CN114854069A - 一种哑光雾面薄膜 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种哑光雾面薄膜,从上到下依次为雾面层、基材层;所述雾面层是由如下按重量份计的各原料制成:偶联剂1‑3份、无机微粒10‑30份、可聚合型成膜树脂40‑80份、甲基丙烯酸1‑3份、低表面能材料10‑30份、光引发剂0.8‑1.2份、稀释剂20‑40份;所述低表面能材料是由N‑(4‑氰基‑3‑三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1‑烯丙基‑3‑甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯和烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯通过自由基共聚反应制成。本发明公开的哑光雾面薄膜哑光效果显著,能有效减少反光对眼睛的伤害,同时具有美观效果,表面能较低,离型力适中,既不存在残留问题,又不会有涂材从薄膜表面脱落风险。
Description
技术领域
本发明涉及膜材料技术领域,尤其涉及一种哑光雾面薄膜。
背景技术
随着人们生活水平提高及审美多样化,消费者及生产者对薄膜材料不论是品质还是视觉效果追求达到极致。由于人们对产品的设计、眼睛的保护、外观的美观度的要求越来越高,很多薄膜产品都需要制成雾面或者哑光的效果,以打造高端和优雅的形象。
现有的薄膜获取哑光雾面效果的方法主要通过在薄膜表面涂哑油得以实现,但是,喷涂哑油成本较高,并且只能涂覆平面形状,而且存在不耐磨,涂覆厚度不好控制,残留的哑油易对涂材产生影响等缺陷,更重要的是由于哑油耐温性差,涂覆哑油后的薄膜无法拉伸成型。市面上也存在采用磨砂膜来实现薄膜哑光雾面效果的方法,然而,磨砂的过程不仅易产生大量的灰尘,同时也会影响材料表面的平整度和美观度,且其不具备离型效果,限制了其在电子行业的广泛使用。
如,中国发明专利CN103102474B公开了一种亚光聚酯薄膜的制备方法:将二元酸、二元醇、添加剂分散液在催化剂的作用下先进行酯化反应,再加入稳定剂进行缩聚反应,得到亚光膜用聚酯;该亚光膜用聚酯经过干燥、270~290℃下熔融挤出,并在温度80~120℃、拉伸倍率3.0~4.0:1下纵横双向拉伸,再热定型、松弛、冷却、牵引、收卷,制成单层或多层结构的亚光聚酯薄膜;所述添加剂分散液中的添加剂由质量含量60~80%高岭土和40~20%硫酸钡组成,所述添加剂的平均粒径为0.3~0.5μm。该法制成的亚光聚酯薄膜,与常规聚酯薄膜相比,具有较好的亚光效果,其45度光泽度小于30%。但其不具备离型效果,若想在其表面实现离型效果需在其表面涂布离型层进行改善,与此同时又会导致残留问题。
可见,本领域仍然需要开发一种哑光效果显著,能有效减少反光对眼睛的伤害,同时具有美观效果,表面能较低,离型力适中,既不存在残留问题,又不会有涂材从薄膜表面脱落风险的哑光雾面薄膜。
发明内容
本发明的主要目的在于解决上述技术问题,通过膜层组成配方和结构设计,提供一种哑光效果显著,能有效减少反光对眼睛的伤害,同时具有美观效果,表面能较低,离型力适中,既不存在残留问题,又不会有涂材从薄膜表面脱落风险,性能稳定性佳,使用寿命长的哑光雾面薄膜及其制备方法。
为达到以上目的,本发明提供一种哑光雾面薄膜,其特征在于,从上到下依次为雾面层、基材层;所述雾面层是由如下按重量份计的各原料制成:偶联剂1-3份、无机微粒10-30份、可聚合型成膜树脂40-80份、甲基丙烯酸1-3份、低表面能材料10-30份、光引发剂0.8-1.2份、稀释剂20-40份;所述低表面能材料是由N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯和烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯通过自由基共聚反应制成。
优选的,所述偶联剂为钛酸酯偶联剂TMC-102、钛酸酯偶联剂TMC-101、钛酸酯偶联剂HY105中的至少一种。
优选的,所述无机微粒为二氧化钛、二氧化硅、硫化锌中的至少一种;所述无机微粒的粒度为2-10μm。
优选的,所述可聚合型成膜树脂为超支化聚氨酯丙烯酸酯,其来源无特殊要求,在本发明的一个实施例中,所述超支化聚氨酯丙烯酸酯为按中国发明专利CN103724582B中实施例1的方法制成。
优选的,所述低表面能材料的制备方法,包括如下步骤:将N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈加入到高沸点溶剂中,在氮气氛围,50-65℃下搅拌反应3-5小时后,在水中沉出,取出后用乙醇洗涤3-6次,最后置于真空干燥箱85-95℃下干燥至恒重,得到低表面能材料。
优选的,所述N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈、高沸点溶剂的质量比为(3-5):(0.8-1.2):(0.5-0.8):(0.3-0.5):(0.05-0.08):(20-30);所述高沸点溶剂为二甲亚砜、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮中的至少一种。
优选的,所述光引发剂为安息香乙醚、安息香异丙醚中的至少一种。
优选的,所述稀释剂为稀释剂HEMA。
优选的,所述基材层为PET、PI、PVC、PE、PP中的任意一种制成。
优选的,所述基材层的厚度为25-188μm;所述雾面层的厚度为1-10μm。
本发明的另一个目的在于提供一种所述哑光雾面薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S1、将雾面层各原料按照重量份混合,搅拌均匀,采用600-800r/min的速度进行搅拌20-40min,采用200-400目的过滤网进行过滤;静置8-12min;
步骤S2、将经过步骤S1制成的浆料采用刀口或网纹方式涂布于基材的表面;
步骤S3、在波长为200-300nm的紫外光下固化10-20分钟,然后在真空干燥箱80-90℃下放置15-30分钟,冷却至室温后,在水中浸泡1-2小时,取出后在90-100℃下干燥至恒重,再进行收卷,得到哑光雾面薄膜。
由于上述技术方案的运用,本发明具有以下有益效果:
(1)本发明公开的哑光雾面薄膜,制备工艺简单,操作控制方便,无需专用设备,耗能低,制备效率和成品合格率高,适合连续规模化生产。
(2)本发明公开的哑光雾面薄膜,所述雾面层是由如下按重量份计的如下各原料制成:偶联剂1-3份、无机微粒10-30份、可聚合型成膜树脂40-80份、甲基丙烯酸1-3份、低表面能材料10-30份、光引发剂0.8-1.2份、稀释剂20-40份。通过各原料相互配合,共同作用,使得制成的哑光雾面薄膜产品哑光效果显著,能有效减少反光对眼睛的伤害,同时具有美观效果,表面能较低,离型力适中,既不存在残留问题,又不会有涂材从薄膜表面脱落风险,性能稳定性佳,使用寿命长。
(3)本发明公开的哑光雾面薄膜,所述低表面能材料是由N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯和烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯通过自由基共聚反应制成;这些单体引入的各基团在电子效应、位阻效应和共轭效应的多重作用下,使得制成的薄膜性能稳定性佳,使用寿命长,表面能较低,可以有效实现离型效果,且不存在残留问题。1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑上的咪唑盐结构在制备过程中会与甲基丙烯酸上的羧酸基发生离子交换;同时甲基丙烯酸、可聚合型成膜树脂上的不饱和烯键在光引发剂的引发作用下,能发生共聚交联反应,形成互穿网络结构,使得无机微粒较好地固定在网络中,提高了性能稳定性,改善了雾度和哑光效果,延长了使用寿命。
(4)本发明公开的哑光雾面薄膜,设置有基材层,所述基材层的厚度为25-188μm,具有支撑性和耐温性,避免了在进行涂层处理时出现收缩、皱褶等异常现象;所述雾面层的厚度为1-10μm,通过厚度的合理选取避免了过厚影响产品的使用及卷曲现象,过薄无法实现哑光效果的缺陷。
具体实施方式
以下描述用于揭露本发明以使本领域技术人员能够实现本发明。以下描述中的优选实施例只作为举例,本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。
本发明各实施例中所述可聚合型成膜树脂为超支化聚氨酯丙烯酸酯,为按中国发明专利CN103724582B中实施例1的方法制成。
实施例1
一种哑光雾面薄膜,从上到下依次为雾面层、基材层;所述雾面层是由如下按重量份计的各原料制成:偶联剂1份、无机微粒10份、可聚合型成膜树脂40份、甲基丙烯酸1份、低表面能材料10份、光引发剂0.8份、稀释剂20份;所述低表面能材料是由N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯和烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯通过自由基共聚反应制成。
所述偶联剂为钛酸酯偶联剂TMC-102;所述无机微粒为二氧化钛;所述无机微粒的粒度为2μm。
所述低表面能材料的制备方法,包括如下步骤:将N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈加入到高沸点溶剂中,在氮气氛围,50℃下搅拌反应3小时后,在水中沉出,取出后用乙醇洗涤3次,最后置于真空干燥箱85℃下干燥至恒重,得到低表面能材料。
所述N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈、高沸点溶剂的质量比为3:0.8:0.5:0.3:0.05:20;所述高沸点溶剂为二甲亚砜。
所述光引发剂为安息香乙醚;所述稀释剂为稀释剂HEMA;所述基材层由PET制成;所述基材层的厚度为25μm;所述雾面层的厚度为1μm。
一种所述哑光雾面薄膜的制备方法,包括如下步骤:
步骤S1、将雾面层各原料按照重量份混合,搅拌均匀,采用600r/min的速度进行搅拌20min,采用200目的过滤网进行过滤;静置8min;
步骤S2、将经过步骤S1制成的浆料采用网纹方式涂布于基材的表面;
步骤S3、在波长为200nm的紫外光下固化10分钟,然后在真空干燥箱80℃下放置15分钟,冷却至室温后,在水中浸泡1小时,取出后在90℃下干燥至恒重,再进行收卷,得到哑光雾面薄膜。
实施例2
一种哑光雾面薄膜,从上到下依次为雾面层、基材层;所述雾面层是由如下按重量份计的各原料制成:偶联剂1.5份、无机微粒13份、可聚合型成膜树脂50份、甲基丙烯酸1.5份、低表面能材料15份、光引发剂0.9份、稀释剂25份;所述低表面能材料是由N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯和烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯通过自由基共聚反应制成。
所述偶联剂为钛酸酯偶联剂TMC-101;所述无机微粒为二氧化硅;所述无机微粒的粒度为5μm。
所述低表面能材料的制备方法,包括如下步骤:将N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈加入到高沸点溶剂中,在氮气氛围,55℃下搅拌反应3.5小时后,在水中沉出,取出后用乙醇洗涤4次,最后置于真空干燥箱87℃下干燥至恒重,得到低表面能材料。
所述N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈、高沸点溶剂的质量比为3.5:0.9:0.6:0.35:0.06:23;所述高沸点溶剂为N,N-二甲基甲酰胺。
所述光引发剂为安息香异丙醚;所述稀释剂为稀释剂HEMA;所述基材层由PI制成;所述基材层的厚度为80μm;所述雾面层的厚度为4μm。
一种所述哑光雾面薄膜的制备方法,包括如下步骤:
步骤S1、将雾面层各原料按照重量份混合,搅拌均匀,采用650r/min的速度进行搅拌25min,采用250目的过滤网进行过滤;静置9min;
步骤S2、将经过步骤S1制成的浆料采用刀口方式涂布于基材的表面;
步骤S3、在波长为230nm的紫外光下固化13分钟,然后在真空干燥箱82℃下放置19分钟,冷却至室温后,在水中浸泡1.2小时,取出后在93℃下干燥至恒重,再进行收卷,得到哑光雾面薄膜。
实施例3
一种哑光雾面薄膜,从上到下依次为雾面层、基材层;所述雾面层是由如下按重量份计的各原料制成:偶联剂2份、无机微粒20份、可聚合型成膜树脂60份、甲基丙烯酸2份、低表面能材料20份、光引发剂1份、稀释剂30份;所述低表面能材料是由N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯和烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯通过自由基共聚反应制成。
所述偶联剂为钛酸酯偶联剂HY105;所述无机微粒为硫化锌;所述无机微粒的粒度为6μm。
所述低表面能材料的制备方法,包括如下步骤:将N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈加入到高沸点溶剂中,在氮气氛围,58℃下搅拌反应4小时后,在水中沉出,取出后用乙醇洗涤5次,最后置于真空干燥箱90℃下干燥至恒重,得到低表面能材料。
所述N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈、高沸点溶剂的质量比为4:1:0.65:0.4:0.065:25;所述高沸点溶剂为N-甲基吡咯烷酮。
所述光引发剂为安息香乙醚;所述稀释剂为稀释剂HEMA;所述基材层由PVC制成;所述基材层的厚度为118μm;所述雾面层的厚度为6μm。
一种所述哑光雾面薄膜的制备方法,包括如下步骤:
步骤S1、将雾面层各原料按照重量份混合,搅拌均匀,采用700r/min的速度进行搅拌30min,采用300目的过滤网进行过滤;静置10min;
步骤S2、将经过步骤S1制成的浆料采用网纹方式涂布于基材的表面;
步骤S3、在波长为250nm的紫外光下固化15分钟,然后在真空干燥箱85℃下放置22分钟,冷却至室温后,在水中浸泡1.5小时,取出后在95℃下干燥至恒重,再进行收卷,得到哑光雾面薄膜。
实施例4
一种哑光雾面薄膜,从上到下依次为雾面层、基材层;所述雾面层是由如下按重量份计的各原料制成:偶联剂2.5份、无机微粒25份、可聚合型成膜树脂73份、甲基丙烯酸2.5份、低表面能材料25份、光引发剂1.1份、稀释剂35份;所述低表面能材料是由N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯和烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯通过自由基共聚反应制成。
所述偶联剂为钛酸酯偶联剂TMC-102、钛酸酯偶联剂TMC-101、钛酸酯偶联剂HY105按质量比1:2:1混合形成的混合物;所述无机微粒为二氧化钛、二氧化硅、硫化锌按质量比2:1:1混合形成的混合物;所述无机微粒的粒度为8μm。
所述低表面能材料的制备方法,包括如下步骤:将N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈加入到高沸点溶剂中,在氮气氛围,63℃下搅拌反应4.5小时后,在水中沉出,取出后用乙醇洗涤6次,最后置于真空干燥箱93℃下干燥至恒重,得到低表面能材料。
所述N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈、高沸点溶剂的质量比为4.5:1.1:0.75:0.45:0.075:28;所述高沸点溶剂为二甲亚砜、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮按质量比2:3:5混合形成的混合物。
所述光引发剂为安息香乙醚、安息香异丙醚按质量比3:5混合形成的混合物;所述稀释剂为稀释剂HEMA;所述基材层由PE制成;所述基材层的厚度为165μm;所述雾面层的厚度为8μm。
一种所述哑光雾面薄膜的制备方法,包括如下步骤:
步骤S1、将雾面层各原料按照重量份混合,搅拌均匀,采用750r/min的速度进行搅拌35min,采用360目的过滤网进行过滤;静置11min;
步骤S2、将经过步骤S1制成的浆料采用刀口方式涂布于基材的表面;
步骤S3、在波长为280nm的紫外光下固化18分钟,然后在真空干燥箱88℃下放置28分钟,冷却至室温后,在水中浸泡1.8小时,取出后在98℃下干燥至恒重,再进行收卷,得到哑光雾面薄膜。
实施例5
一种哑光雾面薄膜,从上到下依次为雾面层、基材层;所述雾面层是由如下按重量份计的各原料制成:偶联剂3份、无机微粒30份、可聚合型成膜树脂80份、甲基丙烯酸3份、低表面能材料30份、光引发剂1.2份、稀释剂40份;所述低表面能材料是由N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯和烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯通过自由基共聚反应制成。
所述偶联剂为钛酸酯偶联剂TMC-102;所述无机微粒为二氧化钛;所述无机微粒的粒度为10μm。
所述低表面能材料的制备方法,包括如下步骤:将N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈加入到高沸点溶剂中,在氮气氛围,65℃下搅拌反应5小时后,在水中沉出,取出后用乙醇洗涤6次,最后置于真空干燥箱95℃下干燥至恒重,得到低表面能材料。
所述N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈、高沸点溶剂的质量比为5:1.2:0.8:0.5:0.08:30;所述高沸点溶剂为二甲亚砜。
所述光引发剂为安息香异丙醚;所述稀释剂为稀释剂HEMA;所述基材层由PP制成;所述基材层的厚度为188μm;所述雾面层的厚度为10μm。
一种所述哑光雾面薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S1、将雾面层各原料按照重量份混合,搅拌均匀,采用800r/min的速度进行搅拌40min,采用400目的过滤网进行过滤;静置12min;
步骤S2、将经过步骤S1制成的浆料采用网纹方式涂布于基材的表面;
步骤S3、在波长为300nm的紫外光下固化20分钟,然后在真空干燥箱90℃下放置30分钟,冷却至室温后,在水中浸泡2小时,取出后在100℃下干燥至恒重,再进行收卷,得到哑光雾面薄膜。
对比例1
本发明提供一种哑光雾面薄膜,其配方和制备方法与实施例1相似,不同的是,所述雾面层是由如下按重量份计的各原料制成:偶联剂1份、无机微粒5份、可聚合型成膜树脂90份、甲基丙烯酸1份、低表面能材料5份、光引发剂0.8份、稀释剂20份。
为了进一步说明本发明各实施例制成的哑光雾面薄膜的有益技术效果,将各例制成的哑光雾面薄膜进行相关性能测试,测试方法和结果见表1。
表1
从表1可见,本发明实施例公开的哑光雾面薄膜,与对比例产品相比,离型力适中,哑光效果显著,外观好,这是各原料合理配比协同作用的结果。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明的范围内。本发明要求的保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。
Claims (10)
1.一种哑光雾面薄膜,其特征在于,从上到下依次为雾面层、基材层;所述雾面层是由如下按重量份计的各原料制成:偶联剂1-3份、无机微粒10-30份、可聚合型成膜树脂40-80份、甲基丙烯酸1-3份、低表面能材料10-30份、光引发剂0.8-1.2份、稀释剂20-40份;所述低表面能材料是由N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯和烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯通过自由基共聚反应制成。
2.根据权利要求1所述的哑光雾面薄膜,其特征在于,所述偶联剂为钛酸酯偶联剂TMC-102、钛酸酯偶联剂TMC-101、钛酸酯偶联剂HY105中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的哑光雾面薄膜,其特征在于,所述无机微粒为二氧化钛、二氧化硅、硫化锌中的至少一种;所述无机微粒的粒度为2-10μm。
4.根据权利要求1所述的哑光雾面薄膜,其特征在于,所述低表面能材料的制备方法,包括如下步骤:将N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈加入到高沸点溶剂中,在氮气氛围,50-65℃下搅拌反应3-5小时后,在水中沉出,取出后用乙醇洗涤3-6次,最后置于真空干燥箱85-95℃下干燥至恒重,得到低表面能材料。
5.根据权利要求4所述的哑光雾面薄膜,其特征在于,所述N-(4-氰基-3-三氟甲基苯基)甲基丙烯酰胺、1-烯丙基-3-甲基氯化咪唑、异丙烯基硼酸频哪醇酯、烯丙基琥珀酰亚胺基碳酸酯、偶氮二异丁腈、高沸点溶剂的质量比为(3-5):(0.8-1.2):(0.5-0.8):(0.3-0.5):(0.05-0.08):(20-30);所述高沸点溶剂为二甲亚砜、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的哑光雾面薄膜,其特征在于,所述光引发剂为安息香乙醚、安息香异丙醚中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的哑光雾面薄膜,其特征在于,所述稀释剂为稀释剂HEMA。
8.根据权利要求1所述的哑光雾面薄膜,其特征在于,所述基材层为PET、PI、PVC、PE、PP中的任意一种制成。
9.根据权利要求1所述的哑光雾面薄膜,其特征在于,所述基材层的厚度为25-188μm;所述雾面层的厚度为1-10μm。
10.一种根据权利要求1-9任一项所述哑光雾面薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S1、将雾面层各原料按照重量份混合,搅拌均匀,采用600-800r/min的速度进行搅拌20-40min,采用200-400目的过滤网进行过滤;静置8-12min;
步骤S2、将经过步骤S1制成的浆料采用刀口或网纹方式涂布于基材的表面;
步骤S3、在波长为200-300nm的紫外光下固化10-20分钟,然后在真空干燥箱80-90℃下放置15-30分钟,冷却至室温后,在水中浸泡1-2小时,取出后在90-100℃下干燥至恒重,再进行收卷,得到哑光雾面薄膜。
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