CN114690476B - 显示面板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种显示面板及其制作方法，显示面板的制作方法，包括：提供基底；在基底上形成遮光层，遮光层具有多个开口，多个开口呈阵列分布；在部分多个开口中形成第一色阻层；在部分多个开口中形成第二色阻层，第二色阻层的材料包括染料材料；其中，在部分多个开口中形成第二色阻层的步骤包括调整形成第二色阻层的工艺参数，以改善对第一色阻层的染色。通过调整形成第二色阻层的工艺参数，以改善在形成第二色阻层时，对第一色阻层染色的问题，提高第一色阻层的穿透率，从而提高面板的穿透率。

Description

显示面板及其制作方法
【技术领域】
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制作方法。
【背景技术】
显示是把电信号(数据信息)转变为可视光(视觉信息)的过程，完成显示的界面即人机界面。平板显示器(Flat Panel Display，FPD)是目前最为流行的一种显示设备。而液晶显示面板(Liquid Crystal Display，LCD)是平板显示器中最早开发、最为流行的一类显示产品。
随着液晶显示面板产品的更迭，显示面板逐步向高分辨、高色域、高屏占比、轻薄、节能等方向发展。为了实现低功耗和高色域，采用染料和颜料混合(Hybrid)或者全染料(Dye)材料的彩膜光刻胶。然而，由于粒径1-3nm的染料小分子的加入，会影响面板的性能。
因此，现有技术存在缺陷，有待改进与发展。
【发明内容】
本发明提供一种显示面板及其制作方法，以改善形成色阻层的工艺过程，从而提高面板的穿透率。
为了解决上述问题，本发明提供了一种显示面板的制作方法，包括：提供基底；在基底上形成遮光层，遮光层具有多个开口，多个开口呈阵列分布；在部分多个开口中形成第一色阻层；
在部分多个开口中形成第二色阻层，第二色阻层的材料包括染料材料；其中，在部分多个开口中形成第二色阻层的步骤包括调整形成第二色阻层的工艺参数，以改善对第一色阻层的染色。
其中，形成第二色阻层的工艺参数包括清洗时间、预烘温度、预烘时间和/或显影时间。
其中，形成第二色阻层的工艺参数包括清洗时间，清洗时间的范围包括0-120s。
其中，形成第二色阻层的工艺参数包括预烘温度，预烘温度的范围包括40-200℃。
其中，形成第二色阻层的工艺参数包括预烘时间，预烘时间的范围包括30-200s。
其中，形成第二色阻层的工艺参数包括显影时间，显影时间的范围包括30-120s。
其中，第一色阻层为绿色色阻层，第二色阻层为蓝色色阻层。
其中，在部分多个开口中形成第一色阻层之前，还包括：
在部分多个开口中形成第三色阻层；
其中，第一色阻层的材料包括染料材料，在部分多个开口中形成第一色阻层的步骤包括调整形成第一色阻层的工艺参数，以改善对第三色阻层的染色。
为了解决上述问题，本发明提供了一种显示面板，包括：基底；位于基底上的遮光层，遮光层具有多个开口，多个开口呈阵列分布；位于部分多个开口中的第一色阻层；位于部分多个开口中的第二色阻层，第二色阻层的材料包括染料材料；其中，第二色阻层如上述任一项的显示面板的制作方法形成。
其中，显示面板，还包括：
位于部分多个开口中的第三色阻层；
其中，第一色阻层的材料包括染料材料，第一色阻层如上述任一项的显示面板的制作方法形成。
发明的有益效果是：区别于现有技术，本发明提供了一种显示面板及其制作方法，显示面板的制作方法，包括：提供基底；在基底上形成遮光层，遮光层具有多个开口，多个开口呈阵列分布；在部分多个开口中形成第一色阻层；在部分多个开口中形成第二色阻层，第二色阻层的材料包括染料材料；其中，在部分多个开口中形成第二色阻层的步骤包括调整形成第二色阻层的工艺参数，以改善对第一色阻层的染色。通过调整形成第二色阻层的工艺参数，以改善在形成第二色阻层时，对第一色阻层染色的问题，提高第一色阻层的穿透率，从而提高面板的穿透率。
【附图说明】
图1为本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程示意图；
图2a和2b分别为本发明实施例中提供的形成遮光层的俯视和主视结构示意图；
图3a和3b分别为本发明实施例中提供的形成第三色阻层的俯视和主视结构示意图；
图4a和4b分别为本发明实施例中提供的形成第一色阻层的俯视和主视结构示意图；
图5a和5b分别为本发明实施例中提供的形成第二色阻层的俯视和主视结构示意图；
图6为本发明实施例中提供的显示面板的结构示意图。
【具体实施方式】
下面结合附图和实施例，对本发明作进一步的详细描述。特别指出的是，以下实施例仅用于说明本发明，但不对本发明的范围进行限定。同样地，以下实施例仅为本发明的部分实施例而非全部实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
此外，本发明所提到的术语第一、第二、第三等可以在此用来描述各种元素，但这些元素不应该受限于这些术语。这些术语仅用来将这些元素彼此区分开。例如，在不脱离本申请范围的前提下，第一种可以被称为第二种，并且类似地，第二种可以被称为第一种。因此，使用的术语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在各个附图中，结构相似的单元采用相同的附图标记来表示。为了清楚起见，附图中的各个部分没有按比例绘制。此外，附图中可能未示出某些公知的部分。
另外，在各个附图中，结构相似的单元采用相同的附图标记来表示。当一个组件被描述为“连接至”另一组件时，二者可以理解为直接“连接”，或者一个组件通过一中间组件间接“连接至”另一个组件。
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图，对本发明进行进一步详细说明。
如图1所示，本发明提供了一种显示面板的制作方法，该显示面板的制作方法对照图2a至图5b的结构图，具体流程如下：
S101步骤：提供基底110。
S102步骤：在基底110上形成遮光层120，遮光层120具有多个开口121，多个开口121呈阵列分布。
此外，需要说明的是，图2a至图5b仅示出了与本发明实施例内容相关的结构，本发明的显示面板可以进一步包括用于实现该显示面板的完整功能的其它组件和/结构。
图2a和图2b显示S101步骤和S102步骤形成的结构，包括：基底110以及位于基底110上的遮光层120。其中，遮光层120具有多个开口121，多个开口121呈阵列分布。
具体地，基底110可以包括衬底或者包括衬底以及位于衬底上的一层或多层薄膜，不作特别的限制。其中，衬底可以为玻璃基板。其中，一层或多层的薄膜可以为导电薄膜和/或功能薄膜。在提供基底110之后，可以在基底110上涂布黑色矩阵材料，然后经过曝光和显影工艺等，在基底110上形成具有特定图案的黑色矩阵(BM)。其中，遮光层120可以为黑色矩阵，遮光层120具有多个开口121，多个开口121呈阵列分布。
一般情况下，遮光层120的作用可以是，遮蔽由于扫描线或数据线附近电场紊乱进而引起出射光不可控的漏光；防止像素之间的混色，提高显示图像的色纯度；防止外界光线照射到TFT沟道上具有光敏特性的半导体层材料(比如氢化非晶硅a-Si：H)，引起光生电流即TFT漏电极增加，导致TFT无法关闭影响显示性能。此外，在显示区边缘的遮光层120，还起到遮挡背光源光线的作用，并作为显示区与四周机械金属框的过渡区改善视觉效果。其中，遮光层120的材料可以是一种着色感光材料，一般包括分散剂和透明光阻，分散剂是炭黑色的，比如黑色的丙烯树脂，起着色和遮光的作用。当在遮光层120的材料中加入Cr、Ti等金属元素时，光胶密度(Optical Densty，OD)会增加，遮光性能提高。
S103步骤：在部分多个开口121中形成第一色阻层140。
其中，在S103步骤：在部分多个开口121中形成第一色阻层140之前，还包括：
在部分多个开口121中形成第三色阻层130；
其中，第一色阻层140的材料包括染料材料，在部分多个开口121中形成第一色阻层140的步骤包括调整形成第一色阻层140的工艺参数，以改善对第三色阻层130的染色。
图3a和图3b显示形成第三色阻层130的结构，包括：基底110、位于基底110上的遮光层120以及位于遮光层120的部分开口121中的第三色阻层130。
图4a和图4b显示S103步骤和形成的结构，包括：基底110、位于基底110上的遮光层120以及位于遮光层120的部分开口121中的第一色阻层140。
具体地，在遮光层120上涂布第一色阻材料，然后经过光刻工艺在遮光层120上形成第一色阻层140。其中，第一色阻层140位于遮光层120的部分开口121中。其中，第一色阻层140的作用是吸收自然光中的一部分光谱，仅透过与之匹配的单色色谱，形成混色中的基色。其中，第一色阻层140的材料可以包括溶剂、颜料、分散剂、单体、聚合物和光引发剂。随着液晶显示器产品的更迭，显示器逐步向高分辨、高色域、高屏占比、轻薄、节能等方向发展。为了实现低功耗和高色域，可以采用具有染料和颜料混合(Hybrid)或者全染料(Dye)材料形成的第一色阻层140。
S104步骤：在部分多个开口121中形成第二色阻层150，第二色阻层150的材料包括染料材料；其中，在部分多个开口121中形成第二色阻层150的步骤包括调整形成第二色阻层150的工艺参数，以改善对第一色阻层140的染色。
图5a和图5b显示S104步骤和形成的结构，包括：基底110、位于基底110上的遮光层120、位于遮光层120的部分开口121中的第一色阻层140和第二色阻层150。
具体地，在遮光层120上涂布第二色阻材料，然后经过光刻工艺在遮光层120上形成第二色阻层150。其中，第二色阻层150位于遮光层120的部分开口121中。其中，第二色阻层150的作用是吸收自然光中的一部分光谱，仅透过与之匹配的单色色谱，形成混色中的基色。一般情况下，第一色阻层140可以透过的光的颜色与第二色阻层150可以透过的光的颜色不同，通过形成第一色阻层140和第二色阻层150，形成混色中的两种基色。其中，第二色阻层150的材料可以包括溶剂、颜料、分散剂、单体、聚合物、光引发剂。此外，第二色阻层150的材料还可以包括染料(Dye)材料，以实现低功耗和高色域。
由上文可知，随着液晶显示器产品的更迭，显示器逐步向高分辨、高色域、高屏占比、轻薄、节能等方向发展。为了实现低功耗和高色域，可以采用具有染料和颜料混合(Hybrid)或者全染料(Dye)材料的第一色阻层140材料。然而，由于粒径1-3nm的染料小分子的加入，容易导致在后形成的第二色阻层150对在先形成的第一色阻层140之间相互染色的现象，从而影响第一色阻层140的穿透率，进而影响面板的穿透率。
基于此，通过本发明实施例的方法，调整形成第二色阻层150的工艺参数，以改善在形成第二色阻层150时，对第一色阻层140染色的问题，提高第一色阻层140的穿透率，从而提高面板的穿透率。综合可知，通过本发明实施例的方法，解决含Dye色阻染色性的问题，解决由染色性带来的色域及穿透率降低的问题，更好地满足面板显示行业的高色域及低功耗市场需求。
其中，第一色阻层140为绿色(G)色阻层，第二色阻层150为蓝色(B)色阻层。
具体地，由上文可知，由于粒径1-3nm的染料小分子的加入，容易导致在后形成的第二色阻层150对在先形成的第一色阻层140之间相互染色的现象，从而影响第一色阻层140的穿透率，进而影响面板的穿透率。以绿色色阻层为例，比如关于蓝色色阻层对绿色色阻层的染色问题，主要体现在形成蓝色色阻层的预烘工艺以及预烘前的过程。由于蓝色色阻层中Dye小分子在已经固化的绿色色阻层的表面扩散渗透，导致显影工艺后蓝色色阻层的Dye小分子在绿色色阻层表面残留，在经过Oven(硬烘烤，又称之为后烘)固化在绿色色阻层的表面，导致绿色色阻层的穿透率及色点的下降。
其中，以绿色色阻层为例，通过实验收集，分别针对含有Dye和不含有Dye的光阻材料(即形成色阻层的材料)，在形成蓝色(B)色阻层之前和之后绿色(G)色阻层的穿透率，收集的部分数据可以如下表1所示：
表1
由表1可知，相对于不含有Dye的B光阻，含有Dye的B光阻对绿色色阻层的穿透率影响较大，会明显降低绿色色阻层的穿透率。由上文可知，可以通过形成第一色阻层140和第二色阻层150，形成混色中的两种基色。一般情况下，基色包括红色、蓝色和绿色。其中，通过实验研究表明，尤其表现在高穿透率的绿色色阻层，在制备含Dye的B色阻的过程中，会导致G色阻穿透率及色点的下降。基于在后的含Dye的B色阻对绿色色阻层的穿透率影响较大，当第一色阻层140为绿色色阻层，第二色阻层150为蓝色色阻层时，通过形成蓝色色阻层的工艺参数，以改善在形成蓝色色阻层时，对绿色色阻层染色的问题，提高绿色色阻层的穿透率，从而提高面板的穿透率。
其中，形成第二色阻层150的工艺参数包括清洗时间、预烘温度、预烘时间和/或显影时间。
具体地，由上文可知，可以通过光刻工艺形成第二色阻层150。其中，通过光刻工艺形成第二色阻层150的过程可以包括：清洗、涂布、前烘、曝光、显影和后烘。可以调整形成第二色阻层150的过程中的工艺参数，以改善对第一色阻层140的染色。其中，形成第二色阻层150的工艺参数可以包括清洗时间、预烘温度、预烘时间和/或显影时间。
此外，需要说明的是，形成第二色阻层150的工艺参数还可以包括清洗、涂布、前烘、曝光、显影和后烘过程中的其它工艺参数，只要能实现调整形成第二色阻层150的过程中的工艺参数，以改善对第一色阻层140的染色即可，对于工艺参数不作特别的限定。
其中，形成第二色阻层150的工艺参数包括清洗时间，清洗时间的范围包括0-120s。
具体地，可以调整形成第二色阻层150过程中的清洗时间，清洗时间的范围包括0-120s。一般情况下，在进行涂布之前，需要将基板清洗干净，避免基板上的脏污影响薄膜涂布的均匀性或给薄膜造成污染。清洗工艺一般采用一些物理或者化学的方法，比如极紫外(EUV)清洗。其中，随着形成蓝色色阻层过程中清洗时间(比如EUV时间)增加，可以去除已固化色阻层(比如在先形成的绿色色阻层)表面的有机物等，降低已固化色阻层表面张力，从而降低Dye分子在已固化色阻表面的吸附，以改善在后形成的第二色阻层150对在先形成的第一色阻层140的染色问题，提高第一色阻层140的穿透率，从而提高面板的穿透率。
其中，以调整形成蓝色色阻层过程中的清洗时间为例，通过实验收集在形成蓝色色阻层之前和之后绿色色阻层的穿透率，收集的部分数据可以如下表2所示：
表2
其中，如表2可知，形成蓝色色阻层之后，绿色色阻层的穿透率下降。由表2可知，随着增加形成蓝色色阻层过程中清洗时间(即EUV时间)，绿色色阻层的穿透率差值(在形成蓝色色阻层后绿色色阻层的穿透率与形成蓝色色阻层前绿色色阻层的穿透率的差值)逐渐减小，对应地，绿色色阻层的穿透率降低幅度小。由此可知，通过调整形成第二色阻层150的工艺参数，可以改善在形成第二色阻层150时，对第一色阻层140染色的问题，提高第一色阻层140的穿透率，从而提高面板的穿透率。
其中，形成第二色阻层150的工艺参数包括预烘温度，预烘温度的范围包括40-200℃。
具体地，可以调整形成第二色阻层150过程中的预烘温度，预烘温度的范围包括40-200℃。其中，可以通过降低预烘(HP)温度，降低在形成第二色阻层150的过程中的Dye分子在已固化色阻层(比如在先形成的绿色色阻层)表面的扩散和渗透，从而降低Dye分子在已固化色阻表面的吸附，改善在后形成的第二色阻层150对在先形成的第一色阻层140的染色问题，提高第一色阻层140的穿透率，从而提高面板的穿透率。
其中，以调整第二色阻层150过程中的预烘温度为例，通过实验收集在形成蓝色色阻层之前和之后绿色色阻层的穿透率，收集的部分数据可以如下表3所示：
表3
其中，如表3可知，形成蓝色色阻层之后，绿色色阻层的穿透率下降。由表3可知，随着降低形成蓝色色阻层过程中预烘(HP)温度，绿色色阻层的穿透率差值(在形成蓝色色阻层后绿色色阻层的穿透率与形成蓝色色阻层前绿色色阻层的穿透率的差值)逐渐减小，对应地，绿色色阻层的穿透率降低幅度小。由此可知，通过调整形成第二色阻层150的工艺参数，可以改善在形成第二色阻层150时，对第一色阻层140染色的问题，提高第一色阻层140的穿透率，从而提高面板的穿透率。
其中，形成第二色阻层150的工艺参数包括预烘时间，预烘时间的范围包括30-200s。
具体地，可以调整形成第二色阻层150过程中的预烘时间，预烘时间的范围包括30-200s。可以通过降低预烘(HP)时间，降低在形成第二色阻层150的过程中的Dye分子在已固化色阻层(比如在先形成的绿色色阻层)表面的扩散和渗透，从而降低Dye分子在已固化色阻表面的吸附，改善在后形成的第二色阻层150对在先形成的第一色阻层140的染色问题，提高第一色阻层140的穿透率，从而提高面板的穿透率。
其中，以调整蓝色色阻层过程中的预烘时间为例，通过实验收集在形成蓝色色阻层之前和之后绿色色阻层的穿透率，收集的部分数据可以如下表4所示：
表4
其中，如表4可知，形成蓝色色阻层之后，绿色色阻层的穿透率下降。由表4可知，随着降低形成蓝色色阻层过程中预烘时间，绿色色阻层的穿透率差值(在形成蓝色色阻层后绿色色阻层的穿透率与形成蓝色色阻层前绿色色阻层的穿透率的差值)逐渐减小，对应地，绿色色阻层的穿透率降低幅度小。由此可知，通过调整形成第二色阻层150的工艺参数，可以改善在形成第二色阻层150时，对第一色阻层140染色的问题，提高第一色阻层140的穿透率，从而提高面板的穿透率。
其中，形成第二色阻层150的工艺参数包括显影时间，显影时间的范围包括30-120s。
具体地，可以调整形成第二色阻层150过程中的显影(Dev)时间，显影时间的范围包括30-120s。显影工艺是通过显影液与光阻发生化学反应的过程，其中，未被被曝光或被曝光的部分被去除。其中，可以通过增加显影时间，加强对于残留在已固化表面的Dye分子的显影，从而达到降低色阻层之间染色性的效果，以改善在后形成的第二色阻层150对在先形成的第一色阻层140的染色问题，提高第一色阻层140的穿透率，从而提高面板的穿透率。
其中，以调整绿色色阻层过程中的显影时间为例，通过实验收集在形成蓝色色阻层之前和之后绿色色阻层的穿透率和形成蓝色色阻层之后绿色色阻层的穿透率，收集的部分数据可以如下表5所示：
表5
其中，如表5可知，形成蓝色色阻层之后，绿色色阻层的穿透率下降。由表5可知，随着增加形成蓝色色阻层过程中显影时间，绿色色阻层的穿透率差值(在形成蓝色色阻层后绿色色阻层的穿透率与形成蓝色色阻层前绿色色阻层的穿透率的差值)逐渐减小，对应地，绿色色阻层的穿透率降低幅度小。由此可知，通过调整形成第二色阻层150的工艺参数，可以改善在形成第二色阻层150时，对第一色阻层140染色的问题，提高第一色阻层140的穿透率，从而提高面板的穿透率。
其中，在S103步骤：在部分多个开口121中形成第一色阻层140之前，还包括：
在部分多个开口121中形成第三色阻层130；
其中，第一色阻层140的材料包括染料材料，在部分多个开口121中形成第一色阻层140的步骤包括调整形成第一色阻层140的工艺参数，以改善对第三色阻层130的染色。
具体地，在S103步骤：在部分多个开口121中形成第一色阻层140之前，还可以在部分多个开口121中形成第三色阻层130，其中，第一色阻层140的材料包括染料材料，在部分多个开口121中形成第一色阻层140的步骤包括调整形成第一色阻层140的工艺参数，以改善对第三色阻层130的染色。可以通过调整形成第一色阻层140的工艺参数，以改善在形成第一色阻层140时，对第三色阻层130染色的问题，提高第三色阻层130的穿透率，从而提高面板的穿透率。
其中，形成第一色阻层140的工艺参数可以包括清洗时间、预烘温度、预烘时间和/或显影时间。
具体地，由上文可知，可以通过光刻工艺形成第一色阻层140。其中，通过光刻工艺形成第一色阻层140的过程可以包括：清洗、涂布、前烘、曝光、显影和后烘。可以调整形成第一色阻层140的过程中的工艺参数，以改善对第三色阻层130的染色。其中，形成第一色阻层140的工艺参数可以包括清洗时间、预烘温度、预烘时间和/或显影时间。其中，形成第一色阻层140的工艺参数包括清洗时间，清洗时间的范围包括0-120s。其中，形成第一色阻层140的工艺参数包括预烘温度，预烘温度的范围包括40-200℃。其中，形成第一色阻层140的工艺参数包括预烘时间，预烘时间的范围包括30-200s。其中，形成第一色阻层140的工艺参数包括显影时间，显影时间的范围包括30-120s。其中，第一色阻层140可以为绿色色阻层，第二色阻层150可以为蓝色色阻层，第三色阻层130为红色色阻层。
此外，需要说明的是，形成第一色阻层140的工艺参数还可以包括清洗、涂布、前烘、曝光、显影和后烘过程中的其它工艺参数，只要能实现调整形成第一色阻层140的过程中的工艺参数，以改善对第三色阻层130的染色即可，对于工艺参数不作特别的限定。
基于上述本发明实施例描述的显示面板的制作方法，本发明还提供了一种显示面板，如图6所示，包括：基底211；位于基底211上的遮光层212，遮光层212具有多个开口(未在图中示出)，多个开口呈阵列分布；位于部分多个开口中的第一色阻层214；位于部分多个开口中的第二色阻层215，第二色阻层215的材料包括染料材料；其中，第二色阻层215如上述任一项的显示面板的制作方法形成。
此外，需要说明的是，图6仅示出了与本发明实施例内容相关的结构，本发明的显示面板可以进一步包括用于实现该显示面板的完整功能的其它组件和/结构。
在本发明实施例中，通过如上述任一项的显示面板的制作方法形成第二色阻层215，可以改善在形成第二色阻层215时，对第一色阻层214染色的问题，提高第一色阻层214的穿透率，从而提高面板的穿透率。
其中，显示面板，还包括：
位于部分多个开口中的第三色阻层213；
其中，第一色阻层214的材料包括染料材料，第一色阻层214如上述任一项的显示面板的制作方法形成。
具体地，通过如上述任一项的显示面板的制作方法形成第一色阻层214，可以改善在形成第一色阻层214时，对第三色阻层214染色的问题，提高第三色阻层213的穿透率，从而进一步地提高面板的穿透率。
其中，显示面板还可以包括彩膜基板210、阵列基板220以及位于彩膜基板210与阵列基板220之间的液晶层230。其中，彩膜基板210可以包括基底211；位于基底211上的遮光层212，遮光层212具有多个开口，多个开口呈阵列分布；位于部分多个开口中的第一色阻层214；位于部分多个开口中的第二色阻层215；位于部分多个开口中的第三色阻层213。此外，除了色阻层位于彩膜基板210上的结构，第一色阻层214、第二色阻层215和第三色阻层213还可以位于阵列基板220。
其中，第三色阻层213可以为红色(R)色阻层，第一色阻层214可以为绿色(G)色阻层，第二色阻层215可以为蓝色(B)色阻层。
应当理解的是，本申请实施例的显示面板，以及形成显示面板的各个组成部分的结构和制作工艺可参考上述显示面板的制作方法实施例，此处不再赘述。
根据以上所述，本发明提供了一种显示面板及其制作方法，显示面板的制作方法，包括：提供基底；在基底上形成遮光层，遮光层具有多个开口，多个开口呈阵列分布；在部分多个开口中形成第一色阻层；在部分多个开口中形成第二色阻层，第二色阻层的材料包括染料材料；其中，在部分多个开口中形成第二色阻层的步骤包括调整形成第二色阻层的工艺参数，以改善对第一色阻层的染色。通过调整形成第二色阻层的工艺参数，以改善在形成第二色阻层时，对第一色阻层染色的问题，提高第一色阻层的穿透率，从而提高面板的穿透率。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供基底；
在所述基底上形成遮光层，所述遮光层具有多个开口，所述多个开口呈阵列分布；
在部分所述多个开口中形成第一色阻层；
在部分所述多个开口中形成第二色阻层，所述第二色阻层的材料包括染料材料；
其中，所述在部分所述多个开口中形成第二色阻层的步骤包括调整形成所述第二色阻层的工艺参数，以改善对所述第一色阻层的染色；
所述形成所述第二色阻层的工艺参数包括清洗时间、预烘温度、预烘时间和/或显影时间；
调整形成所述第二色阻层的工艺参数具体包括：增加清洗时间、降低预烘温度、降低预烘时间和增加显影时间。
2.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述形成所述第二色阻层的工艺参数包括清洗时间，所述清洗时间的范围包括0-120s。
3.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述形成所述第二色阻层的工艺参数包括预烘温度，所述预烘温度的范围包括40-200℃。
4.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述形成所述第二色阻层的工艺参数包括预烘时间，所述预烘时间的范围包括30-200s。
5.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述形成所述第二色阻层的工艺参数包括显影时间，所述显影时间的范围包括30-120s。
6.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一色阻层为绿色色阻层，所述第二色阻层为蓝色色阻层。
7.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在部分所述多个开口中形成第一色阻层之前，还包括：
在部分所述多个开口中形成第三色阻层；
其中，所述第一色阻层的材料包括染料材料，所述在部分所述多个开口中形成第一色阻层的步骤包括调整形成所述第一色阻层的工艺参数，以改善对所述第三色阻层的染色。
8.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板，包括：
基底；
位于所述基底上的遮光层，所述遮光层具有多个开口，所述多个开口呈阵列分布；
位于部分所述多个开口中的第一色阻层；
位于部分所述多个开口中的第二色阻层，所述第二色阻层的材料包括染料材料；
其中，所述第二色阻层如权利要求1至6任一项所述的显示面板的制作方法形成。
9.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板，还包括：
位于部分所述多个开口中的第三色阻层；
其中，所述第一色阻层的材料包括染料材料，所述第一色阻层如权利要求7所述的显示面板的制作方法形成。
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