CN114464758B - 显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种显示面板及显示装置，显示面板包括：基板，包括第一显示区和第二显示区；发光器件层，设置于基板的一侧，包括多个间隔排布的金属电极；调节层，设置于发光器件层的一侧，光调节层位于第一显示区的部分包括第一光调节部和第二光调节部，第一显示区被配置为与传感器对应；其中，第一光调节部的折射率小于第二光调节部的折射率，第一光调节部在基板上的正投影与金属电极在基板上的正投影至少部分重合。本申请实施例中的入射光在第一光调节部和第二光调节部的临界面发生全反射，绕开遮光的金属电极进入传感器，从而增大了入射光的透过率，增大了传感器的进光量，提升了拍照的成像质量，进而提升了显示面板的产品品质。

Description

显示面板及显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体而言，本申请涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

具有拍照或录像功能的终端(比如手机、平板等)在拍摄时，摄像头需要充足的进光量以保证拍摄画面的清晰度。

为追求高屏占比，减小终端中框与显示屏之间的距离，采用将摄像头设置在屏幕下方，摄像头透过屏幕进行拍摄的技术方案，来实现提高屏占比的目的。在屏下摄像头技术中，摄像头对应区域仍需保留显示单元。在拍照时，有很大一部分光线被显示单元的阳极211等发光器件层遮挡，造成进入摄像头的光强显著减少，物面到像面的传递信息出现丢失和衰减，成像质量显著降低。

综上所述，现有技术的显示面板中存在：将摄像头设置在屏幕的下方，虽然能够提高屏占比，但由于屏幕会削减进入摄像头中的进光量，影响摄像头拍摄效果的技术问题。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种显示面板及显示装置，用以解决现有技术的显示面板中存在将摄像头设置在屏幕的下方，虽然能够提高屏占比，但由于屏幕会削减进入摄像头中的进光量，影响摄像头拍摄效果的技术问题。

第一个方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括：

基板，包括第一显示区和第二显示区，第二显示区至少部分围绕第一显示区；

发光器件层，设置于基板的一侧，包括多个间隔排布的金属电极；

光调节层，设置于发光器件层远离基板的一侧，光调节层位于第一显示区的部分包括相互贴合的第一光调节部和第二光调节部，第一显示区被配置为与传感器对应；

其中，第一光调节部的折射率小于第二光调节部的折射率，第一光调节部在基板上的正投影与金属电极在基板上的正投影至少部分重合。

在本申请的一些实施例中，第一光调节部包括位于光调节层中靠近发光器件层一侧的多个间隔排布的第一挡墙，第一挡墙位于第一显示区，第二光调节部位于第一挡墙远离发光器件层的一侧、并填充于任意两个相邻的第一挡墙之间，第二光调节部至少部分位于第二显示区。

在本申请的一些实施例中，至少部分第一挡墙在基板上的正投影与金属电极在基板上的正投影一一对应设置。

在本申请的一些实施例中，第二光调节部包括位于光调节层中靠近发光器件层一侧的多个间隔排布的第二挡墙，第二挡墙位于第一显示区，第一光调节位于第二挡墙远离发光器件层的一侧、并填充于任意两个相邻的第二挡墙之间，第一光调节部至少部分位于第二显示区。

在本申请的一些实施例中，第二挡墙在基板上的正投影至少部分位于两个相邻的金属电极在基板上的正投影之间。

在本申请的一些实施例中，第一光调节部包括位于光调节层中靠近发光器件层一侧的多个间隔排布的第一挡墙，第一挡墙位于第一显示区，第二光调节部填充于任意两个相邻的第一挡墙之间，第二光调节部至少部分位于第二显示区。

在本申请的一些实施例中，第一光调节部沿垂直于基板的方向上的厚度等于第二光调节部沿垂直于基板的方向上的厚度，至少部分第一挡墙在基板上的正投影与金属电极在基板上的正投影一一对应设置。

在本申请的一些实施例中，第二光调节部包括位于光调节层中靠近发光器件层一侧的多个间隔排布的第二挡墙，第二挡墙位于第一显示区，第一光调节部填充于任意两个相邻的第二挡墙之间，第一光调节部至少部分位于第二显示区。

在本申请的一些实施例中，第一光调节部沿垂直于基板的方向上的厚度等于第二光调节部沿垂直于基板的方向上的厚度，第二挡墙在基板上的正投影至少部分位于两个相邻的金属电极在基板上的正投影之间。

在本申请的一些实施例中，第一光调节部位于发光器件层远离基板的一侧，第一光调节部远离发光器件层的一侧表面包括多个间隔排布的第一凸起，第一凸起位于第一显示区，第二光调节部位于第一光调节部远离基板的一侧且第二光调节部包覆第一光调节部，第二光调节部至少部分位于第二显示区。

在本申请的一些实施例中，金属电极在基板上的正投影覆盖第一凸起在基板上的正投影。

在本申请的一些实施例中，第二光调节部位于发光器件层远离基板的一侧，第二光调节部远离发光器件层的一侧表面包括多个间隔排布的第二凸起，第二凸起位于第一显示区，第一光调节部位于第二光调节部远离基板的一侧且第一光调节部包覆第二光调节部，第一光调节部至少部分位于第二显示区。

在本申请的一些实施例中，第二凸起在基板上的正投影至少部分位于两个相邻的金属电极在基板上的正投影之间。

在本申请的一些实施例中，第一光调节部与第二光调节部的交界面包括第一挡墙、第二挡墙、第一凸起和第二凸起中的至少一种，第一挡墙、第二挡墙、第一凸起或者第二凸起沿垂直于基板的方向上的截面轮廓为矩形、梯形或者半圆形。

在本申请的一些实施例中，显示面板还包括：位于基板与发光器件层之间的第一绝缘层和位于第一绝缘层远离基板一侧的第二绝缘层，第一绝缘层包括间隔排布的多个沟槽，第二绝缘层覆盖第一绝缘层且填充于沟槽中，第一绝缘层的折射率大于第二绝缘层的折射率。

在本申请的一些实施例中，第二绝缘层包括平坦层或者阻挡层，第一绝缘层包括层间介质层、栅极绝缘层和基板中的一种或者多种的组合。

第二方面，本申请实施例提供一种显示装置，包括传感器和如第一方面任意一个实施例上述的显示面板，传感器位于显示面板中发光器件层远离光调节层的一侧。

在本申请的一些实施例中，传感器包括发射传感器和接收传感器，沟槽在基板上的正投影至少部分位于发射传感器在基板上的正投影和接收传感器在基板上的正投影之间。

本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：通过将折射率互不相同的第一光调节部和第二光调节部相互贴合形成光调节层，入射光在光调节层中第一光调节部和第二光调节部的临界面发生全反射，绕开遮光的金属电极进入位于发光器件层远离光调节层一侧的传感器，从而增大了入射光在光调节层和发光器件层中的透过率，增大了传感器的进光量，提升了拍照的成像质量，进而提升了显示面板的产品品质。本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为本申请一个实施例中显示面板的结构示意图；

图2为本申请一个实施例中显示模组的结构示意图；

图3为本申请第二个实施例中显示模组的结构示意图；

图4为本申请第三个实施例中显示模组的结构示意图；

图5为本申请第四个实施例中显示模组的结构示意图；

图6为本申请第五个实施例中显示模组的结构示意图；

图7为本申请一个实施例中感测模组的结构示意图；

图8为本申请第二个实施例中感测模组的结构示意图；

图9为本申请第三个实施例中感测模组的结构示意图。

图中：

1-基板；2-显示模组；3-感测模组；4-传感器；5-待感测物体；

11-第三凸起；21-发光器件；22-光调节层；23-平坦层；24-第一沉积层；25-打印层；26-第二沉积层；27-触控绝缘层；28-触控金属层；

211-阳极；212-阴极；221-第一光调节部；222-第二光调节部；22a-第一显示区；

31-阻挡层；32-栅极绝缘层；33-层间介质层；

41-发射传感器；42-接收传感器。

具体实施方式

下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“上述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在特征、整数、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、元件、组件和/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”或“耦接”到另一元件时，它可以直接连接或耦接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或无线耦接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。

研究发现，现有技术的显示面板中存在：将摄像头设置在屏幕的下方，虽然能够提高屏占比，但由于屏幕会削减进入摄像头中的进光量，影响摄像头拍摄效果的技术问题。

本申请提供的一种显示面板及显示装置，旨在解决现有技术的如上技术问题。下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。

第一个方面，本申请实施例提供了一种显示面板。如图1所示，图1为本申请一个实施例中显示面板的结构示意图。显示面板，包括基板1和显示模组2，显示模组2包括发光器件层和光调节层22：

基板，包括第一显示区22a和第二显示区，第二显示区至少部分围绕所述第一显示区；

发光器件层，设置于基板1的一侧，包括多个间隔排布的金属电极；

光调节层22，设置于发光器件层远离基板1的一侧，光调节层至少位于第一显示区22a的部分包括相互贴合的第一光调节部221和第二光调节部222，第一显示区22a被配置为与传感器对应；

其中，第一光调节部221的折射率小于第二光调节部222的折射率，第一光调节部221在基板1上的正投影与金属电极在基板1上的正投影至少部分重合。

发光器件层包括多个发光器件21，每个发光器件包括至少一个金属电极，金属电极包括阳极211或者阴极212。

在本实施例中，若没有增设光调节层22，部分入射光的光路经过不透光的金属电极，在金属电极远离基板1的一侧表面发生反射或者被吸收，从而这部分外接入射光无法进入传感器4，传感器4的进光量将减少。

而本申请实施例中，通过将折射率互不相同的第一光调节部221和第二光调节部222相互贴合形成光调节层22。如图1所示，图中以箭头标注的入射光在光调节层22中第一光调节部221和第二光调节部222的临界面发生全反射，绕开遮光的金属电极进入位于发光器件层远离光调节层22一侧的传感器4，从而增大了入射光在光调节层22和发光器件层中的透过率，增大了传感器4的进光量，提升了拍照的成像质量，进而提升了显示面板的产品品质。

在本实施例中，第一显示区22a为传感器区，第二显示区为触控区。传感器4在基板1上的正投影位于第一显示区22a中。

在本申请的一些实施例中，第一光调节部221包括位于光调节层22中靠近发光器件层一侧的多个间隔排布的第一挡墙，第一挡墙位于第一显示区22a，第二光调节部222包覆第一挡墙远离发光器件层的一侧、并填充于任意两个相邻的第一挡墙之间，第二光调节部222至少部分位于第二显示区。

在本实施例中，显示面板包括平坦层23、像素定义层、发光器件层、第一沉积层24、打印层25、第二沉积层26、触控绝缘层27、触控金属层28和光调节层22中的部分或者全部，上述膜层依次层叠设置。

发光器件层包括多个像素单元，每个像素单元包括至少一个第一色发光器件21、至少一个第二色发光器件21和至少一个第三色发光器件21，第一色、第二色和第三色分别是红光、绿光和蓝光。每个发光器件21包括至少一个不透光的金属电极，金属电极为阴极212或者阳极211。多个像素单元在显示面板上呈阵列排布，多个发光器件21随之呈阵列排布，金属电极也呈阵列排布。

第一光调节部221包括多个第一挡墙，第一挡墙呈阵列排布。第二光调节部222包覆第一挡墙并填充于相邻第一挡墙之间，由于第一光调节部221和第二光调节部222的折射率存在差异，具体地，第一光调节部221的折射率为n1，第二光调节部222的折射率为n2，n1＜n2。部分入射光的光路经过第一光调节部221和第二光调节部222的临界面发生折射，另一部分外接入射光在上述临界面的入射角大于临界角发生全反射，全反射临界角为arcsin(n1/n2)，全反射后该部分光线绕开了原本需经过的金属电极进入传感器4，相较于未设置光调节层22的显示面板，这一部分光线得以进入传感器4，传感器4的进光量增大。

在一些实施例中，第一光调节部221的折射率n1满足1.4≤n1≤1.55，第二光调节部222的折射率n2满足1.6≤n2≤1.75。在一个具体的实施例中，第一光调节部221的折射率n1＝1.47，第二光调节部222的折射率n2＝1.7，由此可知，在两者临界面上发生全反射的临界角arcsin(n1/n2)＝59.8°。当外界或者补光装置射出的入射光先经过第二光调节部222，再经过第一光调节部221与第二光调节部222的临界面，一部分入射光在第一挡墙处的入射角小于临界角在临界面发生折射，一部分入射光的入射角在第一挡墙处的大于或者等于临界角在临界面发生全反射。

在本申请的一些实施例中，至少部分第一挡墙在基板1上的正投影与金属电极在基板1上的正投影一一对应设置。

在一个具体的实施例中，至少部分第一挡墙在基板1上的正投影的几何中心与一个金属电极在投影的几何中心对位设置。

在本实施例中，显示面板为柔性多层嵌入式触控结构(Flexible Multi-Layer OnCell，FMLOC)和柔性单层嵌入式触控结构(Flexible Single-Layer On Cell，FSLOC)。显示面板包括触控绝缘层27和触控金属层28，触控金属层28设置于触控绝缘层27远离基板1一侧的表面，且触控金属层28在基板1上的正投影位于传感器4在基板1上的正投影之外。

第一光调节部221与触控金属层28同层设置，且第一光调节部221在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。第二光调节部222包覆第一光调节部221和触控金属层28，并对第二光调节层22远离基板1的一侧表面进行平坦化处理。

在发光器件层中，部分发光器件21在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。部分入射光的光路被发光器件21中不透光的金属电极遮挡无法进入传感器4。在传感器4上方的区域内，即在未设置触控金属层28的区域内，利用掩模板曝光法在触控绝缘层27表面设置多个第一挡墙，第一挡墙与金属电极一一对应，第一挡墙沿垂直于基板1的方向上的截面轮廓与金属电极沿垂直于基板1的方向上截面轮廓相同，例如，均为矩形或圆角矩形；至少一个第一挡墙在基板1上的正投影的面积不大于对应的金属电极在基板1上的正投影的面积；至少部分第一挡墙在基板1上的正投影的几何中心与一个金属电极在投影的几何中心对位设置。

在本申请的一些实施例中，第二光调节部222包括位于光调节层22中靠近发光器件层一侧的多个间隔排布的第二挡墙，第二挡墙位于第一显示区22a，第一光调节部221包覆第二挡墙远离发光器件层的一侧、并填充于任意两个相邻的第二挡墙之间，第一光调节部221至少部分位于第二显示区。

如图2所示，图2为本申请一个实施例中显示模组2的结构示意图。在本实施例中，部分技术特征与上述实施例同理，不同的是：第二光调节部222包括多个第二挡墙，第二挡墙呈阵列排布。第一光调节部221包覆第二挡墙并填充于相邻第二挡墙之间，由于第一光调节部221和第二光调节部222的折射率存在差异，具体地，第一光调节部221的折射率为n1，第二光调节部222的折射率为n2，n1＜n2。部分入射光的光路经过第一光调节部221和第二光调节部222的临界面发生折射，另一部分外接入射光在上述临界面的入射角大于临界角发生全反射，全反射临界角为arcsin(n1/n2)，全反射后该部分光线绕开了原本需经过的金属电极进入传感器4，相较于未设置光调节层22的显示面板，这一部分光线得以进入传感器4，传感器4的进光量增大。

在本申请的一些实施例中，第二挡墙在基板1上的正投影至少部分位于两个相邻的金属电极在基板1上的正投影之间。

在本实施例中，第二光调节部222与触控金属层28同层设置，且第二光调节部222在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。第一光调节部221包覆第二光调节部222和触控金属层28，并对第一光调节层22远离基板1的一侧表面进行平坦化处理。在发光器件层中，部分发光器件21在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。部分入射光的光路被发光器件21中不透光的金属电极遮挡无法进入传感器4。

在传感器4上方的区域内，即在未设置触控金属层28的区域内，利用掩模板曝光法在触控绝缘层27表面设置多个第二挡墙，第二挡墙沿垂直于基板1的方向上的截面轮廓与金属电极沿垂直于基板1的方向上截面轮廓相同，均为矩形或圆角矩形；至少一个第二挡墙在基板1上的正投影的面积不大于其中一个金属电极在基板1上的正投影的面积；至少部分第二挡墙在基板1上的正投影位于两个相邻的金属电极在基板1上的正投影之间。

部分入射光先进入第一光调节部221，再由第一光调节部221进入第二光调节部222，又由第二光调节部222进入第一光调节部221。由于第一光调节部221的折射率n1小于第二光调节部的折射率n2，在第一次经过第一光调节部221与第二光调节部222的临界面时，不会发生全反射，入射光发生折射，部分入射光在后续第二次经过第一光调节部221与第二光调节部222的临界面时，由于上一次折射入射角变大，发生全反射的光线变多，则传感器4的进光量变大，成像效果更好。

在本申请的一些实施例中，第一光调节部221包括位于光调节层22中靠近发光器件层一侧的多个间隔排布的第一挡墙，第一挡墙位于第一显示区22a，第二光调节部222填充于任意两个相邻的第一挡墙之间，第二光调节部至少部分位于第二显示区。

如图3所示，图3为本申请第二个实施例中显示模组2的结构示意图。在本实施例中，部分技术特征与上述实施例同理，不同的是：第一光调节部221包括多个第一挡墙，第一挡墙呈阵列排布。第二光调节部222包覆第一挡墙并填充于相邻第一挡墙之间，由于第一光调节部221和第二光调节部222的折射率存在差异，具体地，第一光调节部221的折射率为n1，第二光调节部222的折射率为n2，n1＜n2。部分入射光的光路经过第一光调节部221和第二光调节部222的临界面发生折射，另一部分外接入射光在上述临界面的入射角大于临界角发生全反射，全反射临界角为arcsin(n1/n2)，全反射后该部分光线绕开了原本需经过的金属电极进入传感器4，相较于未设置光调节层22的显示面板，这一部分光线得以进入传感器4，传感器4的进光量增大。

在本申请的一些实施例中，第一光调节部221沿垂直于基板1的方向上的厚度等于第二光调节部222沿垂直于基板1的方向上的厚度，至少部分第一挡墙在基板1上的正投影与金属电极在基板1上的正投影一一对应设置。

在一个具体的实施例中，至少部分第一挡墙在基板1上的正投影的几何中心与一个金属电极在投影的几何中心对位设置。

第一光调节部221与触控金属层28同层设置，且第一光调节部221在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。第一光调节部221沿垂直于基板1的方向上的厚度与触控金属层28沿垂直于基板1的方向上的厚度不相等，第一光调节部221沿垂直于基板1的方向上的厚度等于第二光调节部222沿垂直于基板1的方向上的厚度。第二光调节部222填充于任意两个相邻的第一挡墙之间和包覆触控金属层28，并对第一光调节部221和第二光调节部222远离基板1的一侧表面进行平坦化处理。

在发光器件层中，部分发光器件21在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。部分入射光的光路被发光器件21中不透光的金属电极遮挡无法进入传感器4。在传感器4上方的区域内，即在未设置触控金属层28的区域内，利用掩模板曝光法在触控绝缘层27表面设置多个第一挡墙，第一挡墙与金属电极一一对应，第一挡墙沿垂直于基板1的方向上的截面轮廓与金属电极沿垂直于基板1的方向上截面轮廓相同，均为矩形或圆角矩形；至少一个第一挡墙在基板1上的正投影的面积不大于对应的金属电极在基板1上的正投影的面积；至少部分第一挡墙在基板1上的正投影的几何中心与一个金属电极在投影的几何中心对位设置。相较于上述实施例来说，该实施例的光调节层22沿垂直于基板1的方向上的厚度较小，有利于显示装置的轻薄化。

在本申请的一些实施例中，第二光调节部222包括位于光调节层22中靠近发光器件层一侧的多个间隔排布的第二挡墙，第二挡墙位于第一显示区22a，第一光调节部221填充于任意两个相邻的第二挡墙之间，第一光调节部221至少部分位于第二显示区。

如图4所示，图4为本申请第三个实施例中显示模组2的结构示意图。在本实施例中，部分技术特征与上述实施例同理，不同的是：第二光调节部222包括多个第二挡墙，第二挡墙呈阵列排布。第一光调节部221包覆第二挡墙并填充于相邻第二挡墙之间，由于第一光调节部221和第二光调节部222的折射率存在差异，具体地，第一光调节部221的折射率为n1，第二光调节部222的折射率为n2，n1＜n2。部分入射光的光路经过第一光调节部221和第二光调节部222的临界面发生折射，另一部分外接入射光在上述临界面的入射角大于临界角发生全反射，全反射临界角为arcsin(n1/n2)，全反射后该部分光线绕开了原本需经过的金属电极进入传感器4，相较于未设置光调节层22的显示面板，这一部分光线得以进入传感器4，传感器4的进光量增大。

在本申请的一些实施例中，第一光调节部221沿垂直于基板1的方向上的厚度等于第二光调节部222沿垂直于基板1的方向上的厚度，第二挡墙在基板1上的正投影至少部分位于两个相邻的金属电极在基板1上的正投影之间。

第二光调节部222与触控金属层28同层设置，且第二光调节部222在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。第二光调节部222沿垂直于基板1的方向上的厚度与触控金属层28沿垂直于基板1的方向上的厚度不相等，第一光调节部221沿垂直于基板1的方向上的厚度等于第二光调节部222沿垂直于基板1的方向上的厚度。第一光调节部221填充于任意两个相邻的第一挡墙之间和包覆触控金属层28，并对第一光调节层22和第二光调节层22远离基板1的一侧表面进行平坦化处理。

在发光器件层中，部分发光器件21在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。部分入射光的光路被发光器件21中不透光的金属电极遮挡无法进入传感器4。在传感器4上方的区域内，即在未设置触控金属层28的区域内，利用掩模板曝光法在触控绝缘层27表面设置多个第二挡墙，第二挡墙沿垂直于基板1的方向上的截面轮廓与金属电极沿垂直于基板1的方向上截面轮廓相同，均为矩形或圆角矩形；至少一个第二挡墙在基板1上的正投影的面积不大于对应的金属电极在基板1上的正投影的面积；至少部分第二挡墙在基板1上的正投影位于两个相邻的金属电极在基板1上的正投影之间。

部分入射光先进入第一光调节部221，再由第一光调节部221进入第二光调节部222，又由第二光调节部222进入第一光调节部221。由于第一光调节部221的折射率n1小于第二光调节部的折射率n2，在第一次经过第一光调节部221与第二光调节部222的临界面时，不会发生全反射，入射光发生折射，部分入射光在后续第二次经过第一光调节部221与第二光调节部222的临界面时，由于上一次折射入射角变大，发生全反射的光线变多，则传感器4的进光量变大，成像效果更好。相较于上述实施例来说，该实施例的光调节层22沿垂直于基板1的方向上的厚度较小，有利于显示装置的轻薄化。

在本申请的一些实施例中，第一光调节部221位于发光器件层远离基板1的一侧，第一光调节部221远离发光器件层的一侧表面包括多个间隔排布的第一凸起，第一凸起位于第一显示区22a，第二光调节部222位于第一光调节部221远离基板1的一侧且第二光调节部222包覆第一光调节部221，第二光调节部222至少部分位于第二显示区。

如图5所示，图5为本申请第四个实施例中显示模组2的结构示意图。在本实施例中，部分技术特征与上述实施例同理，不同的是：第一光调节部221与第二光调节部222层叠设置，触控电极层设置于第一光调节部221远离基板1的一侧表面，第一光调节部221远离发光器件层的一侧表面包括多个间隔排布的第一凸起，第一凸起呈阵列排布。第二光调节部222包覆第一凸起和触控金属层28、并填充于相邻第二凸起之间，由于第一光调节部221和第二光调节部222的折射率存在差异，具体地，第一光调节部221的折射率为n1，第二光调节部222的折射率为n2，n1＜n2。部分入射光的光路经过第一光调节部221和第二光调节部222的临界面发生折射，另一部分外接入射光在上述临界面的入射角大于临界角发生全反射，全反射临界角为arcsin(n1/n2)，全反射后该部分光线绕开了原本需经过的金属电极进入传感器4，相较于未设置光调节层22的显示面板，这一部分光线得以进入传感器4，传感器4的进光量增大。

在本申请的一些实施例中，金属电极在基板1上的正投影覆盖第一凸起在基板1上的正投影。

第一凸起与触控金属层28同层设置，且第一凸起在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。第二光调节部222包覆第一凸起和触控金属层28、填充于任意两个相邻的第一凸起之间，并对第二光调节层22远离基板1的一侧表面进行平坦化处理。

在发光器件层中，部分发光器件21在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。部分入射光的光路被发光器件21中不透光的金属电极遮挡无法进入传感器4。在传感器4上方的区域内，即在未设置触控金属层28的区域内，利用掩模板曝光法在触控绝缘层27表面设置第一光调节部221，第一光调节部221包括多个第一凸起，第一凸起与金属电极一一对应，第一凸起沿垂直于基板1的方向上的截面轮廓与金属电极沿垂直于基板1的方向上截面轮廓相同，均为矩形或圆角矩形；至少一个第一凸起在基板1上的正投影的面积不大于对应的金属电极在基板1上的正投影的面积；至少部分第二凸起在基板1上的正投影被对应的金属电极在基板1上的正投影覆盖。

部分入射光的光路由第二光调节部222进入第一光调节部221。由于第一光调节部221的折射率n1小于第二光调节部的折射率n2，部分入射光在经过第一光调节部221与第二光调节部222的临界面时，发生全反射的光线变多，则传感器4的进光量变大，成像效果更好。

在本申请的一些实施例中，第二光调节部222位于发光器件层远离基板1的一侧，第二光调节部222远离发光器件层的一侧表面包括多个间隔排布的第二凸起，第二凸起位于第一显示区22a，第一光调节部221位于第二光调节部222远离基板1的一侧且第一光调节部221包覆第二光调节部222，第一光调节部221至少部分位于第二显示区。

如图6所示，图6为本申请第五个实施例中显示模组2的结构示意图。在本实施例中，部分技术特征与上述实施例同理，不同的是：第一光调节部221与第二光调节部222层叠设置，触控电极层设置于第二光调节部222远离基板1的一侧表面，第二光调节部222远离发光器件层的一侧表面包括多个间隔排布的第二凸起，第二凸起呈阵列排布。第一光调节部221包覆第二凸起和触控金属层28、并填充于相邻第二凸起之间，由于第一光调节部221和第二光调节部222的折射率存在差异，具体地，第一光调节部221的折射率为n1，第二光调节部222的折射率为n2，n1＜n2。部分入射光的光路经过第一光调节部221和第二光调节部222的临界面发生折射，另一部分外接入射光在上述临界面的入射角大于临界角发生全反射，全反射临界角为arcsin(n1/n2)，全反射后该部分光线绕开了原本需经过的金属电极进入传感器4，相较于未设置光调节层22的显示面板，这一部分光线得以进入传感器4，传感器4的进光量增大。

在本申请的一些实施例中，第二凸起在基板1上的正投影至少部分位于两个相邻的金属电极在基板1上的正投影之间。

第二凸起与触控金属层28同层设置，且第二凸起在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。第一光调节部221包覆第二凸起和触控金属层28、填充于任意两个相邻的第二凸起之间，并对第一光调节层22远离基板1的一侧表面进行平坦化处理。

在发光器件层中，部分发光器件21在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。部分入射光的光路被发光器件21中不透光的金属电极遮挡无法进入传感器4。在传感器4上方的区域内，即在未设置触控金属层28的区域内，利用掩模板曝光法在触控绝缘层27表面设置第二光调节部222，第二光调节部222包括多个第二凸起，第二凸起沿垂直于基板1的方向上的截面轮廓与金属电极沿垂直于基板1的方向上截面轮廓相同，均为矩形或圆角矩形；至少一个第二凸起在基板1上的正投影的面积不大于其中一个金属电极在基板1上的正投影的面积；至少部分第二凸起在基板1上的正投影位于两个相邻的金属电极在基板1上的正投影之间。

部分入射光先进入第一光调节部221，再由第一光调节部221进入第二光调节部222，又由第二光调节部222进入第一光调节部221。由于第一光调节部221的折射率n1小于第二光调节部的折射率n2，在第一次经过第一光调节部221与第二光调节部222的临界面时，不会发生全反射，入射光发生折射，部分入射光在后续第二次经过第一光调节部221与第二光调节部222的临界面时，由于上一次折射入射角变大，发生全反射的光线变多，则传感器4的进光量变大，成像效果更好。

在本申请的一些实施例中，第一光调节部与第二光调节部的交界面包括第一挡墙、第二挡墙、第一凸起和第二凸起中的至少一种，第一挡墙、第二挡墙、第一凸起或者第二凸起沿垂直于基板1的方向上的截面轮廓为矩形、圆角矩形、梯形或者半圆形。

在上述实施例中，仅以第一挡墙、第二挡墙、第一凸起或者第二凸起沿垂直于基板1的方向上的截面轮廓为矩形或者圆角矩形举例。实际上，在本申请的其他实施例中，第一挡墙、第二挡墙、第一凸起或者第二凸起的截面轮廓为梯形、半圆形或者弧形面，均未超出本申请的保护范围。

同样可以理解的是，上述实施例中仅以第一挡墙、第二挡墙、第一凸起或者第二凸起呈阵列排布举例。实际上，在本申请的其他实施例中，第一挡墙、第二挡墙、第一凸起或者第二凸起在基板1上的正投影面积可以大于金属电极在基板1上的正投影面积，第一挡墙、第二挡墙、第一凸起或者第二凸起呈间隔分布的条形结构，该条形结构在第一方向上间隔分布，且沿第二方向延伸，第一方向与第二方向相互交错。

在一个具体的实施例中，第一方向与第二方向互相垂直。一个条形挡墙或者一个条形凸起对应第二方向上的多个金属电极。

在本申请的一些实施例中，显示面板还包括：位于基板1与显示模组2之间的感测模组3；

感测模组3包括第一绝缘层和位于第一绝缘层远离基板1一侧的第二绝缘层，第一绝缘层包括间隔排布的多个沟槽，第二绝缘层覆盖第一绝缘层且填充于沟槽中，第一绝缘层的折射率大于第二绝缘层的折射率。

在本实施例中，利用掩模板曝光法图案化第一绝缘层形成多个沟槽，在第一绝缘层上制备第二绝缘层。相邻两个沟槽之间的距离为D，1μm≤D≤10μm，至少一个沟槽的深度为H，0.1μm≤H≤2um，在另一个实施例中，3μm≤D≤5μm，0.5μm≤H≤1um。

感测模组3远离基板1的一侧设置有显示模组2，显示模组2中的发光器件21包括不透光的金属电极。当显示面板内部向外侧发出感测光线时，部分感测光线经过不透光的金属电极发生反射，反射后的光路先进入第二绝缘层，再由第二绝缘层进入第一绝缘层，又由第一绝缘层进入第二绝缘层。由于第一光调节部221的折射率n1小于第二光调节部的折射率n2，在第一次经过第一绝缘层与第二绝缘层的临界面时，不会发生全反射，入射光发生折射，部分感侧光在后续第二次经过第一绝缘层与第二绝缘层的临界面时，入射角大于或者等于临界角的光线发生全反射，相较于没有设置图案化沟槽的实施例，感测光线原有的光路被阻断，从而避免接收到部分没有经过待感测物体5反射的感测光线，提高时差法(TimeOf Flight，TOF)测距的准确性。

在本申请的一些实施例中，第二绝缘层包括平坦层23或者阻挡层31，第一绝缘层包括层间介质层33、栅极绝缘层32和基板1中的一种或者多种的组合。

如图7所示，图7为本申请一个实施例中感测模组3的结构示意图。在一个实施例中，第二绝缘层为平坦层23，第一绝缘层为层间介质层33。对于波长为940nm的光，第一绝缘层的折射率n3＝1.91，第二绝缘层的折射率n4＝1.62，n3＞n4。经过计算得出，临界角为arcsinn4/n3＝58°。感测光线由第一绝缘层经过第一绝缘层和第二绝缘层的临界面发生全反射。

如图8所示，图8为本申请第二个实施例中感测模组3的结构示意图。在另一个实施例中，第二绝缘层为平坦层23，第一绝缘层为层叠的层间介质层33和栅极绝缘层32。层间介质层33与栅极绝缘层32的主要材质相同，例如氮化硅，两膜层的折射率均为n3＝1.91。相较于上一实施例，在其他膜层参数未发生改变的情况下，第一绝缘层由一个膜层变为至少两个膜层，第一绝缘层中沟槽的深度增加，一部分光线在层间介质层33与平坦层23的临界面发生全反射，一部分光线在栅极绝缘层32与平坦层23的临界面发生全反射。光路被沟槽阻断的感测光线更多，测距识别更准确。

如图9所示，图9为本申请第三个实施例中感测模组3的结构示意图。在又一个实施例中，第一绝缘层为基板1，第二绝缘层为阻挡层31。基板1靠近阻挡层31的一侧表面形成多个第三凸起11，相邻两个第三凸起11之间形成沟槽，阻挡层31填充沟槽并覆盖基板1的一侧，阻挡层31的厚度大于或者等于2μm。对于波长为940nm的光，基板1的折射率n3＝1.62，阻挡层31的折射率n4＝1.46，经过计算得出，临界角为arcsinn4/n3＝64.3°。感测光线由第一绝缘层经过第一绝缘层和第二绝缘层的临界面发生全反射

基于同一发明构思，第二方面，本申请实施例提供一种显示装置，包括：传感器4和如第一方面任意一个实施例中上述的显示面板，传感器4位于显示面板中发光器件层远离光调节层22的一侧。

在一个实施例中，基板1的材质包括聚酰亚胺材料。传感器4包括摄像头，传感器4在基板1上的正投影位于第一显示区22a。

在本申请的一些实施例中，光调节层22在基板1上的正投影与传感器4在基板1上的正投影至少部分重合。显示装置包括发射传感器41和接收传感器42，发射传感器41和接收传感器42均位于基板1远离发光器件层的一侧且相互之间保持间距，至少部分沟槽在基板1上的正投影位于发射传感器41在基板1上的正投影和接收传感器42在基板1上的正投影之间。

在本实施例中，如图7所示，显示装置中设置有两个孔或者透光结构，发射传感器41向显示面板外部发射感测光线，以箭头标注的一部分感测光线经过孔或者透光结构传输到显示装置外部经过待感测物体5反射，再

经过孔或者透光结构传输到显示装置内部，接收传感器42接收感测光线并读取待感测物体5的信息。

以箭头标注的另一部分感测光线未能传输到显示装置外部，在显示装置内部反射，为了避免这部分感测光线对感测信息的干扰，利用图案化的沟槽改变这部分感测光线的光路，避免接收传感器42接收这部分感测光线。

应用本申请实施例，至少能够实现如下有益效果：1.通过将折射率互不相同的第一光调节部221和第二光调节部222相互贴合形成光调节层22，入射光在光调节层22中第一光调节部221和第二光调节部222的临界面发生全反射，绕开遮光的金属电极进入位于发光器件层远离光调节层22一侧的传感器4，从而增大了入射光在光调节层22和发光器件层中的透过率，增大了传感器4的进光量，提升了拍照的成像质量，进而提升了显示面板的产品品质。2.通过在第一绝缘层设置图案化的沟槽，利用全反射原理减少感测光线通过内部反射进入接收传感器42，避免了接收传感器42误读，提高时差法测距的精准性。

本技术领域技术人员可以理解，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (18)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板，包括第一显示区和第二显示区，所述第二显示区至少部分围绕所述第一显示区；

发光器件层，设置于所述基板的一侧，包括多个间隔排布的金属电极；

光调节层，设置于所述发光器件层远离所述基板的一侧，所述光调节层位于所述第一显示区的部分包括相互贴合的第一光调节部和第二光调节部，所述第一显示区被配置为与传感器对应；

其中，所述第一光调节部的折射率小于所述第二光调节部的折射率，所述第一光调节部在所述基板上的正投影与所述金属电极在所述基板上的正投影至少部分重合。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一光调节部包括位于所述光调节层中靠近所述发光器件层一侧的多个间隔排布的第一挡墙，所述第一挡墙位于所述第一显示区，所述第二光调节部位于所述第一挡墙远离所述发光器件层的一侧、并填充于任意两个相邻的所述第一挡墙之间，所述第二光调节部至少部分位于所述第二显示区。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，至少部分所述第一挡墙在所述基板上的正投影与所述金属电极在所述基板上的正投影一一对应设置。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二光调节部包括位于所述光调节层中靠近所述发光器件层一侧的多个间隔排布的第二挡墙，所述第二挡墙位于所述第一显示区，所述第一光调节位于所述第二挡墙远离所述发光器件层的一侧、并填充于任意两个相邻的所述第二挡墙之间，所述第一光调节部至少部分位于所述第二显示区。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第二挡墙在所述基板上的正投影至少部分位于两个相邻的所述金属电极在所述基板上的正投影之间。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一光调节部包括位于所述光调节层中靠近所述发光器件层一侧的多个间隔排布的第一挡墙，所述第一挡墙位于所述第一显示区，所述第二光调节部填充于任意两个相邻的所述第一挡墙之间，所述第二光调节部至少部分位于所述第二显示区。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第一光调节部沿垂直于所述基板的方向上的厚度等于所述第二光调节部沿垂直于所述基板的方向上的厚度，至少部分所述第一挡墙在所述基板上的正投影与所述金属电极在所述基板上的正投影一一对应设置。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二光调节部包括位于所述光调节层中靠近所述发光器件层一侧的多个间隔排布的第二挡墙，所述第二挡墙位于所述第一显示区，所述第一光调节部填充于任意两个相邻的所述第二挡墙之间，所述第一光调节部至少部分位于所述第二显示区。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述第一光调节部沿垂直于所述基板的方向上的厚度等于所述第二光调节部沿垂直于所述基板的方向上的厚度，所述第二挡墙在所述基板上的正投影至少部分位于两个相邻的所述金属电极在所述基板上的正投影之间。

10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一光调节部位于所述发光器件层远离所述基板的一侧，所述第一光调节部远离所述发光器件层的一侧表面包括多个间隔排布的第一凸起，所述第一凸起位于所述第一显示区，所述第二光调节部位于所述第一光调节部远离所述基板的一侧且所述第二光调节部包覆所述第一光调节部，所述第二光调节部至少部分位于所述第二显示区。

11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述金属电极在所述基板上的正投影覆盖所述第一凸起在所述基板上的正投影。

12.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二光调节部位于所述发光器件层远离所述基板的一侧，所述第二光调节部远离所述发光器件层的一侧表面包括多个间隔排布的第二凸起，所述第二凸起位于所述第一显示区，所述第一光调节部位于所述第二光调节部远离所述基板的一侧且所述第一光调节部包覆所述第二光调节部，所述第一光调节部至少部分位于所述第二显示区。

13.根据权利要求12所述的显示面板，其特征在于，所述第二凸起在所述基板上的正投影至少部分位于两个相邻的所述金属电极在所述基板上的正投影之间。

14.根据权利要求1中任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述所述第一光调节部与所述第二光调节部的临界面包括第一挡墙、第二挡墙、第一凸起和第二凸起中的至少一种，所述第一挡墙、所述第二挡墙、所述第一凸起或者所述第二凸起沿垂直于所述基板的方向上的截面轮廓为矩形、圆角矩形、梯形或者半圆形。

15.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：位于所述基板与所述发光器件层之间的第一绝缘层和位于所述第一绝缘层远离所述基板一侧的第二绝缘层，所述第一绝缘层包括间隔排布的多个沟槽，所述第二绝缘层覆盖所述第一绝缘层且填充于所述沟槽中，所述第一绝缘层的折射率大于所述第二绝缘层的折射率。

16.根据权利要求15所述的显示面板，其特征在于，所述第二绝缘层包括平坦层或者阻挡层，所述第一绝缘层包括层间介质层、栅极绝缘层和基板中的一种或者多种的组合。

17.一种显示装置，其特征在于，包括传感器和如权利要求1-16任意一项所述的显示面板；

所述传感器位于所述显示面板中发光器件层远离光调节层的一侧。

18.根据权利要求17所述的显示装置，其特征在于，所述传感器包括发射传感器和接收传感器，沟槽在基板上的正投影至少部分位于所述发射传感器在所述基板上的正投影和所述接收传感器在所述基板上的正投影之间。