CN114730136A - 用于投射曝光设备的照明光学单元的多分面反射镜 - Google Patents

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Abstract

一种用于投射印刷系统的照明光学单元的多分面反射镜具有多个可移位的单独分面(8i)，该单独分面具有分面主体(35)和配备在其上的反射表面(36)，其中，单独分面(8i)中的至少一个子组合具有位移范围，使得子组合在一个或多个位移位置中与邻接表面(38)接触。

Description

用于投射曝光设备的照明光学单元的多分面反射镜
本专利申请要求德国专利申请DE 10 2019 214 269.9的优先权，其内容通过引用并入本文中。
技术领域
本发明涉及用于投射曝光设备的照明光学单元的分面反射镜。本发明还涉及用于投射曝光设备的照明光学单元的分面反射镜的单独分面。本发明还涉及照明光学单元、照明系统、光学系统和具有对应分面反射镜的投射曝光设备。最后，本发明涉及用于制造微结构部件或纳米结构部件的方法，还涉及根据该方法制造的部件。
背景技术
从现有技术中已知用于具有大量可移位的单独分面的投射曝光设备的照明光学单元的分面反射镜。在这种情况下，形成单独分面，使得它们在发生受控制的位移时不会相互阻碍。特别地，形成分面，使得它们在位移期间不会相互接触。
从现有技术中已知一种用于保护分面反射镜的分面(特别是在其被运输时)免受不希望的移动的机构。然而，该机构在分面反射镜的正常操作期间不保护分面。
发明内容
本发明的目的在于改进用于投射曝光设备的照明光学单元的分面反射镜。
该目的由权利要求1的特征来实现。
本发明的本质是形成分面反射镜的单独分面，使得它们在一个或多个位移位置与止动表面接触。特别是可以形成分面反射镜的单独分面，使得它们在可逆地可调节的位移位置中与止动表面接触。这样的可逆地可调节的位移位置也被称为主动的或可致动的位移位置。特别地，单独分面可以具有一个或多个离散的主动位移位置。它们也可以形成为使得它们仅在发生不希望的偏转时、特别是在发生寄生移动时、特别是在发生运输和/或地震时才与止动表面接触。这样的偏转也被称为被动位移位置。在有疑问的情况下，位移位置包括主动可能位移位置和被动可能位移位置两者。
在这种情况下，分面在各个情况下以其主体与止动表面接触或与布置在主体上或主体中的止动元件接触。在这种情况下，单独分面的反射表面优选保持不接触。
止动表面特别是限定的、特别是预先确定的止动表面。止动表面特别是用于两个相邻分面相互抵靠的止动表面。止动表面特别地与相应的单独分面的反射表面相距一定距离。特别地，单独分面的止动表面和反射表面形成不相接的区域。
止动表面特别是分别形成在分面主体中或分面主体上。止动表面特别可以形成或布置在分面主体中或分面主体上，使得在单独分面的反射表面的表面法线的方向上的投射中(特别是在穿过单独分面的反射表面的形心的表面法线的方向上的投射中)，它形成分面主体的投射的外边界，或者在垂直于表面法线的至少一个方向上突出超过这样的边界。
该投射特别是平行投射，特别是正交投射。
该投射特别是到投射平面的投射，该投射平面尤其垂直于表面法线。
根据本发明，已经认识到这可以防止分面以不受控制的方式相互碰撞。以不受控制的方式相互碰撞在此被理解为意味着分面在不受控制的、特别是在不希望的区域中相互碰撞。特别是，可以防止单独分面的反射表面相互碰撞。这可以防止损坏反射表面。
单独分面可以特别地形成为使得它们仅在可以致动和设定的移动位置中与止动表面接触。特别是，对单独分面的不希望的或不可预见的外部影响不是与止动表面接触的先决条件。
单独的分面也可以形成为使得它们在发生不希望的或不可预见的外部影响时，特别是仅在发生不希望的或不可预见的外部影响时与止动表面接触。
根据本发明的一个方面，至少一些单独分面，特别是所有的单独分面，可以具有位移范围，使得相邻的单独分面在一个或多个位移位置中接触。单独分面可以特别是在被动位移位置中相互接触。
单独分面优选地在基本或中性位置中无接触地布置，特别是布置在彼此相距一定距离处。特别地，它们可以在至少一个主动位移位置中(特别是在所有主动位移位置中)相距所有止动表面一定距离地布置。
总体上，根据本发明的构思涉及具有多个可移位光学元件的光学模块。
根据本发明的一个方面，相邻的单独分面在各个情况下在基本或中性位置中以间隙彼此相距一定距离布置。对应的间隙也可以存在于预先确定的切换位置中，特别是在任何期望的切换位置中。特别地，单独分面的反射表面优选地在各个情况下在基本位置或中性位置中彼此相距一定距离布置。
在基本位置或中性位置中，单独分面特别地也以间隙相距所有止动表面的一定距离布置。
间隙足够大以允许单独分面在位移范围内位移。另一方面，间隙尽可能窄，以便允许单独分面的密集堆积。相邻的单独分面之间的间隙的宽度特别可以小于1mm，特别是小于0.5mm。间隙的宽度特别是至多50％，特别是至多30％，特别是至多20％，特别是至多15％，特别是至多10％，特别是至多5％，特别是至多3％，特别是至多2％，特别是至多1％的单独分面的范围，特别是它们的主体或它们在对应方向上的反射表面的范围。
特别地，分面可实际移位的范围被称为单独分面的位移范围。该范围还称为主动位移范围。此外，由于特别是当运输分面反射镜时的外部影响(例如振动)，单独分面可以被移位。在此可能的范围被称为被动位移范围。特别是，它可能大于主动位移范围。除非另有说明，否则分面的位移范围应理解为在各个情况下意味着最大的位移范围，特别是主动位移范围和被动位移范围的各个情况下的较大的位移范围。
根据本发明的一个方面，相邻的单独分面之间的间隙的总面积至多特别是至多50％，特别是至多30％，特别是至多20％，特别是至多15％，特别是至多10％，特别是至多5％，特别是至多3％，特别是至多2％，特别是至多1％的分面反射镜的总面积或分面反射镜的所有单独分面的反射表面的总和。
特别地，单独分面具有一个、两个或更多个位移自由度。特别是，它们具有两个倾斜自由度。特别是，它们可以是围绕两个倾斜轴线可倾斜的，两个倾斜轴线特别是相互垂直地延伸。它们也可以是在平行于表面法线的方向上可线性位移的，特别是在反射表面的中心点处。
单独分面(特别是它们的分面主体)可以在各个情况下整体地形成。
在这种情况下，其上设置反射表面的单独分面的组成部分被称为分面主体。特别地，分面主体的横截面基本上对应于反射表面。分面主体的横截面与相应分面的反射表面的尺寸偏离了特别是至多30％，特别是至多20％，特别是至多10％。
特别是在投射的情况下，特别是在平行投射的情况下，特别是在正交投射的情况下，分面主体在反射表面的表面法线的方向上(特别是在相应单独分面的反射表面的表面法线的方向上、在止动表面中的一个的区域和/或止动元件中的一个的区域中)的横截面与相应分面的反射表面的尺寸偏离了至多30％，特别是至多20％，特别是至多10％。这特别可以是四边形的、特别是细长的横截面。横截面可以具有直的或弯曲的边界。分面主体的该横截面的纵横比对应于相应单独分面的反射表面的纵横比，特别是在所述最大偏差内。在这方面，参考以下描述。
单独分面还可以具有其他组成部分，例如用于移位相应分面的致动器装置的元件和/或用于支撑分面的元件。其横截面与反射表面明显地(特别是至少50％)偏离的对应元件不被视为分面主体的组成部分。
单独分面(特别是它们的反射表面)优选是细长的。优选地，它们的纵横比(纵向方向上的最大范围：垂直于该纵向方向(即横向方向)的最大范围)为至少3：1，特别是至少5：1，特别是至少8：1，特别是至少10：1，特别是至少12：1。纵横比优选为至多100：1，特别是至多50：1，特别是至多30：1，特别是至多20：1。
根据本发明的其他方面，在特定位移位置与单独分面接触的止动表面由另一个单独分面、特别是其主体、特别是主体的预先确定区域或由分离的止动元件形成。
分面反射镜特别可以形成为使得两个相邻的单独分面仅当不可致动的自由度被激励时才会接触。例如，在发生地震或运输负载时，可能会发生单独分面的这种偏转。
与分离的止动元件的接触也可能受限于不能被致动的自由度的激励，特别是在发生地震或运输负载时。
根据本发明的其他方面，单独分面的分面主体在各个情况下形成为使得相邻的单独分面在分面主体的预先确定区域中的某些偏转或位移位置中接触。
特别地，可以基于单独分面的预期位移范围和分面主体的几何形状来预先确定其可能与相邻的单独分面发生接触的区域。这使得该区域可以专门针对可能的碰撞进行调整。
分面主体的可能发生接触的区域优选地在距相应单独分面的反射表面(特别是距它们的边缘)一定距离处。这降低了由于相邻的单独分面之间的碰撞而损坏反射表面，特别是其边缘的风险。这也特别适用于计划外的、特别是不可预见的碰撞，诸如当运输分面反射镜时和/或在发生地震时可能发生的碰撞。
分面主体的预先确定区域特别是形成止动表面。
根据本发明的其他方面，分面主体形成为使得两个相邻的单独分面的分面主体之间的距离小于它们的反射表面之间的距离。
该性质在单独分面的基本位置中特别是适用。这优选地是普遍适用的，而与单独分面的位移位置无关。下面更详细地描述分面主体的对应形式。
根据本发明的其他方面，一个或多个止动元件在各个情况下配备在分面主体上或分面主体中。
止动元件用作缓冲器。在一定程度上，它们用作保险杠。它们允许以有针对性的方式指定相邻的单独分面可以相互接触的区域；特别是，它们允许以有针对性的方式指定止动表面。
止动元件可以形成为分离元件并且在各个情况下都连接到分面主体。特别地，它们可以以形状装配的方式连接到分面主体。
根据本发明的一个方面，止动元件通过胶合、锡焊、焊接、螺纹连接、夹住、收缩或装配来连接到分面主体。原理上，用于将止动元件连接到分面主体的所有可想到的连接技术都是可能的。
特别地，止动元件可以是可更换的。止动元件还可以与分面主体形成为一个件。这允许特别简单和稳定的制造。止动元件优选地布置在预先确定位置处，特别是在分面主体的顶部、拐角、边缘或其他预先确定位置的区域中。
止动元件可以在分面主体的整个宽度和/或整个长度上延伸。特别地，它们可以在分面主体的整个圆周上延伸。作为对此的替代，可以提供多个止动元件，它们在各个情况下具有较小的范围。这允许减轻重量。这对单独分面的机械性能有积极的效果。
特别是可以设想在各个情况下将一个或多个止动元件布置在分面主体的端部，特别是在其沿纵向方向的端部的区域中。还可以将一个或多个止动元件布置在分面主体上的中心区域中，特别是相对于纵向方向的中心区域中。这在弯曲的分面情况下可以特别有利。
止动元件特别可以在各个情况下配备在最可能发生碰撞的区域中。特别地，它们可以布置在相应分面主体和相邻分面主体之间的距离最小的区域中。该陈述可以与分面主体在中性(即未偏转的)基本状态中的位置有关和/或与它们的距离最小的相邻分面主体的位移位置有关。
止动元件可以由与分面主体相同的材料形成。特别地，它们可以由铜或铜合金形成。它们也可以由其他材料制成或由其他材料构成。可以考虑用于止动元件的其他材料，例如是Zerodur、ULE、铝、陶瓷、石英和硅。
止动元件可以配备有涂层，特别是耐磨涂层。因此，可以减少，特别是防止颗粒磨损。
根据本发明的其他方面，止动元件侧向突出超过反射表面。特别是当从上方观看时，它们侧向突出超过反射表面。它们特别是在横向方向上侧向突出超过反射表面。
止动元件在平行于反射表面的方向上的范围特别地大于反射表面在该方向上的范围。止动元件在平行于反射表面的宽度的方向上的范围特别地大于反射表面的宽度。
这样，可以有效且可靠地防止发生碰撞时损坏反射表面。
根据本发明的其他方面，止动元件在与反射表面的表面法线相反方向上突出超过分面主体。它们突出超过分面主体，特别是在分面主体的与反射表面相对的一侧。
止动元件还可以具有在平行于反射表面的表面法线的方向上的范围，该范围小于分面主体在该方向上的范围。
根据本发明的其他方面，分面反射镜的所有的单独分面在各个情况下具有相同的止动元件和/或处于基本相同的位置的止动元件。
这简化了单独分面的生产和分面轮廓的编程。
作为对此的替代，不同的单独分面可以具有不同的止动元件和/或处于不同位置的止动元件。特别可以为每个单独分面单独地提供一个或多个止动元件。这允许在计划分面时的灵活性更大。
止动元件的相似性和/或差异在此可以在各个情况下与它们的形状和/或它们在相应单独分面上的布置有关。
根据本发明的其他方面，止动元件具有在单独分面的整个长度上延伸的范围。止动元件特别地可以在单独分面的整个圆周上延伸。
因此，以特别可靠的方式保护了单独分面。
根据本发明的其他方面，单独分面(特别是它们的主体)具有用于减轻重量的构件和/或减轻重量的形式。
特别地，孔、空隙、凹穴、变薄部或斜面可以用作减轻重量的构件。
根据本发明的其他方面，分面反射镜具有用于限制单独分面的位移范围的一个或多个构件。分面反射镜特别可以具有用于限制不希望的偏转的一个或多个构件，特别是用于限制单独分面的寄生运动的一个或多个构件。
在这种情况下，用于限制位移范围的构件(特别是用于限制单独分面的不希望的寄生运动的构件)可以形成止动表面。
用于限制单独分面的位移范围的构件可以形成为销，其也特别被称为缓冲器、叉形件、凹穴或U形剖面。
相应止动表面的游隙相对于相邻的单独分面优选地小于分面间隙。
根据本发明的其他方面，用于限制单独分面的位移范围的构件的自由端布置在旋转轴线的区域中。因此，可以减小单独分面在用于限制其位移范围的构件周围的游隙。特别是，这不会由于单独分面围绕旋转轴线的致动而减少单独分面的可用游隙。
为了进一步减小游隙，可以设想调整用于限制单独分面的位移范围的构件。
特别地，可以设想测量单独分面之间的间隙和/或确定特定的间隔体并将它们布置在分面上和/或使止动件可调节或可设定。
本发明的其他目的是改进投射曝光设备的照明光学单元的分面反射镜的单独分面，特别是根据前述的描述。
该目的通过具有分面主体和布置在其上的反射表面的单独分面以及配备在分面主体上或分面主体中的一个或多个止动元件来实现。
其优点从如上所述的优点中是显而易见。
根据一个方面，在分面主体上或在分面主体中提供一个或多个止动表面和/或止动元件，该一个或多个止动表面和/或止动元件在反射表面的表面法线的方向上的投射中，在垂直于该表面法线的至少一个方向上突出超过反射表面。
在此，表面法线特别是通过反射表面的形心的表面法线。
根据一个方面，单独分面具有一个或多个止动表面和/或止动元件，该止动表面和/或止动元件在反射表面的表面法线的方向上的投射中，在垂直于该表面法线的至少一个方向上和相反方向上都突出超过反射表面。
根据一个方面，单独分面具有一个或多个止动表面和/或止动元件，其在反射表面的表面法线的方向上的投射中，在反射表面的整个圆周区域上突出超过反射表面。
止动元件可以是分面主体的特定形式，特别是其加厚部。主体优选地至少部分地宽于单独分面的反射表面。
止动元件还可以是连接到分面主体的单独部件。
单独分面的反射表面可以是平坦的。它们也可能具有正或负屈光力。它们也可能是复曲面。
单独分面的反射表面特别地可以是矩形的、梯形的或弯曲的，特别是圆环段的形式。
根据本发明的其他方面，分面主体具有至少一个自由端，特别是两个自由端，并且被形成为使得其横截面朝向一个自由端或朝向多个自由端减小。
分面主体的横截面特别是至少部分地从附接区域朝向一个或多个自由端减小。
横截面特别是可以朝着自由端连续地、特别是单调地减小。这允许减小质量惯性矩。分面主体的横截面也可以有助于增加分面主体的刚度。
横截面也可以在最外侧，在自由端的区域中再次增加。在自由端的区域中，分面主体特别可以具有止动元件。
根据本发明的其他方面，分面主体具有用于减小其质量惯性矩的构件和/或用于增加其刚度的构件。
分面主体的空隙、孔或通常减轻重量的形式可以用作用于减小分面主体的质量惯性矩的构件。
其轮廓形式可以用作增加分面主体的刚度的构件。分面主体特别可以至少部分地具有T形、U形或H形横截面。分面主体也可以是附加制造的。特别是，它可以具有中空结构。由此，这允许特别有效地减少分面主体的质量惯性矩。
此外，本发明的其他目的是改进投射曝光设备的照明光学单元、投射曝光设备的照明系统、投射曝光设备的光学单元以及投射曝光设备。
这些目的通过具有根据前述描述的分面反射镜的照明光学单元、照明系统、光学系统和投射曝光设备来实现。
根据本发明的实施例在运输期间和在发生地震载荷时提供特别改进的保护，特别是对光学表面的保护。
其优点来自分面反射镜的优点。
本发明的其他目的是改进用于生产微结构部件或纳米结构部件的方法，以及对应制造的部件。
该目的通过提供根据上面描述的投射曝光设备来实现。
这些优点继而根据所参考的分面反射镜的优点得出。
附图说明
从参考附图的示例性实施例的描述中，本发明的其他优点和细节将变得显而易见，附图中：
图1示意性地示出了投射曝光设备的组成部分和束路径，
图2示意性地示出了场分面反射镜上的场分面的示例性布置，
图3和图4示意性地示出了用于围绕两个独立的倾斜轴线移位场分面的致动器装置，
图5示意性地示出了进一步的细节以明确场分面的倾斜轴线相对于其反射表面的相对位置，
图6通过示例示意性地示出了在围绕平行于它们的表面法线的轴线旋转期间两个相邻分面的碰撞，
图7通过示例示出了单独分面的立体图，
图8通过示例示出了用于保护分面的止动元件的横截面，
图9通过示例示出了通过根据图7的分面的侧视图，其中两个止动元件布置在端部，
图10示意性地示出了根据图6的表示，分面由止动元件保护，
图11至13示出了说明两个相邻分面的不同倾斜情况的示意表示，
图14和15示意性地示出了分面上的止动元件的两个不同布置，
图16通过示例示出了结构优化分面的立体图，
图17示意性地示出了分面的局部立体图，该分面的主体具有用于减小质量惯性矩的构件和用于增加刚度的构件，
图18示意性地示出了具有平衡元件的分面的立体图，
图19通过示例示出了在分面的主体上的止动元件的布置的详细视图，
图20至22通过示例示出了止动元件的边界的不同形式，
图23示意性地示出了具有用于限制其位移范围的分离的止动元件的分面的视图，
图24示意性地示出了通过具有根据图23的止动元件的相邻分面的横截面，
图25示意性地示出了穿过分面的纵向截面以图示根据图23的止动元件相对于分面的倾斜轴线的优选布置，和
图26通过示例示意性地示出了变型，其中止动元件形成为分离的侧向止动件，
图27通过示例示出了用于保护分面的止动元件的其他横截面，以及
图28通过示例示出了具有三个止动元件的分面的立体图。
具体实施方式
下面，首先参考图1描述投射曝光设备1中的总体结构和束路径。
投射曝光设备1包括照明光学单元1a，用于用照明辐射4照明物平面3中的物场2。投射曝光设备1还包括用于对图1中未示出的掩模母版成像的投射光学单元1b，该掩模母版布置在物平面3的区域中并且具有在晶片上待成像的结构，该晶片同样未示出在图1中并且被布置在像平面31中。细节从现有技术中来获悉。
照明辐射4可以特别是EUV辐射，特别是具有至多30nm、特别是13.5nm或更小的波长的照明辐射。
由辐射源5生成照明辐射4。等离子体源或自由电子激光器(FEL)可以例如用作辐射源5。对于细节，再次参考现有技术。
照明光学单元1a和辐射源5的组合也被称为照明系统1c。
由集光器6收集由辐射源5发射的照明辐射4。集光器6反射照明辐射4并将其引导到照明光学单元1a后面的部件。
在集光器6之后的束路径中，照明辐射4照射在第一分面反射镜7形式的第一光学元件上，该第一分面反射镜7也被称为场分面反射镜。第一分面反射镜7用于在照明系统1c中产生次级光源。
由照明辐射4作用的第一分面反射镜7的全部反射表面被分成多个第一分面8i，其也被称为场分面。在图1和图2中，示意性地指示四个第一分面81到84。
照明辐射4的子束12i在图1中同样示意性地并且通过示例指示，特别是照明辐射4的子束121到124分配给所示的四个第一分面81到84。
第一分面通常是细长的形式。它们可以是矩形的。它们还可以是弯曲的，特别是呈圆环段的形式。
第一分面可以全部具有相同尺寸。还可以形成具有不同尺寸的第一分面的第一分面反射镜7。
特别地，第一分面的纵横比可以为至少5：1，特别是至少8：1，特别是至少12：1，特别是至少13：1。第一分面的纵横比特别是至多100：1，特别是至多50：1。
第一分面的形状可以特别适应物场2的形状。它特别是可以在几何形状上类似于物场2的形状。第一分面的形状特别是使得由它们反射的照明辐射4在投射曝光设备1的操作期间尽可能准确地照明物场2或其预先确定的部分区域。
第一分面中的每一个可以被移位，特别是倾斜，以设定不同的照明设定。第一分面特别是可以围绕两个相互垂直的轴线倾斜。
下面使用笛卡尔(x、y、z)坐标系来描述位置关系。在该坐标系中，第一分面可以在各个情况下围绕沿x方向延伸的倾斜轴线和围绕沿y方向延伸的倾斜轴线倾斜。z轴特别地平行于或几乎平行于相应分面的表面法线。
相应地提供致动器用于移动第一分面，致动器16在图1中代表性地指示致动器中的一个。致动器16经由控制线18连接到中央控制装置19。控制装置19通过图1中未示出的对应控制线连接到分配给第一分面的所有其他致动器。
对于第一分面的其他细节，参考US 2003/0086524 A1，特别是对其进行了完整参考的图7至14。
第二分面反射镜20形式的第二光学元件布置在由第一分面反射镜生成的次级光源的位置处，也就是说在相对于辐射源5的像平面中。第二分面反射镜20还被称为光瞳分面反射镜。光瞳分面反射镜由照明辐射4经由第一分面反射镜7照射。
第二分面反射镜20的可照射其上的表面被分为多个第二分面21i，其中四个第二分面211到214在图1中通过示例示出。第二分面21在各个情况下被分配给第一分面8至11中的一个，使得在相应照射其上的第二分面211到214的位置处在各个情况下都生成次级光源。
如图1中示意性地指示的，第二分面还可以通过致动器是可倾斜的。通过该示例，分配给第二分面21的致动器25在图1中示出。致动器25经由束线18与控制装置19信令连接。
具有其他反射镜28、29的传输光学单元27布置在第二分面反射镜20之后的束路径中。在这种情况下，反射镜28可以由具有小入射角的照明辐射4来照射，例如入射角小于30°。反射镜29可以通过掠入射，例如以大于60°的入射角照射。
投射曝光设备1的上面描述应该认为是作为示例的。如从现有技术已知的，照明系统1c的其他实施例也是可能的。
下文描述分面的其他细节。即使以下描述和附图涉及第一分面反射镜7的分面，所描述的方面对于第二分面反射镜20的分面同样是可能的和有利的。
图2中，通过示例示出了来自于第一分面反射镜7的表面的细节的平面图。
如图2中的通过示例所示，存在分面反射镜7上彼此邻近地布置的许多分面8i。这里，相邻的分面8i、8i+1在各个情况下通过间隙32彼此分开。在图2所示的变型中，间隙32平行于x或y方向延伸。
为了使反射损失尽可能低，间隙32尽可能窄。间隙宽度特别是为至多1mm。间隙宽度特别是分面8i在对应方向上的范围的至多50％，特别是至多30％，特别是至多20％，特别是至多15％，特别是至多10％，特别是至多5％，特别是至多3％，特别是至多2％，特别是至多1％。
总体而言，优选地，第一分面反射镜7的总面积的至多50％，特别是至多30％，特别是至多20％，特别是至多15％，特别是至多10％，特别是至多5％，特别是至多3％，特别是至多2％，特别是至多1％由间隙32覆盖。照明辐射4不能在间隙32处反射。间隙32因此导致传输损耗。
另一方面，间隙32是必要的，以便允许分面8i的特定致动范围。
图3和图4示意性地并且通过示例示出了用于移位分面8i的致动器16的细节。通过杠杆33进行致动。这可以通过磁力发生。磁体特别地位于杠杆33的下侧。在其下方提供了通电线圈，这可以使杠杆33偏转，从而使分面8i倾斜。致动器16还可以具有一个或多个恢复元件，例如以片弹簧34的形式。
分面8i在各个情况下具有分面主体35和反射表面36。反射表面36在四周具有边缘40。
分面8i可以附接到公共框架或公共板。还可以在模块化板上成组地附接分面8i。
还通常被称为光学表面的反射表面36可以是平坦的。然而，它也可以是弯曲的。它特别地可以形成为特别是凹面或凸面。它还可以是复曲面或具有任何其他形状。
如图5中通过示例所示，倾斜轴线37可以位于反射表面36的区域中(在图5的左侧)。倾斜轴线37还可以位于反射表面36的下方，也就是说反射表面36的后面(在图5的中间)。倾斜轴线37还可以位于反射表面36的上方，也就是说反射表面36的前面(在图5中的右侧)。倾斜轴线37相对于反射表面36的位置对间隙32的所需宽度具有影响，以便确保相邻的分面8i、8i+1在指定的倾斜角度范围(倾斜范围)内不会发生碰撞。
分面主体35可以优选地至少部分地具有在垂直于反射表面36的方向上减小的横截面，例如梯形横截面。侧角b特别是可以与待设定的最大倾斜角一样大。它还可以更大。分面主体35的尺寸、特别是其质量惯性矩，可以通过分面主体35的更大侧角b，特别是更大的斜面来减小。
取决于附接的方法，单独分面8i可以具有较低的固有频率，例如在运输期间或在发生意外震动(例如地震)时会被激励。这可能会导致相邻分面8i、8i+1之间的碰撞。
图6通过示例示出了在围绕两个相邻分面的z轴旋转期间两个相邻分面之间的碰撞，该z轴平行于反射表面36的中心点上的表面法线延伸。这种碰撞会导致光学边缘处的凹口，也就是说在反射表面36的外围区域中。
在分面8i、8i+1、控制器可以围绕x和y轴倾斜时，在投射曝光设备1的正常操作中不希望围绕z轴的旋转。然而，在运输和地震的情况下，可以激励这样的围绕z轴的旋转。这可能导致分面8i、8i+1的损坏，优选地避免这种情况。
为了避免，特别是防止相邻分面8i、8i+1碰撞的不同构思从现有技术获悉。这些构思通常很复杂。还发现它们的有效性往往不足。
根据本发明，这些问题通过允许光学部件，特别是分面8i的受控碰撞来解决。在此，根据本发明设想的是，分面主体35和反射表面36在各个情况下形成使得反射表面36在碰撞的情况下不会损坏。这特别是可以通过为分面主体35提供限定的止动表面来实现，该止动表面布置在距相应分面8i的反射表面36一定距离处以及可能发生接触的区域。如将在下文更详细描述的，分面主体35可以撞击的分离止动元件也可以用作止动表面。
止动表面可以特别地由相邻分面的预先确定区域或由附加的机械部件形成。
分面主体与相应相关联的止动表面之间的距离特别是小于间隙32在对应方向上的宽度。分面主体35与相关联的止动表面之间的距离特别是小于反射表面36与相邻分面的止动表面或反射表面36之间的距离。这确保了在发生碰撞的情况下，碰撞的不是光学边缘，即不是反射表面36的边缘，而是期望的止动区域。
图7通过示例示出了分面8i的立体图。
在图7所示的变型中，止动元件38配备在分面主体35的端部。通过根据图7的分面的侧视图在图9中通过示例示出。
图8详细示出了止动元件38的横截面。止动元件38特别是具有止动边缘39。止动边缘39相对于反射表面36的边缘40在垂直于倾斜轴线37的方向上向外偏移。
图27示出了止动元件38的变型的横截面。根据图27的止动元件38在反射表面36的两侧均具有肩部48。肩部48特别地在平行于分面宽度的方向上延伸。这使得对反射表面36，特别是其边缘40的保护得到改进。
在根据图27的止动元件38的形式和根据图8的实施例之间的中间阶段类似地是可能的。肩部48特别是可以相对于竖直方向49以角度c取向，该角度c在90°至150°范围内、特别是90°至135°范围内、优选为至少100°。在此，竖直方向49特别地平行于穿过反射表面36的中心点51的表面法线50。
止动边缘39可以是圆形的或倒角的。
如图9通过示例所示，止动元件38向下突出超过分面主体35，即向分面主体35的背离反射表面36的一侧突出。垂直悬垂可以基于分面8i的期望倾斜范围来确定。分面8i的倾斜范围例如可以高达100mrad。
止动元件38可以是板状的。它们还可以以套筒的方式形成，以使它们能够装配到分面主体35上。
止动元件38可以在各个情况下在纵向方向上布置在分面主体35的自由端上。
它们还可以在三个侧面上围绕在纵向方向上自由的分面主体35的端部。对应形式通过示例在图10中示出。这样的形式的止动元件38保护分面8i、8i+1，特别是它们的反射表面36，特别是在由于围绕z轴旋转而发生碰撞的情况下。
止动元件38优选地形成和/或布置在分面主体36上，使得在分面8i的任何倾斜位置，特别是在任何操作切换位置中例如任何(特别是非期望的)激励(例如也围绕z轴的激励)至多导致在止动元件38的区域中发生碰撞，而不是在反射表面36的边缘40的区域中。
如图28通过示例所示，止动元件38也可以布置在分面主体35的中心区域中。这特别地在弯曲分面8i的情况下可以是有利的。
止动元件38优选地布置在相应的分面主体35与相邻的分面主体35或相邻的止动元件38之间的距离最小的一个或多个区域中。止动元件38特别地布置在分面主体35的最可能发生碰撞的那些区域中。
如图28通过示例所示，布置在分面主体35的自由端的区域中的止动元件38也不需要完全布置在分面主体35的端部处。
如图28通过示例所示，不同的止动元件38可以具有不同的几何形状。特别地，可以将布置在分面主体35的中心区域中的止动元件38以与更靠近端部布置的止动元件38不同的方式来形成。特别地，可以形成布置在分面主体35的中心区域中的止动元件38，使得它们在垂直于反射表面36的方向上的范围小于分面主体35在这个方向上的范围。
特别地，布置在分面主体35的中心区域中的止动元件38可以形成为分面主体35的加厚部。
布置在分面主体35的中心区域的止动元件38可以仅布置在分面主体35的单侧。还可以在两侧布置对应的止动元件38，即在分面主体35的相对侧上。
止动元件38在间隙32的宽度特别小、特别是最小的区域中的布置使得止动元件38可以形成为特别薄且因此特别轻。
止动元件38特别地形成为使得在分面8i移位时和/或由于分面8i的非期望激励则可能发生与止动表面的接触，由此分面8i与反射表面36相距一定距离的预先确定区域中的止动表面接触。
图11到13示出了当相邻分面81、8i+1倾斜时的不同设定的示例。
如果分面81、8i+1远离彼此地倾斜(图11)，相邻边缘40没有受到威胁或至少受到较少威胁。
在相反的情况下，也就是说如果相邻的分面81、8i+1朝向彼此地倾斜，原理上可能会发生碰撞。然而，根据本发明，设想形成止动元件38，使得一个止动元件38的止动边缘39与另一个止动元件38接触。原理上，止动元件38，特别是其止动边缘39，也可能撞击相邻分面8i的分面主体35的另一区域。
但是，应确保可能发生分面8i的接触(碰撞)区域布置在距相应分面8i的反射表面36一定距离处。
从几何条件可以容易地推导出止动边缘39侧向突出超过反射表面36的悬垂e，在止动元件38的所示形式中，e与反射表面36在通过止动边缘39的平面上方的高度h的比率必须等于或大于边角b的三倍的正切：e：h≥tan(3b)。在侧角b为40mrad的情况下，以下尤其适用：e:h≥120μm/mm。使用这种形式的止动元件38，反射表面36的边缘40在分面8i的所有可能的倾斜位置都受到保护免受碰撞。
如图13通过示例所示，这也适用于围绕第二倾斜轴线的附加致动的情况。在当前情况下，这主要导致两个分面8i、8i+1在z方向上的相对位移。这可能使得另一个分面8i分别受到危险。然而，对于止动元件38的所示形式，这也受止动元件的保护，特别地使得它们的反射表面36的边缘40不会碰撞。
通过图13的示例显而易见的是，止动元件38在z方向上的范围取决于围绕y轴的最大倾斜范围。可以通过止动元件38在z方向上的范围是足够的来确保，无论围绕y轴的倾斜位置如何，止动元件38都提供止动表面以便保护反射表面36的边缘40免受碰撞。
对于超出反射表面36的止动边缘39的悬垂e的优选值，特别是在平行于反射表面36或垂直于相应倾斜轴线的方向上，可以优选地考虑以下因素：
分面主体35的制造中的制造公差通常在10μm至50μm的范围内。
止动元件35可能在分面8i的使用寿命内磨损。在碰撞的情况下，止动边缘39的最大凹口可以在至多几μm的范围内。这尤其取决于止动元件38的材料和/或在碰撞情况下的冲击角。如以下将更详细描述的，可以设想以圆形方式形成止动边缘39。这可以在发生碰撞时降低赫兹压力。
悬垂e特别是取决于分面8i的位移范围(致动范围)。此外，悬垂e的绝对值取决于止动边缘39与要保护的反射表面36的边缘40之间的距离，特别是高度h。这个距离或高度h越小，悬垂e可以选择得越小。
20μm至100μm范围内的悬垂e已被证明是特别有用的。
为了保持相邻反射表面36之间的距离尽可能小，较小的悬垂e是有利的。在分面8i、8i+1的中性位置中相邻的分面主体35之间的距离，特别是彼此最接近的相邻分面8i、8i+1的止动边缘39之间的距离优选<100μm，特别是至多50μm。这些陈述优选地适用于两个相邻反射表面36之间的距离，特别是在分面8i、8i+1的中性位置，或特别是在其表面法线彼此平行延伸的位置。
下文参考图14和15描述本发明的其他方面。
该方面涉及在分面主体35上的止动元件38的布置。根据本发明，已经认识到收缩，也就是说两个相邻分面8i、8i+1之间的最小距离的点并不总是在它们的自由端区域中。此外，相邻分面8i、8i+1之间的间隙32的标称宽度可以是随分面8i、8i+1的长度变化。
根据本发明，因此可以设想取决于收缩的位置在分面主体35上布置止动元件38。止动元件38特别是可以不仅布置在分面主体35的端部处。这在图14中通过示例针对分面81、82示出。然而，止动元件38还可以居中地布置在分面主体35上。这在图14中通过示例针对分面82、83示出。
作为对此的替代，可以不同地选择悬垂e的量。这在图15中通过示例示出。在此，在分面82和83之间的止动元件38的悬垂e被选择为大于分面81和82之间的悬垂e的量。这也意味着可以考虑分面82、83的中心区域中的小间隙宽度。
换言之，可以根据需要灵活地选择止动元件38的布置的位置。作为对此的替代，可以在各个情况下将止动元件38布置在分面主体35上的预先确定位置处。特别在这种情况下，悬垂e的量可以灵活地适应间隙宽度。
止动元件38在分面主体35上的布置的(针对所有分面8i都一样)预先确定的位置具有减少分面特征的变化的优点。这使得分面轮廓的编程更容易。
根据另一变型，设想在分面8i的整个长度上形成止动边缘39。止动边缘39特别是可以形成在分面主体35的整个圆周区域上。止动边缘39在此可以形成为连续的。它也可以形成为中断的。这允许减轻重量。
特别地，出于减轻重量的原因，将止动元件38仅布置在分面主体35上的关键区域中可以是有利的。特别是在倾斜范围相对较大的情况下，例如超过40mrad的倾斜范围，仅将止动元件38布置在分面8i的自由端区域中可以是有利的。
止动元件38可以特别地仅布置在分面主体35的纵向方向上的离散位置处。特别是，至多10个，特别是至多8个，特别是至多6个，特别是至多4个，特别是2个止动元件38可以布置在分面主体35上。止动元件38可以在各个情况下在分面主体35的纵向方向上的范围为分面主体35的长度的至多10％，特别是至多5％，特别是至多3％，特别是至多2％。
总之，止动元件38可以形成和布置在分面主体35上，使得分面主体35的质量惯性矩通过止动元件38的布置增加至多10％，特别是至多5％，特别是至多3％。
本发明的其他方面涉及分面主体35的有利配置。已经认识到，出于动态原因，尽可能轻的分面是有利的。一方面，这在激励的情况下保持低振幅，另一方面，在发生碰撞时降低碰撞能量。即使根据本发明，允许分面8i与止动表面的接触，但必须注意确保此类碰撞不会产生负面后果，特别是对分面8i造成损坏或导致颗粒形成。
为了使形成的分面8i具有尽可能低的重量，特别是具有尽可能低的质量惯性矩(特别是关于动态临界轴线(特别是倾斜轴线))，可以以结构优化的方式形成分面主体35。
分面主体35可以特别地具有用于减轻重量的构件，特别是用于减小质量惯性矩的构件。作为用于减轻分面主体35的重量和用于减小其质量惯性矩的构件，例如可以设想形成具有朝向自由端减小的横截面的分面主体35。特别是，可以使分面主体35的高度朝向分面的端部减小。对应形式通过示例在图16中示出。分面主体35的下侧与其前侧之间的设定角w特别是在2°至10°的范围内，特别是在4°至6°的范围内。由于分面主体35在其端部的较薄形式，其质量惯性矩与结构上未优化的形式相比可减少约10％。同时，可以增加分面主体35的刚度。特别是通过朝向分面的支撑点增加横截面积，可以增加分面主体35的刚度。分面主体35的总质量增加，但质量惯性矩减小，因为横截面朝向自由端减小。因此，质量惯性矩在分面主体35的整个长度上总体上减小并且刚度增加。例如，通过朝向其端部减小分面主体35的横截面积，可以将由于分面主体35的自重导致的下垂改善两倍以上，特别是三倍以上。这些陈述通过示例涉及长度为120mm、宽度为6.6mm且平均高度为14mm的分面。
此外，必要的刚度可以向致动器轴线移位。
在图17中通过示例示出了用于减轻分面主体35的重量、特别是用于减小分面主体35的质量惯性矩的另一种构件。根据该变型，在分面主体35中提供孔。孔同样导致重量减轻。作为对此的替代或附加，还可以提供凹穴，特别是从分面主体35的下侧或从其侧表面提供。此外，横截面的逐渐变小也可以通过其他方式进行，例如通过在侧面上的斜面。
图18示出了优化分面主体35的其他构件。根据该变型，分面主体35以高度不对称的方式安装。平衡元件41在此配备在较短的自由端的区域中。
分面主体35的质量惯性矩(特别是围绕Rx)可以通过上述构件减少多达30％。
止动元件38优选地在x方向上(即在分面主体35的纵向方向上)具有小的范围。止动元件38在x方向上的范围特别地可以在1mm至3mm范围内。例如，上面通过示例描述的分面8i(特别是与操纵器的其他移动质量一起)的总惯性矩Iyy为约180000g·mm2。由于止动元件38引起的附加总惯性矩Iyy小于5000m·mm2，即小于总惯性矩Iyy的3％。
根据其他变型，重量以及因此由止动元件38附加引起的惯性矩可以通过空隙、例如孔或凹穴进一步减小。这种的重量减轻可以被引入到止动元件38中，特别是在x方向的端面上。因此，止动元件38的质量惯性矩在分面8i的总惯性矩Iyy中的相对比例可以减少到2％以下。
止动元件38特别用于在发生非期望的激励和/或震动时保护分面8i，特别是用于保护它们的反射表面36。它们还特别保护分面免受地震载荷情况的影响，其中激励的振动振幅可以是所提供的间隙32的宽度的倍数。
下面描述本发明的其他分面。
止动元件38可以形成为分离的部件。特别地，它们可以放置在分面主体35上。它们通常连接到分面主体35。基本上所有可想到的连接技术在此都是可能的。止动元件38可以特别是地胶合、锡焊、焊接、旋拧、夹住或收缩或装配到分面主体35上。
作为分离部件的止动元件38的形式的优点在于止动元件38可以由与分面主体35不同的材料制成。它们也可以由相同的材料制成。特别地，它们可以由铜或铜合金制成。这特别对于颗粒形成是有利的。此外，使用铜或铜合金来制造止动元件38具有以下优点：由于铜的硬度相对低，在碰撞的情况下在不破坏的点处有轻微的凹口。大幅防止了颗粒的形成。
也可以将止动元件整体地集成到分面主体35中。特别地，它们可以与分面主体35一体形成。在这种情况下，止动元件38可以特别由几何细节、特别是分面主体35的形状来形成。这允许特别简单和稳健的制造。
如图20至22通过示例所示，止动元件38的形式(特别是它们的止动边缘39)可以是锐利边缘的(图20)、非锐利边缘的、特别是平坦地逐渐减小的(图21)或倒圆的(图22)。倒圆的、优选倒角的形式可以降低赫兹压力。它代表一个优选实施例。
碰撞测试已表明，在以典型的冲击能量进行数百次碰撞后，只有非常小的磨损，特别是在接触区域上至多2μm的凹口。
根据其他变型，反射表面36相对于通过止动元件38的止动边缘39的平面在其表面法线的方向上偏移的高度h也可以接近于零。这对应于分面8i的所用光学表面不延伸到其几何周边，特别是不延伸到分面主体35的周边的情况。这样的形式还具有在发生碰撞时反射表面36不碰撞的效果。然而，在这种情况下，反射表面36被不用于反射照明辐射4的外围区域包围。因此，分面反射镜7的填充程度以及因此关于传输的效率降低。
下面参考图23至25描述其他示例性实施例。对于一般细节，参考先前的实施例。
在该示例性实施例中，止动表面由用于限制分面8i的位移范围的构件形成。根据图中所示的变型，也称为缓冲器的销42用作这样的构件。销42进入分面主体35下侧的凹穴43。进入的深度足够大以覆盖整个倾斜范围。原理上，销42还可以与分面主体35一起倾斜。
仅在图23中示出的分面8i的销42和安装件46布置在公共基板47上。
销42的精确定位，特别是其进入凹穴43的自由端的精确定位，可以有利地是可调节的。
销42与凹穴43内侧的止动侧44之间的游隙小于两个相邻分面8i、8i+1之间的距离，特别是小于两个相邻分面8i、8i+1之间的间隙32的宽度。销42和止动侧44之间的游隙特别是小于间隙32的可用于T0公差的部分。这确保了在该变型中也确保对反射表面36的边缘40的保护效果。
为了减少围绕销42的游隙，有利地形成和/或布置销42，使得其自由端在倾斜轴线37(在所示的情况下为x轴)的区域中延伸。
为了进一步减小游隙，可以调整销42。销42特别是可以形成为可调节的。
销42特别是可以在其自由端处配置成球状。这避免了阻碍分面的倾斜。
在通过示例示出的实施例中，缓冲器示为销42。还可以设想将缓冲器形成为叉形件，即具有包围分面的多个自由端。
根据图25通过示例示出的其他变型，提供侧向止动件45来代替销42。
一般来说，应注意的是，分面8i(特别是它们的分面主体35)具有位移范围，使得它们在某些位移位置与止动表面接触。位移位置可以是可逆致动的位移位置。它们也可能是在运输的情况下或在发生地震时、特别是仅在运输或地震的情况下而不是在受控制的铺设的情况下可能出现的不希望的偏转位置。
在此，止动表面可以由其他光学元件上的表面形成，特别是其他分面主体35或布置在其上的止动元件38。它也可以由分离的机械零件形成，例如销42或侧向止动件45。
所有止动表面优选由耐磨材料制成。它们还可以具有耐磨涂层。这可以防止在发生碰撞时产生颗粒。不过，生成的任何颗粒都可以被收集在收集容器中或由相邻部件形成的凹穴中。

Claims (28)

1.一种用于投射曝光设备(1)的照明光学单元(1a)的分面反射镜(7、20)，具有
1.1.大量可移位的单独分面(8i、21i)，其具有
1.1.1.分面主体(35)，和
1.1.2.布置在其上的反射表面(36)，
1.2.其特征在于，所述单独分面(8i、21i)形成为使得相邻的单独分面(8i、21i)彼此接触，但仅在所述分面主体(35)中或上形成的止动表面区域中和/或在所述分面主体(35)中或上布置或形成的止动元件(38)的区域中接触。
2.一种用于投射曝光设备(1)的照明光学单元(1a)的分面反射镜(7、20)，具有
2.1.大量可移位的单独分面(8i、21i)，其具有
2.1.1.分面主体(35)和
2.1.2.布置在其上的反射表面(36)，
2.2.其中，所述单独分面(8i、21i)中的至少一些具有位移范围，使得它们在一个或多个位移位置与止动表面接触。
3.根据权利要求1或2所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所有单独分面(8i、21i)在其相应的原始位置和/或在主动位移位置中以距所有止动表面一距离来布置。
4.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述单独分面(8i、21i)中的一些具有位移范围，使得相邻的单独分面(8i、8i+1、20i、20i+1)在一个或多个位移位置中接触。
5.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述单独分面(8i、21i)中的至少一些形成为使得相邻的单独分面(8i、8i+1、20i、20i+1)能够在预先确定的止动表面的区域中接触。
6.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述止动表面在单独分面(8i、21i)的分面主体(35)上或中形成或者通过分离的止动元件(38)形成。
7.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述分面主体(35)形成为使得两个相邻的单独分面(8i、8i+1、20i、20i+1)的分面主体(35)之间的距离小于它们的反射表面(36)之间的距离。
8.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，一个或多个止动元件(38)在各个情况下被配备在所述分面主体(35)上或所述分面主体(35)中。
9.根据权利要求7或8所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述止动元件(38)在平行于所述反射表面(36)的方向上的范围大于所述反射表面(36)在该方向上的范围和/或突出超过所述分面主体(35)至其远离所述反射表面(36)的一侧。
10.根据权利要求7至9中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，所述止动元件(38)成对地布置在所述分面主体(35)上，使得它们的外包络在由所述包络包围的反射区域(36)的部分区域的垂直投射中在至少一个方向上突出超过所述反射表面(36)。
11.根据前述权利要求中任一项所述的分面反射镜(7、20)，其特征在于，一个或多个用于限制所述单独分面(8i、21i)的位移范围的构件。
12.一种用于投射曝光设备(1)的照明光学单元(1a)的分面反射镜(7、20)的单独分面(8、21)，具有
12.1.分面主体(35)，和
12.2.布置在其上的反射表面(36)，
12.3.其特征在于，在所述分面主体(35)上或所述分面主体(35)中提供一个或多个止动表面和/或止动元件(38)，所述一个或多个止动表面和/或止动元件(38)在所述反射表面的表面法线的方向上的投射中，在垂直于该表面法线的至少一个方向上突出超过所述反射表面(36)。
13.根据权利要求12所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述单独分面具有一个或多个止动表面和/或止动元件(38)，其在所述反射表面的表面法线的方向上的投射中，在垂直于该表面法线的至少一个方向上和在相反方向上都突出超过所述反射表面(36)。
14.根据权利要求12或13所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述单独分面具有一个或多个止动表面和/或止动元件(38)，其在所述反射表面的表面法线的方向上的投射中，在所述反射表面(36)的整个圆周区域之上突出超过所述反射表面(36)。
15.根据权利要求12至14中的任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述投射是平行投射。
16.根据权利要求12至15中的任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述投射是正交投射。
17.根据权利要求12至16中任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述分面主体(35)和/或所述止动元件(38)中的至少一些在平行于所述反射表面(36)的方向上的范围大于所述反射表面(36)在该方向上的范围。
18.根据权利要求12至17中任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述止动元件(38)中的至少一些在其背离所述反射表面(36)的一侧上在至少一个方向上突出超过所述分面主体(35)。
19.根据权利要求12至18中任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述止动元件(38)中的至少一些成对地布置在所述分面主体(35)上，使得它们的外包络在由所述包络包围的反射区域(36)的部分区域的垂直投射中在至少一个方向上突出超过所述反射表面(36)。
20.根据权利要求12至19中任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述分面主体(35)具有至少一个自由端，所述分面主体(35)的横截面朝向所述自由端减小。
21.根据权利要求12至20中任一项所述的单独分面(8、21)，其特征在于，所述分面主体(35)具有用于减小质量惯性矩(I)的构件和/或用于增加刚度的构件。
22.一种用于投射曝光设备(1)的照明光学单元(1a)的分面反射镜(7、20)的单独分面(8、21)，具有
22.1.分面主体(35)，和
22.2.布置在其上的反射表面(36)，
22.3.其特征在于，所述分面主体(35)具有用于减小质量惯性矩(I)的构件和/或用于增加刚度的构件。
23.一种照明光学单元(1a)，具有至少一个根据权利要求1至11中任一项所述的分面反射镜(7、20)。
24.一种照明系统(1c)，具有
24.1.根据权利要求23所述的照明光学单元(1a)，以及
24.2.用于产生照明辐射(4)的辐射源(5)。
25.一种光学系统，具有
25.1.根据权利要求23所述的照明光学单元(1a)，以及
25.2.用于将物场(2)投射到像场中的投射光学单元(1b)。
26.一种投射曝光设备(1)，具有
26.1.用于产生照明辐射(4)的辐射源(5)，
26.2.根据权利要求23所述的照明光学单元(1a)，以及
26.3.用于将物场(2)投射到像场中的投射光学单元(1b)。
27.一种用于制造微结构部件或纳米结构部件的方法，包括以下步骤：
-提供根据权利要求26所述的投射曝光设备，
-提供具有待成像的结构的掩模母版；
-提供具有辐射敏感涂层的晶片，
-使用所述投射曝光设备(1)将所述掩模母版的待成像结构成像到所述晶片上。
28.一种由根据权利要求27所述的方法制造的部件。
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