CN114845861B - 带有多层膜的透明基体 - Google Patents
带有多层膜的透明基体 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114845861B CN114845861B CN202080087933.2A CN202080087933A CN114845861B CN 114845861 B CN114845861 B CN 114845861B CN 202080087933 A CN202080087933 A CN 202080087933A CN 114845861 B CN114845861 B CN 114845861B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- multilayer film
- transparent substrate
- layer
- oxide layer
- silicon oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 92
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 52
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 44
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 16
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- -1 argon ion Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 34
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 34
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 23
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 claims description 17
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 230000007954 hypoxia Effects 0.000 claims description 10
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 141
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 19
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 19
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 5
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 4
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 2
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 2
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910021647 smectite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000011410 subtraction method Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/023—Optical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B18/00—Layered products essentially comprising ceramics, e.g. refractory products
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B9/045—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
- C23C14/0036—Reactive sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
- C23C14/185—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5846—Reactive treatment
- C23C14/5853—Oxidation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/412—Transparent
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/418—Refractive
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/734—Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明涉及一种带有多层膜的透明基体，在具有二个主面的透明基体的至少一个主面具备依次层叠有金属氧化物层和氧化硅层的多层膜，上述多层膜内的至少一个氧化硅层的SiOx为1.55≤x＜2.00，上述多层膜的光透射率为20～89％，且电阻值为104Ω/□以上。应予说明，SiOx的x为通过使用氩离子溅射的X射线光电子能谱法(XPS)深度方向组成分析而求出的值。
Description
技术领域
本发明涉及一种带有多层膜的透明基体。
背景技术
近年来，从美观性的观点考虑，一直使用在液晶显示器这样的图像显示装置的前表面设置罩玻璃的方法。但是，由于罩玻璃反射外界光线所致的映入成为一个课题，为了解决上述课题，大多在罩玻璃的表面设置多层膜。然而，以往的多层膜中图像显示装置的黑框部分与图像显示部的分界线显眼而导致美观性差。
于是，已知通过对多层膜赋予光吸收能力而使图像显示装置的黑框部分与图像显示部的分界线不再显现，进而还能够抑制来自罩玻璃与防反射膜的界面的反射。例如，专利文献1中公开了一种带有多层膜的透明基体，其具有光吸收能力且为绝缘性。专利文献2中公开了一种透明导电层叠体，其依次层叠有氧化硅层和铜层。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2018－115105号公报
专利文献2：日本特开2016－068470号公报
发明内容
如上所述，已知通过对多层膜赋予光吸收能力而具备美观性、进而抑制来自罩玻璃与防反射膜的界面的反射的技术。然而，至今尚未实现具有光吸收能力且满足多层膜彼此的高密合性的技术。因此，本发明的目的在于提供一种具有光吸收能力、为绝缘性且密合性优异的带有多层膜的透明基体。
本发明人等发现通过如下带有多层膜的透明基体，能够解决上述课题，从而完成了本发明，所述带有多层膜的透明基体在具有二个主面的透明基体的至少一个主面具备依次层叠有金属氧化物层和氧化硅层的多层膜，上述多层膜内的至少一个氧化硅层的SiOx为1.55≤x＜2.00，上述多层膜的光透射率(視感透過率)为20～89％，且电阻值为104Ω/□以上。应予说明，SiOx的x为通过使用氩离子溅射的X射线光电子能谱法(XPS)深度方向组成分析而求出的值。在氧化硅层相当于最表层的情况下，除去溅射时间为0分钟的地点而求出x的值。
根据本发明的一个方式，能够提供一种具有光吸收能力、为绝缘性且密合性优异的带有多层膜的透明基体。
附图说明
图1是示意地示出带有多层膜的透明基体的一个构成例的截面图。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的实施方式进行详细说明。
本发明的带有多层膜的透明基体在具有二个主面的透明基体的至少一个主面具备依次层叠有金属氧化物层和氧化硅层的多层膜，上述氧化硅层的SiOx为1.55≤x＜2.00，上述多层膜的光透射率为20～89％，且电阻值为104Ω/□以上。
本发明的带有多层膜的透明基体具备依次层叠有金属氧化物层和氧化硅层的多层膜。氧化硅层的SiOx为1.55≤x＜2.00，从密合性和强度的观点考虑，优选1.55≤x＜1.98，更优选1.55≤x＜1.88，最优选1.55≤x＜1.70。
对于以往的没有吸光性的防反射膜，通常高折射率层完全被氧化，通常作为低折射率层的氧化硅层也为完全氧化。另一方面，本发明这样的具有吸光性的高折射率层的情况下，该高折射率层的氧化度低一些。因此，本发明人等推断：氧化硅层完全氧化时，会导致高折射率层的氧化度的失配，影响密合性。另一方面，推断通过使氧化硅层的氧化度在上述范围，从而在有氧缺陷的氧化硅层与金属氧化物层之间产生电子授受，密合性提高。另外，如果x为1.55以上，则氧化硅层在可见光下成为中性色调，因而优选上述范围。
上述x通过使用氩离子溅射的X射线光电子能谱法(XPS)深度方向组成分析而求出。
本发明的带有多层膜的透明基体的上述多层膜的光透射率为20～89％。如果光透射率在上述范围，则具有适度的光吸收能力，因而在作为图像显示装置的罩玻璃使用的情况下，能够抑制来自罩玻璃与多层膜的界面的反射。由此图像显示装置的亮处对比度提高。应予说明，光透射率可以如后述的实施例所记载的那样利用JIS Z 8709(1999年)中规定的方法来测定。本发明的带有多层膜的透明基体的光透射率优选为50～89％，更优选为65～85％。
本发明的带有多层膜的透明基体的上述多层膜的薄层电阻为104Ω/□以上。如果多层膜的薄层电阻在上述范围，则多层膜为绝缘性，因此作为图像显示装置的罩玻璃使用的情况下，即便赋予触控面板，由静电电容式触控传感器所需的手指的接触而产生的静电电容的变化也得到维持，能够使触控面板发挥功能。应予说明，薄层电阻可以如后述的实施例所记载的那样利用ASTM D257或JIS K 6271－6(2008年)中规定的方法来测定。本发明的带有多层膜的透明基体的多层膜的薄层电阻优选为106Ω/□以上，更优选为108Ω/□以上，进一步优选为1011Ω/□。
本发明的带有多层膜的透明基体优选上述多层膜的光反射率(視感反射率)为1％以下。如果多层膜的光反射率在上述范围，则在作为图像显示装置的罩玻璃使用的情况下，防止外界光线向画面的映入的效果较高。应予说明，光反射率可以如后述的实施例所记载的那样利用JIS Z 8701(1999年)中规定的方法来测定。本发明的带有多层膜的透明基体的防反射膜的光反射率更优选为0.8％以下，进一步优选为0.6％以下。光反射率的下限值没有特别规定，例如为0.05％以上、优选0.1％以上。
本发明的带有多层膜的透明基体优选上述多层膜的D65光源下的透过色中b*值为5以下。如果b*值在上述范围，则透射光不会发黄，因此适合作为图像显示装置的罩玻璃使用。应予说明，D65光源下的透过色中的b*值可以如后述的实施例中记载的那样利用JIS Z8729(2004年)中规定的方法来测定。本发明的带有多层膜的透明基体的b*值的上限值更优选为3以下，进一步优选为2以下。b*值的下限值优选为－6以上，更优选为－4以上。如果在上述范围，则透射光为无色的，不会阻碍透射光的光，因而优选。
本发明的上述透明基体只要是透光性优异的透明的基体，就没有特别限定，可举出玻璃、树脂。
本发明的一个实施方式的带有多层膜的透明基体中的多层膜优选下述构成。
图1是示意地示出带有多层膜的透明基体的一个构成例的截面图。在透明基体10上形成有多层膜30。图1所示的多层膜30为层叠有2层彼此折射率不同的电介质层32、34的层叠结构。通过层叠彼此折射率不同的电介质层32、34来抑制光的反射。电介质层32为高折射率层，电介质层34为低折射率层。
图1所示的多层膜30中，优选电介质层32由选自由Mo和W构成的A组中的至少1种与选自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn和In构成的B组中的至少1种的混合氧化物构成。其中，该混合氧化物优选该混合氧化物所包含的B组的元素相对于该混合氧化物所包含的A组的元素与该混合氧化物所包含的B组的元素的合计的含有率(以下，记载为B组含有率)小于80质量％。
层34由SiOx构成。
优选层32由选自由上述Mo和W构成的A组中的至少1种与选自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn和In构成的B组中的至少1种的混合氧化物构成。其中，作为A组，优选Mo，作为B组，优选Nb。
通过使用作为有氧缺陷的氧化硅层的层34以及使层32使用Mo和Nb，从而虽然以往有氧缺陷的氧化硅层在可见光下发黄，但由于使用Mo和Nb而使氧化硅层即便有氧缺陷也不发黄，因而更优选。
从与透明基体的透射率的观点考虑，上述层32的波长550nm下的折射率优选1.8～2.3。上述层32的消光系数优选为0.005～3，更优选为0.04～0.38。
如果消光系数为0.005以上，则能够以适当的层数实现所期望的吸收率。另外。如果消光系数为3以下，则比较容易实现反射色调与透射率的兼顾。
图1所示的多层膜30为2层的层叠有电介质层32、34的层叠结构，但本发明的多层膜并不局限于此，也可以为层叠有3层以上的彼此折射率不同的层的层叠结构。该情况下，无需所有层的折射率都不同。例如，为3层层叠结构的情况下，可以为低折射率层、高折射率层、低折射率层的3层层叠结构、或高折射率层、低折射率层、高折射率层的3层层叠结构。在前者的情况下，存在2层的低折射率层可以为相同的折射率，在后者的情况下，存在2层的高折射率层可以为相同的折射率。为4层层叠结构的情况下，可以为低折射率层、高折射率层、低折射率层、高折射率层的4层层叠结构、或高折射率层、低折射率层、高折射率层、低折射率层的4层层叠结构。该情况下，分别存在2层的低折射率层和高折射率层可以为相同的折射率。
作为具有光吸收能力且为绝缘性的透光膜，已知有半导体制造领域中使用的半色调网点光罩。作为半色调网点光罩，使用含有少量Mo的Mo－SiOx膜这样的氧缺陷膜。另外，作为具有光吸收能力且为绝缘性的透光膜，有半导体制造领域中使用的窄带隙膜。
然而，由于这些膜对可见光线中的短波长侧的光线吸收能力较高，因此透射光发黄。因而，并不适于图像显示装置的罩玻璃。
本发明的本实施方式中，通过具有提高了Mo含有率的层32和由SiOx构成的层34，从而得到具有光线吸收能力、为绝缘性且密合性和强度优异的带有多层膜的透明基体。
图1所示的带有多层膜的透明基体通过多层膜30为上述构成而满足上述本发明的带有多层膜的透明基体的特性。
由选自由Mo和W构成的A组中的至少1种氧化物与选自由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn和In构成的B组中的至少1种氧化物的混合氧化物构成的层(A－B－O)32中的B组含有率小于80质量％时，能够抑制b*值超过5。B组含有率更优选为70质量％以下，进一步优选为60质量％以下。
为层叠有3层以上的彼此折射率不同的层的层叠结构的情况下，也可以包含除层(A－B－O)和层(SiOx)以外的层。该情况下，需要以包含层(A－B－O)和层(SiOx)而成为低折射率层、高折射率层、低折射率层的3层层叠结构、或者高折射率层、低折射率层、高折射率层的3层层叠结构、或者低折射率层、高折射率层、低折射率层、高折射率层的4层层叠结构、或者高折射率层、低折射率层、高折射率层、低折射率层的4层层叠结构的方式选择各层。其中，最表面的层优选为层(SiOx)。这是因为为了得到低反射性，如果最表面的层为层(SiOx)，则能够比较容易制作。另外，在形成防污膜的情况下，从与防污膜的耐久性相关的结合性的观点考虑，优选形成在层(SiOx)上。
优选层(A－B－O)32为非晶体。如果为非晶体，则能够在较低温度下制成，在透明基体为树脂等情况下，树脂不会因热而受到损伤，可以适当应用。
在透明基体10上具有层(A－B－O)32和氧化硅层(SiOx)34的构成中，层32的A组的金属为Mo，B组的金属为Nb，将层(A－B－O)表示为Mo(y)－Nb(z)－O，将层32和层34的缺氧指数如下定义。
层32的缺氧指数＝2y+z－1
层34的缺氧指数＝2/x－1
另外，将Δ缺氧指数的绝对值定义为下式(1)。
Δ缺氧指数＝|层34的缺氧指数－层32的缺氧指数|
＝|2/x－2y－z| (1)
优选层32的缺氧指数和层34的缺氧指数都为正值，且Δ缺氧指数的绝对值小于0.46。推断通过如此设定而使氧化硅层(SiOx)34和层(A－B－O)32的缺氧指数为比较接近的值，密合性进一步提高。从密合性的观点考虑，Δ缺氧指数的绝对值优选小于0.46，从密合性和强度的观点考虑，更优选为0.41以下，进一步优选为0.36以下，最优选为0.24以下。
上述y和z通过使用氩离子溅射的X射线光电子能谱法(XPS)深度方向组成分析而求出。应予说明，金属氧化物层相当于最表层的情况下，除去溅射时间为0分钟的地点而求出y和z的值。
应予说明，求出层32和层34的缺氧指数时，将层32中的Mo和Nb的氧化数分别设为+4和+2，将层34中的Si的氧化数设为+4。特别是，虽然Mo和Nb的最高氧化数分别为+6和+5，但经验上认为将Mo和Nb的氧化数分别设为+4和+2而算出的Δ缺氧指数与密合性存在对应关系。根据文献(S.Hashimoto et al,Surf.Interface Anal.18,1992,799-806)，记载了MoO3[VI]和Nb2O5[V]在使用离子溅射的XPS深度方向分析时还原，MoO2[IV]、NbO[II]、SiO2[IV]不还原。因此，推测将Mo、Nb、Si的氧化数分别设为+4、+2、+4作为在分析时不还原的状态的金属氧化物的氧化数而算出Δ缺氧指数的情况下，出现与密合性的对应关系。
以下，进一步记载本发明的带有多层膜的透明基体。
＜透明基体＞
透明基体优选折射率为1.4～1.7的材质。这是由于在将显示器、触控面板等进行光学粘接的情况下，能够充分抑制粘接面的反射。
作为透明基体，优选玻璃基板或树脂基板。
作为玻璃基板，可以利用具有各种组成的玻璃。例如，本发明中使用的玻璃优选含有钠，优选为能够成型、能够通过化学强化处理进行强化的组成。具体而言，例如，可举出铝硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、铅玻璃、碱性钡玻璃、铝硼硅酸盐玻璃等。
玻璃基板的厚度没有特别限制，进行化学强化处理的情况下为了有效地进行该化学强化处理，通常优选为5mm以下，更优选为3mm以下。
为了提高罩玻璃的强度，玻璃基板优选为经化学强化后的化学强化玻璃。应予说明，对玻璃基板实施防眩处理的情况下，在防眩处理之后、形成多层膜之前进行化学强化。
玻璃基板优选对具有多层膜的一侧的主面实施防眩处理。防眩处理方法没有特别限制，可以采用对玻璃主面实施表面处理而形成所期望的凹凸的方法。具体而言，可举出对玻璃基板的主面进行化学处理的方法、例如实施磨砂处理的方法。磨砂处理例如可以将作为被处理物的玻璃基板浸渍于氟化氢与氟化铵的混合溶液而对浸渍面进行化学表面处理。另外，除了这样的基于化学处理的方法以外，例如也可以利用基于如下物理处理的方法，即，将晶体二氧化硅粉末、碳化硅粉末等用加压空气吹送到玻璃基板表面的所谓的喷砂处理，或者将附着有晶体二氧化硅粉末、碳化硅粉末等的刷子用水浸湿后用该刷子进行打磨等物理处理。
作为树脂基板，优选树脂膜。作为树脂膜，例如，可举出热塑性树脂或热固化性树脂。具体而言，例如，可举出聚氯乙烯树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、聚酯树脂、聚氨酯树脂、纤维素系树脂、丙烯酸树脂、AS(丙烯腈－苯乙烯)树脂、ABS(丙烯腈－丁二烯－苯乙烯)树脂、氟系树脂、热塑性弹性体、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚缩醛树脂、聚碳酸酯树脂、改性聚苯醚树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂、聚乳酸系树脂、环状聚烯烃树脂、聚苯硫醚树脂等。其中，优选纤维素系树脂，更优选为三乙酰纤维素树脂、聚碳酸酯树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂。这些树脂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
膜的厚度没有特别限制，优选为20～150μm，更优选为40～80μm。
使用膜作为透明基体10的情况下，作为实施方式之一，可以为在透明基体10上配设硬涂层(未图示)并在其上设置多层膜30的构成。
此外，作为另一实施方式，也可以为在上述硬涂层上配设防眩层(未图示)并在其上设置多层膜30的构成。
作为硬涂层，可以涂布溶解有高分子树脂的溶液。防眩层通过在膜的单面形成凹凸形状来提高雾度，赋予防眩性。构成防眩层的防眩层组合物由使至少其本身具有防眩性的颗粒状物质分散在溶解有作为粘结剂的高分子树脂的溶液中而得的物质构成。
作为上述具有防眩性的颗粒状的物质，例如，可举出二氧化硅、粘土、滑石、碳酸钙、硫酸钙、硫酸钡、硅酸铝、氧化钛、合成沸石、氧化铝、蒙皂石等无机微粒、以及由苯乙烯树脂、聚氨酯树脂、苯并胍胺树脂、有机硅树脂、丙烯酸树脂等构成的有机微粒。
另外，对于上述硬涂层、上述防眩层的作为粘结剂的高分子树脂，例如，可举出聚酯系树脂、丙烯酸系树脂、丙烯酸聚氨酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚氨酯丙烯酸酯系树脂、环氧丙烯酸酯系树脂、聚氨酯系树脂构成的高分子树脂。
＜多层膜＞
上述多层膜可以使用溅射法等公知的成膜方法而形成于透明基体的主面。即，可以使用溅射法等公知的成膜方法将构成多层膜的电介质层或层按照其层叠顺序形成于透明基体的主面。
作为溅射法，例如，可举出磁控溅射、脉冲溅射、AC溅射、数字溅射等方法。
例如，磁控溅射法是在作为母体的电介质材料的背面设置磁铁而产生磁场、气体离子原子碰撞于上述电介质材料表面并逸出而以几nm的厚度进行溅射成膜的方法，可以形成电介质材料的氧化物或氮化物即电介质的连续膜。
例如，数字溅射法与通常的磁控溅射不同，是在同一腔室内重复如下工序而形成金属氧化物的薄膜的方法，所述工序是：首先利用溅射而形成金属的极薄膜，然后照射氧等离子体或氧离子或氧自由基而进行氧化。该情况下，推测由于成膜分子附着成膜于基板时为金属，因此与以金属氧化物附着成膜时相比具有延展性。因此，认为即使相同的能量也容易引起成膜分子的再配置，结果能够形成致密且平滑的膜。
＜防污膜＞
从保护膜最表面的观点考虑，本发明的带有多层膜的透明基体可以在上述多层膜上进一步具有防污膜(也称为“防指纹(Anti Finger Print，AFP)膜”)。防污膜例如可以由含氟有机硅化合物构成。作为含氟有机硅化合物，只要能够赋予防污性、拒水性、拒油性，就可以没有特别限定地使用，例如，可举出具有选自多氟聚醚基、多氟亚烷基和多氟烷基中的1个以上的基团的含氟有机硅化合物。应予说明，多氟聚醚基是指具有多氟亚烷基与醚性氧原子交替键合而成的结构的二价基团。
另外，作为市售的具有选自多氟聚醚基、多氟亚烷基和多氟烷基中的1个以上的基团的含氟有机硅化合物，可以优选使用KP－801(商品名，信越化学公司制)、KY178(商品名，信越化学公司制)、KY－130(商品名，信越化学公司制)、KY－185(商品名，信越化学公司制)OPTOOL(注册商标)DSX和OPTOOL AES(均为商品名，大金公司制)等。
防污膜层叠于防反射膜上。在玻璃基板或树脂基板的两个主面形成防反射膜的情况下，可以在两方的防反射膜都形成防污膜，也可以为仅在任一个面层叠防污膜的构成。这是由于防污膜只要设置于人手等有可能接触到的位置即可，可以根据其用途等进行选择。
本发明的带有多层膜的透明基体适合作为图像显示装置的罩玻璃、特别是搭载于车辆等的导航系统的图像显示装置这样的搭载于车辆等的图像显示装置的罩玻璃。
实施例
以下举出实施例，对本发明进行具体说明，但本发明并不限定于此。例1、2、5、6表示实施例，例3、4、7、8表示比较例。
(例1)
利用以下方法在透明基体的一个主面形成防反射膜，由此制作带有防反射膜的透明基体。
首先，利用数字溅射，使用将铌和钼以重量比40:60的比例混合烧结而成的靶，一边将压力保持在0.3Pa一边通过以高速反复在氩气中形成微小膜厚的金属膜并随后用氧气使其氧化而形成氧化膜，由此在玻璃(铝硅酸盐玻璃，厚度：1.1mm)的一个主面形成10nm的Mo－Nb－O层作为电介质层(1)(金属氧化物层)。
接着，利用相同的数字溅射使用硅靶，一边将压力保持在0.3Pa一边通过以高速反复在氩气中形成硅膜并随后用氧气使其氧化而形成硅氧化膜，由此重叠在Mo－Nb－O层上形成厚度40nm的由氧化硅[二氧化硅(SiOx)]构成的层作为电介质层(2)(氧化硅层)。这里，用氧气进行氧化时的氧流量为400sccm，氧化源的输入功率为0W。
接下来，利用相同的数字溅射使用将铌和钼以重量比40:60的比例混合并烧结而成的靶，一边将压力保持在0.3Pa，一边通过以高速反复在氩气中形成微小膜厚的金属膜并随后用氧气使其氧化而形成氧化膜，由此重叠在氧化硅层上形成厚度120nm的Mo－Nb－O层作为电介质层(3)(金属氧化物层)。
接着，利用相同的数字溅射使用硅靶，一边将压力保持在0.3Pa一边通过以高速反复在氩气中形成硅膜并随后用氧气使其氧化而形成硅氧化膜，由此重叠在Mo－Nb－O层上形成厚度82nm的由氧化硅[二氧化硅(SiOx)]构成的层作为电介质层(4)(氧化硅层)。这里，用氧气进行氧化时的氧流量为400sccm，氧化源的输入功率为0W。
通常的数字溅射中，对氧气施加电力，进行等离子体化或自由基化而照射于金属膜，由此促进氧化，然而通过如本实施例那样不施加电力，能够有意地抑制氧化度。将结构示于表1。
对这样得到的防反射膜实施使用氩离子溅射的X射线光电子能谱法(XPS)深度方向组成分析。XPS深度方向组成分析的条件如下。
装置：ULVAC-PHI公司制Quantera－SXM
XPS条件：
·X射线：单色化的AlKα射线
·检测角度：与试样面成45°
·通能：224eV
·能阶：0.4eV/step
·监测峰：Si2p，Mo3d，Nb3d，O1s
溅射条件：
·溅射离子枪：Ar+
·加速电压：4kV
·光栅：3×3mm2
·溅射速率：8.71nm/min(SiO2膜换算)
解析软件：ULVAC-PHI公司制MultiPak Version9.3.0.3
峰背景的扣除方法：Shirley法
通过XPS深度方向组成分析而得到横轴为溅射时间(分)、纵轴为原子浓度(原子％)的深度分析图。由电介质层(4)的Si2p和O1s的深度分析图而得到O与Si的原子浓度比(atomic比)，算出SiOx层的x。应予说明，溅射时间为0分钟的地点为最表面，受表面污染等影响使x的值的可靠性降低。另外，在电介质层(4)与电介质层(3)的界面附近，受电介质层(3)的影响使x的值的可靠性降低。因此，将溅射时间为0分钟的地点的x的值除外，求出未监测到Mo3d峰和Nb3d峰的光电子强度的深度区域的x的值的平均值，将其作为SiOx层的x。
另外，根据电介质层(3)的Nb3d、Mo3d和O1s的深度分析图，求出Nb、Mo与O的原子浓度比、即Mo(y)－Nb(z)－O的y、z。应予说明，在电介质层(4)与电介质层(3)的界面附近和电介质层(3)与电介质层(2)的界面附近，受SiOx层的影响使y和z的值的可靠性降低。因此，由未监测到Si2p峰的光电子强度的深度区域求出Mo(y)－Nb(z)－O的y和z的值的平均值，将其作为Mo(y)－Nb(z)－O的y和z。
应予说明，原子浓度的计算使用解析软件所提供的默认的校正相对灵敏度系数(Corrected RSF)。Si2p、Mo3d、Nb3d、O1s的Corrected RSF分别为94.999(Si2p)、894.834(Mo3d)、790.312(Nb3d)、163.432(O1s)。
基于XPS的分析结果，将Mo的原子量计为95.96(g/mol)、将Nb的原子量计为92.91(g/mol)来估算电介质层(3)的Mo－Nb－O层中的Mo与Nb的组成比(wt％)时，Mo:Nb＝68:32(wt％)。另外，这些Mo－Nb－O层的550nm的折射率为2.1，消光系数为0.04。
(例2)
将形成氧化硅层时的氧气流量变更为200sccm，除此以外，与例1同样地成膜，将所得到的带有多层膜的透明基体的评价结果示于下述表1。基于XPS的分析结果，与例1进行同样的估算时，电介质层(3)的Mo－Nb－O层中的Mo与Nb的组成比为Mo:Nb＝69:31(wt％)。
(例3)
将形成氧化硅层时的氧化源的输入功率变更为350W，除此以外，与例1同样地成膜，将所得到的带有多层膜的透明基体的评价结果示于下述表1。基于XPS的分析结果，与例1进行同样的估算时，电介质层(3)的Mo－Nb－O层中的Mo与Nb的组成比为Mo:Nb＝68:32(wt％)。
(例4)
将形成氧化硅层时的氧化源的输入功率变更为200W，除此以外，与例1同样地成膜，将所得到的带有多层膜的透明基体的评价结果示于下述表1。基于XPS的分析结果，与例1进行同样的估算时，电介质层(3)的Mo－Nb－O层中的Mo与Nb的组成比为Mo:Nb＝69:31(wt％)。
(例5)
将玻璃变更为三乙酰纤维素树脂(厚度：40μm)，除此以外，与例1同样地成膜，将所得到的带有多层膜的透明基体的评价结果示于下述表2。基于XPS的分析结果，与例1进行同样的估算时，电介质层(3)的Mo－Nb－O层中的Mo与Nb的组成比为Mo:Nb＝68:32(wt％)。
(例6)
形成氧化硅层时的氧气流量变更为200sccm，除此以外，与例5同样地成膜，将所得到的带有多层膜的透明基体的评价结果示于下述表2。基于XPS的分析结果，与例1进行同样的估算时，电介质层(3)的Mo－Nb－O层中的Mo与Nb的组成比为Mo:Nb＝68:32(wt％)。
(例7)
将形成氧化硅层时的氧化源的输入功率变更为350W，除此以外，与例5同样地成膜，将所得到的带有多层膜的透明基体的评价结果示于下述表2。基于XPS的分析结果，与例1进行同样的估算时，电介质层(3)的Mo－Nb－O层中的Mo与Nb的组成比为Mo:Nb＝68:32(wt％)。
(例8)
将形成氧化硅层时的氧化源的输入功率变更为200W，除此以外，与例5同样地成膜，将所得到的带有多层膜的透明基体的评价结果示于下述表2。基于XPS的分析结果，与例1进行同样的估算时，电介质层(3)的Mo－Nb－O层中的Mo与Nb的组成比为Mo:Nb＝68:32(wt％)。应予说明，成膜中的温度为60℃～90℃左右，树脂基体未看到特别的变化。
将上述层叠结构的防反射膜利用X射线结构解析装置(XRD)进行分析，结果未看到结晶峰，确认为非晶体。
将对所制作的带有多层膜的透明基体实施以下评价而得的结果示于下述表1和2。
＜防反射膜的薄层电阻＞
使用测定装置[三菱化学ANALYTECH公司制，装置名：Hiresta UP(MCP－HT450型)]来测定薄层电阻值。使探针接触带有防反射膜的透明基体的中央，以10V通电10秒进行测定。
＜带有防反射膜的透明基体的光透射率＞
利用分光光度计(岛津制作所公司制，商品名：SolidSpec－3700)来测定分光透射率，通过计算而求出光透射率(JIS Z 8701：1999中规定的刺激值Y)。
＜密合性＞
用切刀在膜上划出直线状的划痕，并用渗入乙醇的棉布在该划痕上来回摩擦，确认在划痕的周边是否产生了膜的剥离。负荷为12N，摩擦100次。通过上述方法进行评价，按照下述基准进行评价。
A：目视、显微镜下均未见剥离
B：虽然目视未见剥离，但在显微镜下看到少许可允许的剥离。
C：目视确认产生了膜剥离
＜防反射膜的光反射率＞
利用分光光度计(岛津制作所公司制，商品名：SolidSpec－3700)来测定分光反射率，通过计算而求出光反射率(JIS Z 8701：1999中规定的反射的刺激值Y)。应予说明，利用快干漆将带有防反射膜的透明基体的背面一侧(玻璃基板侧)涂黑，在消除背面反射的状态下进行测定。
＜带有防反射膜的透明基体的D65光源下的透过色(b*值)＞
根据测定上述分光透射率而得到的透射光谱，求出JIS Z 8729：2004中规定的颜色指标(b*值)。光源使用D65光源。
[表1]
表1
[表2]
表2
根据表1和2可知：例1、2、5、6的带有多层膜的透明基体的氧化硅层SiOx为1.55≤x＜2.00，它们的密合性高。另外，多层膜的光透射率为20～89％，具有光吸收能力，且薄层电阻为104Ω/□以上，具有绝缘性。另一方面，氧化硅层SiOx为x≥2.00的例3、4、7、8的带有多层膜的透明基体的密合性低。
另外，表1、2中，Δ缺氧指数|2/x－2y－z|的值小于0.46的例1、2、5、6与例3、4、7、8相比密合性高。
参照特定方式对本发明进行了详细说明，在不脱离本发明的精神和范围的情况下可以进行各种变更和修正，对本领域技术人员而言是清楚的。应予说明，本申请基于2019年12月18日申请的日本专利申请(日本特愿2019-228161)，通过引用将其全部内容援引于此。另外，在此引用的全部参照作为整体并入于此。
符号说明
10 透明基体
30 多层膜
32、34 电介质层
Claims (11)
1.一种带有多层膜的透明基体，在具有二个主面的透明基体的至少一个主面具备依次层叠有金属氧化物层和氧化硅层的多层膜，
所述多层膜内的至少一个氧化硅层的SiOx为1.55≤x＜2.00，
所述多层膜的光透射率为20～89％，且电阻值为104Ω/□以上，
而且，所述金属氧化物层由选自A组中的至少1种氧化物与选自B组中的至少1种氧化物的混合氧化物构成，所述A组由Mo和W组成，所述B组由Si、Nb、Ti、Zr、Ta、Al、Sn和In组成，且所述金属氧化物层至少含有Mo氧化物与Nb氧化物的混合氧化物，
所述多层膜为层叠有至少2层以上的折射率彼此不同的层的层叠结构，
所述层叠结构的层中的至少1层为所述氧化硅层，
所述层叠结构的层中的另外的至少1层为所述金属氧化物层，
在将通过使用氩离子溅射的X射线光电子能谱法即XPS深度方向组成分析而求出的含有所述Mo和所述Nb的层的组成设为A(y)－B(z)－O且A为Mo、B为Nb的情况下，
所述金属氧化物层和所述氧化硅层的缺氧指数的绝对值满足下式(1)，
|2/x－2y－z|＜0.46 (1)
式(1)中，将所述金属氧化物层的缺氧指数设为2y+z－1，将所述氧化硅层的缺氧指数设为2/x－1，x表示与所述金属氧化物层相接的至少一个所述氧化硅层SiOx的值，所述金属氧化物层的缺氧指数和所述氧化硅层的缺氧指数都取正值，其中，在金属氧化物层相当于最表层的情况下，除去溅射时间为0分钟的地点而求出y和z的值，
其中，SiOx的x为通过使用氩离子溅射的X射线光电子能谱法即XPS深度方向组成分析而求出的值，在氧化硅层相当于最表层的情况下，除去溅射时间为0分钟的地点而求出x的值。
2.根据权利要求1所述的带有多层膜的透明基体，其中，所述多层膜的光反射率为1％以下。
3.根据权利要求1或2所述的带有多层膜的透明基体，其中，所述多层膜的D65光源下的透过色中b*值为5以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的带有多层膜的透明基体，其中，相对于Mo氧化物与Nb氧化物的混合氧化物所包含的Mo与Nb的合计，Mo氧化物与Nb氧化物的混合氧化物所包含的Nb的含有率小于80质量％。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的带有多层膜的透明基体，其中，在所述多层膜上进一步具有防污膜。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的带有多层膜的透明基体，其中，所述透明基体为玻璃基板。
7.根据权利要求6所述的带有多层膜的透明基体，其中，所述玻璃基板经过化学强化。
8.根据权利要求6或7所述的带有多层膜的透明基体，其中，所述玻璃基板对具有所述多层膜一侧的主面实施了防眩处理。
9.根据权利要求1～5中任一项所述的带有多层膜的透明基体，其中，所述透明基体为树脂基板。
10.根据权利要求9所述的带有多层膜的透明基体，其中，所述树脂基板对具有所述多层膜一侧的主面实施了防眩处理。
11.一种图像显示装置，具有权利要求1～10中任一项所述的带有多层膜的透明基体。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019228161 | 2019-12-18 | ||
| JP2019-228161 | 2019-12-18 | ||
| PCT/JP2020/046418 WO2021125113A1 (ja) | 2019-12-18 | 2020-12-11 | 多層膜付き透明基体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114845861A CN114845861A (zh) | 2022-08-02 |
| CN114845861B true CN114845861B (zh) | 2024-03-15 |
Family
ID=76476600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202080087933.2A Active CN114845861B (zh) | 2019-12-18 | 2020-12-11 | 带有多层膜的透明基体 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220315483A1 (zh) |
| EP (1) | EP4079513A4 (zh) |
| JP (2) | JP7156556B2 (zh) |
| KR (1) | KR102615696B1 (zh) |
| CN (1) | CN114845861B (zh) |
| TW (1) | TW202128421A (zh) |
| WO (1) | WO2021125113A1 (zh) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07145256A (ja) * | 1993-11-24 | 1995-06-06 | Toppan Printing Co Ltd | 透明蒸着フィルム |
| JPH11156989A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-15 | Toppan Printing Co Ltd | 高透明酸化珪素蒸着フィルム |
| CN1489711A (zh) * | 2001-01-31 | 2004-04-14 | 日本瑞翁株式会社 | 导光板及照明单元 |
| CN102436016A (zh) * | 2010-09-29 | 2012-05-02 | 富士胶片株式会社 | 防反射膜及其制造方法、光学部件、以及塑料透镜 |
| CN108312655A (zh) * | 2017-01-16 | 2018-07-24 | 旭硝子株式会社 | 带减反射膜的透明基体 |
| CN110637102A (zh) * | 2018-03-13 | 2019-12-31 | 捷客斯金属株式会社 | 氧化物薄膜和用于制造该薄膜的溅射靶用氧化物烧结体 |
| CN111989597A (zh) * | 2018-02-28 | 2020-11-24 | 大日本印刷株式会社 | 功能性膜、偏振片和图像显示装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4786783A (en) * | 1987-08-11 | 1988-11-22 | Monsanto Company | Electrically heatable laminated window |
| JPH11218603A (ja) * | 1997-11-27 | 1999-08-10 | Sony Corp | 反射防止膜およびその製造方法 |
| US7776460B2 (en) * | 1998-03-20 | 2010-08-17 | Agc Glass Europe | Coated substrate with high reflectance |
| JP2000241605A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-09-08 | Sony Corp | 反射防止膜及び表示装置並びに成膜装置 |
| JP2002321302A (ja) | 2001-04-26 | 2002-11-05 | Nippon Zeon Co Ltd | 脂環式構造含有重合体樹脂積層体 |
| WO2004107297A1 (ja) * | 2003-05-29 | 2004-12-09 | Konica Minolta Holdings, Inc. | ディスプレイ基板用透明フィルム、該フィルムを用いたディスプレイ基板およびその製造方法、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、およびタッチパネル |
| JP6404663B2 (ja) | 2014-09-30 | 2018-10-10 | 株式会社カネカ | 透明導電積層体の製造方法 |
-
2020
- 2020-12-11 WO PCT/JP2020/046418 patent/WO2021125113A1/ja unknown
- 2020-12-11 KR KR1020227020117A patent/KR102615696B1/ko active IP Right Grant
- 2020-12-11 EP EP20901209.5A patent/EP4079513A4/en active Pending
- 2020-12-11 JP JP2021565564A patent/JP7156556B2/ja active Active
- 2020-12-11 CN CN202080087933.2A patent/CN114845861B/zh active Active
- 2020-12-18 TW TW109144945A patent/TW202128421A/zh unknown
-
2022
- 2022-06-16 US US17/841,726 patent/US20220315483A1/en active Pending
- 2022-10-05 JP JP2022161224A patent/JP2022189846A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07145256A (ja) * | 1993-11-24 | 1995-06-06 | Toppan Printing Co Ltd | 透明蒸着フィルム |
| JPH11156989A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-06-15 | Toppan Printing Co Ltd | 高透明酸化珪素蒸着フィルム |
| CN1489711A (zh) * | 2001-01-31 | 2004-04-14 | 日本瑞翁株式会社 | 导光板及照明单元 |
| CN102436016A (zh) * | 2010-09-29 | 2012-05-02 | 富士胶片株式会社 | 防反射膜及其制造方法、光学部件、以及塑料透镜 |
| CN108312655A (zh) * | 2017-01-16 | 2018-07-24 | 旭硝子株式会社 | 带减反射膜的透明基体 |
| CN111989597A (zh) * | 2018-02-28 | 2020-11-24 | 大日本印刷株式会社 | 功能性膜、偏振片和图像显示装置 |
| CN110637102A (zh) * | 2018-03-13 | 2019-12-31 | 捷客斯金属株式会社 | 氧化物薄膜和用于制造该薄膜的溅射靶用氧化物烧结体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7156556B2 (ja) | 2022-10-19 |
| TW202128421A (zh) | 2021-08-01 |
| JPWO2021125113A1 (zh) | 2021-06-24 |
| US20220315483A1 (en) | 2022-10-06 |
| EP4079513A1 (en) | 2022-10-26 |
| WO2021125113A1 (ja) | 2021-06-24 |
| JP2022189846A (ja) | 2022-12-22 |
| KR102615696B1 (ko) | 2023-12-20 |
| KR20220114553A (ko) | 2022-08-17 |
| CN114845861A (zh) | 2022-08-02 |
| EP4079513A4 (en) | 2023-12-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN114734690B (zh) | 带减反射膜的透明基体 | |
| KR20100135837A (ko) | 저반사 유리 및 디스플레이용 보호판 | |
| JP2012032690A (ja) | 光学物品およびその製造方法 | |
| CN116075420A (zh) | 带有防反射膜的透明基体和图像显示装置 | |
| JP5160329B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル | |
| WO2022004737A1 (ja) | 反射防止膜付透明基体 | |
| CN114845861B (zh) | 带有多层膜的透明基体 | |
| JP2023105806A (ja) | 反射防止膜付透明基体および画像表示装置 | |
| WO2022181371A1 (ja) | 多層膜付透明基体及び画像表示装置 | |
| US11021392B2 (en) | Transparent substrate with multilayer antireflective film containing an oxide of molybdenum | |
| WO2023195500A1 (ja) | 反射防止膜付透明基体および画像表示装置 | |
| CN116466419A (zh) | 带防反射膜的透明基体和图像显示装置 | |
| EP4215957A1 (en) | Anti-reflective film-attached transparent substrate and image display device | |
| TW202319226A (zh) | 附反射防止膜之透明基體 | |
| JP5425423B2 (ja) | 透明導電性フィルム及びタッチパネル、並びに透明導電性フィルムの製造方法 | |
| TW202319780A (zh) | 附反射防止膜之透明基體及圖像顯示裝置 | |
| WO2015159804A1 (ja) | 積層体、導電性積層体、および電子機器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |