NL1011297C2 - Dragertafel voor een fotomasker in een inrichting voor microchipvervaardiging. - Google Patents

Dragertafel voor een fotomasker in een inrichting voor microchipvervaardiging. Download PDF

Info

Publication number
NL1011297C2
NL1011297C2 NL1011297A NL1011297A NL1011297C2 NL 1011297 C2 NL1011297 C2 NL 1011297C2 NL 1011297 A NL1011297 A NL 1011297A NL 1011297 A NL1011297 A NL 1011297A NL 1011297 C2 NL1011297 C2 NL 1011297C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
carrier table
support
table according
carrier
material recesses
Prior art date
Application number
NL1011297A
Other languages
English (en)
Other versions
NL1011297A1 (nl
Inventor
Volker Seibert
Ulf Schniering
Konrad Knapp
Original Assignee
Schott Glas
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schott Glas filed Critical Schott Glas
Publication of NL1011297A1 publication Critical patent/NL1011297A1/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL1011297C2 publication Critical patent/NL1011297C2/nl

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

DRAGERTAFEL VOOR EEN FOTOMASKER IN EEN INRICHTING VOOR MICROCHIP-VERVAARDIGING
De uitvinding heeft betrekking op een dragertafel voor een foto-5 masker in een inrichting voor microchip-vervaardiging, met een recht-hoekplaat uit glas of glaskeramiek, die - in de operationeel bovenste plaatzijde een groot centraal gat voor de positie-nauwkeurige opneming van het fotomasker en tenminste drie steungaten voor het opnemen van hoogteverstellende actuatoren, waarvan 10 twee in het segment tussen één zijde van het centrale gat en de ene smalle rechthoekzijde, op afstand langs deze smalle zijde, en de derde in het midden, in het segment tussen de andere zijde van het centrale gat en de andere smalle zijde is aangebracht, alsmede - materiaaluitsparingen voor de gewichtsreductie en tegelijkertijd 15 voor de verhoging van de stijfheid van de dragertafel heeft.
Bij de vervaardiging van microchips worden overeenkomstig de stand van de techniek in figuur 3 I weergegeven inrichtingen gebruikt. Door een niet weergegeven lichtbron wordt monochromatisch licht 1 20 uitgezonden. De straling wordt door twee spiegelvlakken 2a en 2b naar een fotomasker 3 geleid, dat door een dragertafel 4 in een vooraf bepaalde positie is opgenomen, die uit een rechthoekplaat uit glas of glaskeramiek bestaat, die aan de hand van figuur 3 II nog nader wordt beschreven, aangezien deze de soort voor de uitvinding vormt.
25 Aansluitend worden de monochromatische lichtstralen door een lenzensysteem 5 gebundeld en beelden zij op een wafel 6, die door een wafeltafel 7 is opgenomen, de door het fotomasker 3 vooraf bepaalde geleiderbaanstructuren af, die in een later etsproces worden weg-geëtst. Op de wafel 6 als substraat wordt een veelheid gelijksoortige 30 geïntegreerde schakelingen gegenereerd, die na het testen van het functioneringsvermogen tot de halfgeleider-microchips worden afgezonderd.
Zoals figuur 3 II toont, wordt het fotomasker 3 in een cirkelrond centraal gat 8 opgenomen en in zijn positie door onderdruk gepositio-35 neerd. Overeenkomstig de stand van de techniek hebben de fotomaskers 3 kenmerkend een grootte van 6 inch (vierkante vorm met een kantlengte van circa 152 mm, dikte circa 9 mm). De grootte van het fotomasker staat in directe samenhang met de grootte van het centrale gat 8; want 1011297 2 in de hoeken moet de afstand a van het fotomasker 3 tot de binnenzijde van het centrale gat 8 tenminste 10 mm bedragen.
Uit DE 8.8ΟΟ.272 UI is het daarbij bekend om het fotomasker in een overeenkomstige centrische opening in een metallische drager vast 5 te houden. Door middel van een dergelijke drager is het mogelijk, de fotomaskers op eenvoudige wijze in het gat van de dragertafel gedefinieerd te leggen, met behulp van centreerpennen en een vergrendelings-inrichting vast te houden en door de centrische opening heen te bewerken. Daardoor is niet slechts een automatische toevoer van de fotomas-10 kers op de dragertafel, maar ook een automatische en eenvoudige hantering van de dragers met de fotomaskers tussen de afzonderlijke stations mogelijk. De drager heeft daarbij in de hoekgebieden driehoekvormige uitsparingen voor de gewichtsreductie zonder verslechtering van de stijfheid.
15 Tijdens het belichtingsproces van de wafel 6 worden door middel van bijbehorende aandrijvingen bewegingen van de dragertafel 4 voor het fotomasker 3 als ook van de wafeltafel 7 uitgevoerd. De dragertafel 4 voor het fotomasker voert daarbij uitsluitend bewegingen in de X-richting uit, terwijl de wafeltafel 7 in de X- en Y-richting wordt 20 bewogen.
Bij de uitvoering volgens de stand van de techniek liggen de versnellingswaarden bij de dragertafel voor het fotomasker 3 in de orde van grootte van 3 g (circa 30 m/sec2). Op grond van de versnel-lingsaraplituden ontstaan er twee fundamentele eisen aan de uitvoering 25 van de dragertafel 4 voor het fotomasker 3· Enerzijds moet een reduce-ring respectievelijk minimalisering van de bewogen massa's plaatsvinden, en anderzijds een verhoging van de dynamische stijfheden. Want door de versnellingsamplituden wordt het systeem tot eigenoscillaties bekrachtigd, die afbeeldingsfouten op de wafel tot gevolg hebben.
30 Tijdens het belichtingsproces van de wafel 6 worden de bewegingen van de dragertafel 4 voor het fotomasker 3 bewaakt en positie-afwij-kingen door stelelementen (actuatoren) gecompenseerd. Voor de Z-coördinaat zijn dit drie actuatoren, die in steungaten 9a, 9b en 9c van de dragertafel 4 zijn opgenomen. Voor de compensatie in de X-rich-,, 35 ting is een Lorentz-motor 10 voorzien, die aan een smalle kopzijde van de dragertafel 4 is bevestigd, en wel aan de zijde, waarop de steunga-j ten 9a en 9b voor twee Z-actuatoren zich bevinden.
. Een voor de grootte van de dragertafel voor het fotomasker maat- 1011297 3 gevende parameter is de noodzaak van het aanbrengen van een interfer-ometerspiegel op een van de lange zijvlakken (niet weergegeven). De spiegellengte bepaalt daarbij de afmeting van de lange zijde van de dragertafel.
5 Zou men onder deze specificatie bijvoorbeeld een dragertafel voor een fotomasker met de afmetingen 560 x ^0 x 66 mm uit één blok (bijvoorbeeld het glasmateriaal Zerodur®, met een dichtheid van 250 kg/m3) vervaardigen, minus de gaten voor het fotomasker en de Z-actuatoren, dan zou dit bij benadering overeenkomen met een totale massa van 30 10 kg. De eisen met betrekking tot de massa, om geschikte versnellings-waarden te bereiken, liggen echter in het gebied tussen 10 tot 14 kg.
Voor de gewichtsreducering worden daarom overeenkomstig de stand van de techniek zakken uit het massieve materiaal gefreesd. Een mogelijke uitvoering is in figuur 4 weergegeven. In deel I van figuur 4 is 15 het aanzicht van boven op de dragertafel 4 met het centrale gat 8 voor de opneming van het fotomasker 3 weergegeven, met een reeks zakken 11 en 11', die zakboringen voorstellen, die aan beide lange zijden van de dragertafel zijn aangebracht.
In deel II is het aanzicht van onder weergegeven, met zakken 11'' 20 in de vorm van zakboringen, die overeenkomstig stijfheidsgezichtspun-ten verdeeld zijn aangebracht. De vorm van de zakken kan rechthoekig, honingraatvormig of driehoekig zijn. Voor de verhoging van de stijfheid van de dragertafel voert men de zakken met achterfrezingen 11a uit, zoals in figuur 2 III te zien is. De bewerkingsrichting is daar-25 bij tot de dikterichting (analoog met de steungaten voor de Z-actuatoren) beperkt. Daarbij liggen de minimale wanddikten in de orde van grootte van 4 tot 5 mm. Geringere wanddikten kunnen op grond van de snijkrachten en onder inachtneming van het brosse materiaalgedrag van glas respectievelijk glaskeramiek met conventionele freesbewerkingen 30 niet worden gerealiseerd.
Met deze maatregelen kunnen dragertafels voor 6-inch-fotomaskers met een massa van circa 1*4 kg worden vervaardigd.
Voor het bedrijf is het nu van bijzonder belang, dat de dynamische stijfheid voldoende hoog is, opdat er tijdens het belichtingspro-35 ces geen storende oscillaties optreden. Fabrikanten van inrichtingen voor de microchipvervaardiging vereisen voor de buigoscillatie van het totale systeem een frequentie van tenminste 500 Hz.
De met de bekende constructie bereikbare buig-eigenfrequenties 1011297 4 liggen echter slechts in de orde van grootte van circa 450 Hz. Deze waarden hebben betrekking op een glazen blok zonder aanbouwdelen (Z-motor, Lorentz-motor) bij vrij-vrij-lagering. Bijzonder kritisch is daarbij het segment 4b tussen het centrale gat 8 en de smalle recht-5 hoekzijde, waarin de steungaten 9a, b voor twee actuatoren zijn uitge- | vormd, waaraan ook de Lorentz-motor 10 is bevestigd (figuur 3 II)· : Veranderingen van de zakgrootte in de beide randgebieden van de dragertafel voor het fotomasker tonen, dat een duidelijke verhoging z van de dynamische stijfheden niet mogelijk is. De buig-eigenfrequen- 10 ties lagen daarbij in het gebied tussen 700 ± 30 Hz. Vergelijkende experimentele oscillatie-onderzoekingen hebben daarbij getoond, dat een zeer goede correlatie van de berekende en gemeten grootheden is gegeven.
Een verandering van de positie van de zakken leidt, zoals onder-15 zoekingen hebben getoond, eveneens niet tot een noemenswaardige verhoging van de dynamische stijfheid.
De bekende constructieve maatregelen voor de gewichtsreductie en tegelijkertijd verstijving van de dragertafel voor een fotomasker beperken de afmetingen van de dragertafel, zodat overeenkomstig de 20 stand van de techniek slechts dragertafels voor een 6-inch-fotomasker mogelijk zijn.
Aan de uitvinding ligt de doelstelling ten grondslag, uitgaande van een dragertafel voor een fotomasker van de in het begin genoemde soort, de buig-stijfheid hiervan bij gelijktijdige massareducering te 25 verhogen.
Deze doelstelling wordt overeenkomstig de uitvinding bereikt doordat de materiaaluitsparingen in het segment van de rechthoekplaat, waarin de beide steungaten zijn uitgevormd, oppervlaktedekkend onder handhaving van vooraf bepaalde tussen-wanddikten zodanig zijn uitge-30 voerd en aangebracht, dat, uitgaande van het midden van de bijbehorende smalle rechthoekzijde, een V-vormige, de steungaten naar de rand van het centrale gat toe aan de binnenkant tangentieel rakende tussen-wanddikte-structuur met een middenbrug naar het centrale gat toe, is gegeven.
35 Door de maatregelen overeenkomstig de uitvinding is het in het bijzonder mogelijk een overeenkomstig grotere, buigstijve dragertafel voor een 9-inch-fotomasker te verschaffen, waarvan de massa in het vereiste gebied tussen 10 en 14 kg ligt, met een de fabrikant-specifi- 101129? r" "Ί 5 caties overtreffende buigstijfheid, uitgedrukt door een overeenkomstig hoge eigenfrequentie van de buigoscillatie. De dynamische stijfheid is daarbij, in het bijzonder door de verstijving in het kritische tafel-segment met de beide Z-actuatoren zo hoog, dat de oscillatie-5 gevoeligheid bij transiënte bekrachtiging zeer gereduceerd is.
Het 9-inch-fotomasker maakt het mogelijk, dat in een werkgang meer microchips tegelijkertijd op de wafel worden belicht, waardoor de productiviteit bij de vervaardiging van de microchips wordt verhoogd. De dragertafel is aan de andere kant echter dynamisch zo stijf, dat 10 hij met versnellingen van circa 5 g (circa 50 m/sec2) en groter bewogen kan worden, zonder dat de oscillatiegevoeligheid een bepaalde maat overschrijdt. Door deze hoge versnellingswaarden is de productiviteit bij de microchipvervaardiging eveneens verhoogd.
Voor de grootte van de stijfheid en de gewichtsreducering zijn 15 ook de materiaaluitsparingen in het randgebied van beide lange zijden van de dragertafel van bijzondere betekenis. Volgens een eerste uitvoeringsvorm van de uitvinding kan deze zodanig worden uitgevoerd, dat de materiaaluitsparingen in het randgebied van beide lange zijden van de rechthoekplaat als een reeks zakken, op een rij aangebracht langs 20 deze lange zijden, zijn aangebracht.
Een nog grotere materiaalreducering kan overeenkomstig een verdere uitvoering van de uitvinding worden bereikt, wanneer de materiaaluitsparingen in het randgebied van beide lange zijden van de rechthoekplaat als kopzijdige langsgaten, die zich in het plaatvlak uit-25 strekken, zijn uitgevoerd.
Een verder voordeel van deze uitvoering bestaat eruit dat de langsgaten met gestandaardiseerde vervaardigingswerkwijzen voor glas uitgevoerd kunnen worden, zodat van dure afzonderlijke werkwijzen afgezien kan worden.
30 Door de overeenkomstig de uitvinding uitgevoerde langsgaten, in het bijzonder dan, wanneer deze overeenkomstig een verdere, uitvoeringsvorm van de uitvinding als dunwandig gesloten kastprofiel zijn uitgevoerd, in samenhang met de gebruikelijke toepassing van drie-hoekstructuren bij de materiaaluitsparingen, bij verder onveranderde 35 afmetingen (lengte, breedte en hoogte) van de glas-dragertafel, kan overeenkomstig de uitvinding een significante reducering van het gewicht tot aan 10 kg en een duidelijke verhoging van de dynamische stijfheden worden bereikt. De dynamische eigenfrequentie van de glas- 101 1297 6 dragertafel zonder aanbouwdelen kan tot boven 500 Hz en de buigfre-quentie boven 850 Hz, telkens bij vrij-vrije lagering worden verhoogd,
Dragertafels van de bovengenoemde soort hebben een zogenaamde Lorentz-motor voor de X-component-beweging van de dragertafel. Over-5 eenkomstig een verdere uitvoering van de uitvinding is de motor in een segment aan een smalle zijde van de dragertafel geïntegreerd. Door deze maatregel wordt het zwaartepunt van het totale systeem naar het centrum toe verplaatst, dat wil zeggen de vrije buiglengte gereduceerd respectievelijk de buigfrequentie verhoogd.
10 Overeenkomstig een verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding zijn op de randgebieden van de bovenzijde van de dragertafel, waarin de langsgaten zijn aangebracht, dat wil zeggen in het bijzonder op de bovenzijden van de kastprofielen, verstijvingsribben aangebracht. Deze verstijvingsribben kunnen daarbij opgekleefd of bij fijngepolijste 15 vlakken door eenvoudige adhesie worden aangebracht. De grootte van de ribben richt zich naar de aanwezige plaatsomstandigheden. De aanbrenging van de verstijvingsribben heeft een gunstige uitwerking op de verhoging van de buigfrequentie.
Overeenkomstig een verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding zijn 20 de verstijvingsribben excentrisch op de hoogte van het zwaartepunt van het totale systeem aangebracht. Door deze maatregel kan een bijzonder hoge buigfrequentie worden bereikt.
Aan de hand van een in de tekeningen weergegeven uitvoeringsvoor-beeld wordt de uitvinding nader beschreven. Daarbij blijken ook verde-25 re uitvoeringen van de uitvinding.
Figuur 1 toont een voorkeursuitvoeringsvorm van de overeenkomstig de uitvinding uitgevoerde dragertafel voor een fotomasker met een bovenaanzicht op een eerste variant van de dragertafel overeenkomstig de perspectivische weergave in de deelfiguur I met de bijbehorende 30 vlakke weergave in aanzicht II, alsmede een bovenaanzicht op een twee-: de variant van de dragertafel met een perspectivische weergave in bovenaanzicht in figuurdeel III en een vlakke weergave in aanzicht IV,
Figuur 2 toont een voorkeursuitvoering van het profiel voor de langsgaten in de dragertafel, en wel in het aanzicht I als geïdeali-35 seerde holle structuur en in het aanzicht II als geboorde holle doorsnede, alsmede de aanbrenging van achtersnijdingen in de materiaaluit-sparingen in het figuurdeel III,
Figuur 3 toont een weergave van een bekende inrichting voor 1011297 7 microchip-vervaardiging, met een principiële weergave van de totale inrichting in de deeltekening I en een weergave van de daarbij toegepaste gebruikelijke dragertafel voor een fotoraasker in de deelfiguur II, en 5 Figuur 4 toont een bekende uitvoeringsvorm van roateriaal-uitspa- ringen in de boven- en onderzijde van de dragertafel.
Figuur 1 toont in de weergaven I en II een uitvoeringsvorm van de dragertafel 4 overeenkomstig de uitvinding voor een fotomasker 3 in een inrichting voor microchip-vervaardiging overeenkomstig de weergave 10 in figuur 3· De deelfiguur I toont daarbij een perspectivische weergave van een bovenaanzicht op de bovenzijde van de dragertafel overeenkomstig de weergave van de bekende dragertafel overeenkomstig figuur 4. De dragertafel 4 bestaat uit een rechthoekplaat uit glas of glas-keramiek met het centrale gat 8 voor de positie-nauwkeurige opneming 15 van het fotomasker 3· Verder zijn, zoals in figuur 4, de steungaten 9a tot en met 9c voor de opneming van de actuatoren in de Z-richting weergegeven.
In de dragertafel 4 zijn, vanuit de bovenzijde, zakvormige mate-riaaluitsparingen 11, 11', 11'' met achtersnijdingen 11a overeenkom-20 stig figuur 2, deel III aangebracht.
In het randgebied van beide lange zijden van de dragertafel 4 zijn de materiaaluitsparingen als een reeks vierkante zakboringen = zakken 11, 11', op een rij langs deze lange zijden aangebracht, uitgevoerd, terwijl de materiaaluitsparingen in de tafelsegmenten 4a en 4b 25 aan beide zijden van het centrale gat 8, waarin de steungaten 9a. 9b, 9c voor de (niet weergegeven) Z-actuatoren zich bevinden, als driehoekvormige zakken 11'' zijn uitgevoerd, die oppervlaktedekkend onder handhaving van minimaal noodzakelijke wanddikten tussen de zakken, zijn uitgevormd.
30 Van bijzondere betekenis is daarbij het segment 4b met de beide steungaten 9a, 9b voor de beide actuatoren, die door de beide gaten bijzonder kritisch met betrekking tot de uitvoering van laagfrequente buigoscillaties is.
Er is gebleken dat de buigfrequentie optimaal beïnvloed kan wor-35 den, wanneer de driehoekvormige zakken oppervlaktedekkend zodanig zijn aangebracht, dat, uitgaande van het midden van de bijbehorende smalle rechthoekzijde, een V-vormige, de steungaten 9a, 9b naar de rand van het centrale gat 8 toe aan de binnenkant tangentieel rakende tussen- 101 1297 8 wanddikte-s truc tuur 4c, 4c' met een middenbrug 4d naar het centrale gat 8 toe, is gegeven. Deze V-structuur 4c, 4c' van het materiaal dat is blijven staan met de middenbrug 4d is in de weergave volgens figuur 1 II gestippeld weergegeven. Men herkent ook duidelijk het tangentiële 5 verloop van deze materiaalbruggen langs de V-lijnen 4c, 4c'.
De uitvoering en verdeling van de zakvormige materiaaluitsparing 11'' is slechts bij wijze van voorbeeld gegeven. De raateriaal-uitspa-ringen kunnen ook andere configuraties respectievelijk een andere verdeling hebben, echter onder behoud van de V-structuur, waarbij het 10 gezichtspunt van de optimale verstijving op de voorgrond staat. Er zijn ook uitvoeringsvormen denkbaar, waarbij zakvormige materiaaluit-sparingen niet slechts op de bovenzijde zoals weergegeven, maar ook op de onderzijde van de rechthoekplaat uitgevormd kunnen zijn (niet weergegeven) .
15 In de figuurdelen 1 III en IV is een tweede variant voor de uit voering van de dragertafel 4 overeenkomstig de uitvinding weergegeven, die zich van de eerste variant volgens de figuurdelen I en II door de uitvoering van de materiaaluitsparingen in het randgebied van beide lange zijden van de rechthoekplaat van de dragertafel 4 onderscheidt. 20 Deze zijn bij de tweede variant niet als een reeks zakken, maar als kopzijdige langsgaten 12a en 12b, die zich in het plaatvlak uitstrekken, uitgevoerd. Deze langsgaten zijn overeenkomstig een uitvoeringsvorm van de uitvinding bij voorkeur als dunwandig, gesloten kastpro-fiel uitgevoerd, dat in figuur 2 in de delen I en II nader is weerge-25 geven, zoals later nog uiteengezet zal worden.
Met een dergelijke uitvoeringsvorm kan een bijzonder hoge materi-aalreducering bij hoge buigstijfheid worden bereikt.
Voor de verbetering van de stijfheid en de verhoging van de eigenfrequentie zijn op de randgebieden van de lange zijden van de 30 dragertafel 4, waarin de langsgaten 12a en 12b zijn aangebracht, ver-stijvingsribben 13a en 13b aangebracht. Bij voorkeur zijn deze verstij vingsribben, zoals weergegeven, op de hoogte van het zwaartepunt M2 van het totale systeem excentrisch aangebracht, zodat met de verplaatsing van het zwaartepunt van Ml (zonder motor) naar M2 met aange-35 flensde Lorentz-motor 10 rekening kan worden gehouden. Om deze zwaar-tepuntverplaatsing zo gering mogelijk te houden, is in het segment 4b een segment 4e aan de dragertafel 4 voorzien, dat de lengte van de lange zijden onbeïnvloed laat (wegens de noodzakelijke lengte van de 101 1297 9 interferometerspiegel), maar de Lorentz-motor 10 iets dichter naar het centrum toe brengt. Het segment 4e dient daarbij ook voor een verdere gewich ts reduceri ng.
Een voorkeursdoorsnede voor de langsgaten 12a en 12b is in figuur 5 2 weergegeven, waarbij de deeltekening I een geïdealiseerde holle structuur toont, met een gewichtsbesparing van 67%, en waarbij de deeltekening II een met boorinrichtingen van verschillende diameters geboorde holle doorsnede toont, met een gewichtsbesparing van 63%. De minimale wanddikte "d" moet bij de langsgaten, net zoals bij de zak-10 vormige materiaaluitsparingen, eveneens in de orde van grootte van 4 - 5 mm liggen, ook wegens mogelijke afwijkingen van de boorinrich-ting van de ideale lijn. Deze maten stellen een goed compromis tussen vervaardiging en gewichtsminimalisering voor. Voor een hoge buigstijf-heid, dat wil zeggen een hoog oppervlaktetraagheidsmoment ten opzichte 15 van buiging hebben de zijdelingse structuren een grotere invloed dan de beide vlakken boven en onder. Als richtlijn voor de constructie kan men het quotiënt h/b invoeren, dat informatie over het profiel van het langsgat geeft. Voor de constructie van de dragertafel blijkt dat onder inachtneming van de buitenste afmetingen een quotiënt van circa 20 1,2 - 1,5 optimaal is. Bij een dragertafel voor een 9-inch-fotomasker bedraagt de hoogte van het profiel circa 66 mm en de breedte 50 mm.
Denkbaar zou het ook zijn om kastprofielen dwars aan te brengen. Deze hebben echter, zoals onderzoekingen hebben getoond, in vergelijking tot driehoekzakken generlei voordelen met betrekking tot dynami-25 sche stijfheid en gewichtsbesparing.
Figuur 2, deeltekening II, toont ook een verder voordeel van het dunwandige gesloten kastprofiel 12a respectievelijk 12b. Er is te zien dat door de meervoudige gaten in het gebied van de kanten van het profiel grote overgangsradii ontstaan. Daardoor worden spanningspieken 30 in de dragertafel in het profielgebied vermeden, zoals deze bij scherpe kanten of vooruitspringende gedeelten bij externe belastingen op zichzelf optreden.
Een verder voordeel van de langsgat-variant volgens de figuurde-len 1, III en IV ontstaat bij de vervaardiging van de interferometer-35 spiegel (niet weergegeven) op een langs-zijvlak. De noodzakelijke lengte van de interferometerspiegel bepaalt tenslotte de lengte van de dragertafel, in het geval van een 9-inch-fotomasker bedraagt de spie-gellengte 556 mm plus een tolerantie voor de bewerking van 2 mm op 101 1297 10 beide zijden, zodat een noodzakelijke lengte van circa 560 mm ontstaat. Bij de zakstructuur van de bekende dragertafel volgens figuur 4, deeltekening I, dat wil zeggen door de materiaaluitsparing 11 en 11' langs de beide lange zijden, ontstaan langs de langsas verschil-5 lende stijfheden, want telkens in het gebied van de uitsparingen is de stijfheid verlaagd. Bij het noodzakelijke polijsten van de zijvlakken ondergaan de gebieden met geringere stijfheid hogere elastische vervormingen dan de gebieden met hogere stijfheid. Bij de ontlasting leidt dit tot een elastische terugvering en daarmee tot een golving j 10 langs de langsas. Bij het gesloten kastprofiel overeenkomstig de uit voeringsvorm volgens figuur 1, deeltekening II is echter met voordeel de stijfheid langs de langsas en eveneens in de richting van de z-coördinaat constant en daarmee ook de elastische terugvering na het polijstproces. Er treedt daardoor geen golving zoals in het bekende 15 geval op.
1 1 . 1011297

Claims (9)

1. Dragertafel (4) voor een fotomasker (3) in een inrichting voor 5 microchip-vervaardiging, met een rechthoekplaat uit glas of glaskera- miek, die - in de operationeel bovenste plaatzijde een groot centraal gat (8) voor de positie-nauwkeurige opneming van het fotomasker (3), en tenminste drie steungaten (9a, b, c) voor het opnemen van hoogteverstel-10 lende actuatoren, waarvan twee in het segment (4b) tussen één zijde van het centrale gat (8) en de ene smalle rechthoekzijde, op afstand langs deze smalle zijde, en de derde in het midden, in het segment (4a) tussen de andere zijde van het centrale gat (8) en de andere smalle zijde is aangebracht, alsmede 15. materiaaluitsparingen (11, 11', 11''; 12a, b) voor gewichtsreductie en tegelijkertijd voor verhoging van de stijfheid van de dragertafel heeft, met het kenmerk, dat de materiaaluitsparingen (11'') in het segment (4b) van de rechthoekplaat, waarin de beide steungaten (9a, b) zijn uitgevormd, oppervlaktedekkend onder handhaving van vooraf be-20 paalde tussen-wanddikten zodanig zijn uitgevoerd en aangebracht, dat, uitgaande van het midden van de bijbehorende smalle rechthoekzijde, een V-vormige, de steungaten naar de rand van het centrale gat (8) toe aan de binnenkant tangentieel rakende tussenwanddikte-structuur (4c, 4c') met een middenbrug (4d) naar het centrale gat (8) toe, is gege-25 ven.
2. Dragertafel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de materiaaluitsparingen in het randgebied van beide lange zijden van de rechthoekplaat als een reeks zakken (11, 11'), op een rij aangebracht langs de lange zijden, zijn uitgevoerd. 30
3· Dragertafel volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de materiaaluitsparingen in het randgebied van beide lange zijden van de rechthoekplaat als kopzijdige langsgaten (12a, b), die zich in het plaatvlak uitstrekken, zijn uitgevoerd.
4. Dragertafel volgens conclusie 3i met het kenmerk, dat de 35 langsgaten (12a, b) als dunwandig gesloten kastprofiel zijn uitgevoerd .
5. Dragertafel volgens een van de conclusies 1 tot en met 4, met een motor voor de X-component-beweging van de dragertafel, met het 101 1297 kenmerk. dat de motor in een segment (4e) aan een smalle zijde van de dragertafel (4) is geïntegreerd.
6. Dragertafel volgens een van de conclusies 3 tot en met 5. met het kenmerk, dat op de randgebieden van beide lange zijden van de 5 dragertafel, waarin de langsgaten (12a, 12b) zijn gevormd, verstij-vingsribben (13a, b) zijn aangebracht.
7. Dragertafel volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat de ver-stijvingsribben (13a, b) excentrisch op de hoogte van het zwaartepunt van het totale systeem zijn aangebracht.
8. Dragertafel volgens een van de conclusies 1 tot en met 7, met het kenmerk, dat alle materiaaluitsparingen op een dragertafelzijde zijn uitgevormd.
9· Dragertafel volgens een van de conclusies 1 tot en met 7. met het kenmerk, dat een deel van de materiaaluitsparingen op één zijde 15 van de dragertafel en het resterende deel op de andere zijde van de dragertafel zijn uitgevormd. ***** 1011297
NL1011297A 1998-02-13 1999-02-12 Dragertafel voor een fotomasker in een inrichting voor microchipvervaardiging. NL1011297C2 (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19805875A DE19805875C1 (de) 1998-02-13 1998-02-13 Trägertisch für eine Photomaske in einer Vorrichtung zur Mikrochip-Herstellung
DE19805875 1998-02-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL1011297A1 NL1011297A1 (nl) 1999-08-16
NL1011297C2 true NL1011297C2 (nl) 1999-09-08

Family

ID=7857586

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1011297A NL1011297C2 (nl) 1998-02-13 1999-02-12 Dragertafel voor een fotomasker in een inrichting voor microchipvervaardiging.

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE19805875C1 (nl)
NL (1) NL1011297C2 (nl)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4136363B2 (ja) 2001-11-29 2008-08-20 キヤノン株式会社 位置決め装置及びそれを用いた露光装置
EP1471388B1 (en) * 2003-04-22 2009-03-11 ASML Netherlands B.V. A carrier and method for making a carrier
DE602004019835D1 (de) 2003-04-22 2009-04-23 Asml Netherlands Bv Träger und Verfahren zur Herstellung eines Trägers

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4516253A (en) * 1983-03-15 1985-05-07 Micronix Partners Lithography system
DE8800272U1 (nl) * 1988-01-13 1988-02-25 Convac Gmbh, 7135 Wiernsheim, De

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL9100421A (nl) * 1991-03-08 1992-10-01 Asm Lithography Bv Ondersteuningsinrichting met een kantelbare objecttafel alsmede optisch lithografische inrichting voorzien van een dergelijke ondersteuningsinrichting.

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4516253A (en) * 1983-03-15 1985-05-07 Micronix Partners Lithography system
DE8800272U1 (nl) * 1988-01-13 1988-02-25 Convac Gmbh, 7135 Wiernsheim, De

Also Published As

Publication number Publication date
NL1011297A1 (nl) 1999-08-16
DE19805875C1 (de) 1999-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2983483B2 (ja) レーザーシステム支持構造体
NL1010753C2 (nl) Dragertafel voor een fotomasker in een inrichting voor microchip-vervaardiging.
JP4339849B2 (ja) ウェハ・スケール集積における三次元アライメントのための方法及びシステム
US6031598A (en) Extreme ultraviolet lithography machine
JP4454917B2 (ja) 多数の光学要素を有する光学システム
US7362417B2 (en) Pellicle frame and pellicle for photolithography using the same
PL198280B1 (pl) Wymienna wkładka skrawająca i narzędzie skrawające wyposażone w gniazdo z trzypunktowym podparciem zamocowanej w nim wkładki
JP4320002B2 (ja) リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
JP4903848B2 (ja) リソグラフィック装置及びデバイス製造方法
NL1011297C2 (nl) Dragertafel voor een fotomasker in een inrichting voor microchipvervaardiging.
NL1024199C1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het compenseren van oneffenheden in het oppervlak van een substraat.
NL2023187A (en) Pellicle frame and pellicle assembly
US7133120B2 (en) Lithographic apparatus, article support member, and method
EP1675176B1 (en) Method for measuring the bonding quality of bonded substrates and method of producing a device from a bonded substrate
KR100585467B1 (ko) 기판 캐리어 및 기판 캐리어 제조 방법
CN101515117A (zh) 具有带粘弹性阻尼层的夹盘的光刻设备
US6984474B2 (en) Reticle barrier system for extreme ultra-violet lithography
EP2339204A1 (en) Active mount, and method for tuning such active mount
KR101369588B1 (ko) 유리기판 인사이드 마킹 장치
US9052612B2 (en) Support structure, lithographic apparatus and method
JP4357048B2 (ja) 精密基板収納容器
JP2001143997A (ja) 位置決め装置、露光装置、及びデバイスの製造方法
KR20160100915A (ko) 척 어셈블리를 갖는 극자외선 리소그래피 시스템 및 그 제조 방법
KR100941762B1 (ko) 펠리클프레임 가공방법
JPH11245132A (ja) ダイシングマシン用治具

Legal Events

Date Code Title Description
SD Assignments of patents

Owner name: SCHOTT AG

Effective date: 20060612

V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20130901