CN114908330A - 搬送装置、成膜装置及控制方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供能够在抑制辊群间的搬送速度差的产生的同时进行搬送速度的加速或者减速的搬送装置、成膜装置及控制方法。搬送装置具备：第一辊群，搬送基板；第二辊群，相对于上述第一辊群连续地配置在上述基板的搬送方向的上述第一辊群的下游侧，搬送上述基板；以及控制部件，控制上述第一辊群及上述第二辊群，上述控制部件在上述第一辊群以第一搬送速度搬送上述基板的途中，在将上述第一辊群及上述第二辊群的搬送速度变更为第二搬送速度的情况下，控制上述第一辊群及上述第二辊群，使得在上述基板到达上述第二辊群之前，上述第一辊群及上述第二辊群的搬送速度达到上述第二搬送速度。

Description

搬送装置、成膜装置及控制方法
技术领域
本发明涉及基板的搬送技术，特别涉及搬送装置、成膜装置及控制方法。
背景技术
在有机EL显示器等的制造中，已知有为了搬送基板而使用辊式输送机的技术(例如专利文献1)。多个辊的控制以规定的区域为单位进行。在专利文献1的装置中，以腔室为单位控制辊群。
在先技术文件
专利文献
专利文献1：日本特开2014-141706号公报
在基板从一个辊群向另一个辊群转移时，若辊群间的搬送速度差大，则在基板与辊之间产生滑动。这成为损伤基板或降低搬送精度的主要原因。因此，各辊群的搬送速度基本上被控制为一定，但根据制造设备的状况，有时需要加减速，有时辊群间的搬送速度差变大。
发明内容
本发明提供一种能够在抑制辊群间的搬送速度差的产生的同时，进行搬送速度的加速或减速的技术。
用于解决课题的方案
根据本发明，提供一种搬送装置，该搬送装置具备：
第一辊群，搬送基板；
第二辊群，相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板；以及
控制部件，控制所述第一辊群及所述第二辊群，
其特征在于，
所述控制部件在所述第一辊群以第一搬送速度搬送所述基板的途中，在将所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度变更为第二搬送速度的情况下，控制所述第一辊群及所述第二辊群，使得在所述基板到达所述第二辊群之前，所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度达到所述第二搬送速度。
此外，根据本发明，提供一种搬送装置，该搬送装置具备：
第一辊群，搬送基板；
第二辊群，相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板；以及
控制部件，控制所述第一辊群及所述第二辊群，
其特征在于，
所述控制部件在所述第一辊群以第一搬送速度搬送所述基板的途中，在将所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度变更为比所述第一搬送速度快的第二搬送速度的情况下，以与变更前后的搬送速度差相应的速度变化曲线对所述第一辊群及所述第二辊群进行加速控制。
此外，根据本发明，提供一种搬送装置，该搬送装置具备：
第一辊群，搬送基板；
第二辊群，相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板；以及
控制部件，控制所述第一辊群及所述第二辊群，
其特征在于，
所述控制部件在所述第一辊群以第一搬送速度搬送所述基板的途中，在将所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度变更为比所述第一搬送速度慢的第二搬送速度的情况下，以与变更前后的搬送速度差相应的速度变化曲线对所述第一辊群及所述第二辊群进行减速控制。
此外，根据本发明，提供一种搬送装置，该搬送装置具备：
第一辊群，搬送基板；
第二辊群，相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板；以及
控制部件，控制所述第一辊群及所述第二辊群，
其特征在于，
所述控制部件在由所述第一辊群进行的所述基板的搬送途中变更所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度的情况下，与变更前后的搬送速度差相应地，立即开始变更搬送速度或者在所述基板通过了所述第一辊群后开始变更搬送速度。
此外，根据本发明，提供一种成膜装置，其特征在于，
该成膜装置具备：
所述搬送装置；以及
蒸发源，在由所述搬送装置搬送的基板上进行成膜。
此外，根据本发明，提供一种控制方法，控制第一辊群及第二辊群，该第一辊群搬送基板，该第二辊群相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板，
其特征在于，
在所述第一辊群以第一搬送速度搬送所述基板的途中，在将所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度变更为第二搬送速度的情况下，控制所述第一辊群及所述第二辊群，使得在所述基板到达所述第二辊群之前，所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度达到所述第二搬送速度。
此外，根据本发明，提供一种控制方法，控制第一辊群及第二辊群，该第一辊群搬送基板，该第二辊群相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板，
其特征在于，
在所述第一辊群以第一搬送速度搬送所述基板的途中，在将所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度变更为比所述第一搬送速度快的第二搬送速度的情况下，以与变更前后的搬送速度差相应的速度变化曲线对所述第一辊群及所述第二辊群进行加速控制。
此外，根据本发明，提供一种控制方法，控制第一辊群及第二辊群，该第一辊群搬送基板，该第二辊群相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板，
其特征在于，
在所述第一辊群以第一搬送速度搬送所述基板的途中，在将所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度变更为比所述第一搬送速度慢的第二搬送速度的情况下，以与变更前后的搬送速度差相应的速度变化曲线对所述第一辊群及所述第二辊群进行减速控制。
此外，根据本发明，提供一种控制方法，控制第一辊群及第二辊群，该第一辊群搬送基板，该第二辊群相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板，
其特征在于，
在由所述第一辊群进行的所述基板的搬送途中变更所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度的情况下，与变更前后的搬送速度差相应地，立即开始变更搬送速度或者在所述基板通过了所述第一辊群后开始变更搬送速度。
发明的效果
根据本发明，能够提供一种能够在抑制辊群间的搬送速度差的产生的同时进行搬送速度的加速或减速的技术。
附图说明
图1是成膜装置及其控制装置的示意图。
图2是关于搬送速度的变更的说明图。
图3(A)～(C)是表示速度变化曲线的例子的图。
图4(A)是表示速度变化曲线的例子的图，(B)是表示PLC的处理例的流程图。
图5(A)及(B)是表示搬送速度差与速度变化曲线的对应关系的表的例子的图。
图6(A)是表示搬送速度的变更时刻的例子的图，(B)及(C)是表示速度变化曲线的例子的图。
图7是表示PLC的另一处理例的流程图。
图8(A)是有机EL显示装置的整体图，(B)是表示1个像素的截面构造的图。
附图标记的说明
1成膜装置、2搬送装置、4控制装置、7基板、RG1～RG5辊群。
具体实施方式
以下，参照附图详细说明实施方式。另外，以下的实施方式并不限定权利要求书所涉及的发明。虽然在实施方式中记载了多个特征，但这些多个特征并不全部限定于发明所必需的特征，另外，也可以任意地组合多个特征。并且，在附图中，对相同或同样的结构标注相同的附图标记，省略重复的说明。
[第一实施方式]
[成膜装置的概要]
图1是应用了本发明的一实施方式的搬送装置2的成膜装置1及其控制装置4的示意图。在本实施方式中，作为本发明的应用例例示了成膜装置，但本发明也能够应用于其它的装置中的基板的搬送。另外，在各图中，箭头X及Y表示相互正交的水平方向，箭头Z表示垂直方向(铅垂方向)。成膜装置1包括搬送装置2和多个蒸镀装置3。多个蒸镀装置3沿X方向排列配置，搬送装置2配置在这些蒸镀装置3的上方。
搬送装置2具备搬送单元2A～2E。搬送单元2A～2E在X方向上排列配置，在X方向上搬送基板7。在本实施方式的情况下，基板7与掩模8一起由载体9搬送。搬送单元2B～2D与各蒸镀装置3对应地与源腔室3a连通地设置，在利用蒸镀装置3进行成膜的过程中搬送基板7。
搬送单元2A、2E是成为搬送速度调整基准的单元。在成膜装置1中，基本上以一定的速度搬送基板7。但是，有时根据包括成膜装置1的制造设备的状况来变更基板7的搬送速度。在变更基板7的搬送速度的情况下，通过搬送单元2A、2E进行加减速，其下游侧的搬送单元按照上游侧的搬送速度进行搬送。例如，当在搬送单元2A中变更基板7的搬送速度时，搬送单元2A～2E以变更后的搬送速度搬送基板7。
各搬送单元2A～2E具备搬送腔室2a，该搬送腔室2a在内部形成有在使用时维持为真空的搬送室。在搬送腔室2a的X方向的一端部设有搬入口2c，在另一端部设有搬出口2d，基板7从搬入口2c被搬入到搬送腔室2a内，从搬出口2d被搬出到外部。在搬入口2a和搬出口2d也可以设置闸阀。基板7从上游侧的装置(未图示)被搬入到搬送单元2A，搬送单元2E将基板7搬出到下游侧的装置(未图示)。
搬送单元2A～2E具备辊群RG1～RG5。各辊群RG1～RG5由沿X方向排列的多个搬送辊2b构成。该搬送辊2b的列在Y方向上分开配置两列。各搬送辊2b绕Y方向的旋转轴旋转。基板7(载体9)的Y方向的两端部载置于两列搬送辊2b，通过搬送辊2b的旋转而在X方向上以水平姿势搬送基板7(载体9)。
辊群RG1～RG5中的辊群RG1位于最上游侧。辊群RG2在辊群RG1的下游侧相对于辊群RG1连续地配置。辊群RG3在辊群RG2的下游侧相对于辊群RG2连续地配置。辊群RG4在辊群RG3的下游侧相对于辊群RG3连续地配置。辊群RG5在辊群RG4的下游侧相对于辊群RG4连续地配置。
各蒸镀装置3具备形成使用时维持为真空的内部空间的源腔室3a。源腔室3a具有在上部形成有开口部的箱型，搬送单元2B～2D的搬送腔室2a与源腔室3a的内部空间经由开口部相连通。蒸镀装置3具备向上方放出蒸镀物质3c的蒸镀源3b。本实施方式的蒸镀源6是所谓的线源，在与搬送装置2中的处理对象物的搬送方向(X方向)交叉的方向(在本实施方式中为与搬送方向正交的Y方向)上延伸设置。蒸镀源6具备收容蒸镀物质6a的原材料的坩埚、加热坩埚的加热器等，加热原材料而向搬送腔室2a放出作为其蒸气的蒸镀物质3c。
成膜装置1是能够一边利用搬送装置2搬送处理对象物(搬送工序)一边利用蒸镀装置3在基板7上蒸镀蒸镀物质(蒸镀工序)的执行成膜方法的直列型的成膜装置。成膜装置1例如能够应用于制造显示装置(平板显示器等)、薄膜太阳能电池、有机光电转换元件(有机薄膜摄像元件)等电子器件、光学构件等的执行电子器件的制造方法的制造装置。基板7与掩模8一起在X方向上被搬送，通过位于基板7的下侧的掩模8将蒸镀物质3c蒸镀在基板7上，由此能够在基板7上形成规定图案的蒸镀物质的薄膜。基板7是由例如玻璃、树脂、金属等材料构成的板材，作为蒸镀物质3c，是有机材料、无机材料(金属、金属氧化物等)等物质。
在本实施方式中，多个蒸镀装置3配置在基板10的搬送方向上。在利用蒸镀装置3放出不同种类的蒸镀物质的情况下，能够在基板10上连续地蒸镀不同的蒸镀物质。另外，蒸镀装置3的数量不限于三个，可以是一个或两个，也可以是四个以上。
成膜装置1具备控制装置4。控制装置4包括分别分配给搬送单元2A～2E的控制单元4A～4E。控制单元4A～4E在本实施方式的情况下是PLC(可编程控制器)。各控制单元4A～4E具有CPU等处理器、存储装置、与外部装置连接的接口，通过处理器执行存储在存储装置中的程序，进行对应的辊群RG1～RG5的驱动控制。控制单元4A～4E能够相互通信地连接。
辊群RG1～RG5以马达为驱动源。马达可以设置在每个搬送辊2b上，也可以在每个辊群RG1～RG5上设置一个，通过齿轮机构等传递机构将驱动力传递到同一辊群内的各搬送辊2b上。控制单元4A～4E控制对应的辊群RG1～RG5的马达。例如，控制单元4A控制辊群RG1的马达，控制单元4B控制辊群RG2的马达。同一辊群内的各搬送辊2b同步旋转。例如辊群RG1的各搬送辊2b以相同的旋转速度被驱动，并且加速、减速也被同步地控制。
各控制单元4A～4E根据对应的传感器5A～5E的检测结果控制对应的辊群RG1～RG5的马达。传感器5A～5E与搬送单元2A～2E对应，例如，传感器5A设置在搬送单元2A上。各传感器5A～5E包括检测搬送辊2b的旋转速度的传感器(例如旋转编码器)、检测基板7的搬送方向的位置的传感器(例如在X方向上配置多个，检测基板7的有无的光学传感器等)。
输入装置6A、6B是受理操作者的指示的受理单元，例如是触摸面板。输入装置6A与控制单元4A连接，输入装置6B与控制单元4E连接。在变更基板7的搬送速度的情况下，操作者能够从输入设备6A或输入设备6B发出变更基板7的搬送速度的指示。
[搬送速度的变更]
各控制单元4A～4E以相同的搬送速度控制辊群RG1～RG5。当从输入装置6A有搬送速度的变更指示时，将搬送速度控制为变更后的目标搬送速度。下面，对基于控制单元4A及4B的辊群RG1～RG5的搬送速度的变更例进行说明。图2是其说明图。
当从操作者经由输入装置6A对PLC4A进行目标搬送速度的变更指示时，PLC4A根据变更指示变更辊群RG1的搬送速度。另外，PLC4A对PLC4B进行目标搬送速度的变更指示。PLC4B根据变更指示变更辊群RG2的搬送速度。
图2假设在利用辊群RG1搬送基板7的途中变更搬送速度的情况。在辊群RG1与辊群RG2之间产生搬送速度之差的阶段，若基板7到达辊群RG2，则基板7成为向具有速度差的辊群RG1和辊群RG2双方搬送的状态，导致搬送辊2b的滑动。因此，在本实施方式中，控制辊群RG2，以使在基板7到达辊群RG2之前，辊群RG2的搬送速度达到变更后的搬送速度。
图2为在时间T1仅用辊群RG1搬送基板7的状态。控制单元4A从该状态起将辊群RG1的搬送速度变更为目标搬送速度。另外，从控制单元4A接收到指示的控制单元4B也将辊群RG2的搬送速度变更为相同的目标搬送速度。基板7被搬送距离L后到达辊群RG2。在该到达时间T2之前完成辊群RG1以及辊群RG2的搬送速度的变更。
图3(A)例示了将搬送速度从速度V0向V1加速的情况下的、辊群RG1的搬送速度的速度变化曲线PF1和辊群RG2的搬送速度的速度变化曲线PF2。在图示的例子中，速度变化曲线是线性的，加速度是恒定的(以下，其它的例子也相同)。
速度变化曲线PF1在时间T1开始辊群RG1的加速，在比时间T2早的时刻完成向目标搬送速度的加速。速度变化曲线PF2在时间T1'开始辊群RG2的加速，在比时间T2早的时刻完成向目标搬送速度的加速。由于控制装置4B通过从控制装置4A接收变更指示而开始控制，所以将时间T1和时间T1'之间的时滞假定为其延迟。速度变化曲线PF2是与速度变化曲线PF1相同的曲线。
图3(B)例示了将搬送速度从速度V0向V2加速的情况下的、辊群RG1的搬送速度的速度变化曲线PF1和辊群RG2的搬送速度的速度变化曲线PF2。速度V2比速度V1快，速度V0与速度V2的速度差比速度V0与速度V1的速度差大。在该例中，作为速度变化曲线PF1、PF2，如果使用与图3(A)相同的速度变化曲线PF1、PF2，则辊群RG1在比时间T2早的时刻完成向目标搬送速度的加速，但是辊群RG2赶不上时间T2，在时间T2的时间点的搬送速度是比速度V2慢的V2'。因此，基板7成为由具有速度差的辊群RG1和辊群RG2搬送的状况，搬送辊2b产生滑动。
因此，在如图3(B)那样变更前后的搬送速度的速度差大的情况下，使用与速度变化曲线PF1不同的速度变化曲线作为速度变化曲线PF2。图3(C)表示其一例。速度变化曲线PF2是加速比速度变化曲线PF1快的变化曲线。由此，辊群RG2也能够在比时间T2早的时刻完成向目标搬送速度的加速。在图3(C)的例子的情况下，速度变化曲线PF1也同样考虑到将加速变更为陡急的变化曲线，但基板7的搬送速度的加减速尽可能平缓在搬送精度方面是有利的。因此，作为速度变化曲线PF1、PF2，采用在可能的范围内变化平缓的速度变化曲线，并且仅在速度差大而来不及变速的情况下采用变化陡急的速度变化曲线是有利的。
搬送速度减速时也同样。图4(A)示出了在图2的状况下由于变更前后的搬送速度的速度差大而使辊群GR1和辊群GR2的速度变化曲线不同的例子，例示了将搬送速度从速度V0向V3减速的情况下的、辊群RG1的搬送速度的速度变化曲线PF1和辊群RG2的搬送速度的速度变化曲线PF2。速度变化曲线PF2是减速比速度变化曲线PF1快的变化曲线。由此，辊群RG2也能够在比时间T2早的时刻完成向目标搬送速度的加速。
图4(B)是表示搬送速度变更时的控制单元4A及4B的处理例的流程图。控制单元4A在S1中经由输入装置6A受理操作者发出的搬送速度的变更指示。在S2中，将搬送速度的变更指示与变更后的搬送速度(控制的目标搬送速度)一起发送给控制单元4B。在S3中设定速度变化曲线PF1(在本实施方式的情况下设定加速度或减速度)。在S4中，以在S3中设定的速度变化曲线PF1进行辊群GR1的速度变更。
控制单元4B在S11中从控制单元4A接收搬送速度的变更指示。在S12中设定速度变化曲线PF2(在本实施方式的情况下设定加速度或减速度)。在S13中，以在S12中设定的速度变化曲线PF2进行辊群GR2的速度变更。
在S3、S12的速度变化曲线的设定中，运算变更前后的搬送速度的速度差，并根据速度差来设定速度变化曲线。此时，也可以预先准备表示速度差和速度变化曲线的对应关系的表，并将其存储在控制单元4A、4B的存储装置中，读出并进行设定。图5(A)示出了加速时使用的表的例子。“上游”表示辊群GR1的速度变化曲线(加速度)，“下游”表示辊群GR2的速度变化曲线(加速度)。
在速度差小于v1的情况下，辊群GR1和GR2的加速度相同(α1)。若速度差为v1以上，则辊群GR1和辊群GR2的加速度不同，辊群GR2的加速度大(β1>α1、β2>α2)。
图5B示出减速时使用的表的示例。与加速时使用的表具有相同的内容。在速度差小于v1的情况下，辊群GR1和GR2的加速度相同(α11)。若速度差为v1以上，则辊群GR1和辊群GR2的加速度不同，辊群GR2的加速度大(β11>α11、β12>α12)。
在图5(A)和图5(B)的例子中，辊群GR1的加速度、减速度也设定有多种，但辊群GR1的加速度、减速度也可以为一种(加速时仅为α1，减速时仅为α11)。但是，在该情况下，可变更的搬送速度的范围的限制变强。
如上所述，在本实施方式中，能够提供一种能够抑制辊群GR1、GR2之间的搬送速度差的产生，并且能够使搬送速度加速或减速的技术。
[第二实施方式]
在第一实施方式中，作为加速期间、减速期间，假定图2的距离L是固定的距离。但是，距离L也可以是可变的，也可以是在从操作者接受到变更指示的任意时刻设定的距离。由于距离L不同，加速期间、减速期间不同。在这种情况下，根据距离L来设定速度变化曲线。因此，也可以根据距离L准备图5(A)及图5(B)所例示的表，并存储在控制单元4A、4B的存储装置中。
[第三实施方式]
在第一实施方式中，控制辊群RG2的加速度或减速度，以使在基板7到达辊群RG2之前，辊群RG2的搬送速度达到变更后的搬送速度。但是，也可以不变更加速度或减速度而变更加速开始时刻、减速开始时刻。例如，也可以根据变更前后的速度差，使控制单元4A向控制单元4B发出变更指示的时刻(在图2的例子中为时间T1)提前。
[第四实施方式]
在第一实施方式中，控制辊群RG2，以使在基板7到达辊群RG2之前，辊群RG2的搬送速度达到变更后的搬送速度。但是，在辊群G2的搬送速度来不及变更的情况下，也可以在基板7通过了辊群RG1之后开始速度变更。图6(A)是其说明图。
假设在基板7的基于辊群GR1的搬送途中，与来自操作者的搬送速度的变更指示对应地在时间T1开始变更搬送速度的情况。在推定为基板7到达辊群RG2之前辊群RG2的搬送速度达到变更后的搬送速度的情况下(与图3A相同的情况)，立即开始变更搬送速度。该推定能够以变更前后的搬送速度的速度差为基准(例如以图5(A)及图5(B)的速度差v1为阈值)。
在推定为辊群G2的搬送速度来不及变更的情况下(与图3(B)相同的情况下)，不变更搬送速度而继续进行基板7的搬送，在基板7通过辊群GR1的时间T3的时刻，变更辊群G1和G2的搬送速度。辊群GR2一边变更搬送速度一边搬送基板7，辊群GR1一边变更搬送速度一边搬送接下来搬入的基板7。
图6(B)是在基板7通过辊群GR1的时间T3的时刻变更辊群G1和G2的搬送速度的例子，例示了加速时的速度变化曲线PF1和PF2。在时间T1的阶段不进行搬送速度的加速，在时间T3的阶段进行搬送速度的加速。辊群GR1的速度变化曲线PF1和辊群GR2的速度变化曲线PF2为相同的速度变化曲线(加速度)。图6(C)表示减速时的例子，与加速时相同。
图7是表示本实施方式中的搬送速度变更时的控制单元4A及4B的处理例的流程图。控制单元4A在S21中经由输入装置6A受理操作者的搬送速度的变更指示。在S22中，计算变更前后的搬送速度的速度差，判定是否为阈值(v1)以上。如果在阈值以上，则判断为辊群G2的搬送速度来不及变更，进入S23，如果小于阈值，则判断为来得及变更，进入S24。
在S23中，不变更搬送速度而继续搬送直到基板7通过辊群GR1为止。在S24中，控制单元4A将搬送速度的变更指示与变更后的搬送速度(控制的目标搬送速度)一起发送给控制单元4B。在S25中，控制单元4A进行辊群GR1的速度变更直到目标搬送速度为止。速度变化曲线使用预先确定的一种变化曲线。
控制单元4B在S31中从控制单元4A接收搬送速度的变更指示。在S32中，进行辊群GR2的速度变更直到目标搬送速度为止。速度变化曲线与辊群GR1相同，使用预先确定的一种变化曲线。
[电子器件]
接着，说明电子器件的一例。以下，作为电子器件的例子，例示有机EL显示装置的结构。
首先，对制造的有机EL显示装置进行说明。图8(A)是有机EL显示装置500的整体图，图8(B)是表示一个像素的截面结构的图。
如图8(A)所示，在有机EL显示装置500的显示区域51呈矩阵状配置有多个具备多个发光元件的像素52。细节将在后面详细说明，发光元件分别具有具备被一对电极夹着的有机层的构造。
另外，在此所说的像素，是指在显示区域51中能够显示所希望的颜色的最小单位。在彩色有机EL显示装置的情况下，通过显示互不相同的发光的第一发光元件52R、第二发光元件52G、第三发光元件52B的多个子像素的组合而构成像素52。像素52大多通过红色(R)发光元件、绿色(G)发光元件和蓝色(B)发光元件这三种子像素的组合而构成，但不限定于此。像素52只要包含至少一种子像素即可，优选包含两种以上的子像素，更优选包含三种以上的子像素。作为构成像素52的子像素，例如，可以是红色(R)发光元件、绿色(G)发光元件、蓝色(B)发光元件和黄色(Y)发光元件这四种子像素的组合。
图8(B)是图8(A)的A－B线处的局部剖视示意图。像素52在基板10上具有由有机EL元件构成的多个子像素，该有机EL元件具备第一电极(阳极)54、空穴输送层55、红色层56R-绿色层56G-蓝色层56B中的任一方、电子输送层57、第二电极(阴极)58。它们当中的空穴输送层55、红色层56R、绿色层56G、蓝色层56B、电子输送层57相当于有机层。红色层56R、绿色层56G、蓝色层56B分别形成为与发出红色光、绿色光、蓝色光的发光元件(也有时记载为有机EL元件)相对应的图案。
此外，第一电极54针对每一个发光元件分离地形成。空穴输送层55、电子输送层57和第二电极58既可以以与多个发光元件52R、52G、52B共同的方式形成，也可以针对每一个发光元件而形成。即，如图8(B)所示，也可以是，空穴输送层55在多个子像素区域中作为共同的层形成，在此之上红色层56R、绿色层56G、蓝色层56B针对每个子像素区域分离地形成，进一步在其上电子输送层57和第二电极58在多个子像素区域中作为共同的层形成。
另外，为了防止接近的第一电极54之间的短路，在第一电极54间设有绝缘层59。而且，由于有机EL层因水分和氧而劣化，所以设置有用于保护有机EL元件免受水分和氧影响的保护层60。
在图8(B)中，空穴输送层55和电子输送层57由一个层表示，但也可以根据有机EL显示元件的构造而由具有空穴阻挡层和电子阻挡层的多个层形成。另外，也可以在第一电极54和空穴输送层55之间形成具有能带构造的空穴注入层，以能够使空穴从第一电极54顺利地注入到空穴输送层55。同样，也可以在第二电极58与电子输送层57之间也形成电子注入层。
红色层56R、绿色层56G、蓝色层56B分别可以由单一的发光层形成，也可以通过层叠多个层而形成。例如，也可以由两层构成红色层56R，由红色的发光层形成上侧的层，由空穴输送层或电子阻挡层形成下侧的层。或者，也可以由红色发光层形成下侧的层，由电子输送层或空穴阻挡层形成上侧的层。通过这样在发光层的下侧或上侧设置层，具有通过调整发光层中的发光位置、调整光路长度来提高发光元件的色纯度的效果。
另外，在此示出了红色层56R的例子，但绿色层56G、蓝色层56B也可以采用同样的构造。另外，层叠数也可以为2层以上。而且，可以层叠如发光层和电子阻挡层那样不同材料的层，也可以层叠例如2层以上发光层等相同材料的层。
在这样的电子器件的制造中，能够应用上述的成膜装置1，该制造方法能够包括：搬送工序，利用搬送装置2搬送基板53；以及蒸镀工序，利用蒸镀装置3在搬送的基板53上蒸镀各层中的至少任一层。
[其它的实施方式]
本发明还能够通过以下的处理来实现：经由网络或存储介质向系统或装置供给实现上述实施方式的一个以上的功能的程序，系统或装置的计算机中的一个以上的处理器读取并执行程序。此外，也能够通过实现一个以上的功能的电路(例如ASIC)来实现。
本发明不限于上述实施方式，在不脱离发明的精神和范围的情况下，能够进行各种变更和变形。因此，为了公开本发明的范围，附加了权利要求。

Claims (16)

1.一种搬送装置，该搬送装置具备：
第一辊群，搬送基板；
第二辊群，相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板；以及
控制部件，控制所述第一辊群及所述第二辊群，
其特征在于，
所述控制部件在所述第一辊群以第一搬送速度搬送所述基板的途中，在将所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度变更为第二搬送速度的情况下，控制所述第一辊群及所述第二辊群，使得在所述基板到达所述第二辊群之前，所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度达到所述第二搬送速度。
2.一种搬送装置，该搬送装置具备：
第一辊群，搬送基板；
第二辊群，相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板；以及
控制部件，控制所述第一辊群及所述第二辊群，
其特征在于，
所述控制部件在所述第一辊群以第一搬送速度搬送所述基板的途中，在将所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度变更为比所述第一搬送速度快的第二搬送速度的情况下，以与变更前后的搬送速度差相应的速度变化曲线对所述第一辊群及所述第二辊群进行加速控制。
3.根据权利要求2所述的搬送装置，其特征在于，
所述控制部件在所述搬送速度差小于规定速度的情况下，以与所述第一辊群的速度变化曲线相同的速度变化曲线对所述第二辊群进行加速控制，在所述搬送速度差为所述规定速度以上的情况下，以加速比所述第一辊群的速度变化曲线快的速度变化曲线对所述第二辊群进行加速控制。
4.一种搬送装置，该搬送装置具备：
第一辊群，搬送基板；
第二辊群，相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板；以及
控制部件，控制所述第一辊群及所述第二辊群，
其特征在于，
所述控制部件在所述第一辊群以第一搬送速度搬送所述基板的途中，在将所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度变更为比所述第一搬送速度慢的第二搬送速度的情况下，以与变更前后的搬送速度差相应的速度变化曲线对所述第一辊群及所述第二辊群进行减速控制。
5.根据权利要求4所述的搬送装置，其特征在于，
所述控制部件在所述搬送速度差小于规定速度的情况下，以与所述第一辊群的速度变化曲线相同的速度变化曲线对所述第二辊群进行减速控制，在所述搬送速度差为所述规定速度以上的情况下，以减速比所述第一辊群的速度变化曲线快的速度变化曲线对所述第二辊群进行减速控制。
6.根据权利要求2所述的搬送装置，其特征在于，
所述控制部件基于表示所述搬送速度差与所述速度变化曲线的对应关系的表，对所述第一辊群及所述第二辊群进行加速控制。
7.根据权利要求4所述的搬送装置，其特征在于，
所述控制部件基于表示所述搬送速度差与所述速度变化曲线的对应关系的表，进行所述第一辊群及所述第二辊群的减速控制。
8.一种搬送装置，该搬送装置具备：
第一辊群，搬送基板；
第二辊群，相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板；以及
控制部件，控制所述第一辊群及所述第二辊群，
其特征在于，
所述控制部件在由所述第一辊群进行的所述基板的搬送途中变更所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度的情况下，与变更前后的搬送速度差相应地，立即开始变更搬送速度或者在所述基板通过了所述第一辊群后开始变更搬送速度。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的搬送装置，其特征在于，
该搬送装置具备受理部件，该受理部件受理所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度的、基于操作者的指示。
10.根据权利要求1至8中任一项所述的搬送装置，其特征在于，
所述第一辊群同步地旋转，且所述第二辊群同步地旋转。
11.根据权利要求1至8中任一项所述的搬送装置，其特征在于，
所述控制部件包括：
第一控制部件，控制所述第一辊群；以及
第二控制部件，与所述第一控制部件能够通信地连接，控制所述第二辊群，
所述第二控制部件与来自所述第一控制部件的指示相对应地变更所述第二辊群的搬送速度。
12.一种成膜装置，其特征在于，
该成膜装置具备：
权利要求1至8中任一项所述的搬送装置；以及
蒸发源，在由所述搬送装置搬送的基板上进行成膜。
13.一种控制方法，控制第一辊群及第二辊群，该第一辊群搬送基板，该第二辊群相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板，
其特征在于，
在所述第一辊群以第一搬送速度搬送所述基板的途中，在将所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度变更为第二搬送速度的情况下，控制所述第一辊群及所述第二辊群，使得在所述基板到达所述第二辊群之前，所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度达到所述第二搬送速度。
14.一种控制方法，控制第一辊群及第二辊群，该第一辊群搬送基板，该第二辊群相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板，
其特征在于，
在所述第一辊群以第一搬送速度搬送所述基板的途中，在将所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度变更为比所述第一搬送速度快的第二搬送速度的情况下，以与变更前后的搬送速度差相应的速度变化曲线对所述第一辊群及所述第二辊群进行加速控制。
15.一种控制方法，控制第一辊群及第二辊群，该第一辊群搬送基板，该第二辊群相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板，
其特征在于，
在所述第一辊群以第一搬送速度搬送所述基板的途中，在将所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度变更为比所述第一搬送速度慢的第二搬送速度的情况下，以与变更前后的搬送速度差相应的速度变化曲线对所述第一辊群及所述第二辊群进行减速控制。
16.一种控制方法，控制第一辊群及第二辊群，该第一辊群搬送基板，该第二辊群相对于所述第一辊群连续地配置在所述基板的搬送方向上的所述第一辊群的下游侧，搬送所述基板，
其特征在于，
在由所述第一辊群进行的所述基板的搬送途中变更所述第一辊群及所述第二辊群的搬送速度的情况下，与变更前后的搬送速度差相应地，立即开始变更搬送速度或者在所述基板通过了所述第一辊群后开始变更搬送速度。
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