜设置,使得在喷水超纯水,或则盐酸溶液时,推动颗粒状的硅原料在内筒2内旋转,旋转相互挤压摩擦,有助于将硅原料表面顽固污渍清洗掉,同时硅原料在内筒2内旋转,也可以对内筒2表面进行摩擦清洁,将内筒2表面附着的杂物清洗掉,有助于硅原料的清洁;
因硅原料密度大于超纯水或者盐酸溶液的密度,在硅原料投入超纯水或者盐酸溶液中,硅原料沉淀在内筒2底部,超纯水或者盐酸溶液喷出时,冲击硅原料上,硅原料依旧停留在内筒2底部,硅原料之间相互交错叠摞,使得部分硅原料未能直接触及到均有冲击力的超纯水或者盐酸溶液,清洗效果不佳,为此将喷头5的喷水方向倾斜向上设置,倾斜指向内筒2的上端口;超纯水或者盐酸溶液喷出时,上推硅原料,使得硅原料悬空在内筒2的中部或者上半部内,减小硅原料沉淀的量,有助于对硅原料的清洗;
超纯水或者盐酸溶液从喷头5内排出后,冲击在摆动板11上,摆动板11抖动,带动其上的毛刷摆动,在硅原料经过毛刷时,毛刷对硅原料表面摩擦清洗,提高硅原料清洗效果,再者摆动板11上设置的凹槽111,有助于超纯水或者盐酸溶液集中冲击摆动板11上,提高摆动板11的摆动幅度,增大其摆动面域,使得更对的硅原料得以清洗;
在将硅原料投入内筒2内过程中,部分硅原料的颗粒小于喷头5的喷眼,使得硅原料落入到喷眼内,堵塞喷头5;为此设置内堵塞14;在喷头5不使用的情况,喷头5的喷眼,也就是滑槽13的外槽口,内堵塞14的外端填塞封堵住滑槽13,防止硅原料落入到喷眼内,在喷头5使用的情况,超纯水或者盐酸溶液的液压冲击在深孔16内,外推内堵塞14,内堵塞14的外端凸出滑槽13,此时超纯水或者盐酸溶液从溢出孔17喷出,冲击在摆动板11上,实现硅原料的清洗;
分流板18的设置,使得超纯水或者盐酸溶液从溢出孔17排出时,超纯水或者盐酸溶液被分成多条水流,同时水流以紊乱的状态冲击排出,一部分超纯水或者盐酸溶液冲击在硅原料上,另一部分冲击在摆动板11的凹槽111内,使得超纯水或者盐酸溶液排出时的冲击效果,充分得到利用,有助于提高硅原料的清洗效果;
硅原料成颗粒状,同时清洗后的硅原料表面粘附有超纯水,使得硅原料易于粘附在封堵板3上,因此设置卡槽20与凸点19,在内筒2上提过程中,封堵板3、套管9和连接杆8逐渐置于同一竖直线上,套管9与连接杆8之间相互远离,同时凸点19依次嵌入在卡槽20内,使得套管9的振动,同时振动力传递到封堵板3上,封堵板3振动,有助于硅原料的下落,减少硅原料粘附的量。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明保护范围的限制。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (6)

1.一种硅溶胶的制备装置,其特征在于:包括外筒(1)和内筒(2);所述内筒(2)的上端呈广口状,内筒(2)侧壁呈筛网状,内筒(2)的下端呈开放状,且内筒(2)的下端对称设有半圆状的封堵板(3),封堵板(3)的外边缘转动连接在内筒(2)的下端边缘位置,封堵板(3)的平端边缘中间位置与外筒(1)内底面之间设有开合机构,开合机构用于封堵板(3)的打开和闭合控制;所述内筒(2)侧壁内铺设管体(4),管体(4)的一端连通外界泵体,管体(4)上设有多个喷头(5),喷头(5)固接在内筒(2)内侧壁上;所述外筒(1)底部侧壁开设出料窗(6),出料窗(6)上滑动连接有卸料板;
所述开合机构包括基块(7);所述基块(7)对称固接在外筒(1)内底面,基块(7)上转动连接有连接杆(8)的一端,连接杆(8)的另一端插入套管(9)的一端内,套管(9)的另一端转动连接在封堵板(3)的平端边缘中间位置;
所述喷头(5)呈圆周阵列安装在内筒(2)内侧壁上,且喷头(5)的喷水方向水平倾斜设置,且所有喷头(5)的喷水方向均沿内筒(2)内壁呈逆时针方向设置;
所述喷头(5)的喷水方向倾斜向上设置,倾斜指向内筒(2)的上端口,且内筒(2)的上端口内侧壁上设有环形的挡板(10),挡板(10)外圈固接在内筒(2)内侧壁上,挡板(10)上表面设置成向内筒(2)中心位置倾斜状态;
每个所述喷头(5)的喷水方向前方设有摆动板(11),摆动板(11)中间位置通过扭簧转动连接在内筒(2)内侧壁上,且摆动板(11)置于竖直状态,摆动板(11)与喷头(5)靠近的面上开设凹槽(111),摆动板(11)与喷头(5)远离的面上设有毛刷。
2.根据权利要求1所述的一种硅溶胶的制备装置,其特征在于:所述喷头(5)包括外壳体(12)和内堵塞(14);所述外壳体(12)的一端连通管体(4),外壳体(12)的另一端喷水眼内开设滑槽(13),内堵塞(14)的内端通过弹簧(15)滑动连接在滑槽(13)内,内堵塞(14)内端开设深孔(16),深孔(16)的侧壁上对称开设溢出孔(17),溢出孔(17)倾斜设置,且倾斜朝上摆动板(11)设置。
3.根据权利要求2所述的一种硅溶胶的制备装置,其特征在于:所述溢出孔(17)内设水滴状的分流板(18);所述分流板(18)的尖端指向深孔(16),分流板(18)的凸起部位指向溢出孔(17)喷水方向。
4.根据权利要求1所述的一种硅溶胶的制备装置,其特征在于:所述连接杆(8)的另一端外侧壁对称设有凸点(19),凸点(19)嵌入在套管(9)内侧壁上开设的卡槽(20)内。
5.一种硅溶胶的制备方法,该方法适用于权利要求1-3中任意一种硅溶胶的制备装置,其特征在于:该制备方法包括以下步骤:
S1:硅圆颗粒物料选用,通过筛网筛选出50-200目的硅圆颗粒物,去除内部的杂物,密封存储备用;
S2:硅圆颗粒物料的清洗,首先将硅圆颗粒物料投入内筒(2)内,之后外界泵体将超纯水注入管体(4)内,从喷头(5)喷处,灌满外筒(1),然后将超声波清洗机的发射端置于内筒(2)与外筒(1)之间内侧壁上,进行超声波清洗,之后释放超纯水;
S3:之后注入盐酸溶液,进行酸洗,除去硅圆颗粒物料表面的污渍,释放盐酸溶液,接着注入超纯水,进行超声波清洗,释放超纯水,之后再次注入超纯水进行漂洗,同时出料窗(6)处于打开状态,备用;
S4:将清洁后的硅圆颗粒物料与碱性催化剂搅拌混合反应,反应过程中通入直流电,生成硅溶胶。
6.根据权利要求5所述的一种硅溶胶的制备方法,其特征在于:所述碱性催化剂的溶质为氢氧化钠和氢氧化钾其中的一种。
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