CN115029676A - 一种超厚含氮铬涂层及其制备方法 - Google Patents
一种超厚含氮铬涂层及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115029676A CN115029676A CN202210703334.XA CN202210703334A CN115029676A CN 115029676 A CN115029676 A CN 115029676A CN 202210703334 A CN202210703334 A CN 202210703334A CN 115029676 A CN115029676 A CN 115029676A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- chromium
- coating
- nitrogen
- magnetron sputtering
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
- C23C14/352—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering using more than one target
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0688—Cermets, e.g. mixtures of metal and one or more of carbides, nitrides, oxides or borides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3435—Applying energy to the substrate during sputtering
- C23C14/345—Applying energy to the substrate during sputtering using substrate bias
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明属于金属材料表面防护领域，具体公开了一种超厚含氮铬涂层及其制备方法。所述涂层是采用磁控溅射‑阴极弧联合镀膜仪在基体上沉积形成的均匀单层涂层，涂层厚度为50~100μm，所述涂层的成分按氮/铬原子含量比为0.4~0.8，超厚含氮铬涂层的结构由纳米晶铬和纳米晶氮化铬复合组成。本发明适用于以活塞环为主要应用对象的多种金属工件，能够提高其耐磨损性能和服役寿命。
Description
技术领域
本发明涉及金属材料表面防护领域，尤其涉及一种超厚含氮铬涂层及其制备方法。
背景技术
活塞环等机械零部件表面需要大厚度的涂层，以满足长寿命、耐磨损的使用要求。
现役氮化物单层涂层，由于内应力高，沉积到一定厚度之后结合力下降，影响使用性能。而由“金属/氮化物”迭层结构交替沉积形成的多层涂层，尽管厚度大，由于涂层在使用过程中不断磨损，导致摩擦表面的成分、摩擦系数和磨损率产生不均匀的变化，进而影响构件的性能稳定性和使用寿命。因此，开发一种大厚度、耐磨损、成分和组织均匀性好的涂层是本领域的一个重要难题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种超厚含氮铬涂层及其制备方法。
为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：
一种超厚含氮铬涂层，所述含氮铬涂层是采用磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪在基体上沉积形成的均匀单层涂层，所述含氮铬涂层的厚度为50～100μm，所述含氮铬涂层的结构由纳米晶铬和纳米晶氮化铬复合组成，所述含氮铬涂层的成分按氮/铬原子含量比为0.4～0.8。
所述基体为铁基合金，所述铁基合金经过表面强化处理，如热处理，或渗氮，或预先镀覆了铬镀层。上述超厚含氮铬涂层的制备方法为：采用磁控溅射-阴极弧联合沉积技术，将清洁、干燥处理后的基体放入镀膜设备的真空室；抽真空到设定值后，充入氩气并加热基体；对基体施加负偏压，分别启动磁控溅射铬靶和阴极弧铬靶进行离子清洗；然后通入氮气，改变磁控溅射铬靶电流、阴极弧铬靶电流和基体偏压，在基体表面沉积含氮铬涂层。在沉积过程中，控制基体温度、沉积时间、氮气流量和靶电流，在基体上沉积超厚氮化铬单层涂层，具体步骤如下：
将清洁、干燥后的基体装夹在工件架上，送入磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪的镀膜腔体内，镀膜腔体的经典构造为：内圈相隔90°设置，共设置4个磁控溅射圆柱形铬靶；外圈相隔90°设置，共设置4列(每列多个)阴极弧铬靶；内圈与外圈的靶位相隔45°设置，然后按以下步骤镀膜：
A)将镀膜腔体抽真空到低于5×10-3Pa，控制转架台和基体的转速为2～12转/分，将基体加热到300～500℃并保持，通入流量为200～500sccm的氩气；
B)设定偏压-800V，启动不少于1个的阴极弧铬靶并保持任一个阴极弧铬靶的电流为30A，启动不少于1个的磁控溅射铬靶并保持任一个磁控溅射铬靶的电流为0.5A，维持5～15min以清洗靶材和基体；
C)将偏压调节到-80～-200V，与此同时将阴极弧铬靶的电流提高到120A，与此同时将磁控溅射铬靶的电流提高到3A，与此同时通入并保持氮气流量为150～250sccm，保持不少于1个的阴极弧铬靶和不少于1个的磁控溅射铬靶同时工作6～15h，在基体上镀氮化铬膜。
作为优选，所述的镀膜过程中腔体温度为300℃～430℃(优选为400℃)，所述的氩气流量为400sccm，所述的氮气流量为160～240sccm，所述的基体在沉积含氮铬涂层时的负偏压为-100V。
作为优选，镀膜过程中所有磁控溅射铬靶和阴极弧铬靶均启动工作。
本发明的有益效果在于：本发明采用磁控溅射-阴极弧联合沉积技术同时作用在基体上形成厚度为50～100μm的含氮铬涂层，通过控制涂层成分中的氮/铬原子含量比为0.4～0.8，形成具有纳米晶铬和纳米晶氮化铬复合结构的均匀单层涂层，并具有良好的结合力和硬度。本发明适用于以活塞环为主要应用对象的各种金属工件，能够提高其耐磨损性能和服役寿命。
附图说明
图1为本发明的涂层示意图。
图2为本发明的磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪的阴极弧靶与溅射靶的位置示意，所有阴极弧靶位与所有溅射靶位均安装铬靶。
图3为本发明的磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪腔室侧面展开的阴极弧靶位与溅射靶位的分布。
图4为实施例1在不锈钢基体上镀覆的涂层厚度，及杯凸法检测涂层结合情况。
图5为对比例1在镀铬不锈钢基体上镀覆的涂层厚度，及杯凸法检测涂层结合情况。
图6为对比例2在镀铬不锈钢基体上镀覆的涂层厚度，及杯凸法检测涂层结合情况。
图7为实施例1、对比例1和对比例2的X射线衍射图谱的比较结果。
具体实施方式
实施例1
采用磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪在基体上沉积超厚含氮铬涂层。真空腔室构造为内圈相隔90°设置，共设置4个磁控溅射圆柱形铬靶；外圈相隔90°设置，共设置4列(每列多个)阴极弧铬靶；内圈与外圈的靶位相隔45°设置。以不锈钢为基体，制备含氮铬涂层的步骤如下：
(1)将清洁、干燥后的基体装夹在工件架上，送入磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪的镀膜腔体内；
(2)镀膜腔体抽真空至2×10-3Pa，控制转架台和基体的转速为6转/分，将基体加热到400℃并保持该温度，通入流量为400sccm的氩气；
(3)设定偏压为-800V，启动所有的阴极弧铬靶并保持电流为30A，与此同时启动所有的磁控溅射铬靶并保持电流为0.5A，清洗靶材和基体5min；
(4)将偏压调节到-100V，与此同时将所有的阴极弧源电流提高到120A，与此同时将所有的磁控溅射靶电流提高到3A，与此同时通入并保持氮气流量为200sccm，保持所有的阴极弧靶和所有的磁控溅射靶同时工作15h。
镀覆在不锈钢基体上的含氮铬薄膜厚度为84μm，镀层中氮/铬原子比为0.7，采用100g力测量的维氏硬度为2500±200，涂层组织组成物为纳米晶铬+纳米晶氮化铬，如表1所示。
实施例2
采用磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪在基体上沉积超厚含氮铬涂层。真空腔室构造为内圈相隔90°设置，共设置4个磁控溅射圆柱形铬靶；外圈相隔90°设置，共设置4列(每列多个)阴极弧铬靶；内圈与外圈的靶位相隔45°设置。以不锈钢为基体，制备含氮铬涂层的步骤如下：
(1)将清洁、干燥后的基体装夹在工件架上，送入磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪的镀膜腔体内；
(2)镀膜腔体抽真空至2×10-3Pa，控制转架台和基体的转速为6转/分，将基体加热到400℃并保持，通入流量为400sccm的氩气；
(3)设定偏压为-800V，启动所有的阴极弧铬靶并保持电流为30A，与此同时启动所有的磁控溅射铬靶并保持电流为0.5A，清洗靶材和基体5min；
(4)将偏压调节到-100V，与此同时将其他阴极弧源的工作电流提高到120A，与此同时将所有的磁控溅射靶电流提高到3A，与此同时通入并保持氮气流量为160sccm，保持所有的阴极弧靶和所有的磁控溅射靶同时工作15h。
镀覆在硬质合金基体上的含氮铬薄膜厚度为100μm，镀层中氮/铬原子比为0.4，采用100g力测量的维氏硬度为1900±200，涂层组织组成物为纳米晶铬+纳米晶氮化铬，如表1所示。
实施例3
采用磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪在基体上沉积超厚含氮铬涂层。真空腔室构造为内圈相隔90°设置，共设置4个磁控溅射圆柱形铬靶；外圈相隔90°设置，共设置4列(每列多个)阴极弧铬靶；内圈与外圈的靶位相隔45°设置。以不锈钢为基体，制备含氮铬涂层的步骤如下：
(1)将清洁、干燥后的基体装夹在工件架上，送入磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪的镀膜腔体内；
(2)镀膜腔体抽真空至2×10-3Pa，控制转架台和基体的转速为6转/分，将基体加热到400℃并保持，通入流量为400sccm的氩气；
(3)设定偏压-800V，启动所有的阴极弧铬靶并保持电流为30A，与此同时启动所有的磁控溅射铬靶并保持电流为0.5A，清洗靶材和基体15min；
(4)将偏压调节到-100V，与此同时将所有的阴极弧源电流提高到120A，与此同时将所有的磁控溅射靶电流提高到3A，与此同时通入并保持氮气流量为240sccm，保持所有的阴极弧靶和所有的磁控溅射靶同时工作15h。
镀覆在不锈钢基体上的含氮铬薄膜厚度为50μm，镀层中氮/铬原子比为0.8，采用100g力测量的维氏硬度为2600±100，涂层组织组成物为纳米晶铬+纳米晶氮化铬，如表1所示。
对比例1
采用磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪在基体上沉积超厚含氮铬涂层。真空腔室构造为内圈相隔90°设置，共设置4个磁控溅射圆柱形铬靶；外圈相隔90°设置，共设置4列(每列多个)阴极弧铬靶；内圈与外圈的靶位相隔45°设置。以镀铬不锈钢为基体，制备含氮铬涂层的步骤如下：
(1)将清洁、干燥后的基体装夹在工件架上，送入磁控溅射-多弧离子镀联合镀膜仪的镀膜腔体内；
(2)镀膜腔体抽真空至2×10-3Pa，控制转架台和基体的转速为6转/分，将基体加热到400℃并保持，通入流量为400sccm的氩气；
(3)设定偏压-800V，启动所有的阴极弧铬靶并保持电流为30A，与此同时启动所有的磁控溅射铬靶并保持电流为0.5A，清洗靶材和基体15min；
(4)将偏压调节到-100V，与此同时将所有的阴极弧源电流提高到120A，与此同时将所有的磁控溅射靶电流提高到3A，与此同时通入并保持氮气流量为350sccm，保持所有的阴极弧靶和所有的磁控溅射靶同时工作15h。
镀覆在不锈钢基体上的含氮铬薄膜厚度约为20μm，镀层中氮/铬原子比为1.1，采用100g力测量的维氏硬度为2200±200，涂层组织组成物为纳米晶氮化铬，如表1所示。
对比例2
采用磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪在基体上沉积超厚含氮铬涂层。真空腔室构造为内圈相隔90°设置，共设置4个磁控溅射圆柱形铬靶；外圈相隔90°设置，共设置4列(每列多个)阴极弧铬靶；内圈与外圈的靶位相隔45°设置。以镀铬不锈钢为基体，制备含氮铬涂层的步骤如下：
(1)将清洁、干燥后的基体装夹在工件架上，送入磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪的镀膜腔体内；
(2)镀膜腔体抽真空至2×10-3Pa，控制转架台和基体的转速为6转/分，将基体加热到400℃并保持，通入流量为400sccm的氩气；
(3)设定偏压-800V，启动所有的阴极弧铬靶并保持电流为30A，清洗靶材和基体15min；
(4)将偏压调节到-100V，与此同时将所有的阴极弧源电流提高到120A，与此同时通入并保持氮气流量为200sccm，保持所有的阴极弧靶同时工作15h。
镀覆在不锈钢基体上的含氮铬薄膜厚度为42μm，镀层中氮/铬原子比为0.8，采用100g力测量的维氏硬度为2300±300，涂层组织组成物为纳米晶氮化铬+纳米晶氮化二铬，如表1所示。
对比例3
采用磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪在基体上沉积超厚含氮铬涂层。真空腔室构造为内圈相隔90°设置，共设置4个磁控溅射圆柱形铬靶；外圈相隔90°设置，共设置4列(每列多个)阴极弧铬靶；内圈与外圈的靶位相隔45°设置。以不锈钢为基体，制备含氮铬涂层的步骤如下：
(1)将清洁、干燥后的基体装夹在工件架上，送入磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪的镀膜腔体内；
(2)镀膜腔体抽真空至2×10-3Pa，控制转架台和基体的转速为6转/分，将基体加热到400℃并保持，通入流量为400sccm的氩气；
(3)设定偏压-800V，启动所有的磁控溅射铬靶并保持电流为0.5A，清洗靶材和基体15min；
(4)将偏压调节到-100V，与此同时将所有的磁控溅射靶电流提高到3A，与此同时通入并保持氮气流量为200sccm，保持所有的磁控溅射靶同时工作15h。
镀覆在不锈钢基体上的含氮铬薄膜厚度为13μm，镀层中氮/铬原子比为1.1，采用100g力测量的维氏硬度为2400±150，涂层组织组成物为纳米晶氮化铬，如表1所示。
实施效果
实施例1、实施例2和实施例3的涂层组织组成物为纳米晶铬+纳米晶氮化铬，区别于对比例。本发明的磁控溅射-阴极弧联合沉积技术和工艺范围是实现涂层组织组成，并可被沉积成厚度为50～100μm的超厚涂层的必要条件。其中，调控在160～240sccm之间的氮气流量是实现氮/铬原子比为0.4～0.8的涂层成分的关键工艺。本发明所采用的磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪兼顾了高沉积速率、低液滴喷溅和优化的氮原子扩散反应能力，使氮/铬原子比为0.4～0.8的涂层呈现“纳米晶铬+纳米晶氮化铬”的组织组成。如本发明中对比例1、对比例2和对比例3所示，采用本设备中单一的磁控溅射镀膜或阴极弧镀膜时，无法兼顾获得相应组织和沉积速率。
表1
Claims (7)
1. 一种超厚含氮铬涂层，其特征在于，所述含氮铬涂层是采用磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪在基体上沉积形成的均匀单层涂层，所述含氮铬涂层的厚度为50~100 μm，所述含氮铬涂层的结构由纳米晶铬和纳米晶氮化铬复合组成。
2.根据权利要求1所述的超厚含氮铬涂层，其特征在于，所述含氮铬涂层的成分按氮/铬原子含量比为0.4~0.8。
3.根据权利要求1所述的超厚含氮铬涂层，其特征在于，所述基体为铁基合金。
4.根据权利要求3所述的超厚含氮铬涂层，其特征在于，所述铁基合金经过表面强化处理，所述表面强化处理方式为热处理、渗氮，或预先镀覆铬镀层。
5.一种如权利要求1~4任一项所述的超厚含氮铬涂层的制备方法，其特征在于：将清洁、干燥后的基体装夹在工件架上，送入磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪的镀膜腔体内，按以下步骤镀膜：
A）将镀膜腔体抽真空到低于5×10-3Pa，控制转架台和基体的转速为2~12转/分，将基体加热到300~500℃并保持，通入流量为200~500sccm的氩气；
B）设定偏压-800V，启动不少于1个的阴极弧铬靶并保持任一个阴极弧铬靶的电流为30A，启动不少于1个的磁控溅射铬靶并保持任一个磁控溅射铬靶的电流为0.5A，维持5~15min以清洗靶材和基体；
C）将偏压调节到-80~-200V，将阴极弧铬靶的电流提高到120A，同时将磁控溅射铬靶的电流提高到3 A，通入并保持氮气流量为150~250sccm，保持不少于1个的阴极弧铬靶和不少于1个的磁控溅射铬靶同时工作6~15h，在基体上镀氮化铬膜。
6.根据权利要求5所述的超厚含氮铬涂层的制备方法，其特征在于：所述磁控溅射-阴极弧联合镀膜仪的镀膜腔体的构造为：内圈相隔90°设置，共设置4个磁控溅射圆柱形铬靶；外圈相隔90°设置，共设置4列、每列多个阴极弧铬靶；内圈与外圈的靶位相隔45°设置。
7. 根据权利要求5所述的超厚含氮铬涂层的制备方法，其特征在于：镀膜过程中腔体温度为300℃~430℃，所述的氩气流量为350~400sccm，所述的氮气流量为160~240 sccm，基体在沉积含氮铬涂层时的负偏压为 -100 V。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210703334.XA CN115029676B (zh) | 2022-06-21 | 2022-06-21 | 一种超厚含氮铬涂层及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210703334.XA CN115029676B (zh) | 2022-06-21 | 2022-06-21 | 一种超厚含氮铬涂层及其制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115029676A true CN115029676A (zh) | 2022-09-09 |
| CN115029676B CN115029676B (zh) | 2023-06-27 |
Family
ID=83125171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210703334.XA Active CN115029676B (zh) | 2022-06-21 | 2022-06-21 | 一种超厚含氮铬涂层及其制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN115029676B (zh) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104711515A (zh) * | 2015-04-01 | 2015-06-17 | 航天精工股份有限公司 | 一种Cr-CrN纳米复合金属陶瓷涂层及其制备方法和设备 |
| CN107119257A (zh) * | 2017-07-10 | 2017-09-01 | 宁波盾戈涂层技术有限公司 | 一种纳米复合锆铝铬氮化物刀具涂层及其制备方法 |
| CN109136872A (zh) * | 2018-10-11 | 2019-01-04 | 华杰新材料科技（苏州）有限公司 | 一种不锈钢基材表面CrN涂层制备方法 |
-
2022
- 2022-06-21 CN CN202210703334.XA patent/CN115029676B/zh active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104711515A (zh) * | 2015-04-01 | 2015-06-17 | 航天精工股份有限公司 | 一种Cr-CrN纳米复合金属陶瓷涂层及其制备方法和设备 |
| CN107119257A (zh) * | 2017-07-10 | 2017-09-01 | 宁波盾戈涂层技术有限公司 | 一种纳米复合锆铝铬氮化物刀具涂层及其制备方法 |
| CN109136872A (zh) * | 2018-10-11 | 2019-01-04 | 华杰新材料科技（苏州）有限公司 | 一种不锈钢基材表面CrN涂层制备方法 |
Non-Patent Citations (4)
| Title |
|---|
| 刘星;王明娥;孙刚;马国佳;: "可控阴极弧制备的梯度及调制多层CrN/Cr薄膜的组织结构和力学性能研究" * |
| 朱生发;刘天伟;吴艳萍;黄河;江帆;唐凯;魏强;: "金属铀表面非平衡磁控溅射CrN_x薄膜的XPS分析与腐蚀性能" * |
| 袁燕;李花;张海宝;杨丽珍;刘忠伟;陈强;: "氮流量对孪生靶磁控溅射沉积氮化铬薄膜性能的影响" * |
| 郭金保;马付良;曾志翔;: "氮气流量对反应磁控溅射制备CrN_x涂层性能的影响" * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN115029676B (zh) | 2023-06-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6528171B1 (en) | Tool with a molybdenum sulfide containing coating and method for its production | |
| EP3134561B1 (en) | Alcrn-based coating providing enhanced crater wear resistance | |
| US6287711B1 (en) | Wear-resistant coating and component | |
| CN106011752B (zh) | 一种金属硬质膜的制备方法 | |
| JPH0588310B2 (zh) | ||
| CN111270202A (zh) | 一种切削刀具用成分结构双梯度功能涂层及其制备方法 | |
| JP4122387B2 (ja) | 複合硬質皮膜、その製造方法及び成膜装置 | |
| CN115044867A (zh) | 一种TiAlWN涂层及其制备方法与应用 | |
| KR102074469B1 (ko) | 포밍 치형공구용 다층나노 경질 코팅막 | |
| JPH0931628A (ja) | 摺動部材およびその製造方法 | |
| CN112323024B (zh) | 一种高强抗氧化涂层及其制备方法和应用 | |
| JP2004137541A (ja) | Ｄｌｃ傾斜構造硬質被膜及びその製造方法 | |
| CN106048525B (zh) | 一种连续变化的钛铬金属氮化物复合硬质膜的制备方法 | |
| KR20120059255A (ko) | 티타늄, 은, 및 질소를 포함하는 다성분계 코팅재 및 그의 코팅 방법 | |
| CN110129742B (zh) | 一种超硬强韧TiSiCN硬质涂层的制备方法 | |
| CN115029676B (zh) | 一种超厚含氮铬涂层及其制备方法 | |
| CN110158046A (zh) | 复合涂层、自润滑复合涂层刀具及其制备方法 | |
| JPH04297568A (ja) | 耐摩耗性のすぐれた表面被覆部材及び皮膜形成方法 | |
| CN108220875B (zh) | 一种自组装Ti-Al氮化物多层涂层刀具及其制备方法 | |
| CN112410727B (zh) | 一种新型WCrSiN梯度涂层及其制备方法 | |
| CN106048518B (zh) | 一种金属氮化物复合硬质膜的制备方法 | |
| JP3654918B2 (ja) | 摺動材料 | |
| CN106917066B (zh) | 一种四元单层超硬薄膜材料及其制备方法 | |
| CN101775587B (zh) | 一种铜合金加工用微钻及其制备方法 | |
| KR100633083B1 (ko) | 크롬질화물계 다층 금속질화물 나노박막의 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |