CN114478075A - 一种立体抛釉瓷砖的镀金工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明属于瓷砖制备技术领域,公开了一种立体抛釉瓷砖的镀金工艺。该镀金工艺包括以下步骤:在砖坯表面制作图案层,在图案层上铺撒熔块粉,第一次烧结,抛光、清洗,施加凸釉料,第二次烧结,凸釉料形成凸釉层,涂覆涂料,再镀金,用溶剂清洗,制得立体抛釉瓷砖;熔块粉包括二氧化硅、氧化镁、三氧化二铝、氧化钾、氧化铁、氧化钠、氧化钙、氧化锌、氧化钡、氧化锆、氧化硼;凸釉料包括三氧化二铝、二氧化硅、氧化铁、氧化钙、氧化镁、氧化钾、氧化钠、二氧化钛、氧化锶、氧化铷、氧化锂、氧化铅、氧化锌、氧化硼、氧化钡、氧化锆、五氧化二磷、氧化镉。熔块粉与凸釉料经过烧结后的相融性好,制得的立体抛釉瓷砖保持良好的立体效果。
Description
技术领域
本发明属于瓷砖制备技术领域,特别涉及一种立体抛釉瓷砖的镀金工艺。
背景技术
随着人们生活水平的提高,对室外、室内瓷砖的装饰效果要求也逐渐提高。现有技术中在瓷砖表面的凹面镀金可以稍微提升瓷砖美感,但立体效果较差;如果在瓷砖表面设置凸起部分,然后镀金,则往往凸起表面经过镀金后,能增加立体效果,但往往由于凸起与瓷砖平面之间的结合性能较差,容易出现凸起以及凸起表面的镀金层脱落的情况。
因此,亟需提供一种具有凸起立体美感的瓷砖,且凸起部分与瓷砖整体的结合性能好,不易出现凸起以及凸起表面的镀金层脱落的情况。
发明内容
本发明旨在至少解决上述现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提出一种立体抛釉瓷砖的镀金工艺,通过所述镀金工艺制得的立体抛釉瓷砖含凸起(凸釉层)部分,具有显著的立体效果,且凸起部分与瓷砖整体的结合性好,不易出现凸起或及凸起表面的镀金层脱落的情况。
本发明的发明构思为:本发明所述镀金工艺在砖坯表面制作图案层,然后在图案层上铺撒特定组分构成的熔块粉,经过第一次烧结形成透明层,透明层经过抛光、清洗后,再在透明层表面部分施加特定组分的凸釉料,然后进行第二次烧结,经过第二次烧结后,低温烧结凸釉料形成凸釉层(即凸起),再在凸釉层或透明层表面涂覆涂料,形成涂料层,再进行整体镀金,获得镀金层,最后用溶剂清洗涂料层,即制得立体抛釉瓷砖,含凸起部分,具有显著的立体效果,且凸起(凸釉层)与瓷砖整体的结合性好,不易出现凸起(凸釉层)或及凸起(凸釉层)表面的镀金层脱落的情况。由于本发明的所述熔块粉与凸釉料经过烧结后的相融性好,因此,使得凸釉层与透明层的结合性能好,不易出现凸釉层或及凸釉层表面的镀金层脱落的情况,可使得本发明制得的立体抛釉瓷砖可长时间保持良好的立体效果,提升了瓷砖的美感。
一种立体抛釉瓷砖的镀金工艺,包括以下步骤:
在砖坯表面制作图案层,然后在图案层上铺撒熔块粉,经过第一次烧结形成透明层,透明层经过抛光、清洗后,再在透明层表面部分施加凸釉料,然后进行第二次烧结,经过第二次烧结后,凸釉料形成凸釉层,再在凸釉层或透明层表面涂覆涂料,形成涂料层,再进行整体镀金,获得镀金层,最后用溶剂清洗涂料层,即制得所述立体抛釉瓷砖;
所述熔块粉,包括SiO2(二氧化硅)、MgO(氧化镁)、Al2O3(三氧化二铝)、K2O(氧化钾)、Fe2O3(氧化铁)、Na2O(氧化钠)、CaO(氧化钙)、ZnO(氧化锌)、BaO(氧化钡)、ZrO2(氧化锆)、B2O3(氧化硼);
所述凸釉料,包括Al2O3(三氧化二铝)、SiO2(二氧化硅)、Fe2O3(氧化铁)、CaO(氧化钙)、MgO(氧化镁)、K2O(氧化钾)、Na2O(氧化钠)、TiO2(二氧化钛)、SrO(氧化锶)、Rb2O(氧化铷)、Li2O(氧化锂)、PbO(氧化铅)、ZnO(氧化锌)、B2O3(氧化硼)、BaO(氧化钡)、ZrO2(氧化锆)、P2O5(五氧化二磷)、CdO(氧化镉)。
优选的,所述凸釉料的烧失量为0.1-0.2%,优选0.17%。
上述熔块粉经过第一次烧结后形成透明层,熔块粉在本发明中可视为一种釉料,故对透明层进行抛光后形成的瓷砖可称为抛釉瓷砖,由于本发明的抛釉瓷砖具有凸起(凸釉层)部分,因此,本发明制得的抛釉瓷砖进一步可称为立体抛釉瓷砖。
所述砖坯为本领域常规原料。
所述图案层可由常规技术形成,例如由本领域常规釉料形成。
优选的,所述熔块粉的目数为80-200目;进一步优选100-180目。
优选的,所述熔块粉,按重量份数计,包括55-65份的SiO2、0.2-0.3份的MgO、8-9份的Al2O3、2-4份的K2O、0.1-0.2份的Fe2O3、1-2.9份的Na2O、2-3份的CaO、2.5-4份的ZnO、2.5-4份的BaO、0.1-0.5份的ZrO2、1.2-20份的B2O3。
优选的,所述凸釉料,按重量份数计,包括1-1.5份的Al2O3、16-20份的SiO2、0.01-0.05份的Fe2O3、0.01-0.1份的CaO、0.001-0.01份的MgO、1-1.5份的K2O、0.5-1份的Na2O、20-22份的TiO2、0.001-0.01份的SrO、0.01-0.1份的Rb2O、0.1-0.5份的Li2O、30-42份的PbO、1-2份的ZnO、8-15份的B2O3、0.001-0.01份的BaO、0.001-0.01份的ZrO2、0.01-1份的P2O5、2-3份的CdO。
进一步优选的,所述凸釉料,按重量份数计,包括1.22份的Al2O3、18.31份的SiO2、0.014份的Fe2O3、0.031份的CaO、0.001-0.01份的MgO、1.18份的K2O、0.67份的Na2O、20.41份的TiO2、0.001-0.01份的SrO、0.07份的Rb2O、0.2份的Li2O、41.80份的PbO、1.43份的ZnO、10.73份的B2O3、0.001-0.01份的BaO、0.001-0.01份的ZrO2、0.06份的P2O5、2.92份的CdO。
优选的,所述第一次烧结的温度为700-1200℃,第一次烧结的时间为0.5-4小时。
优选的,所述清洗是采用超声波进行清洗,发出超声波的设备的工作电流为3-7安倍,清洗时间根据需要可进行调节,例如为10-60分钟。
优选的,所述第二次烧结的温度为500-650℃,第二次烧结的时间为0.5-5小时。
优选的,所述镀金使用的金属选自钛金、钛银、锆、铜、黄铜、铂金、黄金、锌中的任意一种。
上述涂料为本领域常规涂料,可通过光固化或热固化形成涂料层,涂料层的作用在于遮挡透明层或凸起部分,镀金完成后,通过溶剂清洗作用,可以将涂料层,以及附着在涂料层表面的镀金层一同清洗,从而形成具有立体效果、富有美感的立体抛釉瓷砖。
优选的,铺撒熔块粉时,熔块粉之间可留有空隙(形成透明层的凹面),经第一次烧结,然后进行镀金,再进行抛光、清洗、施加凸釉料、第二次烧结、涂覆涂料、镀金。则最终制得的立体抛釉瓷砖的镀金层可存在于凹面、透明层表面(也称为平面)、凸起部分(凸釉层,也称为凸面),进而使得立体抛釉瓷砖具有极强的立体感和美感。
优选的,所述镀金产生的镀金层在凸釉层和/或透明层表面。
上述溶剂为常规溶剂,例如乙醇、丙酮。
上述立体抛釉瓷砖的镀金工艺制得的立体抛釉瓷砖在装饰领域中的应用。
优选的,所述应用包括在室内、室外的应用,例如在家庭、办公室、会展中心等室内的应用。可提高装饰效果及其美感。
相对于现有技术,本发明的有益效果如下:
本发明所述熔块粉与凸釉料经过烧结后的相融性好,因此,使得凸起部分与透明层的结合性能好,不易出现凸起或及凸起表面的镀金层脱落的情况,也不易出现表面开裂、脱落的情况,可使得本发明制得的立体抛釉瓷砖可长时间保持良好的立体效果,提升了瓷砖的美感。
附图说明
图1为本发明实施例1制得的立体抛釉瓷砖的结构示意图;
图2为本发明实施例1制得的立体抛釉瓷砖的产品效果图。
具体实施方式
为了让本领域技术人员更加清楚明白本发明所述技术方案,现列举以下实施例进行说明。需要指出的是,以下实施例对本发明要求的保护范围不构成限制作用。
以下实施例中所用的原料、试剂或装置如无特殊说明,均可从常规商业途径得到,或者可以通过现有已知方法得到。
以下实施例所用的砖坯、图案层的原料、涂料、溶剂都为本领域常规原料,溶剂可清洗涂料,可通过市售购得。
实施例1:立体抛釉瓷砖的镀金工艺
一种立体抛釉瓷砖的镀金工艺,包括以下步骤:
将砖坯表面擦拭干净,然后通过贴花技法制作图案层,然后在图案层上铺撒熔块粉,经过第一次烧结(第一次烧结的温度为800℃,第一次烧结的时间为3小时)形成透明层,透明层经过抛光、清洗(清洗是采用超声波进行清洗,发出超声波的设备的工作电流为5安倍,清洗时间为40分钟)后,再在透明层表面部分施加凸釉料,然后进行第二次烧结(第二次烧结的温度为650℃,第二次烧结的时间为3小时),经过第二次烧结后,凸釉料形成凸起(凸釉层),再在透明层表面涂覆涂料,形成涂料层,再进行整体镀黄铜,获得镀金层,最后用溶剂丙酮清洗涂料层,即制得立体抛釉瓷砖;
熔块粉,按重量份数计,包括60份的SiO2、0.2份的MgO、9份的Al2O3、2份的K2O、0.2份的Fe2O3、1份的Na2O、2份的CaO、2.5份的ZnO、2.5份的BaO、0.5份的ZrO2、10份的B2O3;
凸釉料,按重量份数计,按重量份数计,包括1.22份的Al2O3、18.31份的SiO2、0.014份的Fe2O3、0.031份的CaO、0.005份的MgO、1.18份的K2O、0.67份的Na2O、20.41份的TiO2、0.003份的SrO、0.07份的Rb2O、0.2份的Li2O、41.80份的PbO、1.43份的ZnO、10.73份的B2O3、0.006份的BaO、0.005份的ZrO2、0.06份的P2O5、2.92份的CdO。
图1为本发明实施例1制得的立体抛釉瓷砖的结构示意图;图1中的100表示砖坯,200表示图案层,300表示透明层,400表示凸釉层,500表示镀金层。
实施例2:立体抛釉瓷砖的镀金工艺
一种立体抛釉瓷砖的镀金工艺,包括以下步骤:
将砖坯表面擦拭干净,然后通过贴花技法制作图案层,然后在图案层上铺撒熔块粉,经过第一次烧结(第一次烧结的温度为900℃,第一次烧结的时间为2小时)形成透明层,透明层经过抛光、清洗(清洗是采用超声波进行清洗,发出超声波的设备的工作电流为5安倍,清洗时间为40分钟)后,再在透明层表面部分施加凸釉料,然后进行第二次烧结(第二次烧结的温度为640℃,第二次烧结的时间为4小时),经过第二次烧结后,凸釉料形成凸釉层,再在凸釉层表面涂覆涂料,形成涂料层,再进行整体镀黄铜,获得镀金层,最后用溶剂清洗涂料层,即制得立体抛釉瓷砖;
熔块粉,按重量份数计,包括65份的SiO2、0.2份的MgO、9份的Al2O3、2份的K2O、0.2份的Fe2O3、1份的Na2O、2份的CaO、2.5份的ZnO、2.5份的BaO、0.5份的ZrO2、12份的B2O3;
凸釉料,按重量份数计,按重量份数计,包括1.22份的Al2O3、20份的SiO2、0.014份的Fe2O3、0.031份的CaO、0.005份的MgO、1.18份的K2O、0.67份的Na2O、20.41份的TiO2、0.003份的SrO、0.07份的Rb2O、0.2份的Li2O、41.80份的PbO、1.43份的ZnO、10.73份的B2O3、0.006份的BaO、0.005份的ZrO2、0.06份的P2O5、2.5份的CdO。
实施例3:立体抛釉瓷砖的镀金工艺
一种立体抛釉瓷砖的镀金工艺,包括以下步骤:
将砖坯表面擦拭干净,然后通过网版印刷的方法制作图案层,然后在图案层上铺撒熔块粉,经过第一次烧结(第一次烧结的温度为1000℃,第一次烧结的时间为1小时)形成透明层,透明层经过抛光、清洗(清洗是采用超声波进行清洗,发出超声波的设备的工作电流为5安倍,清洗时间为40分钟)后,再在透明层表面部分施加凸釉料,然后进行第二次烧结(第二次烧结的温度为630℃,第二次烧结的时间为2小时),经过第二次烧结后,凸釉料形成凸釉层,在部分的透明层表面涂覆涂料,形成涂料层,再进行整体镀黄铜,获得镀金层,最后用溶剂清洗涂料层,即制得立体抛釉瓷砖;
熔块粉,按重量份数计,包括55份的SiO2、0.5份的MgO、9份的Al2O3、2份的K2O、0.2份的Fe2O3、1份的Na2O、2份的CaO、2.5份的ZnO、2.5份的BaO、0.5份的ZrO2、12份的B2O3;
凸釉料,按重量份数计,按重量份数计,包括1.5份的Al2O3、19份的SiO2、0.014份的Fe2O3、0.031份的CaO、0.005份的MgO、1.18份的K2O、0.67份的Na2O、20.41份的TiO2、0.003份的SrO、0.07份的Rb2O、0.2份的Li2O、41.80份的PbO、1.43份的ZnO、10.73份的B2O3、0.006份的BaO、0.005份的ZrO2、0.06份的P2O5、2.5份的CdO。
对比例1
与实施例1相比,对比例1的区别仅在于,对比例1中的凸釉料不包括TiO2、CdO、Rb2O,其余过程与实施例1相同。
产品效果测试
图2为本发明实施例1制得的立体抛釉瓷砖的产品效果图。图2中的颜色偏暗的位置是透明层,颜色较浅的地方为镀金层,立体抛釉瓷砖整体具有良好的立体效果。
本发明实施例1制得的立体抛釉瓷砖在相对湿度为90%,温度为60℃的环境下保持240小时,依然不出现凸釉层或及凸釉层表面的镀金层脱落的情况,也不易出现表面开裂、脱落的情况,可使得本发明制得的立体抛釉瓷砖可长时间保持良好的立体效果,提升了瓷砖的美感。
对比例1制得的立体抛釉瓷砖表面有轻微裂纹,在相对湿度为90%,温度为60℃的环境下保持12小时,出现较大(大于5%)面积的凸釉层部分、镀金层脱落情况。
Claims (10)
1.一种立体抛釉瓷砖的镀金工艺,其特征在于,包括以下步骤:
在砖坯表面制作图案层,然后在图案层上铺撒熔块粉,经过第一次烧结形成透明层,透明层经过抛光、清洗后,再在透明层表面部分施加凸釉料,然后进行第二次烧结,经过第二次烧结后,凸釉料形成凸起,再在凸起部分或透明层表面涂覆涂料,形成涂料层,再进行整体镀金,获得镀金层,最后用溶剂清洗涂料层,即制得所述立体抛釉瓷砖;
所述熔块粉,包括SiO2、MgO、Al2O3、K2O、Fe2O3、Na2O、CaO、ZnO、BaO、ZrO2、B2O3;
所述凸釉料,包括Al2O3、SiO2、Fe2O3、CaO、MgO、K2O、Na2O、TiO2、SrO、Rb2O、Li2O、PbO、ZnO、B2O3、BaO、ZrO2、P2O5、CdO。
2.根据权利要求1所述的镀金工艺,其特征在于,所述熔块粉,按重量份数计,包括55-65份的SiO2、0.2-0.3份的MgO、8-9份的Al2O3、2-4份的K2O、0.1-0.2份的Fe2O3、1-2.9份的Na2O、2-3份的CaO、2.5-4份的ZnO、2.5-4份的BaO、0.1-0.5份的ZrO2、1.2-20份的B2O3。
3.根据权利要求1所述的镀金工艺,其特征在于,所述凸釉料,按重量份数计,包括1-1.5份的Al2O3、16-20份的SiO2、0.01-0.05份的Fe2O3、0.01-0.1份的CaO、0.001-0.01份的MgO、1-1.5份的K2O、0.5-1份的Na2O、20-22份的TiO2、0.001-0.01份的SrO、0.01-0.1份的Rb2O、0.1-0.5份的Li2O、30-42份的PbO、1-2份的ZnO、8-15份的B2O3、0.001-0.01份的BaO、0.001-0.01份的ZrO2、0.01-1份的P2O5、2-3份的CdO。
4.根据权利要求1所述的镀金工艺,其特征在于,所述第一次烧结的温度为700-1200℃,第一次烧结的时间为0.5-4小时。
5.根据权利要求1所述的镀金工艺,其特征在于,所述清洗是采用超声波进行清洗,发出超声波的设备的工作电流为3-7安倍。
6.根据权利要求1所述的镀金工艺,其特征在于,所述第二次烧结的温度为500-650℃,第二次烧结的时间为0.5-5小时。
7.根据权利要求1所述的镀金工艺,其特征在于,所述镀金使用的金属选自钛金、钛银、镐、铜、铂金、锌中的任意一种。
8.根据权利要求1所述的镀金工艺,其特征在于,所述镀金产生的镀金层在凸起部分和/或透明层表面。
9.权利要求1-8任一项所述的镀金工艺制得的立体抛釉瓷砖在装饰领域中的应用。
10.根据权利要求9所述的应用,其特征在于,所述应用包括在室内或室外的应用,所述室内包括家庭、办公室、会展中心。
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- 2022-01-28 CN CN202210109543.1A patent/CN114478075A/zh active Pending
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