CN115061298B - 显示面板、显示面板的制备方法及显示器 - Google Patents

显示面板、显示面板的制备方法及显示器 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种显示面板、显示面板的制备方法及显示器，涉及显示面板术领域。所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及设置在所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶盒，所述彩膜基板背向所述阵列基板的一侧上设有氧化铟锡层；所述氧化铟锡层划分为多个区域，各区域内的氧化铟锡层的厚度随对应的液晶盒的厚度不同而不同；在各区域所对应的所述液晶盒施加有相同的驱动电压的情况下，从所述阵列基板发出的光线透过所述氧化铟锡层后，在不同区域上的光线透过率相同。本发明利用光线穿过氧化铟锡层的透过率差异对光线穿过液晶盒的透过率差异进行补偿，使三色光透过液晶盒和氧化铟锡层后的透过率相同，提高了显示面板的显示效果。

Description

显示面板、显示面板的制备方法及显示器
技术领域
本发明涉及显示面板术领域，尤其涉及一种显示面板、显示面板的制备方法及显示器。
背景技术
显示面板由相对的阵列基板和彩膜基板组成，阵列基板之间存在液晶盒，以为位于边缘的封框胶。目前，液晶显示面板由于液晶盒内地形空间不一，易导致液晶盒厚不均，出现显示不均，影响显示面板显示效果及品质。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种显示面板、显示面板的制备方法及显示器，旨在解决现有技术中液晶盒厚不均，导致显示效果差的技术问题。
为实现上述目的，本发明提出一种显示面板，所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及设置在所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶盒，所述彩膜基板背向所述阵列基板的一侧上设有氧化铟锡层；
所述氧化铟锡层划分为多个区域，各区域内的氧化铟锡层的厚度随所对应的液晶盒的厚度不同而不同；在各区域所对应的所述液晶盒施加有相同的驱动电压的情况下，从所述阵列基板发出的光线透过所述氧化铟锡层后，在不同区域上的光线透过率相同。
可选的，所述氧化铟锡层中厚度越大的区域所对应的所述液晶盒的厚度越小。
可选的，所述液晶盒的厚度每相差0.1微米，则对应区域内的所述氧化铟锡层的厚度相差20埃米。
可选的，所述液晶盒的厚度范围为2.0微米~4.0微米，所述氧化铟锡层的厚度范围为150埃米~400埃米。
为实现上述目的，本发明还提出一种显示面板的制备方法，所述制备方法包括：
将阵列基板与彩膜基板对盒成显示面板；
利用盒厚测试设备检测所述显示面板中液晶盒的盒厚；
利用数据分析设备根据所述盒厚测试设备发送的盒厚数据确定氧化铟锡层的补偿值；
控制氧化铟锡成膜设备根据所述数据分析设备发送的补偿值在所述显示面板上形成氧化铟锡层，所述氧化铟锡层中各区域的膜厚随所对应的所述盒厚不同而不同，使在所述液晶盒施加相同的驱动电压的情况下，所述显示面板上各区域的光线透过率相同。
可选的，所述利用数据分析设备根据所述盒厚测试设备发送的盒厚数据确定氧化铟锡层的补偿值，包括：
利用数据分析设备根据所述盒厚测试设备发送的盒厚数据形成盒厚数据平面示意图，所述盒厚数据平面示意图依据不同的盒厚划分为多个区域；
利用数据分析设备根据标准盒厚确定所述盒厚数据平面示意图中各区域的盒厚偏差值；
利用数据分析设备根据预设映射关系确定各盒厚偏差值确定对应的氧化铟锡层的补偿值，所述映射关系包括盒厚偏差值与补偿值之间的对应关系。
可选的，所述盒厚偏差值与补偿值之间的对应关系为每0.1微米的盒厚偏差值对应20埃米的补偿值。
可选的，所述利用盒厚测试设备检测所述显示面板中液晶盒的盒厚，包括：
利用光学探头在所述显示面板上的各区域发送光线；
利用盒厚测试设备接收所述显示面板反射的光线，并基于光程差原理确定所述液晶盒在不同区域的盒厚。
可选的，所述将阵列基板与彩膜基板对盒成显示面板之前，还包括：
提供一彩膜基板衬底；
在所述彩膜基板衬底上形成色阻层和遮光层；
在所述色阻层上涂敷配向膜；
在所述配向膜上涂敷封框胶，形成彩膜基板。
为实现上述目的，本发明还提出一种显示器，所述显示器包括如上述的显示面板。
本发明中，所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及设置在所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶盒，所述彩膜基板背向所述阵列基板的一侧上设有氧化铟锡层；所述氧化铟锡层划分为多个区域，各区域内的氧化铟锡层的厚度随对应的液晶盒的厚度不同而不同；在各区域所对应的所述液晶盒施加有相同的驱动电压的情况下，从所述阵列基板发出的光线透过所述氧化铟锡层后，在不同区域上的光线透过率相同。本发明利用光线穿过氧化铟锡层的透过率差异对光线穿过液晶盒的透过率差异进行补偿，使三色光透过液晶盒和氧化铟锡层后的透过率相同，提高了显示面板的显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明显示面板一实施方式的结构示意图；
图2为液晶盒厚与三色光透过率的关系图；
图3为氧化铟锡膜厚与三色光透过率的关系图；
图4为本发明显示面板的制备方法一实施方式的流程示意图；
图5为本发明盒厚检测系统一实施方式的结构示意图。
附图标号说明：
标号 名称 标号 名称
10 阵列基板 70 测试探头
20 彩膜基板 80 载台
30 液晶盒 90 盒厚测试设备
40 氧化铟锡层 100 盒厚数据分析设备
50 封框胶 110 氧化铟锡成膜设备
60 显示面板
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明，本发明实施例中所有方向性指示（诸如上、下、左、右、前、后……）仅用于解释在某一特定姿态（如附图所示）下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
另外，在本发明中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。
实施例一
参照图1，图1为本发明显示面板一实施方式的结构示意图。本发明提出显示面板的一实施例。
如图1所示，在本实施例中，所述显示面板包括相对设置的阵列基板10和彩膜基板20，以及设置在所述阵列基板10和所述彩膜基板20之间的液晶盒30，所述彩膜基板20背向所述阵列基板10的一侧上设有氧化铟锡层40。所述氧化铟锡40层划分为多个区域，各区域内的氧化铟锡层40的厚度随对应的液晶盒30的厚度不同而不同；在各区域所对应的所述液晶盒30施加有相同的驱动电压的情况下，从所述阵列基板10发出的光线透过所述氧化铟锡层40后，在不同区域上的光线透过率相同。
阵列基板10上设有扫描线、数据线、像素电极和薄膜晶体管。薄膜晶体管分别与扫描线、数据线和像素电极连接，扫描驱动电路与扫描线连接，数据驱动电路与数据线连接。液晶盒30内部设置液晶分子，其两端分别为阵列基板10上的像素电极和彩膜基板20上的公共电极。阵列基板10和彩膜基板20的边缘位置具有封框胶50，封框胶50将液晶分子与外部进行隔离，对液晶分子起到保护作用。扫描驱动电路可以向扫描线上传输扫描信号，以控制对应的薄膜晶体管的开关。数据驱动电路可以向数据线上传输数据信号，在对应的薄膜晶体管打开时，为对应的像素电极施加相应的电压，从而为液晶盒30两端施加设定的电压，使液晶盒30内的液晶分子发生偏转。
显示面板在后续的组装中，会在阵列基板10的一侧安装背光模组，背光模组发出的光先经过阵列基板10，再经过液晶盒30，再从彩膜基板20射出。液晶盒30的透光率同时受到内部液晶分子的偏转角度和厚度决定，其中，液晶分子的偏转角度由数据线上的数据信号决定，厚度由制程决定。实际上，由于液晶盒30内地形空间不一，在制成的显示面板中液晶盒30并不相同，也就导致即使各液晶盒30施加相同电压后，其实际的光线透过率并不相同，从而导致显示不均。
参照图2，图2为液晶盒厚与三色光透过率的关系图。图2所示，在液晶盒厚较小时，三色光的透过率相差较大。随着液晶盒厚的增加，蓝色光的透过率逐渐下降；绿色光的透过率稍有提高，再液晶盒厚达到一定厚度后基本保持不变；红色光随着液晶盒厚的增加，透过率也随之提高。随之液晶盒厚的增加，三种颜色的光的透过率逐渐接近。
在本实施方式中，为消除液晶盒30由盒厚导致的三色光的透过率偏差，通过调整彩膜基板20上的氧化铟锡层40的厚度进行补偿。参照图3，图3为氧化铟锡膜厚与三色光透过率的关系图。如图3所示，氧化铟锡膜厚较薄时，蓝色光的透过率最高；氧化铟锡膜厚适中时，绿色光的透过率最高；氧化铟锡膜厚较厚时，红色光的透过率最高。因此，可以根据不同盒厚的液晶盒30的透过率选择相应厚度的氧化铟锡层40的膜厚，从而补偿透过率的差异。
根据图2、图3可知，液晶盒30的盒厚较小时，红光透过率较低；而氧化铟锡层40的厚度越厚，则红光透过率越高；故液晶盒30的盒厚越小，则对应的氧化铟锡层40的厚度越大。液晶盒30的盒厚较大时，蓝光透过率较低；而氧化铟锡层40的厚度较小，蓝光透过率越高；故液晶盒30的盒厚越大，则对应的氧化铟锡层40的厚度越小。
作为一种示例，所述液晶盒30的厚度每相差0.1微米，则对应区域内的所述氧化铟锡层40的厚度相差20埃米。假设显示面板分为A、B和C三个区域，区域A的液晶盒30的厚度小于区域B的液晶盒30的厚度，区域B的液晶盒30的厚度小于区域C的液晶盒30的厚度。则区域A的氧化铟锡层40的厚度大于区域B的氧化铟锡层40的厚度，区域B的氧化铟锡层40的厚度大于区域C的氧化铟锡层40的厚度。将区域B的液晶盒30的厚度作为标准盒厚，为3微米，区域B的氧化铟锡层40的厚度作为标准膜厚，为200埃米；若区域A的液晶盒30的厚度为2.9微米，则区域A的氧化铟锡层40的厚度为220埃米；若区域C的液晶盒30的厚度为3.3微米，则区域C的氧化铟锡层40的厚度为140埃米，从阵列基板10发出的光线穿过的液晶和30和氧化铟锡层40后，区域A、B和C的光线透过率相同。同时，通过对标准盒厚和标准膜厚的合理设置，还可以降低给区域内的三色光的透过率差异。
另外，所述液晶盒30的厚度范围为2.0微米~4.0微米，所述氧化铟锡层40的厚度范围为150埃米~400埃米。若显示面板为IPS（In-Plane Switching，横向电场效应显示技术）型显示面板，上述厚度范围的液晶盒30和氧化铟锡层40具有较好的显示效果。
在本实施方式中，彩膜基板20背向所述阵列基板10的一侧上的氧化铟锡层40划分为多个区域，各区域内的氧化铟锡层40的厚度随对应的液晶盒30的厚度不同而不同；在各区域所对应的所述液晶盒30施加有相同的驱动电压的情况下，从所述阵列基板10发出的光线透过所述氧化铟锡层40后，在不同区域上的光线透过率相同，从而利用光线穿过氧化铟锡层40的透过率差异对光线穿过液晶盒30的透过率差异进行补偿，使三色光透过液晶盒30和氧化铟锡层40后的透过率相同，提高了显示面板的显示效果。
实施例二
参照图4，图4为本发明显示面板的制备方法一实施方式的流程示意图。为实现上述目的，本发明提出显示面板的制备方法的一实施例。
在本实施方式中，所述制备方法包括：
步骤S10：将阵列基板与彩膜基板对盒成显示面板。
通常而言，在将阵列基板与彩膜基板进行对盒之前，阵列基板和彩膜基板均已完成基本的制造。即在阵列基板上已经形成了扫描线、数据线和薄膜晶体管等。具体的，阵列基板的制造过程可以为：线提供一阵列基板；再通过成膜、曝光、显影等工序制作出金属层、绝缘层等组件。其中各金属层中包含有扫描线走线、数据线走线和薄膜晶体管走线；然后进行配向膜涂敷及处理；最后进行液晶涂敷，形成对盒前的阵列基板。
彩膜基板的制作过程可以为：提供一彩膜基板衬底；在彩膜基板衬底上形成色阻层和遮光层，同样该过程可以通过成膜、曝光、显影等工序进行制作；在色阻层上涂敷配向膜；在配向膜上涂敷封框胶，形成彩膜基板。相比于传统的彩膜基板制程，本实施方式在对盒前未在彩膜基板上形成氧化铟锡层，这是因为氧化铟锡层的厚度需要参考液晶盒的厚度进行制作。传统工艺中，现在彩膜基板上形成氧化铟锡层，然后进行对盒，这种方式不便于后续形成厚度不同的氧化铟锡层。
由于阵列基板上滴注有液晶分子，封框胶涂敷在彩膜基板上。为了让液晶分子保持水平稳定，因此对盒时阵列基板在下端，彩膜基板在上端。下端的阵列基板可以采用负压吸附。对盒工序的环境通常为真空环境，在完成真空对位后，在放入大气，在重力作用下两片基板自然贴合。
步骤S20：利用盒厚测试设备检测所述显示面板中液晶盒的盒厚。
液晶盒的透光率同时受到内部液晶分子的偏转角度和厚度决定，其中，液晶分子的偏转角度由数据线上的数据信号决定，厚度由制程决定。实际上，由于液晶盒内地形空间不一，在制成的显示面板中液晶盒并不相同，也就导致即使各液晶盒施加相同电压后，其实际的光线透过率并不相同，从而导致显示不均。
参照图2，如图2所示，在液晶盒厚较小时，三色光的透过率相差较大。随着液晶盒厚的增加，蓝色光的透过率逐渐下降；绿色光的透过率稍有提高，再液晶盒厚达到一定厚度后基本保持不变；红色光随着液晶盒厚的增加，透过率也随之提高。随之液晶盒厚的增加，三种颜色的光的透过率逐渐接近。因此为确定液晶盒的光线透过率，需要对液晶盒的盒厚进行检测。
基于液晶盒厚与光线透过率之间的关系，盒厚测试设备可以利用光线对显示面板上各区域内的液晶盒的盒厚进行测量。在具体实现时，可以利用光学探头在所述显示面板上的各区域发送光线；利用盒厚测试设备接收所述显示面板反射的光线，并基于光程差原理确定所述液晶盒在不同区域的盒厚。
参照图5，图5为本发明盒厚检测系统一实施方式的结构示意图。如图5所示，盒厚检测系统包括测试探头70、载台80、盒厚测试设备90和盒厚数据分析设备100。显示面板60放置在载台80上进行测试。测试探头70为光学探头，用于发射捕捉显示面板显示的光线。盒厚测试设备90通过光学探头发射光线并捕捉反射回的光线，根据光程差原理测得显示面板不同区域的液晶盒厚。
步骤S30：利用数据分析设备根据所述盒厚测试设备发送的盒厚数据确定氧化铟锡层的补偿值。
在本实施方式中，为消除液晶盒由盒厚导致的三色光的透过率偏差，通过调整彩膜基板上的氧化铟锡层的厚度进行补偿。如图3所示，氧化铟锡膜厚较薄时，蓝色光的透过率最高；氧化铟锡膜厚适中时，绿色光的透过率最高；氧化铟锡膜厚较厚时，红色光的透过率最高。因此可以根据不同盒厚的液晶盒的透过率选择相应厚度的氧化铟锡层的膜厚，从而补偿透过率的差异。
同时为便于氧化铟锡成膜设备110形成不同膜厚的氧化铟锡层，利用数据分析设备为氧化铟锡成膜设备110提供显示面板上各区域的氧化铟锡层的补偿值，进而将原本均匀厚度的氧化铟锡层制成高度不齐的氧化铟锡层。
在具体实现时，步骤S30可以包括：利用数据分析设备根据盒厚测试设备发送的盒厚数据形成盒厚数据平面示意图，盒厚数据平面示意图依据不同的盒厚划分为多个区域；利用数据分析设备根据标准盒厚确定盒厚数据平面示意图中各区域的盒厚偏差值；利用数据分析设备根据预设映射关系确定各盒厚偏差值确定对应的氧化铟锡层的补偿值，映射关系包括盒厚偏差值与补偿值之间的对应关系。
如图5所示，盒厚测试设备90将盒厚数据发送至盒厚数据分析设备100，盒厚数据分析设备100对盒厚数据分析得到盒厚数据平面示意图，并通过分析得到不同液晶盒厚区域的氧化铟锡层膜厚补偿值，通过网络联动将该补偿值以及该补偿值所对应的区域的位置数据传递给氧化铟锡成膜设备110进行成膜。
根据图2、图3可知，液晶盒的盒厚较小时，红光透过率较低；而氧化铟锡层的厚度越厚，则红光透过率越高；故液晶盒的盒厚越小，则对应的氧化铟锡层的厚度越大。液晶盒的盒厚较大时，蓝光透过率较低；而氧化铟锡层的厚度较小，蓝光透过率越高；故液晶盒的盒厚越大，则对应的氧化铟锡层的厚度越小。因此通过设定标准盒厚和标准膜厚可以调节光线的透过率处于较佳的范围。
作为一种示例，所述盒厚偏差值与补偿值之间的对应关系为每0.1微米的盒厚偏差值对应20埃米的补偿值假设显示面板分为A、B和C三个区域，区域A的液晶盒30的厚度小于区域B的液晶盒30的厚度，区域B的液晶盒30的厚度小于区域C的液晶盒30的厚度。则区域A的氧化铟锡层40的厚度大于区域B的氧化铟锡层40的厚度，区域B的氧化铟锡层40的厚度大于区域C的氧化铟锡层40的厚度。将区域B的液晶盒30的厚度作为标准盒厚，为3微米，区域B的氧化铟锡层40的厚度作为标准膜厚，为200埃米；若区域A的液晶盒30的厚度为2.9微米，则差值0.1微米，倍数为1，则区域A的氧化铟锡层40的厚度为200+（20*1）=220埃米；若区域C的液晶盒30的厚度为3.3微米，则差值-0.3微米，倍数为-3，则区域C的氧化铟锡层40的厚度为200+（20*-3）=140埃米。从阵列基板10发出的光线穿过的液晶和30和氧化铟锡层40后，区域A、B和C的光线透过率相同。同时，通过对标准盒厚和标准膜厚的合理设置，还可以降低给区域内的三色光的透过率差异。
步骤S40：控制氧化铟锡成膜设备根据所述数据分析设备发送的补偿值在所述显示面板上形成氧化铟锡层，所述氧化铟锡层中各区域的膜厚随所对应的所述盒厚不同而不同，使在所述液晶盒施加相同的驱动电压的情况下，所述显示面板上各区域的光线透过率相同。
氧化铟锡层可以通过溅镀工艺进行制作，氧化铟锡成膜设备110可以根据盒厚数据分析设备100传输的补偿数据，对各区域的氧化铟锡层的厚度进行补偿。氧化铟锡成膜设备110中存储有标准膜厚，在对各区域进行成膜时，将标准膜厚与补偿值进行计算，得到实际膜厚，然后在彩膜基板背面形成实际膜厚的氧化铟锡层。在氧化铟锡层形成之后，显示面板还需进行外观/画质检测。根据检测结构还可以进一步对前述液晶盒的差值与氧化铟锡层的补偿厚度之间的对应值进行修正。其中，氧化铟锡成膜设备110的结构与原理已有成熟技术，本实施方式在此不再赘述。
在本实施方式中，通过将阵列基板与彩膜基板对盒成显示面板；利用盒厚测试设备检测所述显示面板中液晶盒的盒厚；利用数据分析设备根据所述盒厚测试设备发送的盒厚数据确定氧化铟锡层的补偿值；控制氧化铟锡成膜设备根据所述数据分析设备发送的补偿值在所述显示面板上形成氧化铟锡层，所述氧化铟锡层中各区域的膜厚随所对应的所述盒厚不同而不同，使在所述液晶盒施加相同的驱动电压的情况下，所述显示面板上各区域的光线透过率相同；从而制成氧化铟锡层厚度随液晶盒厚度变化的显示面板，利用光线穿过氧化铟锡层的透过率差异对光线穿过液晶盒的透过率差异进行补偿，使三色光透过液晶盒和氧化铟锡层后的透过率相同，提高了显示面板的显示效果。
为实现上述目的，本发明还提出一种显示器，所述显示器包括如上述的显示面板。该显示面板的具体结构参照上述实施例，由于本显示器可以采用上述所有实施例的技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的有益效果，在此不再一一赘述。
以上仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种显示面板，所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及设置在所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶盒，所述彩膜基板背向所述阵列基板的一侧上设有氧化铟锡层；其特征在于，
所述氧化铟锡层划分为多个区域，各区域内的氧化铟锡层的厚度随对应的液晶盒的厚度不同而不同；在各区域所对应的所述液晶盒施加有相同的驱动电压的情况下，从所述阵列基板发出的光线透过所述氧化铟锡层后，在不同区域上的光线透过率相同。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述氧化铟锡层中厚度越大的区域所对应的所述液晶盒的厚度越小。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述液晶盒的厚度每相差0.1微米，则对应区域内的所述氧化铟锡层的厚度相差20埃米。
4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述液晶盒的厚度范围为2.0微米~4.0微米，所述氧化铟锡层的厚度范围为150埃米~400埃米。
5.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
将阵列基板与彩膜基板对盒成显示面板；
利用盒厚测试设备检测所述显示面板中液晶盒的盒厚；
利用数据分析设备根据所述盒厚测试设备发送的盒厚数据确定氧化铟锡层的补偿值；
控制氧化铟锡成膜设备根据所述数据分析设备发送的补偿值在所述显示面板上形成氧化铟锡层，所述氧化铟锡层中各区域的膜厚随所对应的所述盒厚不同而不同，使在所述液晶盒施加相同的驱动电压的情况下，所述显示面板上各区域的光线透过率相同。
6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述利用数据分析设备根据所述盒厚测试设备发送的盒厚数据确定氧化铟锡层的补偿值，包括：
利用数据分析设备根据所述盒厚测试设备发送的盒厚数据形成盒厚数据平面示意图，所述盒厚数据平面示意图依据不同的盒厚划分为多个区域；
利用数据分析设备根据标准盒厚确定所述盒厚数据平面示意图中各区域的盒厚偏差值；
利用数据分析设备根据预设映射关系确定各盒厚偏差值确定对应的氧化铟锡层的补偿值，所述映射关系包括盒厚偏差值与补偿值之间的对应关系。
7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述盒厚偏差值与补偿值之间的对应关系为每0.1微米的盒厚偏差值对应20埃米的补偿值。
8.如权利要求5-7中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述利用盒厚测试设备检测所述显示面板中液晶盒的盒厚，包括：
利用光学探头在所述显示面板上的各区域发送光线；
利用盒厚测试设备接收所述显示面板反射的光线，并基于光程差原理确定所述液晶盒在不同区域的盒厚。
9.如权利要求5-7中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述将阵列基板与彩膜基板对盒成显示面板之前，还包括：
提供一彩膜基板衬底；
在所述彩膜基板衬底上形成色阻层和遮光层；
在所述色阻层上涂敷配向膜；
在所述配向膜上涂敷封框胶，形成彩膜基板。
10.一种显示器，其特征在于，所述显示器包括如权利要求1~4中任一项所述的显示面板。
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