JP4309863B2

JP4309863B2 - リソグラフィ位置決めデバイス及びデバイス製造方法

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Publication number: JP4309863B2
Application number: JP2005064887A
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Inventors: − ハンマニングシュミットロベルト
Original assignee: エーエスエムエルネザーランズビー．ブイ．
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Filing date: 2005-03-09
Publication date: 2009-08-05
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Description

本発明は、リソグラフィ装置に関し、特に物体を位置決めするためのリソグラフィ位置決めデバイス並びに関連するデバイス製造方法に関する。

リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造の際に使用することができる。この場合では、そのＩＣの個々の層に対応した所望の回路パターンを生成するためにパターン形成デバイスが使用されることがあり、またこのパターンは、感放射性の材料（レジスト）からなる層をコーティングした基板（シリコン・ウェハ）上にあるターゲット部分（例えば、１つ又は複数のダイを備える）上に結像させることができる。

一般に、単一の基板は、連続して露光を受ける隣接するターゲット部分からなる１つのネットワークを含むことになる。周知のリソグラフィ装置は、１回の実行でターゲット部分上に全体パターンを露光することによって各ターゲット部分がその内部で照射を受けるいわゆる「ステッパ（ｓｔｅｐｐｅｒ）」と、投影ビームを所与の方向（例えば、「スキャンニング（ｓｃａｎｎｉｎｇ）」方向）に通過させるようにパターンをスキャンする一方、この方向と平行又は非平行に基板を同期させてスキャンすることによって各ターゲット部分がその内部で照射を受けるいわゆる「スキャナ（ｓｃａｎｎｅｒ）」と、を含んでいる。

基板の適当な部分上にパターンを投射するためには、物体テーブルに関する短行程の正確な位置決め及び長行程の変位の両方を適用するのが一般的である。一般に、パターン形成デバイスと共に設けられる物体テーブル、ホルダ又はステージは１方向のみに大きな変位を要求するが、他方基板と共に設けられるテーブル、ホルダ又はステージは１つの面内で大きな変位を要求するのが通常である。

パターン形成デバイス又は基板と共に設けられる物体テーブルは、複数のアクチュエータ又はリニア・モータを備えた第１の駆動ユニットに接続されるのが通常である。これらのアクチュエータ又はモータによって、ある小さいレンジ（約１ｍｍ）にわたる物体の正確な変位が可能となる。多くの用途において、これらのアクチュエータ又はリニア・モータは非接触の電磁式アクチュエータ又はモータである。第１の駆動ユニットは通常、少なくとも１つの方向に大きな変位を可能とさせる第２の駆動ユニット上に装着される。この第２の駆動ユニットは、一例として、リニア・モータ又はプラナー・モータから構成されることがある。

こうした構成では、物体テーブルを変位させるためには、第１の駆動ユニットと第２の駆動ユニットの両方を付勢させなければならない。これが一般にどのように達成されるか例示するために、以下で従来のドライブ構成について考察することにする。

第１の駆動ユニットは、その各々が物体テーブルに接続された第１の部品と、第２の駆動ユニット上に装着された第２の部品と、を備える複数の電磁式アクチュエータを含んでいる。この第２の駆動ユニットは、この実施例ではスキャンニング方向に対応する第１の水平方向（Ｙ方向）に第１の駆動ユニットを（物体テーブルと一緒に）変位させるように製作される。電磁式アクチュエータのうちの１つは、Ｙ方向の力を発生させることができる。第１のドライブの電磁式アクチュエータの行程は、わずか数ｍｍだけに制限されており、一方第２の駆動ユニットは約０．５ｍの変位が可能である。

こうした構成は、いわゆるスキャナにおいて、投影システムに対してパターン形成デバイスを位置決めするために適用することが可能である。このスキャンニング動作では、物体テーブルに装着されたパターン形成デバイスがＹ方向に沿って変位を受けることが必要である。この変位過程は、加速フェーズ、一定速度フェーズ、及び減速フェーズという３つの異なるフェーズによって近似することができる。

第１及び第３のフェーズの間では、物体テーブルをＹ方向に加速又は減速させるために第１の駆動ユニットと第２の駆動ユニットの両方が電力供給を受けることが必要である。このことは、物体テーブルが第２の駆動ユニットに固定的に取り付けられていないが、第１の駆動ユニットの非接触式アクチュエータによって第２の駆動ユニットに対して位置決めされることに由来している。したがって、第１の駆動ユニットは、その発生させる力が、物体テーブルに取り付けられた異なる電磁式アクチュエータの第１の部品によって物体テーブルを加速させるのに十分な大きさとなるようにして設計されなければならない。第１の駆動ユニットに関するスキャンニング方向において必要な力の典型的な値は、＞２００Ｎとすることがある。この力を発生させることによって、電磁式アクチュエータの電流を通したコイルにかなりの量の損失が生じることがある。

変位過程の第２のフェーズ（すなわち、一定速度フェーズ）の間における主たる目的は物体テーブルの正確な位置決めである。リソグラフィ装置では、このフェーズはパターン形成デバイス上のパターンを基板の上に投射させるフェーズである露光フェーズに相当する。このパターンを基板の適当な部品上に投射させるためには、パターン形成デバイス及び基板をナノメートルの正確さで同期して移動させなければならない。この正確さを満たすためには、第１の駆動ユニットのアクチュエータの要件は、剛性、動的応答、制振（ｄａｍｐｉｎｇ）、その他に関して厳格となる。

上述した構成を有する周知のリソグラフィ位置決めデバイスは米国特許第５７６７９４８号に開示されている。この特許は、リソグラフィ装置のステージを変位させ且つ位置決めするための位置決めデバイスを含んだリソグラフィ装置について記述している。この位置決めデバイスは、第１の駆動ユニットによって当該ステージ上に装着された物体を、比較的短い距離にわたって高い正確性によって位置決めするためのリニア・モータを備えており、この第１の駆動ユニットは、比較的長い距離では正確性特性を制限して少なくとも１つの方向で第２の駆動ユニットによって位置決めすることが可能である。

しかし、上述した異なるフェーズの間においては動作条件が異なり且つその要件が異なるため、第１の駆動ユニットの設計では、加速及び減速の間の力要件を、一定速度フェーズの間の正確さ要件と組み合わせるためにギブ・アンド・テイクが必要である。この結果、第１の駆動ユニットの動作性能が最適でなくなる。

さらに、許容可能な損失量と組み合わせた適当な加速及び減速を得るのに必要な力要件によって、駆動ユニットで必要となる全体サイズが決定されることになる。しかし一定速度フェーズの間では、その力要件が当該フェーズ中ではかなり小さいために駆動ユニットはサイズが大きすぎると見なされる可能性がある。このオーバーサイズの駆動ユニットは、一定速度フェーズ中では最適な動的応答を有しないことがある。駆動ユニットの重量の一部も同様に変位を受ける必要があるため、正確な位置決めを要する全体重量は、物体テーブルの単独重量と比較してかなり大きくなる可能性があり、これにより追加的な制御努力が必要となる。加速（又は、減速）中と一定速度フェーズ中でその力要件が異なることはまた、異なるアクチュエータに対して電力を供給する増幅器（例えば電流増幅器）の最適な設計を妨げる。適当な加速を提供するには、その増幅器は一例として、約５Ａの電流を供給しなければならず、他方一定速度フェーズの間の位置決め制御は、約１ｍＡの正確さを提供することが必要となり得る。

さらに、加速又は減速によって物体又は物体テーブル内に熱応力を生じることがあるため、加速又は減速の間に生じる損失によって、全体的な過程が劣化されることがある。

上述のことに鑑み、本発明は、指摘した欠点のうちの幾つかを少なくとも部分的に克服すること、並びに加速又は減速の間における第１の駆動ユニットの力要件の少なくとも一部分が永久磁石システムによって提供される位置決めデバイスを提供すること、を目的とする。

したがって、本明細書において具現化し且つ広義に記載している本発明の原理によれば、改良型のリソグラフィ位置決めデバイスが提供される。一実施例では、そのリソグラフィ位置決めデバイスは、第１の部品及び第２の部品を備える、第１の方向に第１の動作範囲で物体を位置決めするための第１の駆動ユニットであって、第１の部品は物体に接続されると共に第２の部品に対して移動可能である第１の駆動ユニットを備える。このデバイスはさらに、第１の方向に第２の動作範囲でこの第１の駆動ユニットを変位させるための第２の駆動ユニットであって、第１の駆動ユニットの第２の部品に接続されると共に第２の駆動ユニットの第２の部品に対して移動可能な第１の部品を備えた第２の駆動ユニットを備える。このデバイスはさらに、物体又は第１の駆動ユニットの第１の部品の何れかに接続された第１の部品と、第１の駆動ユニットの第２の部品又は第２の駆動ユニットの第１の部品の何れかに接続された第２の部品と、を備えた永久磁石システムを備えており、永久磁石システムは、物体を第１の方向に移動させるために、物体及び第２の駆動ユニットの第１の部品の第１の方向での相対的位置の関数である力を発生させるように構成されている。

本発明のこのドライブ構成では、上述のように、物体を加速又は減速させるために必要となる力は、少なくとも部分的に永久磁石システムによって提供される。したがって、加速又は減速に関する第１の駆動ユニットの実際の力要件は低下し、これによって加速又は減速の間の損失が低下することになる。この損失の低下によって、（温度に関して）より安定した環境が可能となり、全体的な過程の正確さが改善されることになる。第１の駆動ユニットの実際の力要件は、永久磁石システムの存在によって低下されるため、第１の駆動ユニットをより小型且つ軽量に製作することが可能である。このために、物体のより正確な位置決めを可能とさせる改良型の動的応答を得ることができる。

第１の駆動ユニットがより軽量になった場合、第２の駆動ユニットによって変位させる全体的な質量も低減されることがある。この場合では、第２の駆動ユニットに関する力要件も低下し、これにより第２の駆動ユニットの損失が低下することになる。第１の駆動ユニット又は第２の駆動ユニットの何れか（或いは、この両者）で生じる損失の低下はまた、駆動ユニットを冷却する冷却ユニット（又は、複数の冷却ユニット）の要件に好ましい影響を与えることがある。さらに、何れの駆動ユニットの力要件を低下させても、駆動ユニットに電力を供給する増幅器に関する設計要件を簡略化させることができる。

別法として、本発明による構成は、その位置決めデバイスをより大きな加速及び減速を利用することによって使用して装置の生産性を向上させるために適用することもできる。本発明では、第１及び第２の駆動ユニットの損失を増加させることなくこれを実現することができる。

永久磁石システムは、その最も基本的な形態では、第１の永久磁石及び強磁性部材からなる。一例として、永久磁石は、第２の駆動ユニットの例えば可動部の強磁性部品と相互作用することによって第１の方向に力を発生させる方式で物体テーブルに取り付けられることがある。この永久磁石は、発生された力が両部品の相対的位置に応じて正方向の第１の方向又は負方向の第１の方向に作用するようにして、強磁性部品に対して配置することができる。

本発明の一実施例では、永久磁石システムの力は、第１の駆動ユニットの第１の動作範囲において第１の駆動ユニットの第１の部品に関する第２の部品を基準とした第１の方向での第１の位置に関しては実質的にゼロに等しい。この場合では、永久磁石システムは前記の第１の位置において平衡状態にある、すなわち永久磁石システムのさまざまな部品間に作用する力は第１の方向に成分を有しない。こうした平衡点が第１の駆動ユニットの動作範囲の内部にあると有利となることがある。物体テーブルに関して加速や減速が全く必要がない場合には、この永久磁石システムはこうした平衡状態に位置決めされることがある。第１の方向での第１の駆動ユニットの動作範囲は、第１の駆動ユニットの第１の部品と第１の駆動ユニットの第２の部品との間において前記方向で可能な変位と比べてかなり小さいことに留意すべきである。第１の方向での動作範囲は、第１の駆動ユニットの第１の部品を第２の部品に対して第１の駆動ユニット自体によって当該方向に変位させることができる範囲であると考えられる。

一実施例では、永久磁石システムの第１の部品に関する永久磁石システムの第２の部品を基準とした第１の位置（すなわち、平衡点）は、第１の駆動ユニットの動作範囲の実質的に中間にある。この平衡は安定平衡（ｓｔａｂｌｅｅｑｕｉｌｉｂｒｉｕｍ）とすることや、不安定平衡（ｕｎｓｔａｂｌｅｅｑｕｉｌｉｂｒｉｕｍ）とすることが可能であることにさらに留意すべきである。

本発明の別の実施例では、その位置決めデバイスはさらに、駆動ユニットのコイル・ユニット内の電流を制御することによってさまざまな駆動ユニットを制御するための制御ユニットを備える。従来のシステムでは、その制御ユニットは、物体テーブルのドライブに適当な力を発生させるために電流を制御する。本発明による構成では、この適当な力はさらに、永久磁石システムの部品同士の相対的位置を制御することによって発生させることもできる。これに関しては、次の２種類の状態を考慮することができる。

第１の状態では、物体テーブルに対する加速や減速が必要である。このことは、永久磁石システム、第１の駆動ユニット及び第２の駆動ユニットの合成作用によって達成させることができる。永久磁石システムの両方の部品が、こうした力を生じる位置にもってこられた場合、加速（又は、減速）力の少なくとも一部分を永久磁石システムによって提供することができる。永久磁石システムのこの両方の部品を互いに対して位置決めすることは、第１の駆動ユニット又は第２の駆動ユニット、或いはこの両方の電流を制御することによって達成することが可能である。

第２の状態では、物体テーブルを実質的に一定の速さで変位させることが必要となることがある。こうした状態では、永久磁石システムによって変位の方向で実質的に全く力を生じさせないようにして永久磁石システムを位置決めすることが好ましいことがある。すなわち、永久磁石システムは平衡点に位置決めすべきである。このことはさらに、第１の駆動ユニット又は第２の駆動ユニット、或いはこれらの両方の電流を制御することによって達成することが可能である。

別の実施例では、その永久磁石システムは、永久磁石システムの第１の部品に関する第２の部品を基準とした第１の方向での位置を制御するためのアクチュエータを備える。永久磁石システムの両方の部品に関する第１の方向での相対的位置を制御する単独のアクチュエータを有しており、この位置を第１の駆動ユニットによって制御しないことが有利となることがある。こうした実施例では、第１の駆動ユニットの主たる目的が一定速度フェーズの間における正確な位置決めとなるため、第１の駆動ユニットの要件が簡略化されることがある。

本発明による別の実施例では、第１の方向の力は、その一方は物体又は第１の駆動ユニットの第１の部品に取り付けられており、且つもう一方は第１の駆動ユニットの第２の部品又は第２の駆動ユニットの第１の部品の何れに取り付けられることが可能である２つの永久磁石の間の相互作用によって発生させる。こうした構成では、これらの永久磁石は、これらが取り付けられる部品間で第１の方向に斥力又は引力の何れかを発生させるようにして構成されることがある。

本発明によるさらに別の実施例では、永久磁石システムの力を記述する関数は、前記第１の位置に関して実質的にゼロに等しい第１次微分を有する。こうした構成では、第１の方向に関する永久磁石システムの剛性は前記第１の位置において実質的にゼロである。これによって、物体テーブルと第２の駆動ユニットに取り付けられた第１の駆動ユニットの第２の部品との間での振動の隔絶に関する利点が提供される。永久磁石システムによって発生された力は、言及した位置における第１の方向での永久磁石システムの各部品の相対的位置と実質的に無関係であるため、第２の駆動ユニット上に生じる振動は物体に対してほとんど伝達されることがなく、これによって物体の正確な位置決めが可能となる。

本発明のさらに別の実施例では、その永久磁石システムは、物体と第２の駆動ユニットの可動部の間において、好ましくは第１の方向と直交する第２の方向で力を発生させるように製作し且つ構成されている。こうした構成によれば、この永久磁石システムによって、第１の方向と第２の方向の両方向に物体テーブルを変位させるために必要な加速力及び減速力を少なくとも部分的に提供することができる。この結果、第１の駆動ユニット及び／又は第２の駆動ユニットにおける損失の低減が得られることになり得る。この永久磁石システムを導入することによって、より小型の（且つ、より軽量の）第１の駆動ユニットの使用が可能となり、これにより第１の駆動ユニットの動的応答が改善されると共に、第２の駆動ユニットに関する力要件が低下する可能性がある。こうした構成では、その第２の駆動ユニットは、一例としてプラナー・モータやＨブリッジ・タイプのドライブ構成とすることがある。

別の実施例では、その位置決めデバイスはさらに、第１の駆動ユニットの第１及び第２の部品の損傷を受けやすい部分（例えばコイル、永久磁石）が互いに接触することを回避するためのクラッシュ防護機構を装備している。

本発明の別の態様によれば、感放射性材料からなる層によって少なくとも部分的に覆われた基板を提供するステップと、放射システムを用いて投影放射ビームを提供するステップと、パターン形成デバイスを用いてその断面内にあるパターンを有する投影ビームを与えるステップと、感放射性材料からなる層のターゲット部分上にパターン形成した放射ビームを投射するステップと、前記パターン形成デバイス又は基板のうちの少なくとも一方を、第１の部品及び第２の部品を備える第１の駆動ユニット（第１の部品は前記物体に対して直接的又は間接的に接続されると共に第２の部品に対して移動可能である）と、前記第１の駆動ユニットを少なくとも１つの方向で変位させるための第２の駆動ユニット（第１の駆動ユニットの第２の部品は第２の駆動ユニットに接続される）と、を備えた位置決めデバイスによって位置決めするステップと、物体テーブルを加速又は減速するための力を少なくとも部分的に発生させる永久磁石システムとを含むデバイス製造方法が提供される。

この文書ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的に言及しているが、本明細書に記載したリソグラフィ装置は、集積型光学系、磁区メモリ向けのガイド及び検出パターン、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド、その他の製造など、別の用途を有することがあることを理解されたい。当業者であれば、こうした代替的な用途のコンテキストにおいて、本明細書における「ウェハ（ｗａｆｅｒ）」又は「ダイ（ｄｉｅ）」という用語の使用は何れも、それぞれ「基板（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なすことができることは理解されよう。

本明細書で言及している基板は、例えば、トラック（典型的には、基板にレジストの層を塗布し露光済みのレジストを現像するツール）或いは測定又は検査ツール内で、露光の前又は後で処理を受けることがある。本明細書における開示は、該当する場合、こうしたツールやその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを作成するために２回以上処理されることがあるため、本明細書で使用する基板という用語はすでに複数の処理済み層を含んだ基板を指し示すことがある。

本明細書で使用する「放射（ｒａｄｉａｔｉｏｎ）」及び「ビーム（ｂｅａｍ）」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７又は１２６ｎｍの波長を有する）や極紫外線（ＥＵＶ）放射（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）、並びにイオンビームや電子ビームなどの粒子ビームを含むすべてのタイプの電磁放射を包含している。

本明細書で使用する「パターン形成デバイス（ｐａｔｔｅｒｎｉｎｇｄｅｖｉｃｅ）」という用語は、基板のターゲット部分にあるパターンを生成させるためなどその断面に１つのパターンを有する投影ビームを与えるために使用できる手段を指し示しているものとして広く解釈すべきである。投影ビームに与えられるパターンは基板のターゲット部分内の所望のパターンと厳密には対応しないことに留意すべきである。一般的に、投影ビームに与えられるパターンは集積回路などターゲット部分内に生成するデバイスのある特定の機能層に対応することになる。

パターン形成デバイスは、透過性のことや反射性のことがある。パターン形成デバイスの実施例には、マスク、プログラム可能ミラー・アレイ、及びプログラム可能ＬＣＤパネルが含まれる。マスクはリソグラフィ分野でよく知られていると共に、バイナリ、レベンソン型位相シフト、ハーフトーン型位相シフトなどのマスクタイプや、さまざまな混成型のマスクタイプが含まれる。プログラム可能ミラー・アレイの一実施例は、到来する放射ビームをさまざまな方向に反射させるためにその各々を個々に傾斜させることが可能な小型のミラーからなるマトリックス構成を利用しており、この方式によって反射されたビームがパターン化される。パターン形成デバイスの各実施例においてその保持構造は、例えば必要に応じて固定又は移動可能とすることができる、また、パターン形成デバイスが例えば投影システムに関して所望の位置に来ることを保証することができるフレーム又はテーブルとすることができる。本明細書における「レチクル（ｒｅｔｉｃｌｅ）」又は「マスク（ｍａｓｋ）」という用語の使用は何れも、「パターン形成デバイス」」という、より一般的な用語と同義と見なすことができる。

本明細書で使用する「投影システム（ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎｓｙｓｔｅｍ）」という用語は、例えば使用している露光放射に関し或いは浸漬流体の使用や真空の使用など別の要因に関して妥当であれば、屈折光学系、反射光学系、及び反射屈折光学系を含むさまざまなタイプの投影システムを包含するものとして広く解釈すべきである。本明細書における「レンズ（ｌｅｎｓ）」という用語の使用は何れも、「投影システム」という、より一般的な用語と同義と見なすことができる。

この照射システムはさらに、投影放射ビームに対する方向付け、整形、又は制御のために、屈折性、反射性、及び反射屈折性の光学コンポーネントを含むさまざまなタイプの光学コンポーネントを包含することがあり、またこうしたコンポーネントはさらに以下において一括して又は単独で「レンズ」ということもある。

このリソグラフィ装置は、２つ（デュアル・ステージ）以上の基板テーブル（及び／又は２つの以上のマスク・テーブル）を有するタイプとすることができる。こうした「複数ステージ（ｍｕｌｔｉｐｌｅｓｔａｇｅ）」の装置では、追加的なテーブルを並列に使用することがあり、また１つ又は複数のテーブルに対して１つ又は複数の別のテーブルが露光のために使用されている間に予備的ステップを実行することがある。

このリソグラフィ装置はさらに、投影システムの最終要素と基板との間のスペースを満たすためにその基板が比較的高い屈折率を有する液体（例えば、水）の中に浸漬されるタイプとすることができる。例えば、マスクと投影システムの第１の要素との間などリソグラフィ装置内の別のスペースにも浸漬液体が付与されることがある。浸漬技法については、投影システムの開口数を増大させるために当技術分野ではよく知られている。

ここで、本発明の実施例について、対応する参照符号によって対応する部分を指示している添付の概略図を参照しながら単に一例として記載することにする。

［リソグラフィ装置］
図１は、本発明の具体的な一実施例によるリソグラフィ装置１００を模式的に表している。本装置は、

照射システム（照射器）ＩＬ（放射（例えば、ＵＶ放射又はＥＵＶ放射）の投影ビームＰＢを提供するため）と、

第１の支持構造（例えば、マスク・テーブル／ホルダ）ＭＴ（パターン形成デバイス（マスク）ＭＡを支持するためのものであり、アイテムＰＬに対してパターン形成デバイスを正確に位置決めするために第１の位置決め機構ＰＭに接続される）と、

基板テーブル（ウェハ・テーブル／ホルダ）ＷＴ（基板（レジストをコーティングしたウェハ）Ｗを保持するためのものであり、アイテムＰＬに対して基板を正確に位置決めするために第２の位置決め機構ＰＷに接続される）と、

投影システム（反射性投影レンズ）ＰＬ（パターン形成デバイスＭＡによって投影ビームＰＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（１つ又は複数のダイを備える）上に結像させるため）と、を備える。

ここに図示したように、本装置は反射性タイプ（例えば、反射性マスク又は上で言及したようなタイプのプログラム可能ミラー・アレイを利用する）である。別法として、この装置は透過性タイプのことがある（例えば、透過性マスクを利用する）。

照射器ＩＬは放射線源ＳＯからの放射ビームを受け取る。この線源と本リソグラフィ装置とは別々の実体であること（例えば、その線源がプラスマ放電線源である場合）がある。こうしたケースでは、その線源は本リソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、またその放射ビームは一般的に、例えば適当な集光用ミラー及び／又はスペクトル純度フィルタを備える放射集光器の支援を得て、線源ＳＯから照射器ＩＬに送られる。別のケースでは、その線源は本装置の一体化された一部分とすること（例えば、その線源が水銀ランプである場合）がある。線源ＳＯと照射器ＩＬは、放射システムと呼ばれることがある。

照射器ＩＬは、ビームの角度強度分布を調整するための調整用機構を備えることがある。一般的に、この照射器の瞳孔面におけるこの強度分布の少なくとも外側及び／又は内側半径方向範囲（一般にそれぞれ、σ−ｏｕｔｅｒとσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）は調整することができる。この照射器は、その断面において所望の均一性及び強度分布を有する投影ビームＰＢと呼ばれる条件付け放射ビームを提供する。

投影ビームＰＢは、マスク・テーブルＭＴ上に保持されたマスクＭＡ上に入射する。マスクＭＡによって反射されると、投影ビームＰＢはレンズＰＬを通過し、このレンズによってビームが基板Ｗのターゲット部分Ｃ上に集束される。第２の位置決め機構ＰＷ及び位置センサＩＦ２（例えば、干渉計デバイス）の支援を得て、例えばさまざまなターゲット部分ＣをビームＰＢの経路内に位置決めするために基板テーブルＷＴを正確に移動させることができる。同様に、第１の位置決め機構ＰＭ及び位置センサＩＦ１を使用して、例えばマスク・ライブラリからの機械的取り出しの後又はスキャン中に、ビームＰＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般に、物体テーブルＭＴ及びＷＴの移動は、位置決め機構ＰＭ及びＰＷの一部を形成する長行程モジュールと短行程モジュールの支援を得て実現される。しかし、ステッパのケースでは（スキャナの場合と異なり）、マスク・テーブルＭＴは短行程アクチュエータだけに接続されることがあり、或いはマスク・テーブルＭＴは固定状態のこともある。マスクＭＡ及び基板Ｗは、マスク整列マークＭ１、Ｍ２及び基板整列マークＰ１、Ｐ２を使用して整列させることがある。

図示した装置は、次の好ましいモード、

ステップ・モード（投影ビームに与えられた全体パターンがターゲット部分Ｃ上に一挙に投射（すなわち単一の静的露光）されている間、マスク・テーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴは本質的に静止に保たれる。次いで、異なるターゲット部分Ｃを露光できるように、この基板テーブルＷＴはＸ及び／又はＹ方向にシフトされる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって単一の静的露光で結像されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される）と、

スキャン・モード（投影ビームに与えられたパターンがターゲット部分Ｃ上に投射（すなわち単一の動的露光）されている間、マスク・テーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴは同期されたスキャンを受ける。マスク・テーブルＭＴを基準とした基板テーブルＷＴの速度及び方向は投影システムＰＬの拡大（縮小）及び画像反転特性によって決定される。スキャン・モードでは、露光フィールドの最大サイズは、単一の動的露光におけるターゲット部分の幅（非スキャン方向）が制限されており、一方スキャン移動の長さによってターゲット部分の高さ（スキャン方向）が決定される）と、

その他モード（投影ビームに与えられたパターンがターゲット部分Ｃ上に投射されている間、マスク・テーブルＭＴはプログラム可能パターン形成デバイスを保持しながら本質的に静止に保たれており、且つ基板テーブルＷＴは移動又はスキャンを受ける。このモードでは一般的に、パルス状の放射線源が利用されると共に、基板テーブルＷＴの各移動の後、又はスキャン中の後続の放射パルスの間において必要に応じてプログラム可能パターン形成デバイスが更新される。この動作モードは、上で言及したようなタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン形成デバイスを利用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる）と、
で使用することができる。

上述の利用モード又は全体的に異なる利用モードに関する組み合わせ及び／又は変形も同様に利用することができる。

図２は、第２の駆動ユニット２上に装着された第１の駆動ユニット１を備える当技術分野で周知の位置決めデバイスを模式的に表している。こうした位置決めデバイスは、基板又はパターン形成デバイスと一緒に提供される物体テーブルを位置決めするために利用することができる。第１の駆動ユニット１は、物体テーブル５に取り付けられた第１の部品１０と、第２の駆動ユニットの第１の部品３０に取り付けられた第２の部品２０と、を備える。この第２の駆動ユニット２はさらに、一例としてフレーム又は平衡質量５０に対して装着された第２の部品４０を備える。第２の駆動ユニット２の第１及び第２の部品は、少なくとも１つの方向で（図２ではＹ方向）で比較的長い距離にわたって互いに対して位置決めすることができる。

典型的には、マイクロメートル級の正確さで、５００ｍｍを超える変位を得ることができる。一例として、第２の駆動ユニットはプラナー・モータ、Ｈタイプ・ドライブ、又はリニア・モータ構築体を備えることがある。こうしたドライブ構成は、物体テーブルＭＴ及びＷＴを移動させるために図１に示したようなリソグラフィ装置で利用されることがある。第１の駆動ユニットの第２の部品が第２の駆動ユニットの第１の部品に取り付けられるため、この部品は第２の駆動ユニットの第１の部品に沿って移動する。この第１の駆動ユニットは微調整ドライブとして使用される。これは、比較的短い距離（約１ｍｍ）にわたってナノメートルの正確さで物体テーブルを位置決めするために使用される。第１のドライブは第２のドライブと一緒に移動するため、第１の駆動ユニットと第２の駆動ユニットを組み合わせることによって、大きな変位を可能にさせる利点（第２の駆動ユニットによって得られる）と高い正確さ（第１の駆動ユニットによって得られる）とを合成させることができる。

図３ａは、本発明による位置決めデバイスの第１の実施例を模式的に表している。この図は、永久磁石システム３と組み合わせた第１の駆動ユニット（第１の部品１０及び第２の部品２０から構成される）を模式的に図示している。第２の駆動ユニット及び物体テーブルは図示していない。永久磁石システム３は、駆動ユニットの第１の部品１０に取り付けられた永久磁石１１を備えた第１の部品と、駆動ユニットの第２の部品２０に取り付けられた強磁性部品１２を備えた第２の部品と、を備える。

永久磁石１１と強磁性部品１２の間の相互作用によってこれら両部品の間に引力が生じる。図３ａに図示したような相対的位置では、この力はＺ方向の向きにある。Ｚ方向に向いたこの力は、一例として、アクチュエータ又はエア・ベアリングなどのベアリングによって補償することが可能である。第１の駆動ユニットの第１と第２の部品がＹ方向に関して異なる相対的位置を有する場合では、両部品間の引力（永久磁石システムによって発生された引力）はＹ方向にも成分を有することになる（図３ｂ及び３ｃ参照）。この力のＹ方向の成分は、図３ａに示すような対称（平衡）状況を回復させるように向けられる。したがって図３ｂでは、この力の成分は永久磁石に対して負方向のＹ方向（また強磁性部品に対しては正方向のＹ方向）で作用しており、また一方図３ｃでは、その力は永久磁石に対して正方向のＹ方向（また強磁性部品に対しては負方向のＹ方向）で作用する。

図４は、永久磁石と強磁性部品のＹ方向での相対的位置の関数として永久磁石に作用するＹ方向の力成分Ｆｙ（ｐｍ）を模式的に表している。永久磁石と強磁性部品の相対的位置（ΔＹ）は次式で定義される。

ΔＹ＝Ｙ_{ｆｅｒｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ＿ｐａｒｔ}−Ｙ_{ｐｅｒｍａｎｅｎｔ＿ｍａｇｎｅｔ}

上式において、

Ｙ_{ｆｅｒｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ＿ｐａｒｔ}＝強磁性部品のＹ位置

Ｙ_{ｐｅｒｍａｎｅｎｔ＿ｍａｇｎｅｔ}＝永久磁石のＹ位置

さらに、状況ΔＹ＝０は図３ａに示すような対称的な位置に対応すること、並びにＦｙ（ｐｍ）の正方向の値は永久磁石上に作用する力のうち正方向のＹ方向の向きにある力に対応すること、を前提としている。

この力は、第１の駆動ユニットに関する必要な加速力や減速力を以下のように少なくとも部分的に提供するように加えることができる。

物体テーブルを例えば正方向のＹ方向で加速するために、第２の駆動ユニットは当該方向で関与する。このために第１の駆動ユニットの第２の部品２０は正方向のＹ方向に変位することになる。第１の駆動ユニットの第２の部品が正方向のＹ方向に変位すると、正のΔＹが発生し、且つ（図４から分かるように）正方向のＹ方向の向きの力が永久磁石に作用することになる。この力のために、第１の駆動ユニットの第１の部品、並びにこれに取り付けられた物体テーブルは、正方向のＹ方向で加速することになる。第１の駆動ユニットの第１の部品と第２の部品の両方が同じ速度を有していない限り、永久磁石と強磁性部品の間のＹ方向での相対的変位は増加することになる。

しかし図４に示すように、この相対的変位が増大すると、永久磁石上に作用する力が増加することになり、またしたがって、第１の駆動ユニットの第１の部品並びに物体テーブルの加速を増大させることになる。永久磁石システムによって発生させる力は、図４で指摘したようにＦｍａｘに制限されることに留意すべきである。物体テーブルを加速させるためにより大きな力が必要である場合、この力は第１の駆動ユニットによって提供されることがある。

物体テーブルの速度をある一定のレベルに維持するには、その相対的位置ΔＹをゼロまで戻さなければならない。このことは、第２の駆動ユニットを減速させることによって実現することができる。

第１の駆動ユニット（及び物体テーブル）を減速させるには、永久磁石と強磁性部品の間に永久磁石上に負方向のＹ方向で力を発生させる（ΔＹ＜０）ような相対的変位を生成させるために第２の駆動ユニットをさらに一層減速させることができる。加速／減速フェーズと一定速度フェーズの両方の間において、第１の駆動ユニットを利用してこの相対的位置ΔＹを制御又は修正することができる。

図５ａは、永久磁石システムの代替的な構成を模式的に表している。この構成では、その永久磁石システムは、第１の駆動ユニットの第１の部品に取り付けられた２つの永久磁石１５、１６を備えた第１の部品を備える。磁石のそれぞれは、第１の駆動ユニットの第２の部品上に装着された永久磁石システムの第２の部品の強磁性部品１７、１８と相互作用するように構成される。

この構成では、磁石１５と強磁性部品１７の間のＹ方向での距離が磁石１６と強磁性部品１８の間のＹ方向での距離に等しい場合、磁石１５と強磁性部品１７の間並びに磁石１６と強磁性部品１８の間に作用する引力は実質的に相殺されることになる。第１の駆動ユニットは物体テーブルをＹ方向に駆動させるために装備されるため、この第１の駆動ユニットを利用して第１のドライブの第１の部品１０を第２の部品２０に対する当該位置に維持することができる。

物体テーブルを永久磁石システムによって発生された引力によって少なくとも部分的に加速又は減速させるために、以下の方針を適用することができる。

第１の駆動ユニットの第１の部品を正方向のＹ方向で加速するために、第１の駆動ユニットは第１のドライブの第１の部品を第２の部品に対して正方向のＹ方向で変位させるような力を発生させることができる。これによって、永久磁石１６と強磁性部品１８の間の引力を永久磁石１５と強磁性部品１７の間の引力と比べてより大きくすることが可能となる。この合成力のために、この第１の部品１０は正方向のＹ方向で加速することになる。この合成力は、磁石１６と強磁性部品１８の間のギャップが低下するほど増加することになる。このギャップが小さくなることを回避するために、第２の駆動ユニットは同様に正方向のＹ方向で関与しなければならない。

第１の駆動ユニットの加速を低下させるには、磁石１６と強磁性部品１８の間のギャップを再度増加させなければならず、第１の駆動ユニットの加速を停止させるには、このギャップを、永久磁石１５と強磁性部品１７の間のギャップと実質的に等しく製作しなければならない。このことは、第２の駆動ユニットを第１の駆動ユニットと比べて第２の駆動ユニットがより速い速度を有するまで加速させること、又は（第１の駆動ユニット自体によって）負方向のＹ方向に力を発生させることによって第１の駆動ユニットの速度を低下させることの何れか、或いはこれら両方式の組み合わせによって達成することができる。

永久磁石システムによって第１の駆動ユニットを減速させるために、永久磁石１５と強磁性部品１７の間のギャップは永久磁石１６と強磁性部品１８の間のギャップと比べてより小さく製作しなければならない。このこともまた、第１の駆動ユニットによって負方向のＹ方向に力を発生させること（第１の駆動ユニットの第１の部品の速度を第１の駆動ユニットの第２の部品の速度と比較して低下させるため）、又は第２の駆動ユニットを第１の駆動ユニットと比べてより大きな速度まで加速すること、或いはこれら両方式の組み合わせによって達成することができる。第１及び第２の駆動ユニットに電磁式アクチュエータ又はモータが利用される場合、これらの駆動ユニットに関して必要となる力は、アクチュエータ又はモータに適当な電流を供給することによって発生する。

駆動ユニットに供給される電流は、図５ｂに模式的に図示したような制御ユニット４によって制御される。図５ｂは部品１０及び２０を備えた第１の駆動ユニット１と、部品３０及び４０を備えた第２の駆動ユニット２と、第１の駆動ユニット１の第１の部品１０に取り付けられた第１の部品８及び第１の駆動ユニット１の第２の部品２０に取り付けられた第２の部品９を備えた永久磁石システム３と、第１及び第２の駆動ユニットの電流を制御（接続７によって模式的に示す）する制御ユニット４と、を模式的に表している。

図５ｂに示した構成では、駆動ユニットのアクチュエータのコイル・ユニットは、接続７によって示したように、第１の駆動ユニット１の第２の部品２０内及び第２の駆動ユニット２の第１の部品３０内に存在する。これらのコイル・ユニットはさらに、第１の駆動ユニットの第１の部品１０内や第２の駆動ユニット４０の第２の部品内に配置させることもある。

別法として又は追加として、両部品１０及び２０間の相対的位置ΔＹを制御及び修正するために、その位置決めデバイスに単独のアクチュエータを装備させることもある。こうすると、第１の駆動ユニットのＹ方向での力要件がさらに低下し、第１の駆動ユニットが一定速度フェーズの間の正確な位置決めに集中できるので有利となり得る。こうした（すなわち、追加的なアクチュエータを伴う）構成はさらに、さらに記載する実施例に適用することも可能であることに留意すべきである。こうしたアクチュエータが利用される場合には、このアクチュエータを第１及び第２の駆動ユニットを制御する制御ユニット４によって制御することもある。

図３ａに図示した実施例と比較すると、図５ａの実施例は第１の駆動ユニットを適当な位置及び速度に維持するためにより多くの制御措置を必要とする。このことは、図３ａの実施例では第２の部品に対する第１の部品のＹ方向での変位に関して安定平衡が提供されるが、他方図５ａの実施例では第２の部品に対する第１の部品のＹ方向での変位に関して不安定平衡が提供されることに由来する。この２つの実施例を比較すると、この両実施例において、第１の駆動ユニットの両方の部品間に作用する永久磁石システムが発生された力は、永久磁石と強磁性部品の間の引力に由来することが理解されよう。

以下の２つの実施例は永久磁石間の引力に依拠しているため、以下の２つの実施例はこれらと等価であると見なすことができる。図６は、その永久磁石システムが、第１の駆動ユニットの第１の部品に取り付けられた第１の磁石２１と、第１の駆動ユニットの第２の部品に取り付けられた第２の磁石２２と、を備える実施例を表している。図３ａの場合と同様に、磁石２１と２２の両者間のＺ方向での引力は、アクチュエータ又はベアリングによって補償することが可能である。Ｙ方向に関しては、図６に示すように両磁石の相対的位置における安定平衡が得られる。第１の駆動ユニットの第１の部品１０が、第２の部品２０に対して正方向のＹ方向又は負方向のＹ方向の何れかに変位を受けた場合、平衡を回復させようとして引力が生じる。図３及び６に表した実施例に関しては、図示された複数の永久磁石システムをＹ方向に沿って駆動ユニットの第１及び第２の部品に取り付けることが可能であることに留意すべきである。これによってＸ軸の周りの傾きに関する機械的な安定性が向上することになる。

図５によって図示したものに対する代替的な実施例である図７では、その永久磁石システムは、第１の駆動ユニットの第１の部品１０に取り付けられた２つの永久磁石２３、２４と、第１の駆動ユニットの第２の部品２０に取り付けられた２つの永久磁石２５、２６と、を備える。図７から理解できるように、これらの永久磁石２３、２４、２５及び２６は、磁石２３と２５の間、並びに磁石２４と２６の間に引力が発生するように構成される。これによって、磁石２３と２５の間の距離（Ｙ方向距離）が磁石２４と２６の間の距離と実質的に等しい場合には、（図５の場合と同様に）第１の駆動ユニットの第１の部品１０と第２の部品２０との間でＹ方向に不安定平衡が生じる（ただし、これらの磁石は同じ強度及びサイズであるとする）。

このことを、磁石２３、２４に作用するＹ方向の力Ｆｙ（１０）（すなわち、アイテム１０を加速又は減速させることが可能な力）をアイテム１０と２０のＹ方向の相対的変位（Δ_{２０−１０}）の関数として示した図８に図示している。Δ_{２０−１０}は次式で定義される。

Δ_{２０−１０}＝Ｙ_２０−Ｙ_１０

上式において、

Ｙ_２０＝部品２０（第１の駆動ユニットの第２の部品）のＹ位置であり、

Ｙ_１０＝部品１０（第１の駆動ユニットの第１の部品）のＹ位置である。

さらに、状況Δ_{２０−１０}＝０は第１の駆動ユニットの第１の部品１０がＹ方向に関して第２の部品２０と対称に位置決めされる状況に対応するものと仮定される。図８から理解できるように、Ｙ_２０＞Ｙ_１０の場合には、アイテム１０に作用する磁気力Ｆｙ（１０）は負方向のＹ方向に向くことになる。Ｙ_２０＞Ｙ_１０は、磁石２５と２３の間のギャップが磁石２４と２６の間のギャップと比べてより小さいような状況に対応する。発生された力は、磁石２５と２３の間のギャップをさらに小さくさせるような方向に向けられる。したがって、図４の状況とは反対に、この力は平衡状況を回復させるような方向に向いていない。

本発明による別の実施例を図９に表している。この図は、そのレイアウトに関しては図５ａ、７に図示した実施例と類似しているが、その制御の点では図３ａ、５ａの実施例に対してより類似性が高い一実施例を表している。この実施例では、その永久磁石システムは、第１の駆動ユニットの第１の部品１０に取り付けられた２つの磁石３３及び３４を備えた第１の部品と、第１の駆動ユニットの第２の部品２０に取り付けられた２つの磁石３５及び３６を備えた第２の部品と、を備える。これらの永久磁石は、磁石３５と３３の間、並びに磁石３４と３６の間に斥力が発生するように構成される。この構成では、永久磁石システムは、第２の部品２０に対する第１の部品１０のＹ方向での変位に関して安定平衡を提供する。アイテム１０と２０の相対的位置の関数として第１の部品１０に対して作用する力を図１０に表している。

図３及び６の実施例と図５ａ、７及び９の実施例との比較に関して、次の違いに留意すべきであろう。すなわち、図３及び６の実施例で利用される永久磁石システムは、Ｙ方向に関して第２の部品２０に対する第１の部品１０の変位を無制限にさせることができることである。このことは、この永久磁石システムを形成する部品がＹ方向と直交する方向（すなわち、図３及び６の実施例ではＺ方向）で互いに隣接して位置決めされることに由来する。

しかし図５ａ、７及び９に図示した実施例では、Ｙ方向に関する第２の部品２０に対する第１の部品１０の変位はその永久磁石システムを形成する部品（例えば磁石３３、３４及び磁石３５、３６）がＹ方向で互いに隣接して位置決めされることに由来した制限を受ける。以下の図は、図５ａ、７及び９の実施例と比較して、Ｙ方向に関する第２の部品２０に対する第１の部品１０の変位をより大きくすることが可能な代替的な構成の幾つかを表している。

図１１では、その永久磁石システムは、第２の部品２０に取り付けられた４つの永久磁石４３、４４、４５、４６を備えた第１の部品を、第１の部品１０に取り付けられた２つの永久磁石４１、４２を備えた第２の部品と協働させて構成して備える。この構成では、その永久磁石システムは第１の部品と第２の部品の間でＹ方向に力を発生させることができる。この構成は、Ｙ方向の変位に関して不安定平衡を提供する。これらの磁石はＹ方向と直交する方向で互いに隣接して位置決めされるため、第２の部品に対する第１の部品の変位がこれらの磁石によって妨害されない。

別法として、その磁石はさらに図１２に表したようにＸ方向で互いに隣接して構成されることもある。この図は、第１の駆動ユニットの第２の部品２０に取り付けられた４つの永久磁石５１、５２、５３及び５４と、第１の駆動ユニットの第１の部品１０に取り付けられた４つの永久磁石５５、５６、５７、及び５８と、を備える永久磁石システムに関する永久磁石構成のＸＹ像を表している。この永久磁石システムはＹ方向の変位に関して不安定平衡を提供する。

図３から１２に関連して検討した実施例について、力特性（図４、８及び１０に図示した特性）はΔＹ＝０又はΔ_{２０−１０}＝０にある平衡点において非ゼロの傾斜を有することに留意すべきである。第１の駆動ユニットの第１の部品１０と第２の部品２０の間（すなわち、第１の駆動ユニットのアクチュエータの磁石アセンブリとコイル・アセンブリの間）に配置された追加的な構成要素が第１の駆動ユニットの動作範囲においてほぼゼロの剛性を提供すると仮定すると、永久磁石システムのこの剛性は第１の駆動ユニットの第２の部品２０（すなわち、第２の駆動ユニットの第１の部品上に装着される）と物体テーブルに接続された第１の部品１０との間の振動の伝達に悪影響を与えることがある。

これを克服するためには、安定平衡を提供する永久磁石構成を不安定平衡を提供する永久磁石構成と組み合わせることができる。これら２つのアセンブリを適当にスケール調整することによって、平衡点の周りにほぼゼロ剛性の小さい領域を実現することができる。こうした構成の１つを図１３に表しており、図１３は、図７の永久磁石構成（永久磁石２３、２４、２５、２６を備える）を図３又は６による永久磁石構成と組み合わせている。

後者の磁石構成は、第１の駆動ユニットの第１の部品１０及び第２の部品２０に取り付けられた要素６１及び６２によって模式的に表している。これらの要素６１及び６２のうちの少なくとも一方は永久磁石とすべきである。この２つの要素が共に永久磁石である場合には、これらは、図６の実施例の場合と同様に、Ｙ方向の変位に関して安定平衡を提供するように構成させるべきである。図１４に表しているように、この２つの磁石構成の特性を加え合わせることよって合成力特性を得ることができる。図１４の一番上のグラフは、要素６１及び６２の相互作用に由来して、第１の部品１０に対してＹ方向で作用する力を表している。このグラフは図４のグラフと同様である。真ん中のグラフは、永久磁石２３、２４、２５及び２６の相互作用に由来して、第１の部品１０に対してＹ方向で作用する力を大まかに表している。磁石２３、２４、２５及び２６からなる永久磁石システムに対して要素６１及び６２を適当にスケール調整することによって、発生させる力に関しても、また動作範囲に関しても、これら２つの力特性を互いに対してスケール調整することが可能であることを理解されたい。

一番下のグラフは、一番上のグラフと真ん中のグラフを足し合わせたものを大まかに表している。一番下のグラフに表しているように、不安定平衡（Ｙ方向に関して）を提供する第１の永久磁石システムを、安定平衡を提供する第２の永久磁石システムと組み合わせることによって、剛性がほぼゼロの動作領域が実現される。この２つの永久磁石システムを適当にスケール調整する／設計することによって、剛性がほぼゼロのこの領域は、より小さくなるように或いはより大きくなるように製作することが可能である。その用途によっては、剛性がほぼゼロのある小さい領域（約２００ｅ−６ｍ）で十分となることもあり得る。不安定平衡（Ｙ方向に関して）を提供する第１の永久磁石システムを安定平衡を提供する第２の永久磁石システムと組み合わせるという原理は１つの実施例（図１３を参照）でしか図示していないが、永久磁石システムの別の組み合わせによっても同様の構成を製作することが可能であることは明らかであろう。

別法として、ほぼゼロ剛性の領域は、図３から１２の構成の幾何学的パラメータ又は磁気パラメータを、その動作領域のある小さい部分にわたってほぼゼロ剛性による平衡が生成されるように変更することによって達成することが可能である。こうした修正の実施例の１つを図１５に表しており、ここで、図１５の構成（ａ）は図６に示した実施例に対応しており、対応する力特性は図１５の部分（ｅ）に表している。

構成（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）は、図１５の部分（ｆ）で表している傾斜がほぼゼロの領域を備えた特性となるようにその力特性を修正させるような列（ａ）に対する修正を表している。この図から理解できるように、力特性を変更するために必要となる修正は、永久磁石システムの部品のうちの１つの幾何学構成を変更すること（構成（ｂ）及び（ｃ）で実施されるような変更）、又は、永久磁石システムの部品のうちの１つを細分割することとすることができる。

同様の修正は開示した別の実施例の剛性を低下させるためにも同様に実施することができることを理解されたい。剛性に関して最適な動作性能を得るためには、別の手法を実施することも可能である。図１３及び１５にすでに表したように、これらの手法は、異なる永久磁石システムを組み合わせることや、或いは永久磁石システムの１つ又は複数の部品に関する幾何学構成を修正することを含むことがある。これらの幾何学的修正は、この異なる部品を整形することや、１つ又は複数の部品を異なる部品に細分割すること、或いはこれらを組み合わせること、を含むことがある。さらに、磁気的修正が導入されることがある。こうした修正は、異なる磁性材料（軟磁性又は硬磁性）を付加し、追加的な磁性部品（軟磁性又は硬磁性部品）を導入して永久磁石システムの両部品の間の磁気相互作用を調整することを含むことがある。

例えば、有限要素法や境界要素法など従来の計算方法によれば、永久磁石システムの磁気パラメータ及び幾何学的パラメータの両方によって、剛性と発生させる駆動力の両方に関して必要となる動作性能が得られることも理解されたい。

本発明による別の実施例では、その永久磁石システムは、物体テーブルと第２の駆動ユニットの第１の部品の間で第１の方向と実質的に平行な第２の方向に力を発生させるように構成される。こうした構成は、物体テーブルの第１の方向と第２の方向の加速及び減速が必要である場合に好都合である。こうした状況は、リソグラフィ装置内における基板テーブルの位置決めにおいて生じる。永久磁石システムに関する可能な構成を以下の図で表している。

図１６は、第１の方向（Ｙ）と第２の方向（Ｘ）の両方向で物体テーブルを加速又は減速させるための力を提供するように構成された永久磁石システムの第１の実施例を表している。図１６は、この構成のＸＹ像を表している。永久磁石システムの第１の部品は、第１の駆動ユニットの第１の部品１０に取り付けられた４つの磁石７１、７２、７３及び７４を備える。これらの磁石は、第１の駆動ユニットの第２の部品２０に取り付けられた２つの永久磁石７５及び７７並びに２つの強磁性部品７６及び７８を備えた永久磁石システムの第２の部品と相互作用するように構成される。この構成は、物体テーブルと第２の駆動ユニットの第１の部品との間に加速力や減速力を発生させるために利用することができる。

この実施例は、Ｙ方向に関する（不安定平衡を提供する）図５の構成と、Ｘ方向に関する（安定平衡を提供する）図９の構成を組み合わせたものと見なすことができる。図３から１５に表した実施例に関する別の組み合わせによってＸ方向とＹ方向の両方で加速力や減速力を発生させることが可能な永久磁石システムを提供することもできる。これによって、（図１６の実施例の場合と同様に）ある方向では安定であり、且つもう一方の方向では不安定であるような実施例、或いは、両方向で安定であるか両方向で不安定な実施例を得ることができる。これらの実施例は、ＸＹ面内の任意の方向に加速力や減速力を発生させることがあることは明らかであろう。

ＸＹ面内の任意の方向で加速力や減速力を提供することが可能な永久磁石システムは、図３から１２の実施例のうちの何れかを実質的に円形の幾何学構成に修正することによっても製作することができる。図１７ａ及び１７ｂは、その永久磁石システムの第１の部品が第１の駆動ユニットの第１の部品１０に取り付けられた永久磁石８１を備えており、且つ第２の部品は第１の駆動ユニットの第２の部品２０に取り付けられた強磁性部品８２を備えるような、こうした構成のうちの１つを表している。図１７ｂは、図１７ａに示した線Ａ−Ａ’に沿って切ったＸＹ面での断面を表している。永久磁石８１と強磁性部品８２の両方が実質的に円筒状の形状を有しており、永久磁石８１は強磁性部品８２を囲繞する。

こうした構成では、永久磁石と強磁性部品の間に引力が存在する。図１７ａ及び１７ｂに図示した対称的な状況では、ＸＹ面内の力の成分はゼロであり、この位置は、ＸＹ面内の変位に関して不安定平衡を示す。同様の構成は安定平衡を提供するように製作することも可能である。

本発明の特定の実施例について上で記載してきたが、本発明は記載したのとは別の方式で実現されることもあることを理解されたい。この説明は本発明を限定することを意図していない。本発明の構成、動作、及び挙動については、本明細書に示したレベルの詳細性が与えられれば実施例の修正及び変形が可能であるとの理解により記載してきた。例えば、上に記載した特定の実施例では、その永久磁石システムが、第１の駆動ユニットの第１の部品と第１の駆動ユニットの第２の部品との間に提供される。本発明による永久磁石システムの目的の１つは物体テーブルと第２の駆動ユニットの第１の部品の間で必要となる駆動力の少なくとも一部分を提供することであるため、永久磁石システム（又は、複数の永久磁石システム）は物体テーブルと第１の駆動ユニットの第２の部品の間や、第１の駆動ユニットの第１の部品と第２の駆動ユニットの第１の部品の間に付加することも可能であることは明らかである。

したがって、上に示した詳細な説明は、いかなる方式によっても、本発明を限定することを意味するものでも意図したものでもなく、本発明の範囲は添付の特許請求の範囲によって規定されるものである。

本発明によるの一実施例のリソグラフィ装置の図である。当技術分野で周知の第１及び第２の駆動ユニットを備えた位置決めデバイスの概要図である。第１の位置にある本発明による位置決めデバイスの第１の実施例の概要図である。Ｙ方向に関して第２の位置にある第１の実施例の概要図である。Ｙ方向に関して第３の位置にある第１の実施例の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第１の実施例の力特性の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第２の実施例の概要図である。第１及び第２の駆動ユニットを制御するための制御ユニットを含んだ本発明による位置決めデバイスの概要図である。本発明による位置決めデバイスの第３の実施例の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第４の実施例の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第４の実施例の力特性の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第５の実施例の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第５の実施例の力特性の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第６の実施例の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第７の実施例の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第８の実施例の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第８の実施例の力特性の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第３の実施例に対するさまざまな修正形態の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第９の実施例の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第１０の実施例のＹＺ像の概要図である。本発明による位置決めデバイスの第１０の実施例のＸＹ像の概要図である。

符号の説明

１第１の駆動ユニット
２第２の駆動ユニット
３永久磁石システム
４制御ユニット
５物体テーブル
７接続
８第１の部品
９第２の部品
１０第１の部品
１１永久磁石
１２強磁性部品
１５永久磁石
１６永久磁石
１７強磁性部品
１８強磁性部品
２０第２の部品
２１第１の磁石
２２第２の磁石
２３永久磁石
２４永久磁石
２５永久磁石
２６永久磁石
３０第１の部品
３３磁石
３４磁石
３５磁石
３６磁石
４０第２の部品
４３永久磁石
４４永久磁石
４５永久磁石
４６永久磁石
５０フレーム、平衡質量
５１永久磁石
５２永久磁石
５３永久磁石
５４永久磁石
５５永久磁石
５６永久磁石
５７永久磁石
５８永久磁石
６１第１の部品に取り付けられた要素
６２第２の部品に取り付けられた要素
７１磁石
７２磁石
７３磁石
７４磁石
７５永久磁石
７６強磁性部品
７７永久磁石
７８強磁性部品
８１永久磁石
８２強磁性部品
１００リソグラフィ装置
Ｃターゲット部分
ＩＦ位置センサ
ＩＬ照射システム、照射器
Ｍ１マスク整列マーク
Ｍ２マスク整列マーク
ＭＡパターン形成デバイス、マスク
ＭＴマスク・テーブル／ホルダ
Ｐ１基板整列マーク
Ｐ２基板整列マーク
ＰＢ投影ビーム
ＰＬ投影システム、反射性投影レンズ
ＰＭ第１の位置決め機構
ＰＷ第２の位置決め機構
ＳＯ放射線源
Ｗ基板、ウェハ
ＷＴ基板テーブル、ウェハ・テーブル

Claims

物体を位置決めするためのリソグラフィ位置決めデバイスであって、
第１の部品及び第２の部品を有し、第１の方向に第１の動作範囲で前記物体を位置決めするための第１の駆動ユニットであって、前記第１の部品は前記物体に接続されると共に前記第２の部品に対して移動可能である第１の駆動ユニットと、
前記第１の方向に第２の動作範囲で前記第１の駆動ユニットを変位させるための第２の駆動ユニットであって、前記第１の駆動ユニットの前記第２の部品に接続されると共に前記第２の駆動ユニットの第２の部品に対して移動可能な第１の部品を有する第２の駆動ユニットと、
前記物体又は前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品の何れかに接続された第１の部品と、前記第１の駆動ユニットの前記第２の部品又は前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品の何れかに接続された第２の部品と、を有する永久磁石システムであって、前記永久磁石システムは、前記物体を前記第１の方向に移動させるために、前記物体及び前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品の前記第１の方向での相対的位置の関数である力を発生させるように構成されている、永久磁石システムと、
を備え、
前記第１の駆動ユニットの前記第１の動作範囲の内部における前記第２の部品に対する前記第１の方向での前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品の第１の位置に関しては、前記力が実質的にゼロであり、
前記永久磁石システムは、安定平衡を提供する永久磁石構成と、不安定平衡を提供する永久磁石構成と、を組み合わせることにより、前記関数の前記第１の方向における第１次微分を前記第１の位置に関して実質的にゼロとするものであり、
前記第１の位置は、平衡点である、
リソグラフィ位置決めデバイス。
前記第１のドライブと関連付けられた、前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品と前記第２の部品との間に力を発生させる第１のコイル・ユニットと、
前記第２のドライブと関連付けられた、前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品と前記第２の部品との間に力を発生させる第２のコイル・ユニットと、
加速／減速状態及び一定速度状態に従って前記位置決めデバイスを制御するように構成された制御ユニットであって、前記加速／減速状態下では、前記物体の前記第１の方向に沿った加速又は減速は前記第１及び第２のコイル・ユニットの電流を制御することによって達成されており、且つ前記一定速度状態下では、前記物体の実質的に一定の速度は、前記第１及び第２のコイル・ユニットの前記電流を制御し且つ前記永久磁石システムを前記第１の位置に実質的に維持することによって達成される、制御ユニットと、
をさらに備える、
請求項１に記載の位置決めデバイス。
前記永久磁石システムの前記第１の部品は第１の永久磁石を備えており、且つ前記第２の部品は強磁性部品を備える、
請求項１に記載の位置決めデバイス。
前記永久磁石システムの前記第１の部品は第１の永久磁石を備えており、且つ前記第２の部品は第２の永久磁石を備える、
請求項１に記載の位置決めデバイス。
前記永久磁石システムは、前記永久磁石システムの前記第１の部品の前記第２の部品に対する前記第１の方向に沿った位置を制御するための線形アクチュエータをさらに備える、
請求項１に記載の位置決めデバイス。
前記永久磁石システムは、前記物体と前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品との間で、前記第１の方向と実質的に直交する第２の方向に力を発生させるようにさらに構成されている、
請求項１に記載の位置決めデバイス。
前記安定平衡を提供する永久磁石構成は、前記永久磁石システムの前記第１の部品に取り付けられた第１の永久磁石（１１）と、前記永久磁石システムの前記第２の部品に取り付けられた強磁性部品（１２）と、を有するものであり、前記第１の部品が前記第２の部品に対して前記第１の方向における変位を受けた場合、平衡を回復させようとする引力が生じる、
請求項１に記載の位置決めデバイス。
前記安定平衡を提供する永久磁石構成は、前記永久磁石システムの前記第１の部品に取り付けられた第１の永久磁石（２１）と、前記永久磁石システムの前記第２の部品に取り付けられた第２の永久磁石（２２）と、を有するものであり、前記第１の部品が前記第２の部品に対して前記第１の方向における変位を受けた場合、平衡を回復させようとする引力が生じる、
請求項１に記載の位置決めデバイス。
前記安定平衡を提供する永久磁石構成は、前記永久磁石システムの前記第１の部品に取り付けられた２つの永久磁石（３３、３４）と、前記永久磁石システムの前記第２の部品に取り付けられた２つの永久磁石（３５、３６）と、を有するものであり、前記第１の部品に取り付けられた一方の前記永久磁石（３３）と前記第２の部品に取り付けられた一方の前記永久磁石（３５）との間、及び、前記第１の部品に取り付けられた他方の前記永久磁石（３４）と前記第２の部品に取り付けられた他方の前記永久磁石（３６）との間に斥力が発生し、前記第２の部品に対する前記第１の部品の前記第１の方向における変位に関して安定平衡を提供する、
請求項１に記載の位置決めデバイス。
前記不安定平衡を提供する永久磁石構成は、前記永久磁石システムの前記第１の部品に取り付けられた２つの永久磁石（１５、１６）と、前記永久磁石システムの前記第２の部品に取り付けられた２つの強磁性部品（１７、１８）と、を有するものであり、前記第１の部品に取り付けられた一方の前記永久磁石（１５）と前記第２の部品に取り付けられた一方の前記強磁性部品（１７）との間、及び、前記第１の部品に取り付けられた他方の前記永久磁石（１６）と前記第２の部品に取り付けられた他方の前記強磁性部品（１８）との間に引力が発生し、前記第１の部品に取り付けられた他方の前記永久磁石（１６）と前記第２の部品に取り付けられた他方の前記強磁性部品（１８）との間のギャップが低下するほど前記引力が増加する、
請求項１に記載の位置決めデバイス。
前記不安定平衡を提供する永久磁石構成は、前記永久磁石システムの前記第１の部品に取り付けられた２つの永久磁石（２３、２４）と、前記永久磁石システムの前記第２の部品に取り付けられた２つの永久磁石（２５、２６）と、を有するものであり、前記第１の部品に取り付けられた一方の前記永久磁石（２３）と前記第２の部品に取り付けられた一方の前記永久磁石（２５）との間、及び、前記第１の部品に取り付けられた他方の前記永久磁石（２４）と前記第２の部品に取り付けられた他方の前記永久磁石（２６）との間に引力が発生し、前記第１の部品に取り付けられた他方の前記永久磁石（２４）と前記第２の部品に取り付けられた他方の前記永久磁石（２６）との間のギャップが低下するほど前記引力が増加する、
請求項１に記載の位置決めデバイス。
放射ビームを提供するように構成された照射システムと、
前記放射ビームに対してその断面内に所望のパターンを付与するパターン形成デバイスを支持するように構成された支持構造と、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン形成したビームを投射するための投影システムと、
前記支持構造を位置決めするように構成された位置決めデバイスであって、
第１の部品及び第２の部品を有し、第１の方向に第１の動作範囲で前記支持構造を位置決めするための第１の駆動ユニットであって、前記第１の部品は前記支持構造に接続されると共に前記第２の部品に対して移動可能な第１の駆動ユニットと、
前記第１の方向に第２の動作範囲で前記第１の駆動ユニットを変位させるための第２の駆動ユニットであって、前記第１の駆動ユニットの前記第２の部品に接続されると共に前記第２の駆動ユニットの第２の部品に対して移動可能な第１の部品を有する第２の駆動ユニットと、
前記支持構造又は前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品の何れかに接続された第１の部品と、前記第１の駆動ユニットの前記第２の部品又は前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品の何れかに接続された第２の部品と、を有する永久磁石システムであって、前記永久磁石システムは、前記支持構造を前記第１の方向に移動させるために、前記支持構造及び前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品の前記第１の方向での相対的位置の関数である力を発生させるように構成されている、永久磁石システムと、
を備える位置決めデバイスと、
を具備し、
前記第１の駆動ユニットの前記第１の動作範囲の内部における前記第２の部品に対する前記第１の方向での前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品の第１の位置に関しては、前記力が実質的にゼロであり、
前記永久磁石システムは、安定平衡を提供する永久磁石構成と、不安定平衡を提供する永久磁石構成と、を組み合わせることにより、前記関数の前記第１の方向における第１次微分を前記第１の位置に関して実質的にゼロとするものであり、
前記第１の位置は、平衡点である、
リソグラフィ装置。
前記第１のドライブと関連付けられた、前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品と前記第２の部品との間に力を発生させる第１のコイル・ユニットと、
前記第２のドライブと関連付けられた、前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品と前記第２の部品との間に力を発生させる第２のコイル・ユニットと、
加速／減速状態及び一定速度状態に従って前記位置決めデバイスを制御するように構成された制御ユニットであって、前記加速／減速状態下では、前記支持構造の前記第１の方向に沿った加速又は減速は前記第１及び第２のコイル・ユニットの電流を制御することによって達成されており、且つ前記一定速度状態下では、前記支持構造の実質的に一定の速度は、前記第１及び第２のコイル・ユニットの前記電流を制御し且つ前記永久磁石システムを前記第１の位置に実質的に維持することによって達成される、制御ユニットと、
をさらに備える、
請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
前記永久磁石システムの前記第１の部品は第１の永久磁石を備えており、且つ前記第２の部品は強磁性部品を備える、
請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
前記永久磁石システムの前記第１の部品は第１の永久磁石を備えており、且つ前記第２の部品は第２の永久磁石を備える、
請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
前記永久磁石システムは、前記永久磁石システムの前記第１の部品の前記第２の部品に対する前記第１の方向に沿った位置を制御するための線形アクチュエータをさらに備える、
請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
前記永久磁石システムは、前記支持構造と前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品との間で、前記第１の方向と実質的に直交する第２の方向に力を発生させるようにさらに構成されている、
請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
放射ビームを提供するように構成された照射システムと、
前記放射ビームに対してその断面内に所望のパターンを付与するパターン形成デバイスを支持するように構成された支持構造と、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン形成したビームを投射するための投影システムと、
前記基板ホルダを位置決めするように構成された位置決めデバイスであって、
第１の部品及び第２の部品を有し、第１の方向に第１の動作範囲で前記基板ホルダを位置決めするための第１の駆動ユニットであって、前記第１の部品は前記基板ホルダに接続されると共に前記第２の部品に対して移動可能な第１の駆動ユニットと、
前記第１の方向に第２の動作範囲で前記第１の駆動ユニットを変位させるための第２の駆動ユニットであって、前記第１の駆動ユニットの前記第２の部品に接続されると共に前記第２の駆動ユニットの第２の部品に対して移動可能な第１の部品を有する第２の駆動ユニットと、
前記基板ホルダ又は前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品の何れかに接続された第１の部品と、前記第１の駆動ユニットの前記第２の部品又は前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品の何れかに接続された第２の部品と、を有する永久磁石システムであって、前記永久磁石システムは、前記基板ホルダを前記第１の方向に移動させるために、前記基板ホルダ及び前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品の前記第１の方向での相対的位置の関数である力を発生させるように構成されている、永久磁石システムと、
を備える位置決めデバイスと、
を具備し、
前記第１の駆動ユニットの前記第１の動作範囲の内部における前記第２の部品に対する前記第１の方向での前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品の第１の位置に関しては、前記力が実質的にゼロであり、
前記永久磁石システムは、安定平衡を提供する永久磁石構成と、不安定平衡を提供する永久磁石構成と、を組み合わせることにより、前記関数の前記第１の方向における第１次微分を前記第１の位置に関して実質的にゼロとするものであり、
前記第１の位置は、平衡点である、
リソグラフィ装置。
前記第１のドライブと関連付けられた、前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品と前記第２の部品との間に力を発生させる第１のコイル・ユニットと、
前記第２のドライブと関連付けられた、前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品と前記第２の部品との間に力を発生させる第２のコイル・ユニットと、
加速／減速状態及び一定速度状態に従って前記位置決めデバイスを制御するように構成された制御ユニットであって、前記加速／減速状態下では、前記基板ホルダの前記第１の方向に沿った加速又は減速は前記第１及び第２のコイル・ユニットの電流を制御することによって達成されており、且つ前記一定速度状態下では、前記基板ホルダの実質的に一定の速度は、前記第１及び第２のコイル・ユニットの前記電流を制御し且つ前記永久磁石システムを前記第１の位置に実質的に維持することによって達成される、制御ユニットと、
をさらに備える、
請求項１８に記載のリソグラフィ装置。
前記永久磁石システムの前記第１の部品は第１の永久磁石を備えており、且つ前記第２の部品は強磁性部品を備える、
請求項１８に記載のリソグラフィ装置。
前記永久磁石システムの前記第１の部品は第１の永久磁石を備えており、且つ前記第２の部品は第２の永久磁石を備える、
請求項１８に記載のリソグラフィ装置。
前記永久磁石システムは、前記永久磁石システムの前記第１の部品の前記第２の部品に対する前記第１の方向に沿った位置を制御するための線形アクチュエータをさらに備える、
請求項１８に記載のリソグラフィ装置。
前記永久磁石システムは、前記基板ホルダと前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品との間で、前記第１の方向と実質的に直交する第２の方向に力を発生させるようにさらに構成されている、
請求項１８に記載のリソグラフィ装置。
基板ホルダによって保持された基板を提供するステップと、
照射システムを使用して放射ビームを提供するステップと、
支持構造によって支持されたパターン形成デバイスによって前記放射ビーム上に所望のパターンを付与するステップと、
前記基板のターゲット部分上に投影システムを介して前記パターン形成した放射ビームを投射するステップと、
前記支持構造を位置決めデバイスを介して位置決めするステップであって、
第１の部品及び第２の部品を有する第１の駆動ユニットを介して前記支持構造を第１の方向に第１の動作範囲で位置決めする工程であって、前記第１の部品は前記支持構造に接続されると共に前記第２の部品に対して移動可能である位置決め工程と、
第２の駆動ユニットを介して前記第１の駆動ユニットを前記第１の方向に第２の動作範囲で変位させる工程であって、前記第２の駆動ユニットは前記第１の駆動ユニットの前記第２の部品に接続されると共に前記第２の駆動ユニットの第２の部品に対して移動可能な第１の部品を有する変位工程と、
前記第１の方向に永久磁石システムを介して前記支持構造を移動するための力を発生させる工程であって、前記永久磁石システムは前記支持構造又は前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品の何れかに接続された第１の部品と、前記第１の駆動ユニットの前記第２の部品又は前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品の何れかに接続された第２の部品と、を有する発生工程と、
によって実施される位置決めするステップと、
を含むデバイス製造方法であって、
前記力は前記支持構造及び前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品の前記第１の方向での相対的位置の関数であり、
前記第１の駆動ユニットの前記第１の動作範囲の内部における前記第２の部品に対する前記第１の方向での前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品の第１の位置に関しては、前記力が実質的にゼロであり、
前記永久磁石システムは、安定平衡を提供する永久磁石構成と、不安定平衡を提供する永久磁石構成と、を組み合わせることにより、前記関数の前記第１の方向における第１次微分を前記第１の位置に関して実質的にゼロとするものであり、
前記第１の位置は、平衡点である、
デバイス製造方法。
基板ホルダによって保持された基板を提供するステップと、
照射システムを使用して放射ビームを提供するステップと、
支持構造によって支持されたパターン形成デバイスによって前記放射ビーム上に所望のパターンを付与するステップと、
前記基板のターゲット部分上に投影システムを介して前記パターン形成した放射ビームを投射するステップと、
前記基板ホルダを位置決めデバイスを介して位置決めするステップであって、
第１の部品及び第２の部品を有する第１の駆動ユニットを介して前記基板ホルダを第１の方向に第１の動作範囲で位置決めする工程であって、前記第１の部品は前記基板ホルダに接続されると共に前記第２の部品に対して移動可能である位置決め工程と、
第２の駆動ユニットを介して前記第１の駆動ユニットを前記第１の方向に第２の動作範囲で変位させる工程であって、前記第２の駆動ユニットは前記第１の駆動ユニットの前記第２の部品に接続されると共に前記第２の駆動ユニットの第２の部品に対して移動可能な第１の部品を有する変位工程と、
前記第１の方向に永久磁石システムを介して前記基板ホルダを移動するための力を発生させる工程であって、前記永久磁石システムは前記基板ホルダ又は前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品の何れかに接続された第１の部品と、前記第１の駆動ユニットの前記第２の部品又は前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品の何れかに接続された第２の部品と、を有する発生工程と、
によって実施される位置決めするステップと、
を含むデバイス製造方法であって、
前記力は前記基板ホルダ及び前記第２の駆動ユニットの前記第１の部品の前記第１の方向での相対的位置の関数であり、
前記第１の駆動ユニットの前記第１の動作範囲の内部における前記第２の部品に対する前記第１の方向での前記第１の駆動ユニットの前記第１の部品の第１の位置に関しては、前記力が実質的にゼロであり、
前記永久磁石システムは、安定平衡を提供する永久磁石構成と、不安定平衡を提供する永久磁石構成と、を組み合わせることにより、前記関数の前記第１の方向における第１次微分を前記第１の位置に関して実質的にゼロとするものであり、
前記第１の位置は、平衡点である、
デバイス製造方法。