CN114556161B

CN114556161B - 防反射构造体

Info

Publication number: CN114556161B
Application number: CN201980101384.7A
Authority: CN
Inventors: 佐藤英秋; 上门洋祐; 冈田泰幸; 花冈真悟; 高桥幸男; 森本俊辅
Original assignee: Otsuka Techno Corp
Current assignee: Otsuka Techno Corp
Priority date: 2019-10-18
Filing date: 2019-11-25
Publication date: 2024-06-11
Anticipated expiration: 2039-11-25
Also published as: CN114556161A; JP2021067735A; US20240036233A1; TW202122831A; WO2021075066A1; EP3828599C0; EP3828599A1; JP6843400B1; EP3828599B1; EP3828599A4; EP3828599B8

Abstract

防反射构造体包括：主体，所述主体由含有黑色的色料的原料构成；以及防反射构造，所述防反射构造形成于所述主体的外表面，所述防反射构造包括：多个凹部，所述多个凹部相对于所述外表面凹陷而形成；以及基座部，所述基座部形成相邻的所述凹部的边界部并在所述外表面具有顶部，所述凹部的深度方向上的所述基座部的截面曲线包含形成为曲线状的所述顶部，包含所述曲线状的所述顶部的一部分作为圆弧的假想圆具有50μm以下的直径φ。

Description

防反射构造体

技术领域

本发明涉及防反射构造体。

背景技术

以往，作为抑制光的反射的防反射构造体，例如提出了专利文献1及2所记载的构造体。

专利文献1公开了一种防反射构造部，该防反射构造部具备：基础构造部，所述基础构造部排列多个构造单元而构成，所述构造单元设置在基准面上并具有与基准面所成的角α成为预定角度的第一侧面；以及多个微小凹凸部，所述多个微小凹凸部形成于基础构造部的表面，并以预定的波长以下的周期规则地排列。

专利文献2公开了一种防反射膜，所述防反射膜在至少一方的表面侧由基材层构成，所述基材层由对入射到该表面的辐射线的波长示出防反射特性的光学透明材料构成。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第5512269号公报

专利文献2：日本特表2001-517319号公报

发明内容

发明所要解决的课题

近年来，工业产品的设计多样化，外观设计有时会对产品的销售造成影响。因此，除了构成产品的主体的材质以外，对于能够从外部目视确认的材质也要求多样的质感。例如，即使外观仅为黑色，有时也要求更深的黑色。

另外，随着设计的多样化，有时难以对产品自身的内外表面进行防反射加工。在该情况下，通过在产品的内外表面粘贴防反射构造膜，能够对产品的内外表面赋予防反射功能。

因此，本发明的目的在于提供一种能够表现出优异的防反射功能的防反射构造体。

用于解决课题的技术方案

本发明的一个方面的防反射构造体包括：主体，所述主体由含有黑色的色料的原料构成；以及防反射构造，所述防反射构造形成于所述主体的外表面，所述防反射构造包括：多个凹部，所述多个凹部相对于所述外表面凹陷而形成；以及基座部，所述基座部形成相邻的所述凹部的边界部并在所述外表面具有顶部，所述凹部的深度方向上的所述基座部的截面曲线包含形成为曲线状的所述顶部，包含所述曲线状的所述顶部的一部分作为圆弧的假想圆具有50μm以下的直径φ。

发明效果

根据本发明的一个方面的防反射构造体，由于防反射构造的基座部的顶部的假想圆的直径为50μm以下，因此能够表现出优异的防反射功能。

附图说明

图1是本发明的一个实施方式的防反射构造膜的示意性立体图。

图2是图1的防反射构造的主要部分放大图。

图3是沿着图2的III-III线剖开所述防反射构造时出现的剖视图。

图4是示出基座部的截面曲线的图。

图5是用于说明所述防反射构造膜的制造工序的图。

图6是一对夹送辊的放大剖视图。

图7是示出所述防反射构造的变形例的图。

图8是示出所述防反射构造的变形例的图。

图9是示出所述防反射构造的变形例的图。

图10是示出所述防反射构造膜的制造工序的变形例的图。

图11是示出所述防反射构造膜的制造工序的变形例的图。

图12是从上方观察本发明的一个实施方式的防反射构造成形体(透镜筒)的概略结构图。

图13是从下方观察本发明的一个实施方式的防反射构造成形体(透镜筒)的概略结构图。

图14A及图14B是按照工序顺序示出图12及图13所示的防反射构造成形体的制造方法的图。

图15是在实施例的反射率的测定中使用的装置的概略结构图。

图16是示出实施例的反射率测定结果的图。

图17是示出实施例的反射率测定结果的图。

图18是示出实施例的反射率测定结果的图。

图19是用于说明凹部的深度D与凹部的间距P的关系的图。

图20是示出实施例的反射率测定结果的图。

图21是示出实施例的反射率测定结果的图。

图22是示出实施例的反射率测定结果的图。

具体实施方式

<本发明的实施方式>

首先，列举本发明的实施方式进行说明。

本发明的一个实施方式的防反射构造体包括：主体，所述主体由含有黑色的色料的原料构成；以及防反射构造，所述防反射构造形成于所述主体的外表面，所述防反射构造包括：多个凹部，所述多个凹部相对于所述外表面凹陷而形成；以及基座部，所述基座部形成相邻的所述凹部的边界部并在所述外表面具有顶部，所述凹部的深度方向上的所述基座部的截面曲线包含形成为曲线状的所述顶部，包含所述曲线状的所述顶部的一部分作为圆弧的假想圆具有50μm以下的直径φ。

在本发明的一个实施方式的防反射构造体中，可以是，所述假想圆的直径φ为1.0μm～50μm。

在本发明的一个实施方式的防反射构造体中，可以是，所述主体形成为具有包括所述外表面的第一面及所述第一面的相反侧的第二面的层状。

在本发明的一个实施方式的防反射构造体中，可以是，所述凹部的深度D为小于所述层状的所述主体的厚度T的1/2的大小。

在本发明的一个实施方式的防反射构造体中，可以是，所述层状的所述主体的厚度T为0.01mm～5mm，所述凹部的深度D为0.005mm～2.5mm。

在本发明的一个实施方式的防反射构造体中，可以是，所述凹部在所述凹部的深度方向上的剖视时具有相互交叉的一对倾斜面，所述一对倾斜面之间的角度θ为90°以下。

在本发明的一个实施方式的防反射构造体中，可以是，所述一对倾斜面之间的角度θ为5°～90°。

<本发明的实施方式的详细说明>

接着，参照附图对本发明的实施方式进行详细说明。

图1是本发明的一个实施方式的防反射构造膜1的示意性立体图。

作为本发明的防反射构造体的一例的防反射构造膜1包括：膜主体2，所述膜主体2具有第一面3及第一面3的相反侧的第二面4；以及防反射构造5，所述防反射构造5形成于膜主体2的第一面3。

膜主体2例如形成为长方形。防反射构造膜1只要是具有挠性的膜状，也可以不是长方形。例如，防反射构造膜1可以是正方形，也可以是圆形。另外，膜主体2的厚度T例如可以为0.01mm～5mm。此外，只要形成为层状，则膜主体2也可以由其他的名称(例如，片主体)定义。例如，也可以是，在厚度T为0.25mm以下的情况下称为膜主体，在厚度T超过0.25mm的情况下称为片主体。

作为膜主体2的基底原料，没有特别限制，例如可列举天然橡胶、合成橡胶、(合成)树脂等，优选使用合成树脂。作为合成树脂，例如可列举苯乙烯树脂、PP树脂、PE树脂、PVC树脂、PET树脂、PTFE树脂、PEEK树脂、PPS树脂、COP树脂、LCP树脂、硅酮树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、聚酰胺树脂、聚碳酸酯树脂等热塑性树脂。其中，更优选使用聚碳酸酯树脂。需要说明的是，上述的基底原料可以分别单独使用或一并使用。

也就是说，膜主体2可以是以单层将所述多个基底原料的混合物成形而得到的膜，也可以是以不同的层将所述多个基底原料成形并将该多个层层叠而得到的多层膜。在后者的情况下，也可以是1个层具有比较大的厚度并对膜主体2赋予强度的第二面4侧的基材膜(基材层)，层叠于该基材膜的剩余的层是形成有防反射构造5并对膜主体2赋予防反射功能的第一面3侧的功能层。

另外，膜主体2的基底原料也可以含有用于对膜主体赋予黑色的黑色的色料。作为黑色的色料，没有特别限制，例如可列举炭黑、石墨、钛黑等。另外，作为黑色的色料相对于基底原料的含有比例的一例，例如，相对于聚碳酸酯树脂100质量份，炭黑为0.1～15质量份。黑色的色料的含有比例根据膜主体2的用途适当变更即可。

另外，膜主体2的基底原料可以根据需要含有玻璃纤维、碳纤维、微纤维、碳纳米管、纤维素纳米纤维等填料。

膜主体2的第一面3是在防反射构造膜1中形成有防反射构造5的面。由于膜主体2的第一面3是将防反射构造膜1粘贴于粘贴对象构造物(未图示)时的表面侧，因此也可以称为膜主体2的表面。

另一方面，膜主体2的第二面4是在防反射构造膜1中未形成防反射构造5的平滑面。由于膜主体2的第二面4是防反射构造膜1相对于粘贴对象构造物(未图示)的粘贴面，因此也可以称为膜主体2的背面。另外，也可以在膜主体2的第二面4形成有用于与粘贴对象构造物粘接的粘接层(未图示)。

图2是图1的防反射构造5的主要部分放大图。图3是沿着图2的III-III线剖开防反射构造5时出现的剖视图。在图2中，为了清楚，透视看到的凹部6的倾斜面11、顶端部10仅示出一部分的凹部6。

参照图2及图3，防反射构造5包括多个凹部6和形成相邻的凹部6的边界部并包围各凹部6的基座部7。

各凹部6从设定于基座部7的顶部8的高度位置的基座表面9朝向膜主体2的厚度方向内部凹陷而形成。也就是说，各凹部6是由锥形的中空空间构成的凹部，该锥形的中空空间具有以作为配置于膜主体2的内部的点状的顶部的顶端部10为中心朝向基座表面9扩展的倾斜面11。另外，各凹部6通过基座部7而与相邻的凹部6独立地设置。

各凹部6具有四边形(正方形)的开口部12。凹部6构成具有从该开口部12的各边朝向顶端部10倾斜并在顶端部10合流为1个的第一倾斜面11A、第二倾斜面11B、第三倾斜面11C及第四倾斜面11D的四棱锥形凹部。因此，如图3所示，凹部6在膜主体2的厚度方向的截面中具有相互交叉的一对倾斜面11。此外，在图3中，示出了相互相向的倾斜面11A和倾斜面11D。另外，在图2及图3中，为了清楚，仅在一个凹部6中示出第一倾斜面11A、第二倾斜面11B、第三倾斜面11C及第四倾斜面11D。

参照图3，在各凹部6中，相互相向的倾斜面11之间的角度θ例如为90°以下，优选为5°～90°，进一步优选为5°～60°。

另外，各凹部6的深度D(从基座表面9到顶端部10的距离)优选为膜主体2的厚度T的1/2以下的大小，例如也可以为0.005mm～2.5mm。通过设为D≤1/2T，能够将在膜主体2未形成凹部6那样的中空部分的部分确保得比较厚，因此能够对膜主体2赋予适当的强度。

另外，彼此相邻的凹部6的间距P(顶端部10彼此的距离)也可以为0.01mm～1mm。

此外，凹部6的开口部12的直径(宽度)W例如能够通过确定倾斜面11之间的角度θ、凹部6的深度D及凹部6的间距P来确定。作为开口部12的宽度W的具体范围，例如也可以是0.01mm～1mm。

接着，参照图4，对凹部6的顶端部10及基座部7的顶部8的形状进行说明。图4是示出基座部7的截面曲线30的图。

图4所示的截面曲线30示出基座部7的截面形状。截面曲线30例如能够使用激光显微镜等来制作。例如，将沿着膜主体2的第一面3的方向设为X/Y方向，将与该X/Y方向正交的凹部6的深度方向设为Z方向，在X/Y各自的方向上使激光显微镜的激光机构进行二维扫描。由此，由各倾斜面11反射的激光入射到激光显微镜的受光元件。然后，基于该反射光的光量及激光显微镜的透镜的高度等，得到基座部7的截面曲线30(截面形状)。

如图4所示，各凹部6的顶端部10在膜主体2的厚度方向的截面中形成为曲线状(弧状)。并且，包含该曲线状的顶端部10的一部分作为圆弧的假想圆6C例如具有50μm以下的直径φ2。直径φ2优选为1.0μm～50μm，进一步优选为1.0μm～20μm。

在该实施方式中，如图2所示，基座部7形成为格子状，在各格子窗的部分各形成有1个凹部6。由此，多个凹部6排列为格子图案。因此，基座部7的顶部8形成为相邻的凹部6的棱线部。

另外，如图4所示，基座部7的顶部8在膜主体2的厚度方向的截面中形成为曲线状(弧状)。并且，包含该曲线状的顶部8的一部分作为圆弧的假想圆7C例如具有50μm以下的直径φ。直径φ优选为1.0μm～50μm，进一步优选为1.0μm～20μm。

并且，在该防反射构造5中，基座表面9(顶部8)及凹部6的倾斜面11也可以在膜主体2的原料露出的状态下被精加工。也就是说，基座表面9及凹部6的倾斜面11未被由与膜主体2的原料不同的原料构成的薄膜等覆盖，另外，凹部6并未由其他树脂材料等回填，而是维持为中空状态。

图5是用于说明防反射构造膜1的制造工序的图。图6是一对夹送辊15的放大剖视图。

为了制造防反射构造膜1，例如将前述的基底原料及根据需要添加的添加剂(例如，色料、填料等)投入到挤压机(未图示)中，从挤压机挤压成形。由此，对膜主体2进行成形。在挤压成形工序中，例如通过从挤压机所具备的T型冲模13挤压基底原料，从而使原料成为膜状即可。另外，在将膜主体2设为多层的情况下，也可以通过一起挤压多种原料而形成具备多层的膜主体2。被挤压的膜主体2通过冷却辊14而固化。

接着，通过在纵向拉伸机47通过，从而膜主体2在纵轴方向(膜主体2的行进方向)上被拉伸，然后，通过在横向拉伸机48通过，在纵轴方向上被拉伸的膜主体2进一步在横轴方向(与所述行进方向正交的方向)上被拉伸。由此，可得到在纵轴方向及横轴方向这2轴上拉伸的膜主体2(双轴拉伸膜)。

接下来的工序是在膜主体2形成防反射构造5的转印工序。在转印工序中，双轴拉伸后的膜主体2例如夹入到上下一对夹送辊15之间。

如图6所示，在一对夹送辊15的一方设置有转印图案16。

在转印图案16上形成有与防反射构造5的凹部6对应的凸部17和包围该凸部17的格子状且与防反射构造5的基座部7对应的凹部18。也就是说，转印图案16由防反射构造5的相反图案形成。因此，凸部17的顶端部(未图示)形成为具有与顶端部10的假想圆6C的直径φ2相同的直径的弧状，凹部18的顶部(未图示)形成为具有与顶部8的假想圆7C的直径φ相同的直径的弧状。这样的转印图案16例如能够通过利用金刚石刀具等精密地加工夹送辊15的表面而形成。另外，通过对夹送辊15的表面实施镀敷加工、激光加工等，也能够形成转印图案16。

并且，通过在膜主体2通过一对夹送辊15之间时，将转印图案16转印到膜主体2的第一面3，从而对膜主体2的第一面3进行压花加工。由此，在膜主体2的第一面3形成防反射构造5。之后，通过利用卷取辊49将该膜主体2卷取，从而得到防反射构造膜1。

需要说明的是，在图5中，在直到挤压并卷取膜主体2为止的一系列工序的中途设置有转印工序，但转印工序也可以是其他方法。例如，也可以通过向挤压后的膜主体2的第一面3压靠具有与转印图案16相同的图案的加压板，从而在膜主体2上对转印图案进行加压转印。

以上，根据本实施方式的防反射构造膜1，由于防反射构造5的基座部7的顶部8的假想圆7C的直径φ为50μm以下，因此能够抑制入射到膜主体2的第一面3(基座表面9)的光的反射。其结果是，能够表现出优异的防反射功能。另外，由于防反射构造5的基座部7的顶部8为格子状，不是独立的锐利的形状，因此即使在膜主体2的第一面3产生某种接触，也能够抑制顶部8的一部分破损。由此，能够防止不需要的颗粒的产生，并且能够防止顶部8的形状变化，因此能够维持防反射构造5的防反射功能。

另外，在该实施方式中，在防反射构造5中，四棱锥的凹部6沿着相互正交的纵向及横向规则地排列，因此能够均等地抑制基座表面9中的光的反射。

而且，由于防反射构造体为防反射构造膜1，因此在难以对产品自身的内外表面进行防反射加工的情况(例如，产品的内外表面为曲面的情况)下，通过在该内外表面粘贴防反射构造膜1，也能够对产品的内外表面赋予防反射功能。

以上，对本发明的一个实施方式进行了说明，但本发明也能够以其他方式实施。

例如，在前述的实施方式中，防反射构造5的凹部6的开口部12为正方形，但如图7所示，也可以为长方形。更具体而言，开口部12具有相互相向的第一边19A及第二边19B、以及相互相向的第三边19C及第四边19D。在该凹部6中，从第一边19A及第二边19B分别延伸的第一倾斜面20A及第二倾斜面20B形成线状的顶部21。另一方面，从第三边19C及第四边19D分别延伸的第三倾斜面20C及第四倾斜面20D在线状的顶部21的各端部，在与第一倾斜面20A及第二倾斜面20B之间形成点状的顶部22。

另外，在前述的实施方式中，凹部6形成为四棱锥的凹部6，但例如也可以如图8所示为圆锥形的凹部6，也可以如图9所示为三棱锥的凹部6。在三棱锥的凹部6的情况下，通过将多个三棱锥的凹部6排列成桁架状，能够将顶部8形成为棱线部。

另外，在前述的实施方式中，作为防反射构造5的加工工艺，以挤压成形(双轴拉伸)及辊图案转印为一例而示出，但除此以外，也可以采用层压UV、压花加工、丝网印刷、注射成形等加工工艺。

例如，也可以通过图10及图11所示的层压工艺形成膜主体2，对该膜主体2进行辊图案转印。

具体而言，图10的工序是挤压层压工序。也就是说，在涂敷部51中锚固涂层(粘接辅助材料)被涂敷于基材50，然后，被输送到干燥部52。对于干燥后的基材50，层叠(层压)另外挤压的熔融状态的膜状树脂53，利用冷却辊54进行压接，由此固化，得到膜主体2。然后，通过该膜主体2通过一对夹送辊15，在膜主体2形成防反射构造5。

另一方面，具体而言，图11的工序是干燥层压工序。也就是说，在涂敷部56中锚固涂层(粘接辅助材料)被涂敷于基材55，然后，被输送到干燥部57。对于干燥后的基材55，层叠(层压)另外准备的膜58，利用一对钢辊59进行热压接，由此得到膜主体2。然后，通过该膜主体2通过一对夹送辊15，在膜主体2形成防反射构造5。

本发明的防反射构造膜例如可以适合用作面向汽车的内饰件(仪表板等)、汽车的外饰件(前照灯、尾灯等)、照相机透镜的镜筒、HUD(平视显示器)的防反射构造、面向光学传感器的防反射构造、提高手表的设计性的构造、以及粘贴于其他各种工业产品的外表面的膜。

另外，在前述的实施方式中，作为本发明的实施方式的一例，对防反射构造膜的结构进行了说明，但本发明不限于膜，能够应用于各种形状的工业产品。例如，也可以是具备前述的防反射构造5的防反射构造成形体。图12及图13示出作为防反射构造成形体的一例的透镜筒31。

作为本发明的防反射构造体的一例的透镜筒31具备筒状部33作为主体部，所述筒状部33划分作为用于收容透镜(未图示)的中空的内部空间的一例的透镜收容部32。

筒状部33具有直径相对较大的第一部分34和直径比第一部分34小的第二部分35连结而成的二级构造，在它们的边界部遍及筒状部33的整周地形成有台阶部36。第一部分34的内径例如可以为3.0mm～5.0mm，第二部分35的内径例如可以为3.0mm～5.0mm。另外，筒状部33的轴向的高度例如可以为0.50mm～5.0mm。

在筒状部33中，在第二部分35侧的端部(一端部)设置有环状顶部37。环状顶部37形成为在中央部具有用于向透镜收容部32取入光的开口38的圆环板状。环状顶部37的透镜收容部32的相反侧的表面(外表面39)构成包围开口38的圆形区域，遍及该圆形区域的整体形成有防反射构造5。另一方面，环状顶部37的透镜收容部32侧的表面(内表面40)成为未形成防反射构造5的平滑面。

环状顶部37的开口38在厚度方向上贯通环状顶部37，形成为在该厚度方向上具有直径朝向透镜收容部32的相反侧扩展的锥状的周面41的圆形。环状顶部37的开口38的直径(最大直径)例如相对于环状顶部37的外径(例如，4.0mm～7.0mm)为1.0mm～3.0mm。

另外，在筒状部33中，第一部分34侧的端部(另一端部)以第一部分34的内径尺寸开放。

并且，该透镜筒31由筒状部33及环状顶部37成为一体的成形件形成。

为了制造透镜筒31，如图14A所示，准备成形用的模具(例如，凹模42及凸模43)。在凹模42的内表面(内部底面)形成有与环状顶部37的开口38对应的凸部44和以包围该凸部44的方式排列多个的多个锥形凸部45。锥形凸部45由透镜筒31的凹部6的相反图案形成。然后，通过使凹模42及凸模43对齐，进行合模工序。

接着，如图14B所示，向合模后的状态的凹模42与凸模43之间注入熔融状态的基底原料46。作为基底原料46，使用前述的基底原料。另外，在基底原料46含有填料、添加剂的情况下，在向模具注入之前在基底原料46中混合填料即可。此时的树脂温度例如可以为280℃～350℃，填充压力例如可以为50MPa～230MPa，注射速度例如可以为50mm/s～220mm/s。

接着，对注入的基底原料46进行保压、冷却。此时的保持压力例如可以为50MPa～140MPa。另外，将填充时间与保压时间相加而得到的注射时间例如可以为1秒～10秒。冷却后，进行开模，得到具有前述的防反射构造5的透镜筒31。

此外，能够在权利要求书所记载的事项的范围内实施各种设计变更。

本申请对应于在2019年10月18日向日本专利局提交的日本特愿2019-191252号，该申请的全部公开内容通过引用并入本文。

实施例

接着，基于实施例对本发明进行说明，但本发明并不由下述的实施例限定。

<实施例1～6>

(1)膜的制造

使用配合有炭黑的聚碳酸酯树脂(帝人株式会社制“PANLITE(注册商标)”)的颗粒，按照图5的工序将膜挤压成形，转印预定的防反射构造图案，由此得到具有防反射构造5的膜1(膜厚度T＝0.3mm)。关于所得到的防反射构造膜1，防反射构造5的顶部8的假想圆7C的直径φ、凹部6的间距P及凹部6的深度D如以下所示的表1所示。

(2)反射率的测定

反射率的测定使用图15所示的测定装置23进行。具体而言，在积分半球24上的测定位置(狭缝部25)配置由实施例1～6分别得到的样品26，使从光源27照射的光反射。反射光由周围的积分半球24散射，通过检测器28检测平均化后的光，由此求出总反射率(正反射率+漫反射率)(测定波长范围：200nm～800nm)。关于漫反射率，为了排除正反射光，在取下光源27和位于对象位置的盖29的状态下进行测定。将结果示于表1及图16。另外，为了参考，将防反射构造5的顶部8的直径φ与反射率的关系示于图17。需要说明的是，在表1及图17中，作为一例示出测定出的反射率中的测定波长为435nm、546nm及700nm时的反射率。

[表1]

表1

(3)评价

根据表1及图16的结果能够确认，如果是实施例1～6，则在可见光线的波长范围的大致整个区域中能够实现小于5％这样的低反射率。另外，根据图17大致能够确认，如果防反射构造5的顶部8的直径φ为20μm以下，则在可见光线的波长范围的大致整个区域中能够实现小于2.5％这样的低反射率。

<实施例7>

(1)膜的制造

使用配合有炭黑的聚碳酸酯树脂(帝人株式会社制“PANLITE(注册商标)”)的颗粒，按照图5的工序将膜挤压成形，转印预定的防反射构造图案，由此得到具有防反射构造5的膜1(膜厚度T＝0.3mm)。关于所得到的防反射构造膜1，防反射构造5的顶部8的假想圆7C的直径φ、凹部6的间距P及凹部6的深度D如以下所示的表2所示。在表2中，作为参考也示出实施例1的防反射构造的规格。

(2)反射率的测定

反射率的测定使用图15所示的测定装置23进行。测定方法如上所述。将结果示于表2及图18。

[表2]

表2

(3)评价

根据表2及图18的结果可知，如果防反射构造5的顶部8的直径φ相同，则当凹部6的深度D变浅时，反射率随之变高。然而，如果如实施例7那样直径φ为10μm以下，则与实施例1(深度D＝0.130mm)相比反射率变高，但可知在实用上能够实现足够优异的防反射功能。也就是说，即使是实施例7的深度D，也能够实现足够的防反射功能，因此通过使凹部6的深度D变浅，减少膜主体2的中空部分，能够兼顾膜主体2的强度维持和优异的防反射功能。

<实施例8～16>

接着，通过实施例8～16示出倾斜面11之间的角度θ如何与反射率有关。在实施例8～16中，将角度θ及防反射构造5的顶部8的直径φ设为恒定条件，相对于该恒定条件变更凹部6的深度D来进行评价。

此外，以下的结果是将凹部6的深度D作为变量时的评价结果，但即使变更凹部6的间距P也成为同样的结果。也就是说，如图19所示，如果倾斜面11之间的角度θ恒定，则当加深凹部6的深度D时，凹部6的间距P也随之变大。例如，当将具有深度D1、间距P1的凹部6的深度D1如虚线那样设为深度D2时，间距P1也随之向间距P2增加。因此，图20～图22所示的评价结果是将凹部6的深度D作为变量时的评价结果，但在将凹部6的间距P作为变量的情况下也成为同样的结果。

(1)成形体的制造

使用配合有炭黑的聚碳酸酯树脂(帝人株式会社制“PANLITE(注册商标)”)的颗粒，按照图14A及图14B的工序对成形体进行注射成形。由此，得到具有防反射构造5的成形体。

成形条件例如设为：树脂温度＝约320℃、注射压力(填充压力＝约210MPa、保持压力＝约110MPa)、注射速度＝约200mm/s、注射时间(填充时间+保压时间)＝约1.6秒。关于所得到的防反射构造成形体，防反射构造5的顶部8的直径φ、倾斜面11之间的角度θ以及凹部6的深度D如以下所示的表3所示。

(2)反射率的测定

反射率的测定使用图15所示的测定装置23进行。测定方法如上所述。将结果示于表3及图20～图22。

[表3]

表3

(3)评价

根据表3及图20～图22的结果能够确认，实施例8～16为成形体的实施例，在可见光的波长范围的大致整个区域中能够实现小于5％这样的低反射率。另外，在将角度θ及防反射构造5的顶部8的直径φ设为恒定条件并变更了凹部6的深度D的任一实施例中，都能够实现该低反射率。

另外，根据表3及图20～图22的结果能够确认，如果倾斜面11之间的角度θ＝50°(实施例8～10)，则与角度θ＝70°及90°(实施例11～16)的情况相比，能够实现低反射率。也就是说，根据该结果可知，倾斜面11之间的角度θ如果大致为60°以下，则能够实现优异的防反射功能。

附图标记说明

1 防反射构造膜

2 膜主体

3 第一面

4 第二面

5 防反射构造

6 凹部

6C 假想圆

7 基座部

7C 假想圆

8 顶部

9 基座表面

10 顶端部

11 倾斜面

11A 第一倾斜面

11B 第二倾斜面

11C 第三倾斜面

11D 第四倾斜面

12 开口部

13 挤压机

14 冷却辊

15 夹送辊

16 转印图案

17 凸部

18 凹部

19 边

19A 第一边

19B 第二边

19C 第三边

19D 第四边

20 倾斜面

20A 第一倾斜面

20B 第二倾斜面

20C 第三倾斜面

20D 第四倾斜面

21 顶部

22 顶部

30 截面曲线

31 透镜筒

32 透镜收容部

33 筒状部

34 第一部分

35 第二部分

36 台阶部

37 环状顶部

38 开口

39 外表面

40 内表面

41 周面

42 凹模

43 凸模

44 凸部

45 锥形凸部

46 基底原料。

Claims

1.一种防反射构造体，其中，所述防反射构造体包括由具有形成有防反射构造的外表面并由含有黑色的色料的原料构成的成形体形成的主体，

所述防反射构造是由所述主体的含有所述黑色的色料的原料部分构成的构造，并包括：多个凹部，所述多个凹部相对于所述外表面凹陷而形成；以及基座部，所述基座部形成相邻的所述凹部的边界部并在所述外表面具有形成直线状的棱线的顶部，所述基座部向外侧露出，

所述凹部的深度方向上的所述基座部的截面曲线包含跨越以所述棱线为边界而相邻的所述凹部并形成为曲线状的所述顶部，

包含所述曲线状的所述顶部的包含所述棱线在内的一部分作为圆弧的假想圆具有从所述外表面向所述凹部的深度方向为50μm以下的直径φ。

2.一种防反射构造体，其中，所述防反射构造体包括具有形成有防反射构造的外表面并由含有黑色的色料的原料构成的主体，

包含所述曲线状的所述顶部的包含所述棱线在内的一部分作为圆弧的假想圆具有从所述外表面向所述凹部的深度方向为50μm以下的直径φ，

彼此相邻的所述凹部的间距为0.01mm～1mm。

3.一种防反射构造体，其中，所述防反射构造体包括具有形成有防反射构造的外表面并由含有黑色的色料的原料构成的主体，

包含所述曲线状的所述顶部的包含所述棱线在内的一部分作为圆弧的假想圆具有从所述外表面向所述凹部的深度方向为1.0μm～50μm的直径φ。

4.根据权利要求1所述的防反射构造体，其中，

所述假想圆的直径φ为1.0μm～50μm。

5.根据权利要求3所述的防反射构造体，其中，

彼此相邻的所述凹部的间距为0.01mm～1mm。

6.根据权利要求1或2所述的防反射构造体，其中，

所述主体形成为具有包括所述外表面的第一面及所述第一面的相反侧的第二面的层状。

7.根据权利要求6所述的防反射构造体，其中，

所述凹部的深度D为所述层状的所述主体的厚度T的1/2以下的大小。

8.根据权利要求7所述的防反射构造体，其中，

所述层状的所述主体的厚度T为0.01mm～5mm，所述凹部的深度D为0.005mm～2.5mm。

9.根据权利要求1或2所述的防反射构造体，其中，

所述凹部在所述凹部的深度方向上的剖视时具有相互交叉的一对倾斜面，

所述一对倾斜面之间的角度θ为90°以下。

10.根据权利要求9所述的防反射构造体，其中，

所述一对倾斜面之间的角度θ为5°～90°。