CN114690464A - 显示面板及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制作方法，显示面板的制作方法包括获取目标白点规格。根据目标白点规格，获取第一目标厚度，所述第一目标厚度为栅极绝缘层的目标厚度。制备第一基板，第一基板包括具有第一目标厚度的栅极绝缘层。以第一基板、第二基板和液晶形成液晶盒。在本申请提供显示面板的制作方法中，可以通过调整栅极绝缘层的厚度，以此调整栅极绝缘层的光的透过率，从而调整显示面板的白点规格。

Description

显示面板及其制作方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法。

背景技术

液晶显示器基本上是由液晶显示面板(Liquid Crystal Panel)及背光模块(Black Light Module)所组成，背光模块所提供的光源经过液晶显示面板的控制后，形成影像。液晶显示面板含有彩色滤光片，背光模块产生的光线通过彩色滤光片的作用加以混色，呈现出所需要得色彩，理想的状态是使再现的色彩尽可能地接近于天然色彩，或者，根据需求目的或LCD设备使用环境的不同，对色彩的还原度的要求也不同，需要对色彩根据需要进行调节。

尤其重要的是白点调节，为了以定量的方式处理全部天然色彩，可以使用CIE-xy色度(或色品)图调整色彩的饱和度。人类眼睛所能见到的全部彩色都显示在CIE-xy色度图中。在设计彩色显示系统时，优化的白点是通过调节R、G和B各点的最大亮度值来得到与需求相匹配的白点，现有技术为通过调节彩色滤光片的红色色阻、绿色色阻与蓝色色阻的膜厚来实现，例如，增大绿色色阻的膜厚可以降低绿色色阻的透光率，从而减小绿色光线的最大亮度。但是通过调节各色阻膜厚来得到匹配白点的方法具有一定的局限性，如各色阻膜厚确定后，其亮度即无法更改；尤其当白点有特殊规格要求时，再通过调节各色阻的厚度来得到匹配白点方法可能会导致色阻层膜层断差过大，影响显示效果。而且符合一个规格需要的匹配白点需匹配的一套具有固定色阻膜厚的滤光片，使具有不同产品规格的液晶显示面板所使用的滤光片不具有共通性，会增大生产成本。

故，有必要提出一种新的技术方案，以解决上述技术问题。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板及其制作方法，用于调整白点的规格。

本申请实施例提供一种显示面板的制作方法，包括以下步骤：

获取目标白点规格；

根据所述目标白点规格，获取第一目标厚度，所述第一目标厚度为栅极绝缘层的目标厚度；

制备第一基板，所述第一基板包括具有所述第一目标厚度的所述栅极绝缘层；

以所述第一基板、第二基板和液晶形成液晶盒。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述根据所述目标白点规格，获取第一目标厚度，之前包括以下步骤：

建立白点规格与所述第一目标厚度一一对应的查找表，不同的所述白点规格对应不同的所述第一目标厚度。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述根据所述目标白点规格，获取第一目标厚度，包括以下步骤：

根据所述白点规格，在所述查找表中获取对应的所述第一目标厚度。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述查找表还包括第二目标厚度和总厚度，所述第二目标厚度为钝化层的目标厚度，所述总厚度为所述第一目标厚度和所述第二目标厚度之和；

一所述白点规格对应一所述第一目标厚度、一所述第二目标厚度和一所述总厚度，以形成一关联信息，其中，任意两个所述关联信息的所述总厚度相等。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述根据所述目标白点规格，获取第一目标厚度，包括以下步骤：

判断所述目标白点规格与所述查找表中的所述白点规格是否匹配；

若匹配，则根据匹配的所述白点规格获取所述第一目标厚度。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述根据所述目标白点规格，获取第一目标厚度，包括以下步骤：

判断所述目标白点规格与所述查找表中的所述白点规格是否匹配；

若不匹配，则获取与所述目标白点规格相邻的两个所述白点规格，根据所述相邻的两个所述白点规格，获取待验证的第一目标厚度和第二目标厚度；

验证所述待验证的第一目标厚度和第二目标厚度，若所述待验证的第一目标厚度和第二目标厚度对应于的白点规格与所述目标白点规格匹配，则生成新的关联信息并存储到所述查找表；

根据新的所述查找表获取所述第一目标厚度。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述制备第一基板，所述第一基板包括具有所述第一目标厚度的所述栅极绝缘层，之前还包括以下步骤：

根据所述第一目标厚度，设定第一形成时间，所述第一形成时间为形成所述栅极绝缘层的时间。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述制备第一基板，所述第一基板包括具有所述第一目标厚度的所述栅极绝缘层，之前还包括以下步骤：

根据所述目标白点规格，获取所述第二目标厚度；

根据所述第二目标厚度，设定第二形成时间，所述第二形成时间为形成所述钝化层的时间。

可选的，在本申请的一些实施例中，所述制备第一基板，所述第一基板包括具有所述第一目标厚度的所述栅极绝缘层，还包括以下步骤：

提供一衬底；

在所述衬底上形成栅极；

根据所述第一形成时间，在所述栅极上形成具有所述第一目标厚度的所述栅极绝缘层；

在所述栅极绝缘层上形成有源层；

在所述栅极绝缘层上形成层间介质层；

在所述层间介质层上形成源漏金属层，所述源漏金属层包括源极和漏极，所述源极和所述漏极分别与所述有源层电连接；

根据所述第二形成时间，在所述源漏金属层上形成具有第二目标厚度的所述钝化层。

相应的，本申请实施例还提供一种显示面板，所述显示面板由上述的显示面板的制作方法制成。

本申请实施例提供一种显示面板及其制作方法，显示面板的制作方法包括获取目标白点规格。根据目标白点规格，获取第一目标厚度，所述第一目标厚度为栅极绝缘层的目标厚度。制备第一基板，第一基板包括具有第一目标厚度的栅极绝缘层。以第一基板、第二基板和液晶形成液晶盒。在本申请实施例提供显示面板的制作方法中，通过调整栅极绝缘层的厚度，以此调整栅极绝缘层的光的透过率，从而调整显示面板的白点规格。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的显示面板的一种结构示意图；

图2为本申请实施例提供的第一基板的一种结构示意图；

图3为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第一种步骤流程图；

图4为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第二种步骤流程图；

图5为本申请实施例提供的光的透过率的随波长变化的曲线图。

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请作进一步地详细描述，请参照附图中的图式，其中相同的组件符号代表相同的组件，以下的说明是基于所示的本申请具体实施例，其不应被视为限制本申请未在此详述的其他具体实施例。本说明书所使用的词语“实施例”意指实例、示例或例证。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

本申请实施例提供一种显示面板及其制作方法。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。

请参考图1，图1为本申请实施例提供的显示面板的一种结构示意图。显示面板100包括相对设置的第一基板10、第二基板20以及设置在第一基板和第二基板20之间的液晶30。第一基板10、第二基板20和液晶30构成液晶盒，显示面板100还包括设置在第一基板10的侧边或者是第一基板10远离第二基板20的一面设置背光模组(图中未示出)。

需要说明的是，本申请实施例提供的第一基板10可以是驱动基板。第二基板20可以是彩膜基板。

下面通过具体实施例对本申请提供的显示面板的制作方法进行详细的阐述。

请结合图1、图2和图3，图2为本申请实施例提供的第一基板的结构示意图。图3为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第一种步骤流程图。显示面板的制作方法包括以下步骤：

步骤B101：获取目标白点规格。

在一些实施例中，获取客户所需的目标白点规格。

步骤B102：根据目标白点规格，获取第一目标厚度，所述第一目标厚度为栅极绝缘层103的目标厚度。

在一些实施例中，根据客户所需的目标白点规格，获取栅极绝缘层103的目标厚度。

步骤B103：制备第一基板10，第一基板10包括具有第一目标厚度的栅极绝缘层103。

在一些实施例中，在获取栅极绝缘层103的目标厚度后，制备第一基板10，其中，第一基板10包括具有第一目标厚度的栅极绝缘层103。

步骤B104：以第一基板10、第二基板20和液晶30形成液晶盒。

在一些实施例中，以第一基板10、第二基板20和液晶30形成液晶盒的步骤包括提供第二基板20，并对准第一基板10和第二基板20，然后在第一基板10和第二基板20之间设置液晶30，以此形成液晶盒。

在本申请实施例提供显示面板的制作方法中，通过调整栅极绝缘层103的厚度，以此调整栅极绝缘层30的光的透过率，从而调整显示面板100的白点规格。

请参考图4，图4为本申请实施例提供的显示面板的制作方法的第二种步骤流程图。显示面板的制作方法包括以下步骤：

步骤B201：获取目标白点规格。

在一些实施例中，获取客户所需的目标白点规格。

步骤B202：建立白点规格与第一目标厚度一一对应的查找表，不同的白点规格对应不同的第一目标厚度。

在一些实施例中，建立白点规格和第一目标厚度的对应函数，通过对应函数建立对应的查找表。例如，第一白点规格对应第一子目标厚度。第二子白点规格对应第二子目标厚度。

步骤B203：根据目标白点规格，在查找表中获取对应的第一目标厚度。

在一些实施例中，可将对应的查找表存储于计算机中，通过计算机介质进行快速搜索，从而获取与目标白点规格对应的第一目标厚度。

步骤B204：制备第一基板10，第一基板10包括具有第一目标厚度的栅极绝缘层103。

在一些实施例中，在获取栅极绝缘层103的目标厚度后，制备第一基板10，其中，第一基板10包括具有第一目标厚度的栅极绝缘层103。

步骤B205：以第一基板10、第二基板20和液晶30形成液晶盒。

在一些实施例中，以第一基板10、第二基板20和液晶30形成液晶盒的步骤包括提供第二基板20，并对准第一基板10和第二基板20，然后在第一基板10和第二基板20之间设置液晶30，以此形成液晶盒。

本申请实施例提供的显示面板的制作方法与图3中的显示面板的制作方法的区别在于，显示面板的制作方法还包括建立目标白点规格与第一目标厚度一一对应的查找表，并根据目标白点规格，在查找表中获取对应的第一目标厚度。本申请实施例建立目标白点规格与第一目标厚度对应的查找表，当需要不同的白点规格时，只需要在查找表内查找，便可快速得到对应的第一目标厚度。因此，建立查找表可以实现快速搜索，从而提高了制备第一基板10的效率。

在一些实施例中，查找表还包括第二目标厚度和总厚度。第二目标厚度为钝化层的目标厚度，总厚度为第一目标厚度和第二目标厚度之和。其中，一白点规格对应一第一目标厚度、一第二目标厚度和一总厚度，以形成一关联信息。任意两个关联信息的总厚度相等。由于钝化层107的厚度可以影响光的透过率，因此，将钝化层107的厚度与栅极绝缘层103的厚度形成关联信息，存储于查找表内，以方便搜寻。

在一些实施例中，根据目标白点规格，获取第一目标厚度包括判断目标白点规格与查找表中的白点规格是否匹配，若匹配，则根据匹配的白点规格获取第一目标厚度。在本申请实施例中，在对第一目标厚度进行查找的步骤之前，设置判断的步骤，该步骤大大的提高了制作的第一基板10与目标白点规格的精确度。

在一些实施例中，根据目标白点规格，获取第一目标厚度，包括判断目标白点规格与查找表中的白点规格是否匹配，若不匹配，则获取与目标白点规格相邻的两个白点规格，根据相邻的两个白点规格，获取待验证的第一目标厚度和第二目标厚度。然后，验证待验证的第一目标厚度和第二目标厚度，若待验证的第一目标厚度和第二目标厚度对应于的白点规格与目标白点规格匹配，则生成新的关联信息并存储到查找表。根据新的查找表获取第一目标厚度。在本申请实施例中，在对第一目标厚度进行查找的步骤之前，设置判断的步骤，该步骤大大的提高了制作的第一基板与目标白点规格的精确度。

在一些实施例中，制备第一基板10，第一基板10包括具有第一目标厚度的栅极绝缘层103，之前还包括根据第一目标厚度，设定第一形成时间，第一形成时间为形成栅极绝缘层103的时间。在本申请实施例中，通过调整栅极绝缘层103的第一形成时间，从而形成具有不同的目标厚度的栅极绝缘层103，也即，本申请实施例可以通过调整栅极绝缘层103的形成时间，形成具有不同目标厚度的栅极绝缘层103，进而形成不同的光的透过率的第一基板10。在本申请实施例提供显示面板的制作方法中，通过调整栅极绝缘层103的厚度，以此调整栅极绝缘层103的光的透过率，从而调整显示面板100的白点规格。

在一些实施例中，制备第一基板10，第一基板10包括具有第一目标厚度的栅极绝缘层103，之前还包括根据目标白点规格，获取第二目标厚度。根据第二目标厚度，设定第二形成时间，第二形成时间为形成钝化层107的时间。在本申请实施例中，通过调整钝化层107的第二形成时间，从而形成具有不同的目标厚度的钝化层107，也即，本申请实施例可以通过调整栅钝化层107的形成时间，形成具有不同目标厚度的钝化层107，进而形成不同的光的透过率的第一基板10。

请参考图2，制备第一基板10，第一基板10包括具有第一目标厚度的栅极绝缘层103包括以下步骤。

首先，提供一衬底101。

在一些实施例中，衬底101可以是玻璃衬底或者柔性衬底。在一些实施例中，衬底101上还可以包括依次层叠设置的第一柔性衬底层、二氧化硅层、第二柔性衬底层、缓冲层。其中，第二柔性衬底层和第一柔性衬底的材料相同，其可以包括PI(聚酰亚胺)、PET(聚二甲酸乙二醇酯)、PEN(聚萘二甲酸乙二醇脂)、PC(聚碳酸酯)、PES(聚醚砜)、PAR(含有聚芳酯的芳族氟甲苯)或PCO(多环烯烃)中的至少一种。缓冲层由含硅的氮化物、含硅的氧化物或含硅的氮氧化物中的一种或两种及以上的堆栈结构组成。

其次，在衬底101上形成栅极102。

在一些实施例中，首先在衬底101上沉积一层栅导电层。栅导电层可以采用钼(Mo)、铜(Cu)、铝(Al)、钛(Ti)和铬(Cr)中的单质或合金构成单一金属层或多层金属层。栅导电层也可以采用非反光材料，如导电金属氧化物(如ITO)或其他导电材料中的一种或多种组合。栅导电层的厚度根据需要可以是10nm～800nm，特别的可以是200nm。可以采用磁控溅射、反应溅射、热蒸镀、电子术蒸镀等技术将栅导电层形成在衬底101上。这里所说的反光，指的是透射率至少低于20％。然后，可以将栅导电层图形化形成栅极102。具体的，在栅导电层上旋涂光刻胶，然后进行光刻、去胶、清洗处理等操作，最终得到图形化的栅极102。

接下来，根据所述第一形成时间，在所述栅极上形成具有所述第一目标厚度的所述栅极绝缘层。

在一些实施例中，利用化学气相沉积技术，在第一形成时间内，在衬底101和栅极102上淀积一层栅极绝缘层103。栅极绝缘层的材料可采用氧化硅、氮化硅、高介电常数介质材料(如氧化铝、氧化铪、氧化锆等)以及有机介质材料中的一种或者多种组合。

需要说明的是，在本申请实施例中，栅极绝缘层103可以包括依次设置的第一子栅极绝缘层和第二子栅极绝缘层，其中，第一子栅极绝缘层和第二子栅极绝缘层的生长工艺不同。第一子栅极绝缘层通过化学气相沉积慢长形成，第二子栅极绝缘层通过化学气相沉积快长形成。由于两者之间生长时设置的生长参数不同，因此，其致密度也不相同。因此，在第一子栅极绝缘层和第二子栅极绝缘层的界面处的折射率不同，当光从下方照射时会发生干涉现象，因此，在波峰处的两束光可叠加增强，表现为光的相长，在波谷出的两束光可抵消，其表现为相消，从而导致了栅极绝缘层103的光透过率发生变化。

都应该理解的是，在本申请实施例中，生长参数包括加热温度，加热时间、腔室内的压力和制作栅极绝缘层的材料的浓度等。

接下来，在栅极绝缘层103上形成有源层104。

在一些实施例中，采用磁控溅射、反应溅射、原子层淀积或旋涂等方法在栅极绝缘层103上形成半导体材料层，然后对半导体材料层旋涂光刻胶，然后进行光刻、刻蚀，然后进行去胶、清洗处理，得到有源层104。有源层104包括掺杂区和沟道区，沟道区位于有源区的两侧。半导体材料层可以是氧化铟镓锌或者是非晶硅等半导体材料。

接下来，在栅极绝缘层103上形成层间介质层105。

在一些实施例中，采用等离子体化学气相沉积方法在栅极绝缘层103上沉积一层层间介质层105。层间介质层105的材料可采用氧化硅、氮化硅、高介电常数介质材料(如氧化铝、氧化铪、氧化锆等)以及有机介质材料中的一种或者多种组合。

接下来，在层间介质层105上形成源漏金属层106，源漏金属层106包括源极106a和漏极106b，源极106a和漏极106b分别与有源层104电连接。

在一些实施例中，采用磁控溅射、反应溅射、热蒸镀、电子术蒸镀等在层间介质层105上沉积电极导电层，电极导电层的材料可采用金属(如钼、铜、铝、钛、铬等)、导电金属氧化物(如ITO)或其他导电材料中的一种或多种组合。然后，通过刻蚀形成源极106a、漏极106b。

最后，根据第二形成时间，在源漏金属层106上形成具有第二目标厚度的钝化层107。

具体的，采用化学气相沉积方法在源漏金属层106上沉积一层钝化层107。钝化层107的材料可采用氧化硅、氮化硅、高介电常数介质材料(如氧化铝、氧化铪、氧化锆等)以及有机介质材料中的一种或者多种组合。

以下以一具体实施例方式对本申请实施例提供的显示面板的制作方法进行阐述。

首先，在第一形成时间内，在衬底101上形成栅极绝缘层103。其中，所述第一形成时间的取值范围为90秒至200秒，第一目标厚度介于250纳米至650纳米之间。然后，对栅极绝缘层103进行光的透过率测试，如图5所示，其中，横坐标为波长(λ)。纵坐标为光的透过率(T)。曲线a为本申请提供的具有第一目标厚度的栅极绝缘层103的光的透光率随波长的变化曲线。曲线b为现有技术的栅极绝缘层的光的透光率随波长的变化曲线。由图5可知，本申请实施例提供的具有第一目标厚度的栅极绝缘层的光的透过率与现有技术的栅极绝缘层的光的透过率不相同。

随后，在第二形成时间内，于栅极绝缘层103上形成钝化层107，第二形成时间的取值范围为15秒至45秒之间。钝化层107的厚度介于60纳米至250纳米之间。以此形成第一基板10。接下来，在第一基板10上设置第二基板20，并在第一基板10和第二基板20之间设置液晶30，以此形成液晶盒，显示面板的制作方法还包括在第一基板10的侧边或者是第一基板10远离第二基板20的一面设置背光模组，以此完成显示面板的制作过程。如表一所示，表一为本申请实施例提供的显示面板的目标白点规格和现有技术的一种显示面板的白点规格的对比。其中，x为白点的横坐标，y为白点纵坐标，Y为对应的白点的亮度。由表一可知，本申请实施例提供的一种显示面板和现有技术提供的一种显示面板的横坐标、纵坐标和白点的亮度均发生了变化。

表一：本申请实施例提供的一种显示面板的目标白点规格和现有技术的一种显示面板的白点规格的对比表

白点	x	y	Y
				现有技术的一种显示面板	0.287	0.284	6.58％
本申请的一种显示面板	0.423	0.516	5.83％

综上所述，虽然本申请已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

获取目标白点规格；

根据所述目标白点规格，获取第一目标厚度，所述第一目标厚度为栅极绝缘层的目标厚度；

制备第一基板，所述第一基板包括具有所述第一目标厚度的所述栅极绝缘层；

以所述第一基板、第二基板和液晶形成液晶盒。

2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述根据所述目标白点规格，获取第一目标厚度，之前包括以下步骤：

建立白点规格与所述第一目标厚度一一对应的查找表，不同的所述白点规格对应不同的所述第一目标厚度。

3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述根据所述目标白点规格，获取第一目标厚度，包括以下步骤：

根据所述白点规格，在所述查找表中获取对应的所述第一目标厚度。

4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述查找表还包括第二目标厚度和总厚度，所述第二目标厚度为钝化层的目标厚度，所述总厚度为所述第一目标厚度和所述第二目标厚度之和；

一所述白点规格对应一所述第一目标厚度、一所述第二目标厚度和一所述总厚度，以形成一关联信息，其中，任意两个所述关联信息的所述总厚度相等。

5.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述根据所述目标白点规格，获取第一目标厚度，包括以下步骤：

判断所述目标白点规格与所述查找表中的所述白点规格是否匹配；

若匹配，则根据匹配的所述白点规格获取所述第一目标厚度。

6.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述根据所述目标白点规格，获取第一目标厚度，包括以下步骤：

判断所述目标白点规格与所述查找表中的所述白点规格是否匹配；

若不匹配，则获取与所述目标白点规格相邻的两个所述白点规格，根据所述相邻的两个所述白点规格，获取待验证的第一目标厚度和第二目标厚度；

验证所述待验证的第一目标厚度和第二目标厚度，若所述待验证的第一目标厚度和第二目标厚度对应于的白点规格与所述目标白点规格匹配，则生成新的关联信息并存储到所述查找表；

根据新的所述查找表获取所述第一目标厚度。

7.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述制备第一基板，所述第一基板包括具有所述第一目标厚度的所述栅极绝缘层，之前还包括以下步骤：

根据所述第一目标厚度，设定第一形成时间，所述第一形成时间为形成所述栅极绝缘层的时间。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述制备第一基板，所述第一基板包括具有所述第一目标厚度的所述栅极绝缘层，之前还包括以下步骤：

根据所述目标白点规格，获取所述第二目标厚度；

根据所述第二目标厚度，设定第二形成时间，所述第二形成时间为形成所述钝化层的时间。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述制备第一基板，所述第一基板包括具有所述第一目标厚度的所述栅极绝缘层，还包括以下步骤：

提供一衬底；

在所述衬底上形成栅极；

根据所述第一形成时间，在所述栅极上形成具有所述第一目标厚度的所述栅极绝缘层；

在所述栅极绝缘层上形成有源层；

在所述栅极绝缘层上形成层间介质层；

在所述层间介质层上形成源漏金属层，所述源漏金属层包括源极和漏极，所述源极和所述漏极分别与所述有源层电连接；

根据所述第二形成时间，在所述源漏金属层上形成具有第二目标厚度的所述钝化层。

10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板由权利要求1至9任一项所述的显示面板的制作方法制成。

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