CN114643656A - 一种用于晶圆环切工艺的切割工作台 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用于晶圆环切工艺的切割工作台,包括底座,所述底座顶部设有框架,所述框架由工作台、晶圆和DD直驱电机组成,所述DD直驱电机安装于底座顶部,所述工作台传动连接于DD直驱电机顶部,所述工作台顶部开设有真空凹槽,所述晶圆设置于真空凹槽顶部,所述工作台四周分别固定连接有四个翻转气缸抱爪,所述DD直驱电机外侧套设有定位台面。本发明通过设置光源和透光孔,光源射出的定位光束能够辅助晶圆进行定位,工作台表面的真空凹槽内部形成负压,晶圆向下凹陷并将框架牢牢吸附于工作台上,以方便后续对晶圆进行切割,区别于传统的夹爪式固定,通过负压吸附的方式能够更快更好的对晶圆进行固定。
Description
技术领域
本发明涉及晶圆加工设备技术领域,具体涉及一种用于晶圆环切工艺的切割工作台。
背景技术
晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆。
现有的晶圆环切用工作台在使用时,大多都是通过夹爪对晶圆进行夹持定位,操作复杂,且易对晶圆造成损伤。
因此,发明一种用于晶圆环切工艺的切割工作台来解决上述问题很有必要。
发明内容
本发明的目的是提供一种用于晶圆环切工艺的切割工作台,以解决技术中现有的晶圆环切用工作台在使用时,大多都是通过夹爪对晶圆进行夹持定位,操作复杂,且易对晶圆造成损伤的问题。
为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种用于晶圆环切工艺的切割工作台,包括底座,所述底座顶部设有框架,所述框架由工作台、晶圆和DD直驱电机组成,所述DD直驱电机安装于底座顶部,所述工作台传动连接于DD直驱电机顶部,所述工作台顶部开设有真空凹槽,所述晶圆设置于真空凹槽顶部,所述工作台四周分别固定连接有四个翻转气缸抱爪,所述DD直驱电机外侧套设有定位台面,所述定位台面顶部安装有光源,所述工作台靠近晶圆的边缘开设有透光孔,所述透光孔与光源相匹配。
优选的,所述透光孔的数量设为四个,四个所述透光孔均与所述光源相匹配,光源射出的定位光束能够穿过透光孔,借助定位光束可对晶圆进行正确的位置摆放。
优选的,所述光源设置于定位台面顶部一角,四个所述透光孔环绕工作台中心均匀分布。
优选的,所述定位台面顶部设有清洗机构,所述清洗机构设置于所述光源一侧。
优选的,所述清洗机构由泵体、上喷嘴、第一下喷嘴和第二下喷嘴组成,所述上喷嘴、第一下喷嘴和第二下喷嘴均与泵体输出端固定连接。
优选的,所述第一下喷嘴数量设为两个,两个所述第一下喷嘴关于上喷嘴中线对称分布。
优选的,所述上喷嘴与透光孔相匹配,所述第一下喷嘴与光源相匹配,上喷嘴可对透光孔进行冲刷,第一下喷嘴能够对光源表面进行冲洗,第二下喷嘴能够吹去光源上多余的水。
优选的,所述定位台面底部四角均设置有调平结构,调平结构能够对定位台面进行调平。
在上述技术方案中,本发明提供的技术效果和优点:
1.通过设置光源和透光孔,光源射出的定位光束能够辅助晶圆进行定位,工作台表面的真空凹槽内部形成负压,晶圆向下凹陷并将框架牢牢吸附于工作台上,以方便后续对晶圆进行切割,区别于传统的夹爪式固定,通过负压吸附的方式能够更快更好的对晶圆进行固定;
2.通过调平结构对定位台面进行调平,使得光源和一个透光孔垂直对应,有利于后续晶圆位置的正确摆放,在对晶圆进行定位前,通过清洗机构喷射高压气体和水对透光孔和光源进行冲刷,去除透光孔内的异物和光源表面的遮挡物,以确保光源能够正常射出定位光束。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图;
图2为本发明的局部结构示意图;
图3为本发明框架的结构示意图;
图4为本发明清洗机构的结构示意图。
附图标记说明:
1、底座;2、框架;201、工作台;202、晶圆;203、DD直驱电机;204、透光孔;3、翻转气缸抱爪;4、定位台面;5、光源;6、清洗机构;601、泵体;602、上喷嘴;603、第一下喷嘴;604、第二下喷嘴。
具体实施方式
为了使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面将结合附图对本发明作进一步的详细介绍。
本发明提供了如图1-4所示的一种用于晶圆环切工艺的切割工作台,包括底座1,所述底座1顶部设有框架2,所述框架2由工作台201、晶圆202和DD直驱电机203组成,所述DD直驱电机203安装于底座1顶部,所述工作台201传动连接于DD直驱电机203顶部,所述工作台201顶部开设有真空凹槽,所述晶圆202设置于真空凹槽顶部,所述工作台201四周分别固定连接有四个翻转气缸抱爪3,所述DD直驱电机203外侧套设有定位台面4,所述定位台面4顶部安装有光源5,所述工作台201靠近晶圆202的边缘开设有透光孔204,所述透光孔204与光源5相匹配。
所述透光孔204的数量设为四个,四个所述透光孔204均与所述光源5相匹配。
所述光源5设置于定位台面4顶部一角,四个所述透光孔204环绕工作台201中心均匀分布。
所述定位台面4顶部设有清洗机构6,所述清洗机构6设置于所述光源5一侧。
所述清洗机构6由泵体601、上喷嘴602、第一下喷嘴603和第二下喷嘴604组成,所述上喷嘴602、第一下喷嘴603和第二下喷嘴604均与泵体601输出端固定连接。
所述第一下喷嘴603数量设为两个,两个所述第一下喷嘴603关于上喷嘴602中线对称分布。
所述上喷嘴602与透光孔204相匹配,所述第一下喷嘴603与光源5相匹配。
所述定位台面4底部四角均设置有调平结构。
本发明工作原理:
参照说明书附图1-4,在使用本装置时,首先将晶圆202放置于工作台201上,通过机械手对晶圆202和工作台201调同心,光源5向上射出一道定位光束,DD直驱电机203带动工作台201旋转,若定位光束无法顺利穿过4个透光孔204,则晶圆位置发生偏移,此时需对晶圆摆放位置进行调整,若定位光束能够依次穿过透光孔204,则晶圆位置摆放正确,工作台201表面的真空凹槽内部形成负压,晶圆202被牢牢吸附于工作台201上,翻转气缸抱爪3起到固定框架的作用;
参照说明书附图1-4,在使用本装置前,首先通过调平结构对定位台面4进行调平,使得光源5和一个透光孔204垂直对应,有利于后续晶圆位置的正确摆放,在对晶圆进行定位前,通过上喷嘴602喷射高压气体对透光孔204进行清理,同时第一下喷嘴603喷射高压水对光源5表面进行冲刷,再用第二下喷嘴604吹去光源5上多余的水,去除透光孔204内的异物和光源5表面的遮挡物,以确保光源5能够正常射出定位光束。
Claims (8)
1.一种用于晶圆环切工艺的切割工作台,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)顶部设有框架(2),所述框架(2)由工作台(201)、晶圆(202)和DD直驱电机(203)组成,所述DD直驱电机(203)安装于底座(1)顶部,所述工作台(201)传动连接于DD直驱电机(203)顶部,所述工作台(201)顶部开设有真空凹槽,所述晶圆(202)设置于真空凹槽顶部,所述工作台(201)四周分别固定连接有四个翻转气缸抱爪(3),所述DD直驱电机(203)外侧套设有定位台面(4),所述定位台面(4)顶部安装有光源(5),所述工作台(201)靠近晶圆(202)的边缘开设有透光孔(204),所述透光孔(204)与光源(5)相匹配。
2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆环切工艺的切割工作台,其特征在于:所述透光孔(204)的数量设为四个,四个所述透光孔(204)均与所述光源(5)相匹配。
3.根据权利要求1所述的一种用于晶圆环切工艺的切割工作台,其特征在于:所述光源(5)设置于定位台面(4)顶部一角,四个所述透光孔(204)环绕工作台(201)中心均匀分布。
4.根据权利要求1所述的一种用于晶圆环切工艺的切割工作台,其特征在于:所述定位台面(4)顶部设有清洗机构(6),所述清洗机构(6)设置于所述光源(5)一侧。
5.根据权利要求4所述的一种用于晶圆环切工艺的切割工作台,其特征在于:所述清洗机构(6)由泵体(601)、上喷嘴(602)、第一下喷嘴(603)和第二下喷嘴(604)组成,所述上喷嘴(602)、第一下喷嘴(603)和第二下喷嘴(604)均与泵体(601)输出端固定连接。
6.根据权利要求5所述的一种用于晶圆环切工艺的切割工作台,其特征在于:所述第一下喷嘴(603)数量设为两个,两个所述第一下喷嘴(603)关于上喷嘴(602)中线对称分布。
7.根据权利要求5所述的一种用于晶圆环切工艺的切割工作台,其特征在于:所述上喷嘴(602)与透光孔(204)相匹配,所述第一下喷嘴(603)与光源(5)相匹配。
8.根据权利要求1所述的一种用于晶圆环切工艺的切割工作台,其特征在于:所述定位台面(4)底部四角均设置有调平结构。
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