CN114621180B - 一种含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用 - Google Patents

一种含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用 Download PDF

Info

Publication number
CN114621180B
CN114621180B CN202210077188.4A CN202210077188A CN114621180B CN 114621180 B CN114621180 B CN 114621180B CN 202210077188 A CN202210077188 A CN 202210077188A CN 114621180 B CN114621180 B CN 114621180B
Authority
CN
China
Prior art keywords
compound
parts
solvent
reaction
molar ratio
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202210077188.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114621180A (zh
Inventor
赵榆霞
郭斌
张荻琴
黄星
施盟泉
张玉玺
张云龙
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Technical Institute of Physics and Chemistry of CAS
Original Assignee
Technical Institute of Physics and Chemistry of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Technical Institute of Physics and Chemistry of CAS filed Critical Technical Institute of Physics and Chemistry of CAS
Priority to CN202210077188.4A priority Critical patent/CN114621180B/zh
Publication of CN114621180A publication Critical patent/CN114621180A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114621180B publication Critical patent/CN114621180B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D333/30—Hetero atoms other than halogen
    • C07D333/34—Sulfur atoms
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

本发明公开一种含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用。该含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯单体无结晶趋势，粘度低，在基底树脂中具有较快的聚合速度和迁移速度，并且单体的合成方法简单、产率高、成本低、易实现量产。使用该单体的全息记录介质衍射效率大于80％，灵敏度大于0.1cm/mJ，Bragg选择角小于1°，可以实现400～650nm宽波段响应。使用本发明中所述单体可显著降低体系粘度，易于制备任意体积、任意形状的全息记录介质；且操作简单，成本低廉；所制备的全息记录介质性能稳定，在避光条件下可长期保存，曝光后可实现信息的高质量存储与再现，其在高密度光存储和全息光学元件领域具有很好的应用潜力。

Description

一种含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用
技术领域
本发明涉及光功能材料领域。更具体地，涉及一种含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用。
背景技术
随着科技的发展，全息技术正得到越来越多科研工作者的关注，其在裸眼全息显示、高密度数据存储、全息光学元件、全息防伪、全息传感、全息光刻、全息微操控和超快成像等领域都有着重要应用。卤化银乳胶、重铬酸盐明胶、光降解高分子材料、光导热塑料材料、光折变材料、光致聚合物材料、光致异构化材料和超表面材料是几种典型的全息记录材料。其中光致聚合物材料凭借其感光灵敏度高、分辨率高、制备简单、成本低、无需化学/热后处理等诸多优势被认为是未来全息记录材料的首选对象。
光致聚合物材料主要由基底树脂、可聚合单体/低聚物、引发剂、光敏染料等组成，当基底成膜树脂固化完成后，可聚合单体/低聚物、引发剂、光敏染料等组分均匀地分布在其中。这就要求单体、引发剂、光敏染料在基底树脂中具有良好的溶解度。对于引发剂、光敏染料等组分由于其用量较少，无论其为固体还是液体，都可以很好地溶于基底树脂。而可聚合单体/低聚物的用量较高，这就要求其可以很好地溶于基底树脂中。对于固态的可聚合单体/低聚物其在基底树脂中的溶解度较低，并且会显著增大预制剂的黏度，给后续的注样、涂布等操作带来不利影响。而液态可聚合单体/低聚物在基底树脂中溶解度较好，且黏度低，易于扩散和反应，有利于后续操作。
同时，考虑到光致聚合物材料实现全息记录的原理：在两束干涉激光的照射下，激光干涉产生相干亮区和相干暗区；相干亮区在光的作用下光敏体系产生活性物种从而引发单体聚合；而暗区单体几乎不发生或极少发生聚合反应，在浓度差的作用下暗区的单体开始向亮区迁移，同时基底树脂被挤压至相干暗区，最终使得相干亮区的折射率接近于聚合物的折射率，相干暗区的折射率接近于基底树脂的折射率，从而形成具有折射率差异的全息光栅。因此可聚合单体/低聚物与基底树脂须具有折射率差。
高折射率单体往往具有芳环、卤素、硫原子等特征原子或官能团，而噻吩基团同时兼具硫原子与芳环的特征，具有高摩尔折射率和低摩尔体积，将其引入可聚合单体/低聚物结构中，可以很好地提高单体折射率，从而提高材料的全息记录性能。
因此，研究一种具有高折射率的含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体，进而提供一种兼具灵敏度、衍射效率、曝光量和折射率等优良性质于一体的光致聚合物型全息记录材料。
发明内容
本发明的第一个目的在于提供一种含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体。该系列单体易溶于环氧或聚氨酯体系的基底树脂中，无结晶趋势，聚合速度快，迁移速度快，折射率较高。
本发明的第二个目的在于提供上述(甲基)丙烯酸酯类单体的制备方法。
本发明的第三个目的在于提供上述(甲基)丙烯酸酯类单体的制备方法。
本发明的第四个目的在于提供上述(甲基)丙烯酸酯类单体的制备方法。
本发明的第五个目的在于提供一种含有所述(甲基)丙烯酸酯类单体的光致聚合物型全息记录介质。该材料中以环氧树脂-胺为基底树脂，配合所述(甲基)丙烯酸酯类单体，可用于高密度全息光存储、全息光学元件等领域，展现出较高的衍射效率和灵敏度，以及较低的曝光量。
本发明的第六个目的在于提供一种含有所述(甲基)丙烯酸酯类单体的光致聚合物型全息记录介质。该材料以异氰酸酯-醇为基底树脂，配合所述(甲基)丙烯酸酯类单体，可用于高密度全息光存储、全息光学元件等领域，展现出较高的衍射效率和灵敏度，以及较低的曝光量。
为达到上述第一个目的，本发明采用下述技术方案：
本发明提供一种含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体，其结构通式如下任选之一所示：
Figure BDA0003484504560000031
其中，R1代表氢、C1～C10烷基、C1～C10烷氧基、C1～C10烷硫基、Br或
Figure BDA0003484504560000032
A1、A2、A3、A4、A5各自独立代表氢、C1～C10烷基、C1～C10烷硫基或C1～C10烷氧基，
Figure BDA0003484504560000033
表示取代基与主体结构的连接键，R2代表甲基或氢。上述C1～C10烷基包括直链烷基和带支链的烷基，C1～C10烷硫基包括直链烷硫基或带支链烷硫基，C1～C10烷氧基包括直链烷氧基或带支链烷氧基。
本发明提供的式G1、G2和G3化合物拥有噻吩结构，聚合速度快，迁移速度快，折射率较高，并且在基底树脂中溶解度较好，无结晶现象，粘度低，在基底树脂中具有较快的聚合速度和迁移速度；再加上该单体具有低的表面能，使其在光致聚合物型全息记录介质应用中，有利于增加基底树脂和丙烯酸酯类单体的折射率差异，得到灵敏度高，存储量大，可作为信息记录组分与环氧树脂-胺等基底树脂相混合制备得到全息记录介质。
进一步，所述(甲基)丙烯酸酯类单体选自以下之一所示：
Figure BDA0003484504560000034
Figure BDA0003484504560000041
为达到上述第二个目的，本发明采用下述技术方案：
本发明提供一种上述(甲基)丙烯酸酯类单体的制备方法：
当制备式G1化合物时，包括如下步骤：
S1、将化合物P1，2-溴乙醇和NaOH依次加入到溶剂中，加热至70～120℃反应5～10h，反应完成后用二氯甲烷萃取，合并的有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离得到化合物P2；
S2、然后在-5～5℃下向含有化合物P2和三乙胺的混合液中滴加含化合物M2的溶剂，反应0.5～1h，反应结束后滴加稀盐酸，依次用NaCl溶液，NaHCO3溶液和水洗涤，有机相经硫酸钠干燥后，旋蒸除去溶剂，柱层析分离得通式G1化合物；
其中，所述化合物P1、化合物P2、化合物M2的结构式如下所示：
Figure BDA0003484504560000042
R1代表氢、C1～C10烷基、C1～C10烷氧基、C1～C10烷硫基、Br或
Figure BDA0003484504560000043
A1、A2、A3、A4、A5各自独立代表氢、C1～C10烷基、C1～C10烷硫基或C1～C10烷氧基，R2代表甲基或氢。
进一步，所述化合物P1，2-溴乙醇和NaOH的摩尔比为1:1～2:2～4。
进一步，所述化合物P1，2-溴乙醇和NaOH的摩尔比为1:1.25～1.5:2.5～3.5。
进一步，步骤S1中所述反应温度为80～100℃，所述反应时间为6～7h。
进一步，所述化合物P2、化合物M2和三乙胺的摩尔比为1:1～2:1～3。
进一步，所述化合物P2、化合物M2和三乙胺的摩尔比为1:1～1.5:1～1.5。
进一步，步骤S1中的溶剂为本领域中常用溶剂，包括但不限于水，甲醇，乙醇，石油醚，二氯甲烷，三氯甲烷，乙酸乙酯，四氢呋喃，甲苯，乙腈，N，N-二甲基甲酰胺或二甲基亚砜中的一种或多种，步骤S2中的溶剂为本领域中常用溶剂，包括但不限于乙醇，石油醚，二氯甲烷，三氯甲烷，乙酸乙酯，四氢呋喃，甲苯，乙腈，N，N-二甲基甲酰胺或二甲基亚砜中的一种或多种。
为达到上述第三个目的，本发明采用下述技术方案：
本发明提供一种上述(甲基)丙烯酸酯类单体的制备方法：
当制备式G2化合物时，包括如下步骤：
S1、将化合物P1和DBU加入到溶剂中，室温搅拌10～15min，然后滴加环氧氯丙烷，反应15～20h，反应结束后旋蒸除去溶剂，再将浓缩液用二氯甲烷溶解，并依次用1mol/L的稀盐酸、饱和NaCl溶液、去离子水洗涤，合并的有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离得化合物P3；
S2、在-5～5℃下向含有化合物P3和三乙胺的混合液中滴加含化合物M2的溶剂，反应0.5～1h，反应结束后滴加稀盐酸，依次用NaCl溶液，NaHCO3溶液和水洗涤，有机相经硫酸钠干燥后，旋蒸除去溶剂，柱层析分离得通式G2化合物；
其中，所述化合物P1、化合物P3、化合物M2的结构式如下所示：
Figure BDA0003484504560000051
R1代表氢、C1～C10烷基、C1～C10烷氧基、C1～C10烷硫基、Br或
Figure BDA0003484504560000052
A1、A2、A3、A4、A5各自独立代表氢、C1～C10烷基、C1～C10烷硫基或C1～C10烷氧基，R2代表甲基或氢。
进一步，所述化合物P1，环氧氯丙烷和DBU的摩尔比为1:0.4～0.5:1～1.2。
进一步，所述化合物P1，环氧氯丙烷和DBU的摩尔比为1:0.45:1。
进一步，步骤S1中所述反应时间为16～18h。
进一步，所述化合物P3、化合物M2和三乙胺的摩尔比为1:1～2:1～2。
进一步，所述化合物P3、化合物M2和三乙胺的摩尔比为1:1～1.5:1～1.5。
进一步，步骤S1和S2中的溶剂为本领域中常用溶剂，包括但不限于乙醇，石油醚，二氯甲烷，三氯甲烷，乙酸乙酯，四氢呋喃，甲苯，乙腈，N,N-二甲基甲酰胺或二甲基亚砜中的一种或多种。
为达到上述第四个目的，本发明采用下述技术方案：
本发明提供一种上述(甲基)丙烯酸酯类单体的制备方法：
当制备式G3化合物时，包括如下步骤：
S1、将环氧氯丙烷和硼砂加入到水中，室温搅拌10～15min，然后滴加化合物P1，反应2～8h，反应结束后用二氯甲烷萃取，并用饱和NaCl溶液洗涤有机相，有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离得式P4化合物；
S2、将4’4-二巯基二苯硫醚和DBU加入到溶剂中，室温搅拌10～15min，然后滴加化合物P4，在70～110℃下反应12～24h，反应结束后，旋蒸除去溶剂，浓缩液用乙酸乙酯稀释，并依次用1mol/L的稀盐酸、饱和NaCl溶液、去离子水洗涤，合并的有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离得式P5化合物；
S3、在-5～5℃下向含有化合物P5和三乙胺的混合液中滴加含化合物M2的溶剂，反应0.5～1h，反应结束后滴加稀盐酸，依次用NaCl溶液，NaHCO3溶液和水洗涤，有机相经硫酸钠干燥后，旋蒸除去溶剂，柱层析分离得式G3化合物；
其中，所述化合物P1、化合物P4、化合物M2、化合物P5的结构式如下所示：
Figure BDA0003484504560000061
R1代表氢、C1～C10烷基、C1～C10烷氧基、C1～C10烷硫基、Br或
Figure BDA0003484504560000062
A1、A2、A3、A4、A5各自独立代表氢、C1～C10烷基、C1～C10烷硫基或C1～C10烷氧基；
R2代表甲基或氢。
进一步，所述环氧氯丙烷，化合物P1和硼砂的摩尔比为1:1～1.5:0.1～0.15。
进一步，所述环氧氯丙烷，化合物P1和硼砂的摩尔比为1:1～1.2:0.1～0.12。
进一步，步骤S1中所述反应时间为4～6h。
进一步，所述4’4-二巯基二苯硫醚、化合物P4和DBU的摩尔比为1:2～3:2～2.5。
进一步，所述化合物M4、化合物P4和DBU的摩尔比为1:2～2.5:2。
进一步，步骤S2中所述反应温度为90～100℃，所述反应时间为16～18h。
进一步，所述化合物P5、化合物M2和三乙胺的摩尔比为1:2～4:2～4。
进一步，所述化合物P5、化合物M2和三乙胺的摩尔比为1:2.2～2.5:2.2～2.5。
进一步，步骤S1中的溶剂为本领域中常用溶剂，包括但不限于水，乙醇，甲醇中的一种或多种，步骤S2和S3中的溶剂为本领域中常用溶剂，包括但不限于乙醇，石油醚，二氯甲烷，三氯甲烷，乙酸乙酯，四氢呋喃，甲苯，乙腈，N，N-二甲基甲酰胺或二甲基亚砜中的一种或多种。
为达到上述第五个目的，本发明采用下述技术方案：
本发明提供一种含有所述的(甲基)丙烯酸酯类单体的光致聚合物型全息记录介质，以重量份数计，其组成和含量为：
Figure BDA0003484504560000071
其中，所述可聚合单体/低聚物中包含如上所述的(甲基)丙烯酸酯类单体，占光致聚合物型全息记录介质的0.1～45份。
进一步，所述光致聚合物型全息记录介质还可以选自如下配方组合，以重量份数计，其组成和含量为：
Figure BDA0003484504560000072
Figure BDA0003484504560000081
其中，所述可聚合单体/低聚物中包含如上所述的(甲基)丙烯酸酯类单体，占光致聚合物型全息记录介质的0.1～25份。示例性地，所述(甲基)丙烯酸酯类单体所占份数可以为0.1～5份、0.1～10份、0.1～15份、0.1～20份、0.1～25份、1～5份、1～10份、1～15份、1～20份、1～25份、5～10份、5～15份、5～20份、5～25份、10～15份、10～20份、10～25份、15～20份、15～25份、20～25份等。
在一个具体实施方式中，本发明选用折射率较低的环氧树脂-胺作为前述的基底树脂，与折射率较高的含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体进行配合，来制备光致聚合物型全息记录介质。
进一步，所述环氧树脂为低折射率并带有两个及以上环氧基团的化合物，包括但不限于1,4-丁二醇二缩水甘油醚，乙二醇二缩水甘油醚，二乙二醇二缩水甘油醚，聚乙二醇二缩水甘油醚，甘油三(1,2-环氧)丙醚，二缩水甘油醚，三乙二醇二缩水甘油醚，1,3-二环氧甘油醚甘油，二乙二醇(二甘醇)二缩水甘油醚，环己二醇二缩水甘油醚，1,2-环己二醇二缩水甘油醚，四乙二醇二缩水甘油醚，1,6-己二醇二缩水甘油醚，1,4-双[(缩水甘油氧)甲基]环己烷，新戊二醇二缩水甘油醚，双(2,3-环氧基环戊基)醚，3,4-环氧基-6-甲基环己基甲酸-3’,4’-环氧基-6’-甲基环己基甲酯，乙烯基环己烯二环氧化物，3,4-环氧基环己基甲酸-3’,4’-环氧基环己基甲酯，二异戊二烯二环氧化物，己二酸二(3,4-环氧基-6-甲基环己基甲酯)，二环戊二烯二环氧化物，聚丙二醇二缩水甘油醚或三甲醇基丙烷三缩水甘油醚中的一种或多种任意比例混合物。
进一步，在本发明的技术方案中可聚合单体/低聚物需含有通式G1、G2或G3结构的(甲基)丙烯酸酯类单体，其他占比的可聚合单体/低聚物选自结构上为含C＝C不饱和双键的单官能团或多官能团的单体/低聚物，包括但不限于N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咔唑、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基吲哚、N-乙烯基吡咯烷酮、反式N-3-炔丁烯基咔唑、苯乙烯、2-氯代苯乙烯、2-溴代苯乙烯、3-氯代苯乙烯、3-溴代苯乙烯、4-氯代苯乙烯、4-溴代苯乙烯、对-(氯代甲基)苯乙烯、对-(溴代甲基)苯乙烯或1-乙烯基萘、2-乙烯基萘、2-乙烯基蒽、9-乙烯基蒽；2-苯氧基乙基丙烯酸酯、2-苯氧基乙基甲基丙烯酸酯、苄基甲基丙烯酸酯、苄基丙烯酸酯、丙烯酸对氯苯基酯、丙烯酸2,4,6-三氯苯基酯、丙烯酸对溴苯基酯、甲基丙烯酸对溴苯基酯、甲基丙烯酸对氯苯基酯、丙烯酸2,4,6-三溴苯基酯、甲基内烯酸2,4,6-三溴苯基酯、甲基丙烯酸2,4,6-三氯苯基酯、丙烯酸五溴苯基酯、丙烯酸五氯苯基酯、丙烯酸苯氧乙基酯、甲基丙烯酸五溴苯基酯、甲基丙烯酸五氯苯基酯、丙烯酸五溴苄基酯、甲基丙烯酸苯氧乙基酯、丙烯酸2-萘酯、丙烯酸1,4-二(2-硫代萘基)2-丁基酯、丙烯酸苯氧基乙氧基乙酯、甲基丙烯酸苯氧基乙氧基乙酯、甲基丙烯酸1,4-二(2-硫代萘基)2-丁基酯、甲基丙烯酸五溴苄基酯、丙烷-2,2-二基双[(2，6-二溴-4,1-亚苯基)氧(2-{[3,3,3-三(4-氯苯基)丙酰基]氧}丙烷-3,1-二基)氧乙烷-2,1-二基]二丙烯酸酯、甲基丙烯酸2-萘酯、双酚A二甲基丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯、四溴双酚A二甲基丙烯酸酯或四溴双酚A二丙烯酸酯中的一种或多种。
本发明中的光敏剂为光照下具有较高电子转移效率的染料，包括但不限于菁类染料、荧光素类染料、香豆素酮类染料、含氮芳杂环化合物、芳香族胺类化合物、苄叉环烷烃酮类化合物或这些化合物的任意比例混合物。例如包括新亚甲基蓝、硫堇、碱性黄、氯化频那氰醇、罗丹明6G、棓花青、乙基紫、维多利亚蓝R、天青石蓝、亚甲基蓝、Astrazon Orange G、Darrow红、吡咯红Y、碱性红29、喹哪啶红、结晶紫、乙基紫、亮绿、pyri11lium I、天青A、结晶紫白腈、孔雀绿白腈等。
本发明中的光引发剂为能够被光化辐射激活并引发相应的可聚合基团发生聚合反应的引发剂。包括但不限于芳香酮类化合物、安息香及其衍生物、苯偶酰缩酮、酰基膦氧化物、芳基硼酸铵、铬盐、芳基重氮盐、鎓盐、有机金属化合物或这些化合物的任意比例混合物。例如包括二苯甲酮、烷基二苯甲酮、4,4'-二(二甲氨基)二苯甲酮、蒽酮和卤化二苯甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基膦氧化物、双酰基氧化膦、苯基二羟乙酸酯、樟脑醌、a-氨基烷基苯酮、α,α-二烷氧基苯乙酮、a-羟烷基苯酮、三苯基己基硼酸四丁基铵、三-(3-氟代苯基)己基硼酸四工基铵、三-(3-氯代-4-甲基苯基)己基硼酸四丁基铵、二茂铁基化合物、碘鎓盐、硫鎓盐、六芳基双咪唑等。
本发明所述的链转移剂为硫醇类化合物，例如十二烷基硫醇、巯基乙醇、己硫醇、苯乙硫醇、5-(4-吡啶基)-1,3,4-噁二唑-2-硫醇、4-甲基-4H-1,2,4-三唑-3-硫醇或这些化合物的任意比例混合物。
本发明所述的消泡剂为有机硅消泡剂，例如毕克公司生产的BYK-011、BYK-012、BYK-014、BYK-023、BYK-051N、BYK-085、BYK-1610、BYK-1707、BYK-1740、BYK-1760，道康宁公司生产的DC65、AFE-7820或这些消泡剂的任意比例混合物。
本发明所述的流平剂为有机硅表面助剂，例如毕克公司生产的BYK-302、BYK-306、BYK-307、BYK-327、BYK-329、BYK-333、BYK-356、BYK-358、BYK-378、BYK-3455、BYK-3566或这些表面助剂的任意比例混合物。
本发明所述的增塑剂为甲苯、二甲苯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、甘油、邻苯二甲酸酯或这些化合物的任意比例混合物。
本发明所述的环氧树脂固化剂为多元胺类固化剂，包括但不限于单一多元胺、混合多元胺和改性多元胺。例如二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺、二乙烯基丙胺、2-甲基戊二胺、1,3-戊二胺、1,2-环己二胺、孟烷二胺、异佛尔酮二胺、N-氨乙基哌嗪、双(4-氨基-3-甲基环己基)甲烷、自制的含氟胺固化剂或这些化合物的任意比例混合物。
为达到上述第六个目的，本发明采用下述技术方案：
本发明提供一种含有如上所述的(甲基)丙烯酸酯类单体的光致聚合物型全息记录介质，以重量份数计，其组成和含量为：
Figure BDA0003484504560000101
其中，所述可聚合单体/低聚物中包含如上所述的(甲基)丙烯酸酯类单体，占光致聚合物型全息记录介质的0.1～45份。
进一步，本发明提供一种含有如上所述的(甲基)丙烯酸酯类单体的光致聚合物型全息记录介质，以重量份数计，其组成和含量为：
Figure BDA0003484504560000102
Figure BDA0003484504560000111
其中，所述可聚合单体/低聚物中包含如上所述的(甲基)丙烯酸酯类单体，占光致聚合物型全息记录介质的0.1～25份，示例性地，所述(甲基)丙烯酸酯类单体所占份数可以为0.1～5份、0.1～10份、0.1～15份、0.1～20份、0.1～25份、1～5份、1～10份、1～15份、1～20份、1～25份、5～10份、5～15份、5～20份、5～25份、10～15份、10～20份、10～25份、15～20份、15～25份、20～25份等。
该光致聚合物型全息记录介质含有低折射率的异氰酸酯-醇为基底树脂和高折射率的可聚合单体/低聚物，复配光敏剂、光引发剂等组分，展现出较高的衍射效率和灵敏度，以及较低的曝光量。
上述配方中的多元醇为低折射率并带有两个及以上羟基基团的化合物，包括但不限于乙二醇、二甘醇、三甘醇、四甘醇、二丙二醇、三丙二醇、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷、甘油、三乙醇胺、季戊四醇、二季戊四醇、山梨醇、以及分子量为200～10000的聚酯多元醇、聚碳酸酯多元醇、聚醚多元醇。
上述配方中的异氰酸酯为低折射率并带有两个及以上异氰酸酯基团的化合物，包括但不限于六亚甲基二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯、(2,4,6-三氧代三嗪-1,3,5(2H,4H,6H)-三基)三(六亚甲基)异氰酸酯、丁烯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、二环己基甲烷二异氰酸酯、萘二异氰酸酯、对苯二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、二甲基联苯二异氰酸酯、1,4-环己烷二异氰酸酯、四甲基间苯二亚甲基二异氰酸酯、环己烷二亚甲基二异氰酸酯、降冰片烷二异氰酸酯。
上述技术方案中可聚合单体/低聚物需含有通式G1、G2或G3结构的(甲基)丙烯酸酯类单体，其他占比的可聚合单体/低聚物选自结构上为含C＝C不饱和双键的单官能团或多官能团的单体/低聚物，包括但不限于N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咔唑、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基吲哚、N-乙烯基吡咯烷酮、反式N-3-炔丁烯基咔唑、苯乙烯、2-氯代苯乙烯、2-溴代苯乙烯、3-氯代苯乙烯、3-溴代苯乙烯、4-氯代苯乙烯、4-溴代苯乙烯、对-(氯代甲基)苯乙烯、对-(溴代甲基)苯乙烯或1-乙烯基萘、2-乙烯基萘、2-乙烯基蒽、9-乙烯基蒽；2-苯氧基乙基丙烯酸酯、2-苯氧基乙基甲基丙烯酸酯、苄基甲基丙烯酸酯、苄基丙烯酸酯、丙烯酸对氯苯基酯、丙烯酸2,4,6-三氯苯基酯、丙烯酸对溴苯基酯、甲基丙烯酸对溴苯基酯、甲基丙烯酸对氯苯基酯、丙烯酸2,4,6-三溴苯基酯、甲基内烯酸2,4,6-三溴苯基酯、甲基丙烯酸2,4,6-三氯苯基酯、丙烯酸五溴苯基酯、丙烯酸五氯苯基酯、丙烯酸苯氧乙基酯、甲基丙烯酸五溴苯基酯、甲基丙烯酸五氯苯基酯、丙烯酸五溴苄基酯、甲基丙烯酸苯氧乙基酯、丙烯酸2-萘酯、丙烯酸1,4-二(2-硫代萘基)2-丁基酯、丙烯酸苯氧基乙氧基乙酯、甲基丙烯酸苯氧基乙氧基乙酯、甲基丙烯酸1,4-二(2-硫代萘基)2-丁基酯、甲基丙烯酸五溴苄基酯、丙烷-2,2-二基双[(2，6-二溴-4,1-亚苯基)氧(2-{[3,3,3-三(4-氯苯基)丙酰基]氧}丙烷-3,1-二基)氧乙烷-2,1-二基]二丙烯酸酯、甲基丙烯酸2-萘酯、双酚A二甲基丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯、四溴双酚A二甲基丙烯酸酯或四溴双酚A二丙烯酸酯中的一种或多种。
上述配方中的光敏剂为光照下具有较高电子转移效率的染料，包括但不限于菁类染料、荧光素类染料、香豆素酮类染料、含氮芳杂环化合物、芳香族胺类化合物、苄叉环烷烃酮类化合物或这些化合物的任意比例混合物。例如包括新亚甲基蓝、硫堇、碱性黄、氯化频那氰醇、罗丹明6G、棓花青、乙基紫、维多利亚蓝R、天青石蓝、亚甲基蓝、Astrazon OrangeG、Darrow红、吡咯红Y、碱性红29、喹哪啶红、结晶紫、乙基紫、亮绿、pyri11lium I、天青A、结晶紫白腈、孔雀绿白腈等。
上述配方中的光引发剂为能够被光化辐射激活并引发相应的可聚合基团发生聚合反应的引发剂。包括但不限于芳香酮类化合物、安息香及其衍生物、苯偶酰缩酮、酰基膦氧化物、芳基硼酸铵、铬盐、芳基重氮盐、鎓盐、有机金属化合物或这些化合物的任意比例混合物。例如包括二苯甲酮、烷基二苯甲酮、4,4'-二(二甲氨基)二苯甲酮、蒽酮和卤化二苯甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基膦氧化物、双酰基氧化膦、苯基二羟乙酸酯、樟脑醌、a-氨基烷基苯酮、α,α-二烷氧基苯乙酮、a-羟烷基苯酮、三苯基己基硼酸四丁基铵、三-(3-氟代苯基)己基硼酸四工基铵、三-(3-氯代-4-甲基苯基)己基硼酸四丁基铵、二茂铁基化合物、碘鎓盐、硫鎓盐、六芳基双咪唑等。
上述配方中所述的链转移剂为硫醇类化合物，例如十二烷基硫醇、巯基乙醇、己硫醇、苯乙硫醇、5-(4-吡啶基)-1,3,4-噁二唑-2-硫醇、4-甲基-4H-1,2,4-三唑-3-硫醇或这些化合物的任意比例混合物。
上述配方中所述的消泡剂为有机硅消泡剂，例如毕克公司生产的BYK-011、BYK-012、BYK-014、BYK-023、BYK-051N、BYK-085、BYK-1610、BYK-1707、BYK-1740、BYK-1760，道康宁公司生产的DC65、AFE-7820或这些消泡剂的任意比例混合物。
上述配方中所述的流平剂为有机硅表面助剂，例如毕克公司生产的BYK-302、BYK-306、BYK-307、BYK-327、BYK-329、BYK-333、BYK-356、BYK-358、BYK-378、BYK-3455、BYK-3566或这些表面助剂的任意比例混合物。
上述配方中所述的增塑剂为甲苯、二甲苯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、甘油、邻苯二甲酸酯或这些化合物的任意比例混合物。
上述配方中所述的除水剂包括但不限于对甲基苯磺酰异氰酸酯、原甲酸三乙酯、广州优润合成材料有限公司CUWR-WB20除水剂、安乡艾利特化工有限公司ALT-201除水剂、上海鲁尔化工贸易有限公司PCCI除水剂。
上述配方中所述的催化剂为叔胺类催化剂和有机金属类催化剂，包括但不限于三亚乙基二胺、双(二甲氨基乙基)醚、二甲基乙醇胺、2-(2-二甲氨基-乙氧基)乙醇、三甲基羟乙基丙二胺、N,N-双(二甲胺丙基)异丙醇胺、二月桂酸二丁基锡、辛酸亚锡、羧酸钾类催化剂和羧酸铋类催化剂。
本发明还提供了上述光致聚合物型全息记录介质的制备方法，包括如下步骤：
本发明的光致聚合物型体全息记录介质为两片光学基板中间夹着一定厚度的上述光致聚合物型全息记录材料的圆形光盘或方形盘片，参照CN200910237040.7，具体操作步骤如下：
根据需要加工一定尺寸的形状为方形或中空圆盘形的基板，在基板的一面或两面镀上一层或多层增透膜。所述基板的材质可为本领域常用的普通玻璃、光学玻璃或石英玻璃等，其中方形基板的长×宽×高的尺寸为(20～150mm)×(20～150mm)×(0.5～2mm)，中空圆盘形基板的内径为10～20mm、外径为50～150mm、厚度为0.5～2mm。所述的增透膜的材质可为本领域常用的氧化锆、氧化硅、氧化铝或它们之间的任意组合。所述的增透膜的厚度由所需要增透的激光波长决定，具体激光波长为457nm、473nm、488nm、514nm或532nm中的一种或几种波长的组合。
根据基片的形状和尺寸加工相应的垫片。所述的垫片的材质可为本领域常用的硅橡胶或聚四氟乙烯等，其中适配方形基片的方框形垫片的厚度可为0.1～2mm，外方长×宽的尺寸可为(20～150mm)×(20～150mm)、内方长×宽的尺寸可为(10～146mm)×(10～146mm)，圆环形大垫片和圆环形小垫片的内径尺寸选自10～146mm、外径尺寸选自14～150mm、厚度为0.1～2mm。
根据光致聚合物灌注液量的多少，将上述垫片开一小口，对应地放置于两个基板中间，组装成三明治结构的用于制备光致聚合物型全息记录介质的模具，用夹具固定好。
将上述尺寸大小和厚度可控的全息记录介质模具和光致聚合物混合液放入充氮气的手套箱中，如图2所示，用注射器将混合液经模具中垫片上的小开口注入模具中。灌注完毕，将得到的样片在室温放置48～72小时，待灌注液中的成膜树脂固化完全，撤去夹具，然后用密封胶封住垫片上的小开口，用铝箔纸包裹避光保存，即制得本发明所述的光致聚合物型全息记录介质。
本发明的有益效果如下：
本发明中的含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯单体折射率较高，可作为信息记录组分与环氧树脂-胺等基底树脂相混合制备得到全息记录介质。该含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯单体无结晶趋势，粘度低，在基底树脂中具有较快的聚合速度和迁移速度，并且单体的合成方法简单、产率高、成本低、易实现量产。使用该单体的全息记录介质衍射效率大于80％，灵敏度大于0.1cm/mJ，Bragg选择角小于1°，可以实现400～650nm宽波段响应。使用本发明中所述单体可显著降低体系粘度，易于制备任意体积、任意形状的全息记录介质；且操作简单，成本低廉；所制备的全息记录介质性能稳定，在避光条件下可长期保存，曝光后可实现信息的高质量存储与再现；其在高密度光存储和全息光学元件领域具有很好的应用潜力。
附图说明
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
图1示出本发明实施例4～6以及对比例1中光致聚合物型全息记录介质的曝光特性曲线。
图2示出本发明实施例7～9以及对比例2中光致聚合物型全息记录介质的曝光特性曲线。
图3示出本发明实施例1～3制备的样品的实时红外转化率曲线。
具体实施方式
为了更清楚地说明本发明，下面结合优选实施例和附图对本发明做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本发明的保护范围。
实施例1
本实施例为化合物G1-1的制备，制备过程如下：
Figure BDA0003484504560000141
S1、将化合物P1-1(5.0g，43.03mmol)、2-溴乙醇(8.1g，64.81mmol)和NaOH(5.2g，130mmol)溶于水中，加热至90℃反应6h，反应完成后用二氯甲烷萃取，合并的有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离(洗脱剂：石油醚与二氯甲烷体积比为4:1)得到无色液体化合物P2-1，产率约90％。
Figure BDA0003484504560000151
S2、在0℃冰浴下化合物P2-1(5.0g，31.25mmol)和三乙胺(4.74g，46.88mmol)溶于50mL二氯甲烷中，搅拌10min，将丙烯酰氯(4.22g，46.89mmol)溶于30mL二氯甲烷，在0℃下滴加到化合物P2-1和三乙胺的混合溶液中。反应完全后，滴加稀盐酸，除去过量的丙烯酰氯，依次使用饱和NaCl溶液、饱和NaHCO3溶液和去离子水洗涤，有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离(洗脱剂：二氯甲烷)得到无色液体为化合物G1-1，产率约95％。化合物G1-1的表征数据如下：
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ7.36(d,J＝5.3Hz,1H),7.17(d,J＝3.2Hz,1H),7.03–6.95(m,1H),6.40(d,J＝17.3Hz,1H),6.11(dd,J＝17.3,10.4Hz,1H),5.84(d,J＝10.4Hz,1H),4.32(t,J＝6.7Hz,2H),3.03(t,J＝6.7Hz,2H).
13C NMR(101MHz,CDCl3)δ165.84,134.69,132.96,131.17,129.99,128.11,127.68,77.43,77.11,76.79,62.74,36.98.
HR-MS(ESR)m/z[M+Na]+：calculated for C9H10NaO2S2 +，237.0020；found，237.0015。
Figure BDA0003484504560000152
实施例2
本实施例为化合物G2-2的制备，制备过程如下：
Figure BDA0003484504560000153
S1、将化合物P1-1(20.0g，172.44mmol)、1,8-二氮杂环[5,4,0]十一烯-7(DBU)(26.25g，172.44mmol)溶于200mL甲苯，室温搅拌10min，将环氧氯丙烷(7.14g，77.60mmol)溶于30mL甲苯并滴加至上述反应体系中，室温反应16h。反应结束后，旋蒸除去溶剂，浓缩液用二氯甲烷稀释，并依次用1mol/L的稀盐酸、饱和NaCl溶液、去离子水洗涤，合并的有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离(洗脱剂：石油醚与乙酸乙酯的体积比为5:1)得黑色液体化合物P3-1，产率约90％。
Figure BDA0003484504560000161
S2、在0℃冰浴下化合物P3-1(9.0g，31.25mmol)和三乙胺(4.74g，46.88mmol)溶于50mL二氯甲烷中，搅拌10min，将甲基丙烯酰氯(4.88g，46.92mmol)溶于30mL二氯甲烷，在0℃下滴加到化合物P3-1和三乙胺的混合溶液中。反应完全后，滴加稀盐酸，除去过量的甲基丙烯酰氯，依次使用饱和NaCl溶液、饱和NaHCO3溶液和去离子水洗涤，有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离(洗脱剂：二氯甲烷)得到无色液体为化合物G2-2，产率约95％。化合物G2-2的表征数据如下：
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ7.33(dd,J＝5.4,1.2Hz,2H),7.08(dd,J＝3.5,1.2Hz,2H),6.94(dd,J＝5.4,3.6Hz,2H),6.04(s,1H),5.57–5.52(m,1H),5.16(p,J＝6.3Hz,1H),3.13(qd,J＝14.0,6.0Hz,4H),1.90(s,3H).
13C NMR(101MHz,CDCl3)δ166.39,135.81,134.43,133.14,129.84,127.60,126.09,77.36,77.04,76.73,71.42,41.09,18.21.
HR-MS(ESR)m/z[M+Na]+：calculated for C15H16NaO2S4 +，378.9931；found，378.9926。
Figure BDA0003484504560000162
实施例3
本实施例为化合物G3-1的制备，制备过程如下：
Figure BDA0003484504560000163
S1、将环氧氯丙烷(5.0g，54.04mmol)和硼砂(2.06g，5.41mmol)溶于3ml水中，室温搅拌10min，然后滴加化合物P1-1(6.27g，54.14mmol)，室温反应4h，反应结束后用二氯甲烷萃取，并用饱和NaCl溶液洗涤有机相，有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析(洗脱剂：石油醚与二氯甲烷的体积比为5:1)分离得黄色液体化合物P4-1，产率约90％。
Figure BDA0003484504560000171
S2、将4’4-二巯基二苯硫醚(2.0g，7.99mmol)和1,8-二氮杂环[5,4,0]十一烯-7(DBU)(2.43g，15.98mmol)溶于80mL甲苯，室温搅拌10min，将化合物P4-1(4.16g，20mmol)溶于30mL甲苯并滴加至上述反应体系中，加热至90℃反应16h。反应结束后，旋蒸除去溶剂，浓缩液用乙酸乙酯稀释，并依次用1mol/L的稀盐酸、饱和NaCl溶液、去离子水洗涤，合并的有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离(洗脱剂：石油醚与二氯甲烷的体积比为1:1)得无色液体化合物P5-1，产率约90％。
Figure BDA0003484504560000172
S3、在0℃冰浴下化合物P5-1(18.56g，31.25mmol)和三乙胺(4.74g，46.88mmol)溶于50mL二氯甲烷中，搅拌10min，将丙烯酰氯(4.22g，46.89mmol)溶于30mL二氯甲烷，在0℃下滴加到化合物P5-1和三乙胺的混合溶液中。反应完全后，滴加稀盐酸，除去过量的丙烯酰氯，依次使用饱和NaCl溶液、饱和NaHCO3溶液和去离子水洗涤，有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离(洗脱剂：二氯甲烷)得到无色液体化合物G3-1，产率约95％。化合物G3-1的表征数据如下：
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ7.32–7.19(m,10H),7.08(d,J＝3.5Hz,2H),7.01–6.85(m,2H),6.32(d,J＝17.3Hz,2H),5.99(dd,J＝17.3,10.4Hz,2H),5.79(d,J＝10.5Hz,2H),5.16(p,J＝5.9Hz,2H),3.24(d,J＝6.0Hz,4H),3.20–3.06(m,4H).
13C NMR(101MHz,CDCl3)δ165.26,134.53,134.42,133.91,133.21,131.55,131.52,130.66,129.91,127.90,127.67,77.43,77.11,76.79,71.60,41.16,36.34.
HR-MS(ESR)m/z[M+Na]+：calculated for C32H30NaO4S7 +，725.0087；found，725.0081。
Figure BDA0003484504560000173
表1示出了实施例1～3合成的含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯单体在室温下的折射率
表1实施例1～3合成的含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯单体在室温下的折射率
Figure BDA0003484504560000174
实施例4
光致聚合物型全息记录介质的制备，具体制备步骤参照CN200910237040.7。
光致聚合物混合液的制备：在红光条件下，往500ml有搅拌设备的容器中，依次加入：
Figure BDA0003484504560000181
室温下充分搅拌15min，通过孔径为0.45微米过滤器除去灰尘等杂质，将混合液注入40mm×40mm×0.5mm玻璃容器内，室温固化完成后即可制得光致聚合物型全息记录介质。
实施例4中光致聚合物型全息记录介质的全息性能参数如表2所示。
实施例5
按照实施例4所述的方法制备光致聚合物型全息记录介质，与实施例4不同的是，光致聚合物混合液的组成为：
Figure BDA0003484504560000182
Figure BDA0003484504560000191
实施例5中光致聚合物型全息记录介质的全息性能参数如表2所示。
实施例6
按照实施例4所述的方法制备光致聚合物型全息记录介质，与实施例4不同的是，光致聚合物混合液的组成为：
Figure BDA0003484504560000192
实施例6中光致聚合物型全息记录介质的全息性能参数如表2所示。
实施例7
光致聚合物型全息记录介质的制备，具体制备步骤参照CN200910237040.7。
光致聚合物混合液的制备：在红光条件下，往500ml有搅拌设备的容器中，加入：
Figure BDA0003484504560000193
Figure BDA0003484504560000201
室温下充分搅拌15min，通过孔径为0.45微米过滤器除去灰尘等杂质，将混合液注入80mm×35mm×0.05mm玻璃容器内，室温固化完成后即可制得光致聚合物型全息记录介质。
实施例7中光致聚合物型全息记录介质的全息性能参数如表3所示。
实施例8
按照实施例7所述的方法制备光致聚合物型全息记录介质，与实施例7不同的是，其原料为：
Figure BDA0003484504560000202
实施例8中光致聚合物型全息记录介质的全息性能参数如表3所示。
实施例9
按照实施例7所述的方法制备光致聚合物型全息记录介质，与实施例7不同的是，其原料为：
Figure BDA0003484504560000203
Figure BDA0003484504560000211
实施例9中光致聚合物型全息记录介质的全息性能参数如表3所示。
对比例1
按照实施例4所述的方法制备光致聚合物型全息记录介质，与实施例4不同的是，光致聚合物混合液的组成为：
Figure BDA0003484504560000212
对比例1中光致聚合物型全息记录介质的全息性能参数如表2所示。
对比例2
按照实施例7所述的方法制备光致聚合物型全息记录介质，与实施例7不同的是，其原料为：
Figure BDA0003484504560000213
Figure BDA0003484504560000221
对比例2中光致聚合物型全息记录介质的全息性能参数如表3所示。
表2示出了实施例4～6及对比例1中光致聚合物型全息记录介质的全息性能参数。
表2实施例4～6及对比例1中光致聚合物型全息记录介质的全息性能参数
Figure BDA0003484504560000222
表3示出了实施例7～9及对比例2中光致聚合物型全息记录介质的全息性能参数。
表3实施例7～9及对比例2中光致聚合物型全息记录介质的全息性能参数
Figure BDA0003484504560000223
试验例1
光致聚合物型全息记录介质的全息性能测试评价：
用532nm波长的固体激光器作为光源，经扩束器、分束器和半波片后得到两束光强相同直径为8mm的光束。两光束相交于光致聚合物型全息记录介质内进行曝光，记录介质的法线平分两光束，两束光的夹角为56.21°～57.22°，对应的分辨率为1771～1800lp/mm，光强度为2.91mW/cm2。检测光源采用不与记录介质发生反应的785nm波长固体激光器，检测光从Bragg角入射到曝光区，通过光电检测器对透射光和衍射光进行实时监测，并通过公式(1)～(3)计算得出0.5mm厚的光致聚合物样片的单光栅衍射效率(η)和记录介质的感光灵敏度(S)。
Figure BDA0003484504560000224
Figure BDA0003484504560000225
Figure BDA0003484504560000226
式中，η为衍射效率，ηmax为最高衍射效率，Id为衍射光，It为透射光，S为感光灵敏度，E为曝光能量，ΔE为达到最高衍射效率时的曝光能量。
图1示出了实施例4～6及对比例1中光致聚合物型全息记录介质的曝光特性曲线(单光栅衍射效率随曝光量变化曲线)。图2示出了实施例7～9及对比例2中光致聚合物型全息记录介质的曝光特性曲线(单光栅衍射效率随曝光量变化曲线)。实验结果表明，添加含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯单体的光致聚合物型全息记录介质具有灵敏度高，稳定性好，信息记录完成后，保存期长、耐候性强。
试验例2
将G1-1，G2-1，G3-1三种单体加入1wt％的光引发剂TPO，在405nm下曝光，并通过实时红外监测其双键转化率，其结果如图3所示。实验结果表明，含噻吩的高折射率(甲基)丙烯酸酯单体可用于光固化领域。
显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定，对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。

Claims (10)

1.一种含噻吩结构的（甲基）丙烯酸酯类单体，其特征在于，其结构通式如下任选之一所示：
；
其中，R1代表氢、C1~C10烷基、C1~C10烷氧基、C1~C10烷硫基、Br或，A1、A2、A3、A4、A5各自独立代表氢、C1~C10烷基、C1~C10烷硫基或C1~C10烷氧基；
R2代表甲基或氢。
2.根据权利要求1所述的（甲基）丙烯酸酯类单体，其特征在于，所述（甲基）丙烯酸酯类单体选自以下之一所示：
3.一种如权利要求1所述（甲基）丙烯酸酯类单体的制备方法，其特征在于，当制备式G1化合物时，包括如下步骤：
S1、将化合物P1，2-溴乙醇和NaOH依次加入到溶剂中，加热至70~120 ℃反应5~10 h，反应完成后用二氯甲烷萃取，合并的有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离得到化合物P2；所述化合物P1，2-溴乙醇和NaOH的摩尔比为1:1~2:2~4；
S2、然后在-5~5 ℃下向含有化合物P2和三乙胺的混合液中滴加含化合物M2的溶剂，反应0.5~1 h，反应结束后滴加稀盐酸，依次用NaCl溶液，NaHCO3溶液和水洗涤，有机相经硫酸钠干燥后，旋蒸除去溶剂，柱层析分离得通式G1化合物；所述化合物P2、化合物M2和三乙胺的摩尔比为1:1~2:1~3；
其中，所述化合物P1、化合物P2、化合物M2的结构式如下所示：
R1代表氢、C1~C10烷基、C1~C10烷氧基、C1~C10烷硫基、Br或，A1、A2、A3、A4、A5各自独立代表氢、C1~C10烷基、C1~C10烷硫基或C1~C10烷氧基；
R2代表甲基或氢。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述化合物P1，2-溴乙醇和NaOH的摩尔比为1:1.25~1.5:2.5~3.5；步骤S1中所述反应温度为80~100 ℃，所述反应时间为6~7 h；所述化合物P2、化合物M2和三乙胺的摩尔比为1:1~1.5:1~1.5。
5.一种如权利要求1所述（甲基）丙烯酸酯类单体的制备方法，其特征在于，当制备式G2化合物时，包括如下步骤：
S1、将化合物P1和DBU加入到溶剂中，室温搅拌10~15 min，然后滴加环氧氯丙烷，反应15~20 h，反应结束后旋蒸除去溶剂，再将浓缩液用二氯甲烷溶解，并依次用1 mol/L的稀盐酸、饱和NaCl溶液、去离子水洗涤，合并的有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离得化合物P3；所述化合物P1，环氧氯丙烷和DBU的摩尔比为1:0.4~0.5:1~1.2；
S2、在-5~5 ℃下向含有化合物P3和三乙胺的混合液中滴加含化合物M2的溶剂，反应0.5~1 h，反应结束后滴加稀盐酸，依次用NaCl溶液，NaHCO3溶液和水洗涤，有机相经硫酸钠干燥后，旋蒸除去溶剂，柱层析分离得通式G2化合物；所述化合物P3、化合物M2和三乙胺的摩尔比为1:1~2:1~2；
其中，所述化合物P1、化合物P3、化合物M2的结构式如下所示：
R1代表氢、C1~C10烷基、C1~C10烷氧基、C1~C10烷硫基、Br或，A1、A2、A3、A4、A5各自独立代表氢、C1~C10烷基、C1~C10烷硫基或C1~C10烷氧基；
R2代表甲基或氢。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述化合物P1，环氧氯丙烷和DBU的摩尔比为1:0.45:1；步骤S1中所述反应时间为16~18 h；所述化合物P3、化合物M2和三乙胺的摩尔比为1:1~1.5:1~1.5。
7.一种如权利要求1所述（甲基）丙烯酸酯类单体的制备方法，其特征在于，当制备式G3化合物时，包括如下步骤：
S1、将环氧氯丙烷和硼砂加入到水中，室温搅拌10~15 min，然后滴加化合物P1，反应2~8 h，反应结束后用二氯甲烷萃取，并用饱和NaCl溶液洗涤有机相，有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离得式P4化合物；所述环氧氯丙烷，化合物P1和硼砂的摩尔比为1:1~1.5:0.1~0.15；
S2、将4’4-二巯基二苯硫醚和DBU加入到溶剂中，室温搅拌10~15 min，然后滴加化合物P4，在70~110 ℃下反应12~24 h，反应结束后，旋蒸除去溶剂，浓缩液用乙酸乙酯稀释，并依次用1 mol/L的稀盐酸、饱和NaCl溶液、去离子水洗涤，合并的有机相经无水硫酸钠干燥后，旋蒸除去多余溶剂，柱层析分离得式P5化合物；所述4’4-二巯基二苯硫醚、化合物P4和DBU的摩尔比为1:2~3:2~2.5；
S3、在-5~5 ℃下向含有化合物P5和三乙胺的混合液中滴加含化合物M2的溶剂，反应0.5~1 h，反应结束后滴加稀盐酸，依次用NaCl溶液，NaHCO3溶液和水洗涤，有机相经硫酸钠干燥后，旋蒸除去溶剂，柱层析分离得式G3化合物；所述化合物P5、化合物M2和三乙胺的摩尔比为1:2~4:2~4；
其中，所述化合物P1、化合物P4、化合物M2、化合物P5的结构式如下所示：
R1代表氢、C1~C10烷基、C1~C10烷氧基、C1~C10烷硫基、Br或，A1、A2、A3、A4、A5各自独立代表氢、C1~C10烷基、C1~C10烷硫基或C1~C10烷氧基；
R2代表甲基或氢。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述环氧氯丙烷，化合物P1和硼砂的摩尔比为1:1~1.2:0.1~0.12；步骤S1中所述反应时间为4~6 h；所述4’4-二巯基二苯硫醚、化合物P4和DBU的摩尔比为1:2~2.5:2；步骤S2中所述反应温度为90~100 ℃，所述反应时间为16~18 h；所述化合物P5、化合物M2和三乙胺的摩尔比为1:2.2~2.5:2.2~2.5。
9.一种含有如权利要求1或2所述的（甲基）丙烯酸酯类单体的光致聚合物型全息记录介质，其特征在于，以重量份数计，其组成和含量为：
环氧树脂30~70份；
可聚合单体/低聚物10~60份；
光敏剂0.005 ~0.05份；
光引发剂0.1 ~1.0份；
链转移剂0.1~1.0份；
消泡剂0 ~0.5份；
流平剂0 ~0.5份；
增塑剂0 ~3.0份；
环氧树脂固化剂10 ~20份；
其中，所述可聚合单体/低聚物中包含占光致聚合物型全息记录介质的0.1~45份如权利要求1或2所述的（甲基）丙烯酸酯类单体，其他占比的可聚合单体/低聚物选自结构上为含C=C不饱和双键的单官能团或多官能团的单体/低聚物。
10.一种含有如权利要求1或2所述的（甲基）丙烯酸酯类单体的光致聚合物型全息记录介质，其特征在于，以重量份数计，其组成和含量为：
多元醇10~70份；
异氰酸酯 10~70份；
可聚合单体/低聚物20~80份；
光敏剂0.005~0.05份；
光引发剂0.1~1.0份；
链转移剂0.1~1.0份；
消泡剂0~0.5份；
流平剂0~0.5份；
增塑剂0~3.0份；
除水剂 0~3.0份；
催化剂 0~3.0份；
其中，所述可聚合单体/低聚物中包含占光致聚合物型全息记录介质的0.1~45份如权利要求1或2所述的（甲基）丙烯酸酯类单体，其他占比的可聚合单体/低聚物选自结构上为含C=C不饱和双键的单官能团或多官能团的单体/低聚物。
CN202210077188.4A 2022-01-24 2022-01-24 一种含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用 Active CN114621180B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210077188.4A CN114621180B (zh) 2022-01-24 2022-01-24 一种含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210077188.4A CN114621180B (zh) 2022-01-24 2022-01-24 一种含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114621180A CN114621180A (zh) 2022-06-14
CN114621180B true CN114621180B (zh) 2023-04-28

Family

ID=81899095

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210077188.4A Active CN114621180B (zh) 2022-01-24 2022-01-24 一种含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114621180B (zh)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1196694C (zh) * 1997-06-02 2005-04-13 罗列克股份公司 可聚合的,光活性1,3二氧杂环戊烷二酯
TWI343380B (en) * 2005-08-30 2011-06-11 Ind Tech Res Inst Compound for adjusting the refractive index and composition thereof
US9346906B2 (en) * 2013-01-22 2016-05-24 University Of South Carolina Preparation of conjugated aromatic/heteroaromatic oligomer-containing dielectric polymers and their applications
CN115160353A (zh) * 2022-06-10 2022-10-11 吉林奥来德光电材料股份有限公司 一种oled器件封装用化合物、墨水组合物、封装薄膜及有机电致发光器件

Also Published As

Publication number Publication date
CN114621180A (zh) 2022-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5402266B2 (ja) 光反応性組成物、光学材料、ホログラム記録層形成用組成物、ホログラム記録材料およびホログラム記録媒体
TWI460562B (zh) A body-wide image-recording material, and an optical information recording medium using the same
US11573488B2 (en) Composition for holographic recording medium, and holographic recording medium
US20220283497A1 (en) Compound, polymerizable composition, polymer, holographic recording medium, optical material, and optical component
KR20200074026A (ko) 포토폴리머 조성물
TW202035498A (zh) 全像記錄用組合物、全像記錄媒體、全像、及使用其之光學裝置、光學零件
US20240018137A1 (en) Compound, method for producing same, polymerizable composition, polymer, holographic recording medium, optical material, and optical component
JP6089867B2 (ja) ホログラム記録媒体用組成物及びこれを用いたホログラム記録媒体並びに重合性化合物
JP2016222566A (ja) 含チオフェン環スルフィド基を有する化合物、及び光反応性組成物
CN115385834B (zh) 一种高折射率树枝状（甲基）丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用
CN114621180B (zh) 一种含噻吩结构的(甲基)丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用
WO2010047904A1 (en) Method for modulating light of photore-fractive composition without external bias voltage
KR20080038026A (ko) 광변색 포토폴리머 조성물 및 이의 용도
CN114591218B (zh) 一种含咔唑结构的(甲基)丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用
JP4608853B2 (ja) ホログラム記録用組成物、チオフェン環化合物及びホログラム記録媒体
CN114890896B (zh) 一种树枝状（甲基）丙烯酸酯类单体及其制备方法和应用
WO2024063135A1 (ja) 化合物、重合性組成物、重合体、ホログラム記録媒体、光学材料、並びに光学部品
JP5998722B2 (ja) ホログラム記録媒体用組成物及びこれを用いたホログラム記録媒体
WO2024005140A1 (ja) 化合物、重合性組成物、重合物、ホログラム記録媒体、光学材料、並びに光学部品
CN117700744A (zh) 一种聚倍半硅氧烷及包含其的光致聚合物型全息记录介质
TW202432519A (zh) 化合物、聚合性組合物、聚合物、全像記錄媒體、光學材料、及光學零件
JP6048078B2 (ja) ホログラム記録媒体用組成物及びこれを用いたホログラム記録媒体並びにそれらの製造方法
JP5861383B2 (ja) ホログラム記録媒体用組成物
KR20060059641A (ko) 아미드계 변성실리콘을 활용한 홀로그램 저장용 광고분자 및 이의 제조방법
KR20240077211A (ko) 염료 화합물, 포토폴리머 조성물, 홀로그램 기록 매체, 광학 소자 및 홀로그래픽 기록 방법

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant