JP3000361B2 - マイクロチップ製作装置のフォトマスク支持板 - Google Patents
マイクロチップ製作装置のフォトマスク支持板Info
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- JP3000361B2 JP3000361B2 JP10358495A JP35849598A JP3000361B2 JP 3000361 B2 JP3000361 B2 JP 3000361B2 JP 10358495 A JP10358495 A JP 10358495A JP 35849598 A JP35849598 A JP 35849598A JP 3000361 B2 JP3000361 B2 JP 3000361B2
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- rectangular plate
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス又はガラス−セ
ラミック材料から成る矩形板で構成される、マイクロチ
ップ製作装置のフォトマスクを支持する支持板であっ
て、マイクロチップ製作装置の動作中にフォトマスクを
正確な位置に保持するためのレセプタクルが板上方側に
設けられ、及び／又は重量を減じ、且つ支持板の剛性を
増大するための複数の凹部を板下方側に有する支持板に
関する。
ラミック材料から成る矩形板で構成される、マイクロチ
ップ製作装置のフォトマスクを支持する支持板であっ
て、マイクロチップ製作装置の動作中にフォトマスクを
正確な位置に保持するためのレセプタクルが板上方側に
設けられ、及び／又は重量を減じ、且つ支持板の剛性を
増大するための複数の凹部を板下方側に有する支持板に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来技術によるマイクロチップ製造装置
を図３（ａ）に示す。単色光が図示されない光源から発
せられる。光ビームは二つのミラー面２ａ及び２ｂによ
って、支持板（１０）により所定位置に保持されたフォ
トマスク３に案内される。支持板１０は、ガラス又はガ
ラスセラミック材料から成る矩形板４で構成される。図
３（ａ）の装置に用いられる支持板１０を、図３（ｂ）
及び３（ｃ）に示す。この支持板１０が本発明の主題で
ある。
を図３（ａ）に示す。単色光が図示されない光源から発
せられる。光ビームは二つのミラー面２ａ及び２ｂによ
って、支持板（１０）により所定位置に保持されたフォ
トマスク３に案内される。支持板１０は、ガラス又はガ
ラスセラミック材料から成る矩形板４で構成される。図
３（ａ）の装置に用いられる支持板１０を、図３（ｂ）
及び３（ｃ）に示す。この支持板１０が本発明の主題で
ある。
【０００３】単色光線はレンズ系５により組み合わさ
れ、ウェーハ板上７に設けられたウェーハ６上に、後で
腐食（エッチング）工程で腐食により除かれるフォトマ
スク３によって、所定の導体ストリップ構造を形成す
る。基体として働くウェーハ６に、多数の同一の集積回
路が創生され、それらが分離され、動作性を検査した
後、半導体マイクロチップを形成する。
れ、ウェーハ板上７に設けられたウェーハ６上に、後で
腐食（エッチング）工程で腐食により除かれるフォトマ
スク３によって、所定の導体ストリップ構造を形成す
る。基体として働くウェーハ６に、多数の同一の集積回
路が創生され、それらが分離され、動作性を検査した
後、半導体マイクロチップを形成する。
【０００４】図３（ｂ）及び図３（ｃ）に示されている
ように、フォトマスク３は円形のレセプタクル（入れ
物）８に受容され、低圧又は真空によりこの位置に保た
れる。従来技術によれば、フォトマスク３は一般に大き
さが６インチ（辺の長さが約１５２ｍｍ、厚みが約９ｍ
ｍの正方形）である。フォトマスク３の大きさは入れ物
８の大きさに直接関係し、各コーナー部でフォトマスク
３と入れ物８の内側との間隔は、少なくとも１０ｍｍな
ければならない。
ように、フォトマスク３は円形のレセプタクル（入れ
物）８に受容され、低圧又は真空によりこの位置に保た
れる。従来技術によれば、フォトマスク３は一般に大き
さが６インチ（辺の長さが約１５２ｍｍ、厚みが約９ｍ
ｍの正方形）である。フォトマスク３の大きさは入れ物
８の大きさに直接関係し、各コーナー部でフォトマスク
３と入れ物８の内側との間隔は、少なくとも１０ｍｍな
ければならない。
【０００５】独国特許公報ＤＥ８８００２７２Ｕ１の開
示するところによれば、フォトマスクを適当な中央開口
で金属支持体内に保持することができる。この種の支持
手段により、フォトマスクを支持板の入れ物又は穴に、
位置決めピンとロック装置の補助で、正確且つ簡単に位
置付け、そして中央開口を通して、作業を行うことがで
きる。そのため、フォトマスクを支持板に自動的に案内
できるだけでなく、フォトマスクを備えた支持体を個々
のステーションの間に自動的、且つ簡単に操作すること
ができる。支持体にはコーナー領域に複数の三角形状の
凹部が形成され、剛性を損なうことなく、重量の軽減に
供する。
示するところによれば、フォトマスクを適当な中央開口
で金属支持体内に保持することができる。この種の支持
手段により、フォトマスクを支持板の入れ物又は穴に、
位置決めピンとロック装置の補助で、正確且つ簡単に位
置付け、そして中央開口を通して、作業を行うことがで
きる。そのため、フォトマスクを支持板に自動的に案内
できるだけでなく、フォトマスクを備えた支持体を個々
のステーションの間に自動的、且つ簡単に操作すること
ができる。支持体にはコーナー領域に複数の三角形状の
凹部が形成され、剛性を損なうことなく、重量の軽減に
供する。
【０００６】ウェーハ６が露光される間、フォトマスク
３に対する支持板１０の移動とウェーハ板７の移動が行
われる。ウェーハ板７がＸ方向とＹ方向に移動する間、
フォトマスクの支持板１０を、その移動がＸ方向のみと
なるように案内する。
３に対する支持板１０の移動とウェーハ板７の移動が行
われる。ウェーハ板７がＸ方向とＹ方向に移動する間、
フォトマスクの支持板１０を、その移動がＸ方向のみと
なるように案内する。
【０００７】従来技術による具体例では、フォトマスク
３の支持板は３ｇ（約３０ｍ／ｓｅｃ２）程度で加速さ
れる。この加速振幅のため、フォトマスク３の支持板１
０の構造には、二つのことが必要となる。即ち、一方で
は移動される質量を低下又は最小化する必要があり、他
方、動的剛性の増大が必要となる。ウェーハに構造的誤
差をもたらす、システムの固有振動が、加速振幅によっ
て励起されるからである。
３の支持板は３ｇ（約３０ｍ／ｓｅｃ２）程度で加速さ
れる。この加速振幅のため、フォトマスク３の支持板１
０の構造には、二つのことが必要となる。即ち、一方で
は移動される質量を低下又は最小化する必要があり、他
方、動的剛性の増大が必要となる。ウェーハに構造的誤
差をもたらす、システムの固有振動が、加速振幅によっ
て励起されるからである。
【０００８】ウェーハ６が露光される間、フォトマスク
３に対する支持板１０の移動が監視され、位置のズレが
調節素子により補償される。Ｚ座標に対し、支持板１０
の凹部９ａ、９ｂ及び９ｃ内に位置するアクチュエータ
が三つある。Ｘ方向の補償のために、ローレンツモータ
ーが、支持板１０の前縁ｆｅと、凹部９ａ及び９ｂが設
けられる縁部に取り付けられる。
３に対する支持板１０の移動が監視され、位置のズレが
調節素子により補償される。Ｚ座標に対し、支持板１０
の凹部９ａ、９ｂ及び９ｃ内に位置するアクチュエータ
が三つある。Ｘ方向の補償のために、ローレンツモータ
ーが、支持板１０の前縁ｆｅと、凹部９ａ及び９ｂが設
けられる縁部に取り付けられる。
【０００９】長辺の面の一方に干渉計ミラーを設け、フ
ォトマスクの支持板の位置決め変数を測定する。例え
ば、フォトマスクの支持板が５６０ｘ４５０ｘ６６ｍｍ
の寸法で、ブロック（例えば密度が２５０ｋｇ／ｍ３の
ガラス材Ｚｅｒｏｄｕｒ、商品名）からできていれば、
フォトマスクととＺ方向アクチュエータの穴を除き、全
質量は約３０ｋｇとなる。しかしながら、適切な加速の
ための質量に関する必要条件を満たすには、１０〜１４
ｋｇの質量が要求される。
ォトマスクの支持板の位置決め変数を測定する。例え
ば、フォトマスクの支持板が５６０ｘ４５０ｘ６６ｍｍ
の寸法で、ブロック（例えば密度が２５０ｋｇ／ｍ３の
ガラス材Ｚｅｒｏｄｕｒ、商品名）からできていれば、
フォトマスクととＺ方向アクチュエータの穴を除き、全
質量は約３０ｋｇとなる。しかしながら、適切な加速の
ための質量に関する必要条件を満たすには、１０〜１４
ｋｇの質量が要求される。
【００１０】従来技術によれば、ポケット１１は密な材
料を切削して作られる。可能な一実施例を図４（ａ）及
び４（ｂ）に示す。図４（ａ）には、フォトマスク３を
受容する凹部８をもつ従来のフォトマスク３を上から見
たものが示されている。ポケット列１１及び１１’が、
支持板の両長辺ｌｓに沿って作られた盲穴として形成さ
れる。
料を切削して作られる。可能な一実施例を図４（ａ）及
び４（ｂ）に示す。図４（ａ）には、フォトマスク３を
受容する凹部８をもつ従来のフォトマスク３を上から見
たものが示されている。ポケット列１１及び１１’が、
支持板の両長辺ｌｓに沿って作られた盲穴として形成さ
れる。
【００１１】図４（ｂ）には、剛性の観点から分布され
た盲穴の形式のポケット１１”をもつ従来の支持板１０
を、下方から見たものが示されている。これらのポケッ
トの形状は矩形、ハネカム形、又三角形でも良い。支持
板の剛性を増大するため、各ポケットにアンダーカット
を設けることができる。加工方向は厚さ方向に（Ｚ方向
の穴と同様）限定される。最小壁厚は４〜５ｍｍの範囲
である。切削抵抗とガラス又はガラスセラミック材料の
脆性のため、通常の切削動作ではこれより小さい壁厚は
得られない。これ等の工程で製作できる１インチフォト
マスクの支持板は、重量が約１４ｋｇとなる。
た盲穴の形式のポケット１１”をもつ従来の支持板１０
を、下方から見たものが示されている。これらのポケッ
トの形状は矩形、ハネカム形、又三角形でも良い。支持
板の剛性を増大するため、各ポケットにアンダーカット
を設けることができる。加工方向は厚さ方向に（Ｚ方向
の穴と同様）限定される。最小壁厚は４〜５ｍｍの範囲
である。切削抵抗とガラス又はガラスセラミック材料の
脆性のため、通常の切削動作ではこれより小さい壁厚は
得られない。これ等の工程で製作できる１インチフォト
マスクの支持板は、重量が約１４ｋｇとなる。
【００１２】露光プロセスの間、好ましくない振動が生
じない程度まで動的剛性を高くすることが、作業に特に
重要となる。
じない程度まで動的剛性を高くすることが、作業に特に
重要となる。
【００１３】マイクロチップ製造装置の製造者には、全
システムの曲げ振動に少なくとも５００Ｈｚの振動数を
必要とする。
システムの曲げ振動に少なくとも５００Ｈｚの振動数を
必要とする。
【００１４】従来の構造で得られる固有振動周波数は、
曲げの場合、約４５０Ｈｚ程度である。これ等の値は、
自由−自由位置において付加構造（例えばＺ軸モータ
ー、ローレンツモーター）をもたないガラスブロックに
対するものである。
曲げの場合、約４５０Ｈｚ程度である。これ等の値は、
自由−自由位置において付加構造（例えばＺ軸モータ
ー、ローレンツモーター）をもたないガラスブロックに
対するものである。
【００１５】フォトマスクの支持板の両縁部領域にある
ポケットの寸法を変えても、動的剛性に有意の増大が得
られないことが分かっている。曲げ振動固有周波数は、
７００±３０Ｈｚの範囲にある。比較振動実験によれ
ば、計算変数と実測変数の間に極めて良好な相関がある
ことがわかる。
ポケットの寸法を変えても、動的剛性に有意の増大が得
られないことが分かっている。曲げ振動固有周波数は、
７００±３０Ｈｚの範囲にある。比較振動実験によれ
ば、計算変数と実測変数の間に極めて良好な相関がある
ことがわかる。
【００１６】実験の示すところでは、ポケット位置を変
えても、動的剛性の顕著な増大には到らない。
えても、動的剛性の顕著な増大には到らない。
【００１７】重量を低減し、フォトマスクの支持板を強
化しようとする周知の構成手段では、支持板の寸法が制
限され、従来技術に依っては、せいぜい６インチフォト
マスクの支持板を製作できるに過ぎない。
化しようとする周知の構成手段では、支持板の寸法が制
限され、従来技術に依っては、せいぜい６インチフォト
マスクの支持板を製作できるに過ぎない。
【００１８】
【発明により解決されるべき課題】本発明の目的は、フ
ォトマスク製造装置でフォトマスクを保持する、上記の
種類の支持板であって、上記の不都合の無い支持板を提
供することにある。
ォトマスク製造装置でフォトマスクを保持する、上記の
種類の支持板であって、上記の不都合の無い支持板を提
供することにある。
【００１９】本発明の他の目的は、フォトマスクを保持
する、上記の種類の支持板であって、従来の支持板の剛
性と質量と比較して、剛性が増大し、質量が低減される
支持板を提供することにある。
する、上記の種類の支持板であって、従来の支持板の剛
性と質量と比較して、剛性が増大し、質量が低減される
支持板を提供することにある。
【００２０】
【課題を解決する手段、その作用・効果】これ等の目的
及び以下に明らかになる他の目的を達成する、本発明に
よるフォトマスク保持用支持板は、ガラス又はガラスセ
ラミックから成る矩形板で構成され、矩形板にはフォト
マスクを受容して、マイクロチップ製造装置の動作中、
フォトマスクを正確に位置付けるレセプタクルが設けら
れ、その頭部側及び／又は低部側に、矩形板の重量を低
減し、且つ剛性を増大する複数の凹部が設けられる。
及び以下に明らかになる他の目的を達成する、本発明に
よるフォトマスク保持用支持板は、ガラス又はガラスセ
ラミックから成る矩形板で構成され、矩形板にはフォト
マスクを受容して、マイクロチップ製造装置の動作中、
フォトマスクを正確に位置付けるレセプタクルが設けら
れ、その頭部側及び／又は低部側に、矩形板の重量を低
減し、且つ剛性を増大する複数の凹部が設けられる。
【００２１】本発明によれば、これ等の凹部は、矩形板
の前縁部に設けられる細長い盲穴を含む。これらの盲穴
は、矩形板の両長辺に沿うそれぞれの辺縁領域で矩形板
の面内を延びている。
の前縁部に設けられる細長い盲穴を含む。これらの盲穴
は、矩形板の両長辺に沿うそれぞれの辺縁領域で矩形板
の面内を延びている。
【００２２】本発明のこれ等の特徴のため、９インチフ
ォトマスク用の、寸法が対応してより大きく、しかも質
量が１０から１４ｋｇの要求範囲内にある支持板を提供
することが可能となる。９インチフォトマスクの場合
は、矩形板の辺の長さは約２２９ｍｍとなる。動的剛性
が極めて高くなって、過渡的励起において振動感応性が
大幅に低下する。９インチフォトマスクでは、より多く
のマイクロチップを一加工工程で同時にウェーハ上で露
光でき、これによりマイクロチップ製造プロセスの生産
性を増大する。しかしながら、この支持板は、動的に充
分剛性があり、それが或量を越える振動に対して感応せ
ずに、約５ｇ（約５０ｍ／ｓｅｃ２）以上の加速度で加
速又は移動できる程度まで動的剛性が高い。この高い加
速度値故に、マイクロチップ製造プロセスの生産性も同
様に向上する。
ォトマスク用の、寸法が対応してより大きく、しかも質
量が１０から１４ｋｇの要求範囲内にある支持板を提供
することが可能となる。９インチフォトマスクの場合
は、矩形板の辺の長さは約２２９ｍｍとなる。動的剛性
が極めて高くなって、過渡的励起において振動感応性が
大幅に低下する。９インチフォトマスクでは、より多く
のマイクロチップを一加工工程で同時にウェーハ上で露
光でき、これによりマイクロチップ製造プロセスの生産
性を増大する。しかしながら、この支持板は、動的に充
分剛性があり、それが或量を越える振動に対して感応せ
ずに、約５ｇ（約５０ｍ／ｓｅｃ２）以上の加速度で加
速又は移動できる程度まで動的剛性が高い。この高い加
速度値故に、マイクロチップ製造プロセスの生産性も同
様に向上する。
【００２３】標準的製造技術により、ガラス内の細長い
穴が形成されることも利点である。そのため、コストの
掛かる特殊プロセスを回避できる。
穴が形成されることも利点である。そのため、コストの
掛かる特殊プロセスを回避できる。
【００２４】本発明により形成される細長い盲穴によ
り、特に、これ等の盲穴を、矩形断面、即ち箱形形状
の、壁厚の小さい開口形式とし、且つ寸法（長さ、幅及
び高さ）が変わらない通常の三角形状の凹部を有するよ
うにした本発明の好ましい実施例により盲穴を形成する
と、１０ｋｇまでの重量の低減と動的剛性の増大が得ら
れる。
り、特に、これ等の盲穴を、矩形断面、即ち箱形形状
の、壁厚の小さい開口形式とし、且つ寸法（長さ、幅及
び高さ）が変わらない通常の三角形状の凹部を有するよ
うにした本発明の好ましい実施例により盲穴を形成する
と、１０ｋｇまでの重量の低減と動的剛性の増大が得ら
れる。
【００２５】前記の種類の支持板は支持板のＺー軸移動
のために、モーターを備える。本発明の他の実施例によ
れば、モーターは支持板と一体化される。この特徴のた
め、自由曲げ長さは減少され、曲げ周波数が増大され
る。
のために、モーターを備える。本発明の他の実施例によ
れば、モーターは支持板と一体化される。この特徴のた
め、自由曲げ長さは減少され、曲げ周波数が増大され
る。
【００２６】本発明の他の実施例によれば、細長い穴
が、特に盲穴の側部に亘って形成される支持板の上辺の
辺縁部領域に、補強又は強化リブが設けられる。これ等
のリブは、微細研磨面に鑞付け、又は単に接着により付
着して良い。リブの寸法は、実施態様の空間的条件で考
慮して決定する。支持板に付着される補強リブにより、
曲げ振動周波数の有利な増大が得られる。
が、特に盲穴の側部に亘って形成される支持板の上辺の
辺縁部領域に、補強又は強化リブが設けられる。これ等
のリブは、微細研磨面に鑞付け、又は単に接着により付
着して良い。リブの寸法は、実施態様の空間的条件で考
慮して決定する。支持板に付着される補強リブにより、
曲げ振動周波数の有利な増大が得られる。
【００２７】本発明の他の実施例によれば、補強リブは
偏心して配置される。この特徴のため、支持板に懸架さ
れるローレンツモーターによる重心の移動を、或程度ま
で補償することができる。
偏心して配置される。この特徴のため、支持板に懸架さ
れるローレンツモーターによる重心の移動を、或程度ま
で補償することができる。
【００２８】
【実 施 例】以下、添付の図面を参照して好ましい実
施例を記載し、本発明の目的、特徴及び利点を詳細に例
示する。
施例を記載し、本発明の目的、特徴及び利点を詳細に例
示する。
【００２９】図１（ａ）及び図１（ｂ）は、図３（ａ）
に示されたに示されたマイクロチップ製造装置３に用い
られる、本発明のフォトマスク３用支持板１０の好まし
い実施例を示す。図１（ａ）は周知の支持板である図４
に似た支持板の頭部側の図である。支持板１０は、ガラ
ス又はガラス−セラミック材料から成り、フォトマスク
３を正確に位置付ける中央レセプタクル（入れ物）８を
備えた矩形板４で構成される。更に、Ｚ方向アクチュエ
ータ用の、通し穴９ａ〜９ｃも、図４（ａ）及び図４
（ｂ）に図示の従来の矩形板４にと同様、図１（ａ）及
び図１（ｂ）の矩形板４に設けられている。
に示されたに示されたマイクロチップ製造装置３に用い
られる、本発明のフォトマスク３用支持板１０の好まし
い実施例を示す。図１（ａ）は周知の支持板である図４
に似た支持板の頭部側の図である。支持板１０は、ガラ
ス又はガラス−セラミック材料から成り、フォトマスク
３を正確に位置付ける中央レセプタクル（入れ物）８を
備えた矩形板４で構成される。更に、Ｚ方向アクチュエ
ータ用の、通し穴９ａ〜９ｃも、図４（ａ）及び図４
（ｂ）に図示の従来の矩形板４にと同様、図１（ａ）及
び図１（ｂ）の矩形板４に設けられている。
【００３０】本発明による支持板１０の底部側の斜視図
が図１（ｂ）に示され、図４（ｂ）に示された従来技術
の支持板の図に対応する。ポケット状凹部１１”が図１
（ｂ）の矩形板４の底部側に形成され、図４（ｂ）のも
のと同様である。ポケット状凹部１１”の形状は、公知
の支持板１０の場合のポケット状凹部１１”の形状と同
様である。
が図１（ｂ）に示され、図４（ｂ）に示された従来技術
の支持板の図に対応する。ポケット状凹部１１”が図１
（ｂ）の矩形板４の底部側に形成され、図４（ｂ）のも
のと同様である。ポケット状凹部１１”の形状は、公知
の支持板１０の場合のポケット状凹部１１”の形状と同
様である。
【００３１】図１（ｂ）に示されたポケット状凹部１
１”の分布は一例に過ぎない。最適剛性を得るために決
定される他の形状及び分布を、ポケット状凹部１１”は
有しても良い。ポケット状凹部１１”を、図示されてい
ないが、矩形板の頭部側と底部側の両方に設けることも
できる。
１”の分布は一例に過ぎない。最適剛性を得るために決
定される他の形状及び分布を、ポケット状凹部１１”は
有しても良い。ポケット状凹部１１”を、図示されてい
ないが、矩形板の頭部側と底部側の両方に設けることも
できる。
【００３２】図１（ａ）及び図１（ｂ）に示された本発
明の実施例と図４（ａ）及び図４（ｂ）の公知実施例の
間の主な相違は、公知の矩形板４の長辺１ｓの側縁部ｓ
ｅに用意されていたポケット状凹部１１″が、矩形板４
の前部縁ｆｅに設けられた、板の面内に延びる細長い盲
穴１２ａ及び１２ｂで置き換えられていることである。
前部縁の細長い盲穴１２ａ及び１２ｂは好ましくは、箱
形又は平行六面体、即ち実質断面が矩形の形状の、壁厚
の小さい穴である。剛性を改善し、且つ振動周波数を増
大するため、細長い盲穴１２ａ及び１２ｂが延びるそれ
ぞれの長辺１ｓ上の側縁領域に、強化リブ１３ａ及び１
３ｂが設けられている。これ等の強化リブは、図３
（ｃ）に図示のローレンツモーターによっても影響がも
たらされる重力中心に影響すべく、図示のように偏心し
て設けるのが望ましい。細長い盲穴１２ａ及び１２ｂの
好ましい断面を図２（ａ）及び図２（ｂ）に示す。図２
（ａ）は、重量が６７％節約される理想化した構造を示
す。径が異なるドリルで穴あけした実際の構造は図２
（ｂ）に示され、重量を６３％節約する。これ等の細長
い穴の最小壁厚ｄは、ポケット状凹部の壁厚と同様、穴
と穴の理想境界からの穴あけのばらつきも考慮して、４
から５ｍｍの範囲内にすべきである。盲穴を横向きにし
た構造は、上下に盲穴を有する表面素子より、曲げ剛
性、即ち曲げ運動に対する表面慣性に大きく影響する。
比ｈ／ｂ（穴の高さｈを各辺の側厚を含んだ穴の幅ｂで
割った）は、細長い盲穴の構造形状を定める指針とな
る。支持板の構造の外のり寸法を考慮すると、約１．２
から１．５の比が最適である。従って、９インチフォト
マスク用の支持板では、細長い盲穴の高さを約６６ｍ
ｍ、幅を約５０ｍｍとすべきである。
明の実施例と図４（ａ）及び図４（ｂ）の公知実施例の
間の主な相違は、公知の矩形板４の長辺１ｓの側縁部ｓ
ｅに用意されていたポケット状凹部１１″が、矩形板４
の前部縁ｆｅに設けられた、板の面内に延びる細長い盲
穴１２ａ及び１２ｂで置き換えられていることである。
前部縁の細長い盲穴１２ａ及び１２ｂは好ましくは、箱
形又は平行六面体、即ち実質断面が矩形の形状の、壁厚
の小さい穴である。剛性を改善し、且つ振動周波数を増
大するため、細長い盲穴１２ａ及び１２ｂが延びるそれ
ぞれの長辺１ｓ上の側縁領域に、強化リブ１３ａ及び１
３ｂが設けられている。これ等の強化リブは、図３
（ｃ）に図示のローレンツモーターによっても影響がも
たらされる重力中心に影響すべく、図示のように偏心し
て設けるのが望ましい。細長い盲穴１２ａ及び１２ｂの
好ましい断面を図２（ａ）及び図２（ｂ）に示す。図２
（ａ）は、重量が６７％節約される理想化した構造を示
す。径が異なるドリルで穴あけした実際の構造は図２
（ｂ）に示され、重量を６３％節約する。これ等の細長
い穴の最小壁厚ｄは、ポケット状凹部の壁厚と同様、穴
と穴の理想境界からの穴あけのばらつきも考慮して、４
から５ｍｍの範囲内にすべきである。盲穴を横向きにし
た構造は、上下に盲穴を有する表面素子より、曲げ剛
性、即ち曲げ運動に対する表面慣性に大きく影響する。
比ｈ／ｂ（穴の高さｈを各辺の側厚を含んだ穴の幅ｂで
割った）は、細長い盲穴の構造形状を定める指針とな
る。支持板の構造の外のり寸法を考慮すると、約１．２
から１．５の比が最適である。従って、９インチフォト
マスク用の支持板では、細長い盲穴の高さを約６６ｍ
ｍ、幅を約５０ｍｍとすべきである。
【００３３】箱形形状の凹部を横断的に配置することも
考えられる。しかし、剛性と重量節約に関し、この変更
例は三角形のポケット状凹部を用いる従来実施例と比
べ、何等利するところが無いことが実験で示されてい
た。
考えられる。しかし、剛性と重量節約に関し、この変更
例は三角形のポケット状凹部を用いる従来実施例と比
べ、何等利するところが無いことが実験で示されてい
た。
【００３４】図２（ｂ）は、壁厚が薄い箱形形状の細長
い盲穴１２ａ又は１２ｂがもたらすその他の利点をも示
している。細長い穴のコーナーエッジの近傍で多重穴あ
けすると、移行半径の大きい実質曲面が生じることは明
かである。そのため、外部負荷が加えられると鋭角や肩
部に生じる応力集中を回避した支持板が得られる。
い盲穴１２ａ又は１２ｂがもたらすその他の利点をも示
している。細長い穴のコーナーエッジの近傍で多重穴あ
けすると、移行半径の大きい実質曲面が生じることは明
かである。そのため、外部負荷が加えられると鋭角や肩
部に生じる応力集中を回避した支持板が得られる。
【００３５】長辺面に、図示されていない干渉計ミラー
を設けると、更に他の利点が得られる。干渉計ミラーの
長さは、支持板の長さのみで制限される。９インチフォ
トマスクの場合には、ミラー長は５５６ｍｍであり、両
側の加工公差は約２ｍｍであるので、必要な長さは５６
０ｍｍとなる。図４（ａ）及び図４（ｂ）の公知の支持
板では、長軸に沿った種々の剛性が発生する。何故な
ら、両側に沿った凹部１１および１１′のために、これ
ら凹部の近傍において剛性の低下が生ずるからである。
側面が必要な研磨を受ける間、剛性が低下したこの部分
は、剛性の高い部分より弾性変形が大きくなる。負荷が
解放されると、これは弾性跳ね返りを、従って軸線に沿
って振動を惹起する。しかし、図１（ａ）に示すよう
に、本発明により横向きに閉じた箱形形状の穴を設けた
ものでは、長手軸線に沿う、また同様にｚ−座標（軸）
に沿う剛性が一定で、従って研磨工程の後の弾性跳ね返
りも一定となる。こうして、本発明による構造の場合に
は、従来技術とは対照的に、振動は発生しない。
を設けると、更に他の利点が得られる。干渉計ミラーの
長さは、支持板の長さのみで制限される。９インチフォ
トマスクの場合には、ミラー長は５５６ｍｍであり、両
側の加工公差は約２ｍｍであるので、必要な長さは５６
０ｍｍとなる。図４（ａ）及び図４（ｂ）の公知の支持
板では、長軸に沿った種々の剛性が発生する。何故な
ら、両側に沿った凹部１１および１１′のために、これ
ら凹部の近傍において剛性の低下が生ずるからである。
側面が必要な研磨を受ける間、剛性が低下したこの部分
は、剛性の高い部分より弾性変形が大きくなる。負荷が
解放されると、これは弾性跳ね返りを、従って軸線に沿
って振動を惹起する。しかし、図１（ａ）に示すよう
に、本発明により横向きに閉じた箱形形状の穴を設けた
ものでは、長手軸線に沿う、また同様にｚ−座標（軸）
に沿う剛性が一定で、従って研磨工程の後の弾性跳ね返
りも一定となる。こうして、本発明による構造の場合に
は、従来技術とは対照的に、振動は発生しない。
【００３６】以上、マイクロチップ製造装置のフォトマ
スク支持板に具現される本発明を例示、記載したが、本
発明の精神を逸脱せずに種々の修正及び変更をなし得る
ので、示された詳細は発明をそれに限定しようと意図す
るものではない。要するに、以上の記載は本発明の要旨
を、従来技術の見地から本発明の一般的な又は特定の諸
相の本質的特性を相当に構成する特徴を省くことなく、
現在の知識を適用して種々の応用にそれを容易に適応し
得る程度まで、完全に明示する。請求する対象は新規で
あり、それを本書の始めに設けた請求の範囲に記載す
る。
スク支持板に具現される本発明を例示、記載したが、本
発明の精神を逸脱せずに種々の修正及び変更をなし得る
ので、示された詳細は発明をそれに限定しようと意図す
るものではない。要するに、以上の記載は本発明の要旨
を、従来技術の見地から本発明の一般的な又は特定の諸
相の本質的特性を相当に構成する特徴を省くことなく、
現在の知識を適用して種々の応用にそれを容易に適応し
得る程度まで、完全に明示する。請求する対象は新規で
あり、それを本書の始めに設けた請求の範囲に記載す
る。
【図１】（ａ）本発明によるフォトマスク保持用支持板
の斜視図である。 （ｂ）図１（ａ）に図示の支持板の底部側を下から見た
斜視図である。
の斜視図である。 （ｂ）図１（ａ）に図示の支持板の底部側を下から見た
斜視図である。
【図２】（ａ）本発明による支持板に設けられる細長い
穴の好ましい実施例の理想的に模式化した断面図であ
る。 （ｂ）複式ボール（穴あけ）工程により形成された、図
１（ａ）の細長い穴の実際の断面図である。
穴の好ましい実施例の理想的に模式化した断面図であ
る。 （ｂ）複式ボール（穴あけ）工程により形成された、図
１（ａ）の細長い穴の実際の断面図である。
【図３】（ａ）マイクロチップを製造する公知の装置の
全体を示すが模式的側面図である。 （ｂ）フォトマスクを保持する、従来の支持板の平面図
である。 （ｃ）フォトマスクを保持する、従来の支持板の、図３
（ｂ）中、切断線Ａ−Ｂに沿って切られた側断面図であ
る。
全体を示すが模式的側面図である。 （ｂ）フォトマスクを保持する、従来の支持板の平面図
である。 （ｃ）フォトマスクを保持する、従来の支持板の、図３
（ｂ）中、切断線Ａ−Ｂに沿って切られた側断面図であ
る。
【図４】（ａ）従来のフォトマスク用支持板の頭部側の
斜視図である。 （ｂ）図４（ａ）に示された公知の支持板の底部側の斜
視図である。
斜視図である。 （ｂ）図４（ａ）に示された公知の支持板の底部側の斜
視図である。
１…光ビーム、２ａ…ミラー面、３…フォトマスク、４
…矩形板、５…レンズ系、６…ウェーハ、７…ウェーハ
板、８…円形レセプタクル、９ａ，９ｂ，９ｃ…凹部、
１０…支持板、１１，１１’…ポケット（盲穴）、１
１”…ポケット（盲穴）又はポケット状凹部、１２ａ，
１２ｂ…細長い盲穴、１３ａ，１３ｂ…強化リブ、ｌｓ
…長辺、ｓｅ…側縁部（領域）、ｆｅ…前縁（フロント
エッジ）。
…矩形板、５…レンズ系、６…ウェーハ、７…ウェーハ
板、８…円形レセプタクル、９ａ，９ｂ，９ｃ…凹部、
１０…支持板、１１，１１’…ポケット（盲穴）、１
１”…ポケット（盲穴）又はポケット状凹部、１２ａ，
１２ｂ…細長い盲穴、１３ａ，１３ｂ…強化リブ、ｌｓ
…長辺、ｓｅ…側縁部（領域）、ｆｅ…前縁（フロント
エッジ）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウルフ シュニーリング ドイツ連邦共和国、デェー 55271 シ ュタデッケン、アウフ デア ザントカ ウト 15 (72)発明者 コンラッド クナップ ドイツ連邦共和国、デェー 55126 マ インツ、マイグレッケンヴェーク 17 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 H01L 31/02
Claims (6)
- 【請求項１】 ガラス又はガラス−セラミック材料から
成る矩形板（４）で構成される、マイクロチップ製作装
置のフォトマスク（３）を支持する支持板（１０）であ
って、 上記矩形板（４）は、頭部側と底部側と両長辺（ｌｅ）
を有し、フォトマスク（３）を受容し、マイクロチップ
製作装置の動作中に上記フォトマスク（３）を正確に位
置付けるレセプタクル（８）を備えると共に、上記矩形
板（４）には重量を減じ、且つ矩形板を補強するため、
上記頭部側及び／又は底部側に複数の凹部 （１１、１
１’、１１”）が設けられ、 上記凹部は矩形板（４）の前縁（ｆｅ）に設けられた細
長盲穴（１２ａ、１２ｂ）を含み、該盲穴は矩形板
（４）の両長辺（ｌｅ）に沿って、それぞれの側縁部
（ｓｅ）に位置し、且つ上記矩形を通る面内に延びるよ
うに構成された支持板。 - 【請求項２】 前記細長盲穴（１２ａ、１２ｂ）の各々
を、長方形平行六面体の形状とする構成の請求項１に記
載の支持板。 - 【請求項３】 前記細長盲穴（１２ａ、１２ｂ）の各々
は、断面が実質的に長方形で、壁厚の小さい開口とする
構成の請求項２に記載の支持板。 - 【請求項４】 更に、矩形板と一体になったモーターを
具備する構成の請求項１に記載の支持板。 - 【請求項５】 更に、前記細長穴（１２ａ、１２ｂ）が
延びる前記側縁部（ｓｅ）に配置された補強リブ（１３
ａ、１３ｂ）を具備する構成の請求項１に記載の支持
板。 - 【請求項６】 前記補強リブ（１３ａ、１３ｂ）は前記
矩形板に偏心して配置される構成の請求項５に記載の支
持板。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19756486.0 | 1997-12-18 | ||
| DE19756486A DE19756486C1 (de) | 1997-12-18 | 1997-12-18 | Trägertisch für eine Photomaske in einer Vorrichtung zur Mikrochip-Herstellung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11260719A JPH11260719A (ja) | 1999-09-24 |
| JP3000361B2 true JP3000361B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=7852507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10358495A Expired - Lifetime JP3000361B2 (ja) | 1997-12-18 | 1998-12-17 | マイクロチップ製作装置のフォトマスク支持板 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5999254A (ja) |
| JP (1) | JP3000361B2 (ja) |
| DE (1) | DE19756486C1 (ja) |
| NL (1) | NL1010753C2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100648355B1 (ko) | 1999-07-22 | 2006-11-23 | 코닝 인코포레이티드 | 극 자외선 소프트 엑스-선 투사 리소그라피 방법 시스템및 리소그라피 부재 |
| DE19949008C2 (de) * | 1999-10-11 | 2003-12-11 | Leica Microsystems | Vorrichtung und Verfahren zum Laden von Substraten verschiedener Größe in Substrathalter |
| US6542224B2 (en) * | 2000-10-13 | 2003-04-01 | Corning Incorporated | Silica-based light-weight EUV lithography stages |
| US6764619B2 (en) * | 2001-02-13 | 2004-07-20 | Corning Incorporated | Solid freeform fabrication of lightweight lithography stage |
| US6988377B2 (en) * | 2001-11-27 | 2006-01-24 | Corning Incorporated | Method for making extreme ultraviolet lithography structures |
| US6997015B2 (en) * | 2001-11-27 | 2006-02-14 | Corning Incorporated | EUV lithography glass structures formed by extrusion consolidation process |
| US7196775B2 (en) * | 2004-08-23 | 2007-03-27 | Asml Holding N.V. | Patterned mask holding device and method using two holding systems |
| US7632609B2 (en) | 2005-10-24 | 2009-12-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Fabrication method of photomask-blank |
| JP4204611B2 (ja) * | 2006-09-25 | 2009-01-07 | 信越化学工業株式会社 | フォトマスクブランクの製造方法 |
| DE102007000991B4 (de) * | 2007-11-15 | 2010-07-15 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Vorrichtung zur Positionsmessung mindestens einer Struktur auf einem Substrat |
| WO2015187184A1 (en) * | 2014-06-06 | 2015-12-10 | Newport Corporation | Optical rail system and method using quick-disconnect optical component mounts |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG43949A1 (en) * | 1987-09-30 | 1997-11-14 | Canon Kk | X-ray mask support and process for preparation thereof |
| DE8800272U1 (de) * | 1988-01-13 | 1988-02-25 | Convac GmbH, 7135 Wiernsheim | Träger für Fotomasken zur Herstellung von elektrischen intgegrierten Schaltungsbauelementen |
-
1997
- 1997-12-18 DE DE19756486A patent/DE19756486C1/de not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-12-08 NL NL1010753A patent/NL1010753C2/nl not_active IP Right Cessation
- 1998-12-17 US US09/215,005 patent/US5999254A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-17 JP JP10358495A patent/JP3000361B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL1010753C2 (nl) | 1999-10-19 |
| JPH11260719A (ja) | 1999-09-24 |
| NL1010753A1 (nl) | 1999-06-21 |
| US5999254A (en) | 1999-12-07 |
| DE19756486C1 (de) | 1999-04-22 |
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