CN114967319A - 一种图案成型方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种图案成型方法，包括：提供第一基底，第一基底的相对两侧设有第一材料和第二材料；在第一材料上形成第一图案；第二材料是感光材料，根据第一图案在第二材料上形成第二图案，第二图案与第一图案相同或互补。本发明的方案通过直接利用产品中的第一图案作为光罩，加工形成第二图案，无需对位，实现提升图案间相对精度、降低后续工艺的作业难度、提升良率的技术效果。

Description

一种图案成型方法
技术领域
本发明属于显示技术领域，具体涉及一种图案成型方法。
背景技术
常规的图案成型方案有印刷、黄光蚀刻、镭射等；当材料表面或正反面需要同时加工图案时，一般采用肉眼对位、CCD(Charge Coupled Device，电荷耦合器件)特征抓靶、打孔套位等方式。然而这些方式存在一些问题：由于图案成型加工偏差、材料涨缩尺寸、对位精度偏差等因素，且图案层数越多公差累积约严重，高精度贴合难度大。
发明内容
有鉴于此，本发明提供了一种图案成型方法，直接利用产品中的第一图案作为光罩，加工形成第二图案。无需对位，减少因对位产生的偏位问题，提高图案间的相对精度。
提供一种图案成型方法，包括：
提供第一基底，所述第一基底的相对两侧设有第一材料和第二材料；
在所述第一材料上形成第一图案；
所述第二材料是感光材料，根据所述第一图案在所述第二材料上形成第二图案，所述第二图案与所述第一图案相同或互补。
进一步的，根据所述第一图案在所述第二材料上形成第二图案，包括：
利用光线照射所述第一图案，所述光线依次穿过所述第一图案和所述第一基底照射到所述第二材料上，使得所述第二材料上的光照区的性质发生变化，清除所述光照区或非光照区，从而形成所述第二图案。
进一步的，所述第二材料采用正向感光材料，清除所述正向感光材料的所述光照区形成的所述第二图案与所述第一图案在所述第一基底上的投影重叠。
进一步的，所述第二材料采用负向感光材料，清除所述负向感光材料的所述非光照区形成的所述第二图案与所述第一图案在所述第一基底上的投影互补。
进一步的，所述第一材料采用第一透明材料，所述第一透明材料能够反射或吸收光线，在所述第一透明材料上形成所述第一图案。
进一步的，提供所述第一基底和第二基底，所述第一基底背离所述第二基底的一侧为第一表面，所述第一基底朝向所述第二基底的一侧为第二表面，所述第二基底朝向所述第一基底的一侧为第三表面；
所述第一材料设于所述第三表面，在所述第一材料上形成所述第一图案；
将所述第一图案与所述第二表面连接；
所述第二材料设于所述第一表面，所述光线依次穿过所述第二基底、所述第一图案和所述第一基底照射到所述第二材料上，使得所述第二材料上的所述光照区的性质发生变化，清除所述光照区或所述非光照区，从而形成所述第二图案。
进一步的，所述第二表面设有第一粘胶层，所述第一图案与所述第一粘胶层粘接。
进一步的，所述第一基底为至少两层基板。
进一步的，所述基板之间通过第二粘胶层粘接。
进一步的，所述第二材料采用第二透明材料。
与现有技术相比，本发明所达到的有益效果是：
通过直接利用产品中的第一图案作为光罩，加工形成第二图案，无需对位，减少因对位产生的偏位问题，实现提升图案间相对精度、降低后续工艺的作业难度、提升良率的技术效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种图案成型方法的流程图；
图2是图1所示流程图的各个阶段所对应的产品结构示意图；
图3是本发明实施例提供的另一种图案成型方法的流程图；
图4是图3所示流程图的各个阶段所对应的产品结构示意图；
图5是本发明实施例提供的一种根据第一图案在第二材料上形成第二图案的产品结构示意图；
图6是本发明实施例提供的一种双层同向图案成型方法的产品加工示意图；
图7是本发明实施例提供的一种双层异向图案成型方法的产品加工示意图；
图8是本发明实施例提供的一种单层双面图案重叠结构示意图；
图9是本发明实施例提供的一种单层双面图案互补结构示意图；
图10是本发明实施例提供的一种双层异向图案重叠结构示意图；
图11是本发明实施例提供的一种双层异向图案互补结构示意图；
图12是本发明实施例提供的一种双层同向图案重叠结构示意图；
图13是本发明实施例提供的一种双层同向图案互补结构示意图；
图14是本发明实施例提供的一种单层双面图案部分透明结构示意图；
图15是本发明实施例提供的一种单层双面图案全透明结构示意图。
附图标记说明：
11－第一基底，12－第一材料，13－第二材料，121－第一图案，131－第二图案，14－第二基底，15－第一粘胶层，111－第一基板，112－第二粘胶层，113－第二基板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施方式中的附图，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本发明一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本发明中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本发明保护的范围。
如图1和图2，本发明提供一种图案成型方法，包括以下步骤：
S01、提供第一基底11，第一基底11的相对两侧设有第一材料12和第二材料13；
S02、在第一材料12上形成第一图案121；
S03、根据第一图案121在第二材料13上形成第二图案131，第二图案131与第一图案121相同或互补。
其中，在第一材料12上形成第一图案121可以采用常规手段加工(无需对位)，例如采用丝网印刷、喷墨打印、UV(Ultraviolet Rays，紫外)转印、磁控溅射、蚀刻、镭雕等方式。第一图案121形成后，将第一图案121作为光罩进行第二材料13的加工；第二材料13是感光材料，可以在光照下发生光化学反应，并进一步加工处理后形成的第二图案131与第一图案121相同或互补。
如图3和图4，在另一种实施方式中，也可以先形成第一图案121，再在第一基底11上形成第二材料13，包括以下步骤：
T01、提供第一基底11，在第一基底11的一侧设有第一材料12；
T02、在第一材料12上形成第一图案121；
T03、在第一基底11背离第一材料12的一侧设有第二材料13；
T04、根据第一图案121在第二材料13上形成第二图案131，第二图案131与第一图案121相同或互补。
如图5所示，在一种实施方式中，根据第一图案121在第二材料13上形成第二图案131，包括：
利用光线照射第一图案121，光线依次穿过第一图案121和第一基底11照射到第二材料13上，第二材料13上分为光照区和非光照区，光照区为光线照射到第二材料13上未被第一图案121所遮挡的区域，非光照区为光线照射到第一图案121上被第一图案121吸收而无法到达第二材料13上的区域。光线照射到第二材料13上使得第二材料13上的光照区的性质发生变化。在本实施方式中，光线可以采用UV(Ultraviolet Rays，紫外)光或其他光源。在其他实施方中，还可以采用粒子流、磁场等方式。经过处理后的材料与处理前的材料性质发生改变，如导电性、颜色、耐酸碱性、抗UV效果等。
后根据需要选择清除光照区的材料或非光照区的材料，并根据材料的特性选择清除方式，清除方式可以选择蚀刻(如酸性溶液或碱性溶液)、热分解(当经光照、粒子流或磁场等方式处理，第二材料13的光照区和非光照区的分解温度不同时)等。在其他实施方式中，无用的部分也可以不清除，例如，当第二图案131作为导电线路，第二材料13是绝缘材料时，如果经光线或其他方式处理后第二材料13的光照区阻抗降低，而非光照区阻抗未发生变化仍为绝缘材料，则光照区实际上已经形成导电线路，非光照区是否去除都能起到绝缘作用，则此时第二材料13的非光照区可以不去除；同理，如果第二材料13本身是导电材料，经光线或其他方式处理后第二材料13的光照区的阻抗升高(达到可以起到绝缘作用的程度)，则非光照区形成导电线路，光照区是否去除都能起到绝缘作用，则此时第二材料13的非光照区可以不去除。
在一种实施方式中，第二材料13采用正向感光材料，通过蚀刻或热分解等方式清除正向感光材料的光照区形成的第二图案131在第一基底11上的投影与第一图案121在第一基底11上的投影重叠。在其他实施方式中，也可以清除正向感光材料的非光照区，由此形成的第二图案131在第一基底11上的投影与第一图案121在第一基底11上的投影互补。
在一种实施方式中，第二材料13采用负向感光材料，通过蚀刻或热分解等方式清除负向感光材料的非光照区形成的第二图案131在第一基底11上的投影与第一图案121在第一基底11上的投影互补。在其他实施方式中，也可以清除负向感光材料的光照区，由此形成的第二图案131在第一基底11上的投影与第一图案121在第一基底11上的投影重叠。
在一种实施方式中，第一材料12采用第一透明材料，第一透明材料能够反射或吸收光线，在第一透明材料上形成第一图案121。光线照射在第一图案121上被第一透明材料所反射或吸收的区域对应第二材料13上的非光照区，光线照射在第一图案121并穿过第一图案121的区域对应第二材料13上的光照区。将第一材料12采用第一透明材料的作用在于，可以使得产品更为美观，在视觉上显得更为轻薄。
如图6所示，在一种实施方式中，提供第一基底11和第二基底14，第一基底11背离第二基底14的一侧为第一表面，第一基底11朝向第二基底14的一侧为第二表面，第二基底14朝向第一基底11的一侧为第三表面；
第一材料12设于第三表面，在第一材料12上形成第一图案121；
将第一图案121与第二表面连接；
第二材料13设于第一表面，第一图案121作为光罩，光线依次穿过第二基底14、第一图案121和第一基底11照射到第二材料13上，使得第二材料13上的光照区的性质发生变化，根据实际需要并结合第二材料13上光照区和非光照区的性质，清除光照区或非光照区，从而形成第二图案131。如此形成的第一图案121、第二图案131分别位于第二基底14、第一基底11背离光源的一侧，即双层同向结构。如清除的是光照区，则第二图案131与第一图案121在第一基底11上的投影重叠，如清除的非光照区，则第二图案131与第一图案121在第一基底11上的投影互补。
如图6所示，在一种实施方式中，第二表面设有第一粘胶层15，在第一材料12上形成第一图案121后，第一图案121与第一粘胶层15粘接，即通过第一粘胶层15连接第一图案121和第一基底11。
在一种实施方式中，第一基底11为至少两层基板，如图7所示，第一基底11包括第一基板111和第二基板113。
在一种实施方式中，基板之间通过第二粘胶层112粘接，在一种实施方式中，如图7所示，第一基板111和第二基板113之间通过第二粘胶层112粘结。
在一种实施方式中，第二材料13采用第二透明材料，由此，当第一材料12和基底也均为透明材料时，产品的整体美观程度将大大提升，可以满足人们日益丰富的产品外观设计需求。其中，第一透明材料需要具备反射或吸收的功能，如此第一透明材料上的第一图案121才能作为形成第二图案131的光罩，而第二材料13可以不具备反射或吸收的功能。
根据上述实施方式，通过选择第一图案121和第二图案131在第一基底11上的投影是重叠或互补；基底是单层或多层；在多层的情况下第一图案121、第二图案131分别在第二基底14、第一基底11上的朝向；以及第一材料12和第二材料13是否透明等情况，至少可以有如下实施方式：
一、单层双面图案重叠结构
如图8所示，第一基底11为单层基板，第一基底11的两侧分别有第一图案121和第二图案131，第一图案121和第二图案131在第一基底11的投影相互重叠。第一图案121位于靠近光源一侧。
二、单层双面图案互补结构
如图9所示，第一基底11为单层基板，第一基底11的两侧分别有第一图案121和第二图案131，第一图案121和第二图案131在第一基底11的投影互补。第一图案121位于靠近光源一侧。
三、双层异向图案重叠结构
如图10所示，第一基底11为双层基板，包括第一基板111和第二基板113。基板之间采用第二粘胶层112连接，第一基底11的两侧分别有第一图案121和第二图案131，第一图案121和第二图案131在第一基底11的投影相互重叠。第一图案121位于靠近光源一侧。
四、双层异向图案互补结构
如图11所示，第一基底11为双层基板，包括第一基板111和第二基板113。基板之间采用第二粘胶层112连接，第一基底11的两侧分别有第一图案121和第二图案131，第一图案121和第二图案131在第一基底11的投影互补。第一图案121位于靠近光源一侧。
五、双层同向图案重叠结构
如图12所示，第一基底11为单层基板，第二基底14也为单层基板，第一基底11位于第二基底14背离光源的一侧，第一基底11背离第二基底14的一侧为第一表面，第一基底11朝向第二基底14的一侧为第二表面，第二基底14朝向第一基底11的一侧为第三表面；
第一材料12设于第三表面，在第一材料12上形成第一图案121，第一图案121位于第一基底11和第二基底14之间，第一图案121与第二基底14通过第一粘胶层15连接；第二材料13设于第一表面，在第二材料13上形成第二图案131。如此形成的第一图案121、第二图案131分别位于第二基底14、第一基底11背离光源的一侧。在其他实施方式中，第一图案121、第二图案131分别位于第二基底14、第一基底11朝向光源的一侧。第一图案121和第二图案131在第一基底11的投影相互重叠。
六、双层同向图案互补结构
如图13所示，第一基底11为单层基板，第二基底14也为单层基板，第一基底11位于第二基底14背离光源的一侧，第一基底11背离第二基底14的一侧为第一表面，第一基底11朝向第二基底14的一侧为第二表面，第二基底14朝向第一基底11的一侧为第三表面；
第一材料12设于第三表面，在第一材料12上形成第一图案121，第一图案121位于第一基底11和第二基底14之间，第一图案121与第二基底14通过第一粘胶层15连接；第二材料13设于第一表面，在第二材料13上形成第二图案131。如此形成的第一图案121、第二图案131分别位于第二基底14、第一基底11背离光源的一侧。在其他实施方式中，第一图案121、第二图案131分别位于第二基底14、第一基底11朝向光源的一侧。第一图案121和第二图案131在第一基底11的投影互补。
七、单层双面图案部分透明结构
如图14所示，第一基底11为单层基板，第一基底11的两侧分别有第一材料12和第二材料13，第一材料12采用第一透明材料，该第一透明材料具有吸收或反射光线的功能，所形成的第一图案121为透明图案。第一图案121位于靠近光源一侧。第二材料13为非透明材料，所形成的第二图案131为非透明图案，从整体来看，用户肉眼看不见第一图案121，用于满足有些产品需要显示第二图案131而隐藏第一图案121的情形。
在本实施例的基础上，还可以选择第一图案121和第二图案131在第一基底11上的投影是重叠或互补；基底是单层或多层；以及在多层的情况下第一图案121、第二图案131在分别第二基底14、第一基底11上的朝向等，在此不进一步赘述。
八、单层双面图案全透明结构
如图15所示，第一基底11为单层基板，基板采用透明材料，第一基底11的两侧分别有第一材料12和第二材料13，第一材料12采用第一透明材料，该第一透明材料具有吸收或反射光线的功能，所形成的第一图案121为透明图案。第一图案121位于靠近光源一侧。第二材料13为第二透明材料，所形成的第二图案131也为透明图案，从整体来看，产品整体呈现透明结构。
在本实施例的基础上，还可以选择第一图案121和第二图案131在第一基底11上的投影是重叠或互补；基底是单层或多层；以及在多层的情况下第一图案121、第二图案131在分别第二基底14、第一基底11上的朝向等，在此不进一步赘述。
本发明的上述实施方案，可以实现如下技术效果：
(1)直接利用产品中的第一图案作为光罩，加工形成第二图案。减少了加工步骤，提高加工效率。
(2)无需对位，减少因对位产生的偏位问题，提升良率；
(3)减少治工具投入和维护；
(4)提升图案间相对精度，降低后续工艺的作业难度。
以上所揭露的仅为本发明一种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种图案成型方法，其特征在于，包括：
提供第一基底，所述第一基底的相对两侧设有第一材料和第二材料；
在所述第一材料上形成第一图案；
所述第二材料是感光材料，根据所述第一图案在所述第二材料上形成第二图案，所述第二图案与所述第一图案相同或互补。
2.如权利要求1所述的图案成型方法，其特征在于，根据所述第一图案在所述第二材料上形成第二图案，包括：
利用光线照射所述第一图案，所述光线依次穿过所述第一图案和所述第一基底照射到所述第二材料上，使得所述第二材料上的光照区的性质发生变化，清除所述光照区或非光照区，从而形成所述第二图案。
3.如权利要求2所述的图案成型方法，其特征在于，所述第二材料采用正向感光材料，清除所述正向感光材料的所述光照区形成的所述第二图案与所述第一图案在所述第一基底上的投影重叠。
4.如权利要求2所述的图案成型方法，其特征在于，所述第二材料采用负向感光材料，清除所述负向感光材料的所述非光照区形成的所述第二图案与所述第一图案在所述第一基底上的投影互补。
5.如权利要求1－4任一项所述的图案成型方法，其特征在于，所述第一材料采用第一透明材料，所述第一透明材料能够反射或吸收光线，在所述第一透明材料上形成所述第一图案。
6.如权利要求2－4任一项所述的图案成型方法，其特征在于：
提供所述第一基底和第二基底，所述第一基底背离所述第二基底的一侧为第一表面，所述第一基底朝向所述第二基底的一侧为第二表面，所述第二基底朝向所述第一基底的一侧为第三表面；
所述第一材料设于所述第三表面，在所述第一材料上形成所述第一图案；
将所述第一图案与所述第二表面连接；
所述第二材料设于所述第一表面，所述光线依次穿过所述第二基底、所述第一图案和所述第一基底照射到所述第二材料上，使得所述第二材料上的所述光照区的性质发生变化，清除所述光照区或所述非光照区，从而形成所述第二图案。
7.如权利要求6所述的图案成型方法，其特征在于，所述第二表面设有第一粘胶层，所述第一图案与所述第一粘胶层粘接。
8.如权利要求1－4任一项所述的图案成型方法，其特征在于，所述第一基底为至少两层基板。
9.如权利要求8所述的图案成型方法，其特征在于，所述基板之间通过第二粘胶层粘接。
10.如权利要求1－4任一项所述的图案成型方法，其特征在于，所述第二材料采用第二透明材料。
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