CN114892123A - 一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法 - Google Patents
一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114892123A CN114892123A CN202210561948.9A CN202210561948A CN114892123A CN 114892123 A CN114892123 A CN 114892123A CN 202210561948 A CN202210561948 A CN 202210561948A CN 114892123 A CN114892123 A CN 114892123A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- nitriding
- temperature
- pressure
- stage
- voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 title claims abstract description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 238000002679 ablation Methods 0.000 abstract description 3
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 abstract description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 abstract 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000137852 Petrea volubilis Species 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/36—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding
- C23C8/38—Treatment of ferrous surfaces
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Abstract
一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法，属于热处理工艺技术领域，可解决小孔周围容易出现打弧现象而导致的工件产生弧光烧蚀而失效的问题，该工艺包括：先将有孔零部件预处理，将工件置于氮化炉，通入氮气和氢气，通过炉内气压、工件电压和温度协同调节来消除打弧风险，达到小孔离子氮化效果。氮化温度0.9~1.0 Tw，炉内压力300~6000Pa，电压0~‑1200 V，离子氮化2.0~10.0小时。与传统的离子氮化工艺相比，本发明在离子氮化工艺部分，创新性使用一种温度控制模式，升温过程采用低气压高电压模式，降温过程采用高气压低电压模式，通过调节气压和电压来控制温度，避免打弧，从而提高有孔工件的离子氮化效果。
Description
技术领域
本发明属于热处理工艺技术领域，具体涉及一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法。
背景技术
电渣熔铸过程是利用大电流通过渣阻区域而产生的高温将自耗电极逐渐熔化的过程，电极、渣池、金属熔池、钢锭、底水箱及短网和变压器构成了整个冶炼过程的主回路。当工艺参数在某一冶炼时刻不稳定，导致主回路电流导通不顺畅，在钢锭和结晶器之间产生分流。若出现较大波动时，某一处的分流过高，该处渣衣破裂，钢锭与结晶器之间导通产生弧光放电，就会导致钢锭表面形成孔洞，产生弧点。这种现象就是打弧。
孔分为盲孔和通孔。随着孔径的减小，当逐渐接近产生空心阴极效应尺寸时，极易产生打弧，从而使工件产生弧光烧蚀而失效。
小孔打弧主要由两方面引起，一方面是小孔周围产生油气发生场致发射打弧，这是不可避免的；另一方面与小孔的几何尺寸有关，随着孔径的减小，当逐渐接近产生空心阴极效应尺寸时，局部过热极易产生打弧。
发明内容
本发明针对小孔周围容易出现打弧现象而导致的工件产生弧光烧蚀而失效的问题，提供一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法。该发明在离子氮化过程通过对气压和电压的调节控制小孔周围的温度，有效解决了小孔周围出现的打弧现象，避免了工件产生弧光烧蚀而失效。通过该发明的热处理工艺处理后的基材工件的使用寿命可以大幅提高。
本发明采用如下技术方案：
一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法，包括如下步骤：
第一步，材料预处理，采用常规离子氮化工艺，对材料进行预处理；
第二步，氮化工艺：
在0.9~1.0Tw（Tw：最大渗氮温度）条件下，控制氮气和氢气稳定通入，炉内压力控制在300~6000Pa，BP单极脉冲偏压电源的输出电压为0~-1200V，频率范围为40~60kHz，离子氮化2.0~10.0h。
进一步地，所述氮化工艺参数调节过程如下：低气压时，电压升至最高点-1000~-1200 V，功率到达较高范围，工件温度逐渐升高，称为低气压升温阶段；
温度达到最高点Tw（最大渗氮温度）后，迅速降压至-100~-200 V，同时开始快速充气，是充气阶段；
气压至高点，充气完成，使电压调整至-350~-550 V，进入快速渗氮阶段；
由于电源供给功率降低，工件温度缓慢降低，温度降至0.8~0.9 Tw后，迅速降压至-100~-200 V，开始快速抽气，进入抽气阶段；
炉内气压抽到低气压，进入低气压升温阶段。
低气压升温阶段→充气阶段→快速渗氮阶段→抽气阶段→低气压升温阶段，如此周而复始，直至渗氮结束。
低气压升温阶段和快速渗氮阶段，气压不满足空心阴极效应的条件，小孔不会产生打弧现象；而充气阶段和抽气阶段，电压低于启辉电压，也不会产生打弧所以，在整个离子渗氮过程没有小孔打弧的问题。通过气压和电压的配合，使温度始终在一定范围内周期性上下变化，即避免了小孔由于空心阴极效应引起的打弧失效问题，又有效促进了小孔的离子渗氮。
基于所述氮化处理调控参数，通过下述公式调控渗氮气压参数的调节。
通过公式：
本发明的渗氮原理如下：
离子渗氮被叫做直流离子渗氮，在真空室中工件接直流电源负极，炉体接直流电源正极，之后通入稀薄的含氮气氛到炉内，直流脉冲电源在工件与炉体之间产生高压直流电场，高压直流电场将稀薄含氮气氛中气体电离而发生辉光放电。等离子体中的带电粒子在直流高压电场作用下不断轰击试样表面。离子轰击一方面加热工件，另一方面促进活性氮原子产生，并被工件表面吸附。在合适的保温时间下形成所需要的渗氮层。
本发明的创新点：
①传统的离子氮化工艺采用固定的渗氮温度，而本发明打破温度固定不变的束缚，控制温度在一定范围内上下变化实现离子氮化。
②本发明创新性使用一种温度控制模式，升温过程采用低气压高电压模式，降温过程采用高气压低电压模式。在低气压高电压升温过程和高气压低电压降温过程中控制气压、电压及温度，小孔不处于空心阴极条件范围内，不会打弧；充气过程，气压变化剧烈，电压降到-100~-200 V，此时不会起辉，不会打弧。
本发明的有益效果如下：
1. 本发明打破传统渗氮工艺固定温度的固有思维，控制温度在一定的范围内离子氮化，有效避免小孔周围出现打弧。
2. 将离子氮化热处理工艺应用在小孔工件上，消除小孔周围打弧现象提升材料使用寿命。
3. 对于多孔零部件氮化，避免了打弧问题，能充分发挥离子氮化比气体氮化渗速快的特点。
4. 本发明离子渗氮热处理工艺不但可以用在要求消除小孔周围打弧的离子氮化热处理工艺，也适用于其他选用有孔零部件的工件的离子氮化的热处理工艺。
附图说明
图1为离子渗氮参数随时间变化规律图。
具体实施方式
结合实施例详述本发明。
下述实施例中所使用的实验方法如无特殊说明，均为常规方法。
下述实施例中所用的材料、试剂，如无特殊说明，均可从商业途径得到。
以下实施例中，钽制小孔超薄材料工件的初始状态为锻件。
本实施例的一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法，包括以下步骤：
将有孔零部件加工成圆片，在圆片上均匀分布通孔，使用5μm金刚石金相抛光膏抛光，去离子水冲洗，在无水乙醇中超声清洗30分钟，吹干备用。
打开炉体控制电源，打开充气阀，直到炉内气压达到大气压，再开始提升炉体。防止炉内外的压力差损坏炉体提升的机械装置。用细砂纸把钟罩内壁、底盘、试样夹具等杂质、污物等磨掉，并用无水乙醇把磨掉的杂质、污物擦拭干净，并用吹风机吹干。
将待渗氮的试样按照实验前设计的装样方法进行装配，并对装配好的试样拍照记录。
用无水乙醇把密封圈、钟罩与密封圈接触的地方在擦拭一遍，在密封圈上均匀涂抹上真空硅脂，之后把钟罩慢慢降下，并保证钟罩与底座的紧密接触。打开真空泵开始抽气，将真空度抽到气压小于5×10-2Pa。而后，使用氩气来置换掉残余空气，再将炉体抽到极限真空度，重复三次上述的操作。
在通入Ar到40Pa左右，打开冷却水，打开脉冲电源，缓慢提升脉冲电源电压并通过观察窗观察炉内试样是否打弧（弧光放电)。如果出现弧光放电，马上停止提升电压，待打弧结束后，再次缓慢提升电压。将脉冲电源电压提升到实验前预定电压，预溅射10分钟，之后慢慢降低电压，当电压降为0 V后，关掉电源，再次把气压抽到5×10-2Pa 以下。
将N2、H2流量控制阀打开，在进行两次换气的操作。之后，将气压升到实验前设定的气压。打开电源，调节电压、电流，将试样温度提高到前设定温度，开始保温。
保温结束后，缓慢降低电压到0 V并关掉电源。将样品在300 Pa气压下冷却20分钟，之后关掉N2、H2流量控制阀。随炉冷却到室温后出炉，之后关掉冷却水。
氮化工艺：在500~580℃条件下，控制氮气和氢气稳定通入，炉内压力控制在400~500Pa，BP单极脉冲偏压电源的输出电压为0~-1200V，输出电流在0~20A，频率范围为40~60kHz，离子氮化2.0~3.0 h，炉冷降温到100℃，出炉空冷。
根据对消除打弧以及工件心部强度﹑硬度的要求，离子氮化温度在500~580℃的范围内调整。
根据对工件渗氮层厚度的要求,离子氮化保温时间在2.0~3.0小时的范围内选取。
Claims (2)
1.一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法，其特征在于：包括如下步骤：
第一步，材料预处理，采用常规离子氮化工艺，对材料进行预处理；
第二步，氮化工艺：
在0.9~1.0Tw条件下，Tw：最大渗氮温度，控制氮气和氢气稳定通入，炉内压力控制在300~6000Pa，BP单极脉冲偏压电源的输出电压为0~-1200V，频率范围为40~60kHz，离子氮化2.0~10.0h。
2.根据权利要求1所述的一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法，其特征在于：所述氮化工艺参数调节过程：低气压升温阶段→充气阶段→快速渗氮阶段→抽气阶段→低气压升温阶段，如此周而复始，直至渗氮结束；具体过程如下：
（1）低气压时，电压升至最高点-1000~-1200 V，功率到达较高范围，工件温度逐渐升高，称为低气压升温阶段；
（2）温度达到最高点Tw后，迅速降压至-100~-200 V，同时开始快速充气，是充气阶段；
（3）气压至高点，充气完成，使电压调整至-350~-550 V，进入快速渗氮阶段；
（4）由于电源供给功率降低，工件温度缓慢降低，温度降至0.8~0.9 Tw后，迅速降压至-100~-200 V，开始快速抽气，进入抽气阶段；
（5）炉内气压抽到低气压，进入低气压升温阶段；
如此周而复始，直至渗氮结束。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210561948.9A CN114892123B (zh) | 2022-05-23 | 2022-05-23 | 一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210561948.9A CN114892123B (zh) | 2022-05-23 | 2022-05-23 | 一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114892123A true CN114892123A (zh) | 2022-08-12 |
| CN114892123B CN114892123B (zh) | 2024-04-16 |
Family
ID=82724801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210561948.9A Active CN114892123B (zh) | 2022-05-23 | 2022-05-23 | 一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114892123B (zh) |
Citations (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1262341A (zh) * | 1999-01-23 | 2000-08-09 | 大连理工大学 | 用计算机控制的等离子体源离子渗氮工艺及设备 |
| RU2208064C1 (ru) * | 2001-11-19 | 2003-07-10 | Уфимский государственный авиационный технический университет | Способ электронно-ионного азотирования крупногабаритных изделий в низкотемпературной газоразрядной плазме и устройство для его осуществления |
| JP2004052023A (ja) * | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Hitachi Ltd | 窒化処理方法 |
| KR100791210B1 (ko) * | 2007-02-09 | 2008-01-03 | 창원대학교 산학협력단 | 회주철에 대한 이온질화 처리방법 |
| CN101122004A (zh) * | 2007-09-19 | 2008-02-13 | 大连海事大学 | 一种新型真空表面强化技术和设备 |
| EP2351869A1 (en) * | 2002-12-20 | 2011-08-03 | COPPE/UFRJ - Coordenação dos Programas de Pós Graduação de Engenharia da Universidade Federal do Rio de Janeiro | Hydrogen diffusion barrier on steel by means of a pulsed-plasma ion-nitriding process |
| CN102676984A (zh) * | 2012-01-13 | 2012-09-19 | 杭州市机械科学研究院有限公司 | 一种自动控制辉光离子氮化炉升温和保温的电源装置 |
| CN102888582A (zh) * | 2012-11-05 | 2013-01-23 | 河北华北柴油机有限责任公司 | 适用于发动机气缸套的深层离子渗氮工艺 |
| CN105154816A (zh) * | 2015-09-22 | 2015-12-16 | 华南理工大学 | 一种不同气氛下电弧等离子体辅助低压渗氮方法 |
| CN105695923A (zh) * | 2016-02-25 | 2016-06-22 | 重庆跃进机械厂有限公司 | 一种钢质气阀离子氮的加工方法 |
| CN105937018A (zh) * | 2016-06-27 | 2016-09-14 | 温州兰理工科技园有限公司 | 一种奥氏体不锈钢低温离子渗氮的方法 |
| CN107620031A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-01-23 | 清华大学 | 基于空心阴极离子源的奥氏体不锈钢氮化处理系统及方法 |
| CN107841707A (zh) * | 2017-10-31 | 2018-03-27 | 沈阳透平机械股份有限公司 | 31CrMoV9齿轮的深层离子氮化工艺 |
| CN108728788A (zh) * | 2018-09-12 | 2018-11-02 | 天津华盛昌齿轮有限公司 | 合金钢蜗杆的节能快速离子渗氮工艺 |
| CN108754406A (zh) * | 2018-06-25 | 2018-11-06 | 宁波中材钰翔新材料科技有限公司 | 一种模具表面复合处理方法 |
| CN109797363A (zh) * | 2019-02-21 | 2019-05-24 | 东莞市汇成真空科技有限公司 | 一种弧光电子源辅助离子氮化工艺 |
| CN113718192A (zh) * | 2021-09-07 | 2021-11-30 | 郑州机械研究所有限公司 | 一种小模数齿轮全齿廓一致性离子渗氮方法 |
-
2022
- 2022-05-23 CN CN202210561948.9A patent/CN114892123B/zh active Active
Patent Citations (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1262341A (zh) * | 1999-01-23 | 2000-08-09 | 大连理工大学 | 用计算机控制的等离子体源离子渗氮工艺及设备 |
| RU2208064C1 (ru) * | 2001-11-19 | 2003-07-10 | Уфимский государственный авиационный технический университет | Способ электронно-ионного азотирования крупногабаритных изделий в низкотемпературной газоразрядной плазме и устройство для его осуществления |
| JP2004052023A (ja) * | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Hitachi Ltd | 窒化処理方法 |
| EP2351869A1 (en) * | 2002-12-20 | 2011-08-03 | COPPE/UFRJ - Coordenação dos Programas de Pós Graduação de Engenharia da Universidade Federal do Rio de Janeiro | Hydrogen diffusion barrier on steel by means of a pulsed-plasma ion-nitriding process |
| KR100791210B1 (ko) * | 2007-02-09 | 2008-01-03 | 창원대학교 산학협력단 | 회주철에 대한 이온질화 처리방법 |
| CN101122004A (zh) * | 2007-09-19 | 2008-02-13 | 大连海事大学 | 一种新型真空表面强化技术和设备 |
| CN102676984A (zh) * | 2012-01-13 | 2012-09-19 | 杭州市机械科学研究院有限公司 | 一种自动控制辉光离子氮化炉升温和保温的电源装置 |
| CN102888582A (zh) * | 2012-11-05 | 2013-01-23 | 河北华北柴油机有限责任公司 | 适用于发动机气缸套的深层离子渗氮工艺 |
| CN105154816A (zh) * | 2015-09-22 | 2015-12-16 | 华南理工大学 | 一种不同气氛下电弧等离子体辅助低压渗氮方法 |
| CN105695923A (zh) * | 2016-02-25 | 2016-06-22 | 重庆跃进机械厂有限公司 | 一种钢质气阀离子氮的加工方法 |
| CN105937018A (zh) * | 2016-06-27 | 2016-09-14 | 温州兰理工科技园有限公司 | 一种奥氏体不锈钢低温离子渗氮的方法 |
| CN107620031A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-01-23 | 清华大学 | 基于空心阴极离子源的奥氏体不锈钢氮化处理系统及方法 |
| CN107841707A (zh) * | 2017-10-31 | 2018-03-27 | 沈阳透平机械股份有限公司 | 31CrMoV9齿轮的深层离子氮化工艺 |
| CN108754406A (zh) * | 2018-06-25 | 2018-11-06 | 宁波中材钰翔新材料科技有限公司 | 一种模具表面复合处理方法 |
| CN108728788A (zh) * | 2018-09-12 | 2018-11-02 | 天津华盛昌齿轮有限公司 | 合金钢蜗杆的节能快速离子渗氮工艺 |
| CN109797363A (zh) * | 2019-02-21 | 2019-05-24 | 东莞市汇成真空科技有限公司 | 一种弧光电子源辅助离子氮化工艺 |
| CN113718192A (zh) * | 2021-09-07 | 2021-11-30 | 郑州机械研究所有限公司 | 一种小模数齿轮全齿廓一致性离子渗氮方法 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| 何翔: "离子渗氮计算机控制系统", 《金属热处理》, no. 04, pages 1 * |
| 杜树芳: "离子氮化过程中气压的作用", 《金属热处理》, no. 01, pages 141 - 3 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN114892123B (zh) | 2024-04-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN109797363B (zh) | 一种弧光电子源辅助离子氮化工艺 | |
| CN109913799B (zh) | 一种pvd镀膜用弧光电子源增强辉光放电表面活化工艺 | |
| CN109943801B (zh) | 一种气体弧光放电装置、与真空腔体的耦合系统及离子渗氮工艺 | |
| CN105177493B (zh) | 一种热作模具表面电弧等离子体辅助低压渗氮方法 | |
| US5308950A (en) | Method of removing material from a surface in a vacuum chamber | |
| EP0899772B1 (en) | Cathodic arc vapor deposition apparatus | |
| US8574446B2 (en) | Apparatus and method for plasma processing | |
| JP5461856B2 (ja) | プラズマｃｖｄ装置 | |
| CN114892123B (zh) | 一种消除小孔打弧风险的离子氮化方法 | |
| CN210030866U (zh) | 一种气体弧光放电装置以及与真空腔体的耦合系统 | |
| CN112210747A (zh) | 一种弧光放电离子渗氮技术和渗氮炉 | |
| CN108796493B (zh) | 一种轻金属表面冷喷涂涂层的封孔改性方法 | |
| JP2002194527A (ja) | 電子ビーム励起プラズマを用いた窒化処理装置 | |
| KR100324435B1 (ko) | 플라즈마를 이용한 질화알루미늄 형성 방법 및 그 장치 | |
| RU2241782C1 (ru) | Способ ионно-плазменной обработки стальной поверхности режущего инструмента | |
| US8241468B2 (en) | Method and apparatus for cathodic arc deposition of materials on a substrate | |
| CN110760788A (zh) | 铸造钛合金表面硬度的改性处理方法 | |
| WO2021160337A1 (en) | Method of surface smoothening of additive manufactured metal components | |
| RU2478141C2 (ru) | Способ модификации поверхности материала плазменной обработкой | |
| CN112391625B (zh) | 一种激光合金化复合微弧氧化制备钛合金防高温氧化涂层的方法 | |
| KR20210011167A (ko) | 반도체 제조공정의 스퍼터링 장치용 코팅방법 및 이에 의한 코팅층을 갖는 반도체 제조공정의 스퍼터링 장치 | |
| JP5959409B2 (ja) | 成膜装置及び成膜装置の動作方法 | |
| CN113737198B (zh) | 气密封接闸流管内空心电极表面的清洗方法 | |
| RU2709548C1 (ru) | Способ электроэрозионной обработки поверхности молибдена | |
| RU2312932C2 (ru) | Устройство вакуумно-плазменной обработки изделий |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |