CN115050905B - 一种显示面板 - Google Patents

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Abstract

本申请提供一种显示面板，包括在第一方向间隔设置的第一挡墙区和第二挡墙区，该显示面板至少包括第一平坦层、第二平坦层、第一像素定义层、第二像素定义层、第一支撑柱、第二支撑柱、第一挡墙结构和第二挡墙结构。第一挡墙结构位于第一挡墙区且包括第一平坦层、第二平坦层、第一像素定义层和第一支撑柱，第二挡墙结构位于第二挡墙区且包括第二平坦层、第二像素定义层和第二支撑柱，因此第二挡墙结构为三层结构，第一挡墙结构为四层结构，从第二挡墙结构的最低处到第一挡墙结构高度逐渐增加。因而降低了形成触控走线的光阻一次需要跨过的段差，可以减少光阻在第二挡墙结构最低处的残留，进而减少触控走线的短路问题。

Description

一种显示面板
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板。
背景技术
主动矩阵有机发光二极体(Active-Matrix Organic Light Emitting Diode,AMOLED)显示面板因其高对比度、广色域、低功耗等特性，逐渐成为新一代显示技术。与传统的液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)相比，OLED显示面板易于柔性化，这是可穿戴、可折叠产品的关键技术。
在OLED技术中，通过在非显示区设置挡墙，以阻挡封装层的有机层向封装区流动而影响封装效果。但是挡墙的结构容易造成触控走线在挡墙高度最低处发生短路。
发明内容
本申请的目的在于提供一种显示面板，旨在使挡墙结构的高度逐渐增加，以减少光阻在挡墙结构最低处的残留，从而减少触控走线短路的问题。
本申请提供一种显示面板，所述显示面板包括在第一方向间隔设置的第一挡墙区和第二挡墙区，所述显示面板至少包括：
第一平坦层，位于所述第一挡墙区；
第二平坦层，覆盖所述第一平坦层，且在所述第一挡墙区和所述第二挡墙区之间连续延伸；
第一像素定义层，位于所述第二平坦层上且位于所述第一挡墙区；
第二像素定义层，位于所述第二平坦层上且位于所述第二挡墙区；
第一支撑柱，覆盖所述第一像素定义层且位于所述第一挡墙区；
第二支撑柱，覆盖所述第二像素定义层且位于所述第二挡墙区；
第一挡墙结构，位于所述第一挡墙区且包括所述第一平坦层、第二平坦层、第一像素定义层和第一支撑柱；
第二挡墙结构，位于所述第二挡墙区且包括所述第二平坦层、第二像素定义层和第二支撑柱。
在一些实施例中，所述第二像素定义层具有未被所述第二支撑柱覆盖的裸露平台，且所述第二支撑柱位于所述裸露平台和所述第一支撑柱之间。
在一些实施例中，所述裸露平台在所述第一方向的宽度为15至18微米。
在一些实施例中，所述第一平坦层从所述第一挡墙区延伸至所述第二挡墙区，所述第二挡墙结构还包括所述第一平坦层。
在一些实施例中，所述第一平坦层从所述第一挡墙区延伸至所述第一挡墙区和所述第二挡墙区之间。
在一些实施例中，所述第一平坦层与所述第二支撑柱在所述第一方向的距离为7至10微米。
在一些实施例中，所述显示面板还包括：
浅沟槽结构，位于所述第一挡墙区和所述第二挡墙区之间，且包括所述第一平坦层和所述第二平坦层。
在一些实施例中，所述显示面板还包括覆盖所述第一挡墙结构和所述第二挡墙结构的封装层，所述封装层包括：
第一无机层；
位于所述第一无机层上的第二无机层；
位于所述第一无机层和所述第二无机层之间的有机层；
其中，所述第一无机层和所述第二无机层在所述第一方向连续延伸，所述有机层位于所述第一挡墙区远离所述第二挡墙区的一侧。
在一些实施例中，所述显示面板还包括：
触控层，覆盖所述封装层，且包括介质层和位于所述介质层上的触控走线。
在一些实施例中，所述显示面板还包括位于所述第二挡墙区远离所述第一挡墙区的一侧的封装区，所述显示面板还包括：
电源信号走线层，位于所述第一平坦层和所述第二平坦层之间，且在所述第一方向延伸至所述封装区；
其中，所述第一无机层、第二无机层和触控层在所述第一方向延伸至所述封装区。
本申请的有益效果是：提供一种显示面板，包括在第一方向间隔设置的第一挡墙区和第二挡墙区，该显示面板至少包括第一平坦层、第二平坦层、第一像素定义层、第二像素定义层、第一支撑柱、第二支撑柱、第一挡墙结构和第二挡墙结构。其中第一平坦层位于第一挡墙区，第二平坦层覆盖第一平坦层、且在第一挡墙区和第二挡墙区之间连续延伸。第一像素定义层和第二像素定义层位于第二平坦层上，且分别位于第一挡墙区和第二挡墙区。第一支撑柱和第二支撑柱分别覆盖第一像素定义层和第二像素定义层，且分别位于第一挡墙区和第二挡墙区。第一挡墙结构位于第一挡墙区且包括第一平坦层、第二平坦层、第一像素定义层和第一支撑柱，第二挡墙结构位于第二挡墙区且包括第二平坦层、第二像素定义层和第二支撑柱。因此第二挡墙结构为三层结构，第一挡墙结构为四层结构，从第二挡墙结构的最低处到第一挡墙结构高度逐渐增加。因而降低了形成触控走线的光阻一次需要跨过的段差，可以减少光阻在第二挡墙结构最低处的残留，进而减少触控走线的短路问题。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1是本申请一种实施例提供的显示面板的结构示意图；
图2是本申请另一实施例提供的显示面板的结构示意图；
图3是本申请又一实施例提供的显示面板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
请参阅图1，图1是本申请一种实施例提供的显示面板的结构示意图。该显示面板100可以应用于有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)显示装置。
该显示面板100包括在第一方向(X)间隔设置的第一挡墙区D1和第二挡墙区D2，显示面板100可以形成在基板(图中未示出)上，第一方向(X)为与所述基板平行的一个方向。也就是说，第一挡墙区D1和第二挡墙区D2是沿着第一方向(X)间隔设置的，两者之间可以存在其他区域或其他结构。
在一些实施例中，该显示面板100还可以包括封装区D3，所述封装区D3位于所述第二挡墙区D2远离所述第一挡墙区D1的一侧，即在图1中位于第二挡墙区D2的左侧。封装区D3是用来形成封装结构的。其中，第一挡墙区D1、第二挡墙区D2和封装区D3都可以属于显示面板100的非显示区，显示面板100的显示区(图中未示出)可以位于第一挡墙区D1远离所述第二挡墙区D2的一侧。
该显示面板100至少包括扇出电路层10、第一平坦层11、电源信号走线层12、第二平坦层13、第一像素定义层141、第二像素定义层142、第一支撑柱151、第二支撑柱152、第一挡墙结构DAM1和第二挡墙结构DAM2。
在一些实施例中，扇出电路层10可以包括依次层叠设置的第一电路层101、第二电路层102和第三电路层103，且第一电路层101、第二电路层102和第三电路层103之间通过绝缘层104相互绝缘。其中，扇出电路层10在第一挡墙区D1、第二挡墙区D2和封装区D3连续延伸。
第一平坦层11位于第一挡墙区D1且位于扇出电路层10上。在一些实施例中，第一平坦层11可以仅位于第一挡墙区D1。在本实施例中，如图1所示，第一平坦层11不仅位于第一挡墙区D1，还从所述第一挡墙区D1延伸至所述第一挡墙区D1和所述第二挡墙区D2之间的位置，即第一平坦层11的左边界位于第一挡墙区D1和第二挡墙区D2之间。在其中一种实施例中，所述第一平坦层11与所述第二支撑柱152在所述第一方向(X)的距离W1为7至10微米。
电源信号走线层12位于扇出电路层10上且覆盖第一平坦层11，由于第二挡墙区D2不存在第一平坦层11，因此电源信号走线层12在第一平坦层11的左边界位置形成台阶。需要说明的是，电源信号走线层12在所述第一方向(X)延伸至所述封装区D3，即电源信号走线层12在第一挡墙区D1、第二挡墙区D2和封装区D3连续延伸。
第二平坦层13覆盖第一平坦层11，且在第一挡墙区D1和第二挡墙区D2之间连续延伸。也可以说第二平坦层13为一整层、在第一方向(X)连续延伸，并且位于第一挡墙区D1、第二挡墙区D2以及第一挡墙区D1和第二挡墙区D2之间的区域。由于第二挡墙区D2不存在第一平坦层11，所以第二平坦层13在第一平坦层11的左边界位置形成台阶，使得第二平坦层13在第一挡墙区D1的表面高度大于在第二挡墙区D2的表面高度。
第一像素定义层141位于第二平坦层13上且位于第一挡墙区D1，第二像素定义层142位于第二平坦层13上且位于第二挡墙区D2，第一像素定义层141和第二像素定义层142是间隔设置的。
第一支撑柱151覆盖第一像素定义层141且位于第一挡墙区D1，第二支撑柱152覆盖第二像素定义层142且位于第二挡墙区D2。
第一挡墙结构DAM1位于第一挡墙区D1且包括第一平坦层11、第二平坦层13、第一像素定义层141和第一支撑柱151，第二挡墙结构DAM2位于第二挡墙区D2且包括第二平坦层13、第二像素定义层142和第二支撑柱152。
该显示面板100还可以包括封装层16，所述封装层16位于电源信号走线层12上，且覆盖所述第一挡墙结构DAM1和所述第二挡墙结构DAM2，即封装层16位于第一挡墙区D1和第二挡墙区D2。其中，封装层16包括第一无机层161、第二无机层162和有机层163，所述第二无机层162位于所述第一无机层161上，所述有机层163位于所述第一无机层161和所述第二无机层162之间。
其中，第一无机层161和第二无机层162在所述第一方向(X)连续延伸，在一些实施例中，所述第一无机层161、第二无机层162在所述第一方向(X)从第一挡墙区D1延伸至所述封装区D3。由于封装层16中的第一无机层161和第二无机层162在封装区D3与电源信号走线层12连接，因此可以在封装区D3形成封装效果较好的封装结构。
有机层163位于所述第一挡墙区D1远离所述第二挡墙区D2的一侧，有机层163的表面高度一般小于或等于第一挡墙结构DAM1的表面高度，以减少有机层163在通过喷墨打印技术形成的过程中向左边溢过第一挡墙结构DAM1。
该显示面板100还可以包括浅沟槽结构S，所述浅沟槽结构S位于所述第一挡墙区D1和所述第二挡墙区D2之间，且包括所述第一平坦层11和所述第二平坦层13。一方面，浅沟槽结构S和第二挡墙结构DAM2都包括第二平坦层13，由于浅沟槽结构S中的第一平坦层11的厚度，小于第二挡墙结构DAM2中第二像素定义层142的厚度加上第二支撑柱152的厚度，因此浅沟槽结构S的高度小于第二挡墙结构DAM2的高度；另一方面，第一挡墙结构DAM1相比浅沟槽结构S多出第一像素定义层141和第一支撑柱151，因此浅沟槽结构S的高度也小于第一挡墙结构DAM1的高度，所以浅沟槽结构S在第一挡墙结构DAM1和第二挡墙结构DAM2之间形成一个沟槽。当有机层163在形成过程中向左边溢出第一挡墙结构DAM1时，有机层163可以停留在浅沟槽结构S中，以阻挡有机层163继续向左溢过第二挡墙结构DAM2。
该显示面板100还可以包括触控层17，所述触控层17覆盖所述封装层16、且包括介质层171和位于所述介质层171上的触控走线172。其中，触控层17在所述第一方向(X)从第一挡墙区D1延伸至所述封装区D3。触控走线172是通过对金属层进行图案化刻蚀工艺形成的，而在封装区D3的金属层需要被刻蚀开形成断开的触控走线172。在图案化刻蚀工艺中，由于光阻的流动性较好，因此容易从结构的高度较高处向高度较低处流动而聚集或残留在高度较低处。
本申请提供的显示面板100中，第二挡墙结构DAM2包括第二平坦层13、第二像素定义层142和第二支撑柱152(三层结构)，第一挡墙结构DAM1包括第一平坦层11、第二平坦层13、第一像素定义层141和第一支撑柱151(四层结构)，而第二挡墙结构DAM2相对于封装区D3的段差为三层结构，第一挡墙结构DAM1相对于第一挡墙结构DAM1的段差为一层结构(第一平坦层11)，因此在图案化刻蚀工艺形成触控走线172的光阻需要跨过的段差是从三层结构逐渐升为四层结构的，而不是一次性就跨越四层结构段差。这样可以减少光阻在封装区D3(或第二挡墙结构DAM2底部)的残留，进而减少触控走线172在此处的短路问题。
请参阅图2，图2是本申请另一实施例提供的显示面板的结构示意图。为了便于理解和简要说明，图2中与图1相同的结构使用相同的附图标号，且相同的结构不再详细描述。
本实施例与上述实施例(图1)的主要区别在于第二挡墙结构DAM21，具体的，第二挡墙结构DAM21包括第二平坦层13、第二像素定义层242和第二支撑柱252。其中，第二支撑柱252只覆盖第二像素定义层242的右端的部分表面，因此第二像素定义层242具有未被所述第二支撑柱252覆盖的裸露平台2420，且所述第二支撑柱252位于所述裸露平台2420和所述第一支撑柱151之间。
在一些实施例中，所述裸露平台2420在所述第一方向(X)的宽度W2为15至18微米。其中，第二像素定义层242的表面宽度可以为20微米，则第二像素定义层242被第二支撑柱252覆盖的表面的宽度W3为2至5微米。
在本实施例中，触控层27可以包括依次叠层设置的第一介质层271、第一触控走线层272、第二介质层273和第二触控走线层274。其中，第二介质层273中形成有过孔，第二触控走线层274通过所述过孔与第一触控走线层272连接。
本申请实施例提供的显示面板200中，第二支撑柱252只覆盖第二像素定义层242的右端，使得第二像素定义层242具有未被第二支撑柱252覆盖的裸露平台2420，进而在形成触控层27时光阻可以在此裸露平台2420的上方停留，不会完全下滑至第二挡墙结构DAM21的底部，即可以减少光阻在第二挡墙结构DAM21底部的残留，进而解决第一触控走线层272和第二触控走线层274在封装区D3的位置发生短路的问题。另外，挡墙结构(包括第一挡墙结构DAM1和第二挡墙结构DAM21)从下至上高度逐渐升高，具体的，先经过第二挡墙结构DAM21中对应裸露平台2420处的两层结构段差(第二平坦层13和第二像素定义层242)，再经过部分第二支撑柱252的段差，最后经过一个第一平坦层11的段差。因此光阻的高度从封装区D3至第一挡墙区D1也是逐渐升高的，而不是一次就跨过第一挡墙结构DAM1的四层结构段差，即可以降低光阻的倾斜程度，进而可以有效避免光阻在最低处(封装区D3)聚集，有效解决第一触控走线层272和第二触控走线层274在封装区D3的位置发生短路的问题。
请参阅图3，图3是本申请又一实施例提供的显示面板的结构示意图。为了便于理解和简要说明，图3中与图1和图2相同的结构使用相同的附图标号，且相同的结构不再详细描述。
本实施例与上述实施例(图2)的主要区别在于，第一平坦层31不仅位于第一挡墙区D1，还从所述第一挡墙区D1延伸至所述第二挡墙区D2。因此第二挡墙结构DAM22包括第一平坦层31、第二平坦层13、第二像素定义层242和第二支撑柱252。与图2相同的是，第二挡墙结构DAM22中，第二支撑柱252只覆盖第二像素定义层242的右端。
本申请实施例提供的显示面板300，挡墙结构(包括第一挡墙结构DAM1和第二挡墙结构DAM22)的高度逐渐增加，先是经过三层结构的段差(第一平坦层31、第二平坦层13和第二像素定义层242)，再经过部分第二支撑柱252的段差。因此形成触控走线172的光阻的高度也是逐渐上升，不是直接跨越四层结构段差，进而可以减少光阻在第二挡墙结构DAM22的底部残留，减少触控走线172在此处的短路问题。
本申请实施例还提供一种显示装置，包括上述任一种实施例中的显示面板。该显示装置具有与上述任一种实施例中的显示面板相同的有益效果，在此不再赘述。
以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (9)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括在第一方向间隔设置的第一挡墙区和第二挡墙区，所述显示面板至少包括：
第一平坦层，位于所述第一挡墙区；
第二平坦层，覆盖所述第一平坦层，且在所述第一挡墙区和所述第二挡墙区之间连续延伸；
第一像素定义层，位于所述第二平坦层上且位于所述第一挡墙区；
第二像素定义层，位于所述第二平坦层上且位于所述第二挡墙区；
第一支撑柱，覆盖所述第一像素定义层且位于所述第一挡墙区；
第二支撑柱，覆盖所述第二像素定义层且位于所述第二挡墙区；
第一挡墙结构，位于所述第一挡墙区且包括所述第一平坦层、第二平坦层、第一像素定义层和第一支撑柱；
第二挡墙结构，位于所述第二挡墙区且包括所述第二平坦层、第二像素定义层和第二支撑柱；
触控层，覆盖所述第一挡墙结构和第二挡墙结构，且包括介质层和位于所述介质层上的触控走线。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二像素定义层具有未被所述第二支撑柱覆盖的裸露平台，且所述第二支撑柱位于所述裸露平台和所述第一支撑柱之间。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述裸露平台在所述第一方向的宽度为15至18微米。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一平坦层从所述第一挡墙区延伸至所述第二挡墙区，所述第二挡墙结构还包括所述第一平坦层。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一平坦层从所述第一挡墙区延伸至所述第一挡墙区和所述第二挡墙区之间。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一平坦层与所述第二支撑柱在所述第一方向的距离为7至10微米。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
浅沟槽结构，位于所述第一挡墙区和所述第二挡墙区之间，且包括所述第一平坦层和所述第二平坦层。
8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括覆盖所述第一挡墙结构和所述第二挡墙结构的封装层，所述封装层包括：
第一无机层；
位于所述第一无机层上的第二无机层；
位于所述第一无机层和所述第二无机层之间的有机层；
其中，所述第一无机层和所述第二无机层在所述第一方向连续延伸，所述有机层位于所述第一挡墙区远离所述第二挡墙区的一侧。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述第二挡墙区远离所述第一挡墙区的一侧的封装区，所述显示面板还包括：
电源信号走线层，位于所述第一平坦层和所述第二平坦层之间，且在所述第一方向延伸至所述封装区；
其中，所述第一无机层、第二无机层和触控层在所述第一方向延伸至所述封装区。
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