CN114435941A - 一种磷化铟加工用输送系统 - Google Patents

Abstract

本发明属于输送系统技术领域，具体涉及一种磷化铟加工用输送系统，本磷化铟加工用输送系统包括：上料机构、上料输送机构、转运机构、清理机构和下料输送机构；其中上料机构在磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构上，转运机构在清理机构上做圆周运动，并吸附相应磷化铟晶圆转运至下料输送机构；以及清理机构对转动的转运机构的表面进行清洁、润滑；本发明通过设置上料机构将磷化铟晶圆搬运到上料输送机构进行输送、加工，并由转运机构将在上料输送机构加工完成的磷化铟晶圆转运到下料输送机构进行最终下料，同时通过清理机构不断对转运机构进行清洁、润滑，能够避免脏污、不够润滑影响转运机构的输送效率，保证转运持续进行。

Description

一种磷化铟加工用输送系统

技术领域

本发明属于输送系统技术领域，具体涉及一种磷化铟加工用输送系统。

背景技术

磷化铟晶圆需要在输送过程进行加工处理，经过多道输送才能够完成最终出料。

由于输送过程存在一个转运工序，输送设备需要不断进行旋转，而造成输送设备表面脏污或不够润滑，从而影响输送效率。

因此，亟需开发一种新的磷化铟加工用输送系统，以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种磷化铟加工用输送系统。

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种磷化铟加工用输送系统，其包括：上料机构、上料输送机构、转运机构、清理机构和下料输送机构；其中所述上料输送机构设置上料输入区域，上料输出区域，所述上料机构、转运机构分别位于上料输入区域，上料输出区域处；所述转运机构活动设置在清理机构上，所述下料输送机构位于转运机构的行进路线上；所述上料机构在磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构上，以使相应磷化铟晶圆沿所述上料输送机构输送至转运机构下方，即所述转运机构在清理机构上做圆周运动，并在所述上料输送机构吸附相应磷化铟晶圆转运至下料输送机构；以及所述清理机构对转动的转运机构的表面进行清洁、润滑。

进一步，所述上料机构包括：吊装在上料输送机构上方的两个第一X轴滑轨组件、第一Y轴滑轨组件、第一Z轴滑轨组件、上料夹爪组件和上料吸盘组件；两个所述第一X轴滑轨组件平行设置，且两个所述第一X轴滑轨组件与上料输送机构相垂直；所述第一Y轴滑轨组件活动架设在两个第一X轴滑轨组件之间，所述第一Y轴滑轨组件沿上料输送机构的输送方向设置；所述第一Z轴滑轨组件纵向活动安装在第一Y轴滑轨组件上，所述上料夹爪组件固定在第一Z轴滑轨组件的底部，所述上料吸盘组件位于上料夹爪组件的夹持部；所述第一Y轴滑轨组件在两个第一X轴滑轨组件上移动，所述第一Z轴滑轨组件在第一Y轴滑轨组件上移动，所述上料夹爪组件在第一Z轴滑轨组件上移动，以带动所述上料吸盘组件移动至磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构。

进一步，所述上料夹爪组件包括：上料柱和若干上料夹块；所述上料柱底部周向设置若干滑动槽，各所述上料夹块活动限位安装在对应滑动槽内，即各所述上料夹块在滑动槽内移动至相应位置，并通过相应螺栓锁住。

进一步，所述上料吸盘组件包括：若干上料吸附盘；各所述上料吸附盘固定在对应上料夹块的底部，即通过相应上料吸附盘吸附磷化铟晶圆。

进一步，所述上料输送机构包括：上料输送带；所述上料输送带将上料机构在上料输入区域投放的磷化铟晶圆输送至下料输出区域，以使所述转运机构将磷化铟晶圆转运至下料输送机构。

进一步，所述转运机构包括：旋转轴、旋转座、三轴机械手和下料吸盘组件；所述旋转轴穿过清理机构并活动安装在加工平台上，且所述旋转轴的底部与旋转电机连接；所述旋转座安装在旋转轴的顶部，所述三轴机械手安装在旋转座上，所述下料吸盘组件位于三轴机械手的夹持部；所述旋转轴在旋转电机驱动下旋转，以带动所述旋转座、三轴机械手做圆周运动，即转动至所述上料输送机构正上方时，所述三轴机械手带动下料吸盘组件朝向上料输送机构运动，以使所述下料吸盘组件吸附相应磷化铟晶圆并抬起；直至转动至所述下料输送机构正上方时，所述三轴机械手带动下料吸盘组件朝向下料输送机构运动，以使所述下料吸盘组件将吸附的磷化铟晶圆送至下料输送机构。

进一步，所述清理机构包括：清理圆台、移动管、吹龙、蝶形气囊和弧形板；所述清理圆台的圆心位置开设有圆形槽，所述旋转轴穿过圆形槽；所述旋转轴与圆形槽的槽壁之间形成环形通道，所述移动管位于环形通道内且与圆形槽的槽壁活动连接；所述弧形板位于清理圆台上且与清理圆台同圆心设置；所述移动管的顶部设置有吹龙、蝶形气囊，所述吹龙朝向旋转轴设置，所述蝶形气囊与吹龙反向设置，所述移动管在环形通道内转动，即当所述蝶形气囊未接触弧形板时，所述吹龙处于收缩状态，所述吹龙的外侧面抵于旋转轴表面，以对所述旋转轴的表面进行清洁；当所述蝶形气囊接触弧形板并抵住弧形板继续运动时，所述蝶形气囊向吹龙中鼓入空气以使吹龙展开，以使所述吹龙的内侧面抵于旋转轴表面，且所述吹龙的内侧面开设若干排液孔，所述蝶形气囊中储存有清洗液；所述蝶形气囊中清洗液在气压作用下通过相应排液孔注于旋转轴表面。

进一步，所述圆形槽的槽底且沿环形通道均匀排列若干收集孔，所述移动管呈棱柱形，且所述移动管的棱尖部与旋转轴相接触，以刮除所述旋转轴表面的混合液。

进一步，所述清理圆台上开设有弧形槽，所述弧形槽位于圆形槽与弧形板之间，且所述弧形槽的一端与圆形槽之间的距离小于弧形槽的另一端与圆形槽之间的距离；所述弧形槽内设置有移动块，所述移动块与弧形槽的槽壁活动连接，所述弧形板的底部沿周向延伸形成挡块，所述移动块穿有一根挤压杆，所述挤压杆的一端朝向移动管设置，所述挤压杆的另一端朝向挡块设置；所述移动块在弧形槽内移动，以使所述挤压杆的一端抵住挡块，所述挤压杆的另一端抵住移动管，且在所述移动管内存储有润滑液，所述移动管朝向旋转轴设置有通油孔，即所述挤压杆抵压移动管使润滑液从通油孔喷涂在旋转轴上，以对旋转轴表面进行润滑。

进一步，所述下料输送机构包括：下料输送带；所述下料输送带将磷化铟晶圆输送至相应位置处。

本发明的有益效果是，本发明通过设置上料机构将磷化铟晶圆搬运到上料输送机构进行输送、加工，并由转运机构将在上料输送机构加工完成的磷化铟晶圆转运到下料输送机构进行最终下料，同时通过清理机构不断对转运机构进行清洁、润滑，能够避免脏污、不够润滑影响转运机构的输送效率，保证转运持续进行。

本发明的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。

为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明的磷化铟加工用输送系统的结构图；

图2是本发明的上料机构的结构图；

图3是本发明的上料夹爪组件的的结构图；

图4是本发明的转运机构的结构图；

图5是本发明的清理机构的结构图；

图6是本发明的清理机构的俯视图。

图中：

1、上料机构；11、第一X轴滑轨组件；12、第一Y轴滑轨组件；13、第一Z轴滑轨组件；14、上料夹爪组件；141、上料柱；142、上料夹块；15、上料吸盘组件；

2、上料输送机构；

3、转运机构；31、旋转轴；32、旋转座；33、三轴机械手；34、下料吸盘组件；

4、清理机构；41、清理圆台；411、圆形槽；412、弧形槽；42、移动管；43、吹龙；431、排液孔；44、蝶形气囊；45、弧形板；451、挡块；46、移动块；47、挤压杆；

5、下料输送机构。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1

在本实施例中，如图1至图6所示，本实施例提供了一种磷化铟加工用输送系统，其包括：上料机构1、上料输送机构2、转运机构3、清理机构4和下料输送机构5；其中所述上料输送机构2设置上料输入区域，上料输出区域，所述上料机构1、转运机构3分别位于上料输入区域，上料输出区域处；所述转运机构3活动设置在清理机构4上，所述下料输送机构5位于转运机构3的行进路线上；所述上料机构1在磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构2上，以使相应磷化铟晶圆沿所述上料输送机构2输送至转运机构3下方，即所述转运机构3在清理机构4上做圆周运动，并在所述上料输送机构2吸附相应磷化铟晶圆转运至下料输送机构5；以及所述清理机构4对转动的转运机构3的表面进行清洁、润滑。

在本实施例中，本实施例通过设置上料机构1将磷化铟晶圆搬运到上料输送机构2进行输送、加工，并由转运机构3将在上料输送机构2加工完成的磷化铟晶圆转运到下料输送机构5进行最终下料，同时通过清理机构4不断对转运机构3进行清洁、润滑，能够避免脏污、不够润滑影响转运机构3的输送效率，保证转运持续进行。

在本实施例中，所述上料机构1包括：吊装在上料输送机构2上方的两个第一X轴滑轨组件11、第一Y轴滑轨组件12、第一Z轴滑轨组件13、上料夹爪组件14和上料吸盘组件15；两个所述第一X轴滑轨组件11平行设置，且两个所述第一X轴滑轨组件11与上料输送机构2相垂直；所述第一Y轴滑轨组件12活动架设在两个第一X轴滑轨组件11之间，所述第一Y轴滑轨组件12沿上料输送机构2的输送方向设置；所述第一Z轴滑轨组件13纵向活动安装在第一Y轴滑轨组件12上，所述上料夹爪组件14固定在第一Z轴滑轨组件13的底部，所述上料吸盘组件15位于上料夹爪组件14的夹持部；所述第一Y轴滑轨组件12在两个第一X轴滑轨组件11上移动，所述第一Z轴滑轨组件13在第一Y轴滑轨组件12上移动，所述上料夹爪组件14在第一Z轴滑轨组件13上移动，以带动所述上料吸盘组件15移动至磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构2。

在本实施例中，第一X轴滑轨组件11、第一Y轴滑轨组件12、第一Z轴滑轨组件13均包含电动滑轨，即第一Y轴滑轨组件12活动限位在第一X轴滑轨组件11上，第一Z轴滑轨组件13活动限位在第一Y轴滑轨组件12上，上料夹爪组件14活动限位在第一Z轴滑轨组件13上，从而实现上料夹爪组件14三轴移动，能够在磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构2。

在本实施例中，所述上料夹爪组件14包括：上料柱141和若干上料夹块142；所述上料柱141底部周向设置若干滑动槽，各所述上料夹块142活动限位安装在对应滑动槽内，即各所述上料夹块142在滑动槽内移动至相应位置，并通过相应螺栓锁住。

在本实施例中，根据磷化铟晶圆的规格调整各上料夹块142在上料柱141上的位置，从而实现上料夹爪组件14吸附不同规格的磷化铟晶圆，提高加工兼容性。

在本实施例中，所述上料吸盘组件15包括：若干上料吸附盘；各所述上料吸附盘固定在对应上料夹块142的底部，即通过相应上料吸附盘吸附磷化铟晶圆。

在本实施例中，通过上料吸附盘能够实现与磷化铟晶圆之间的软接触，能够保护磷化铟晶圆。

在本实施例中，所述上料输送机构2包括：上料输送带；所述上料输送带将上料机构1在上料输入区域投放的磷化铟晶圆输送至下料输出区域，以使所述转运机构3将磷化铟晶圆转运至下料输送机构5。

在本实施例中，上料输送带在上料输入区域与下料输出区域之间设置加工区域，对输送的磷化铟晶圆进行加工。

在本实施例中，所述转运机构3包括：旋转轴31、旋转座32、三轴机械手33和下料吸盘组件34；所述旋转轴31穿过清理机构4并活动安装在加工平台上，且所述旋转轴31的底部与旋转电机连接；所述旋转座32安装在旋转轴31的顶部，所述三轴机械手33安装在旋转座32上，所述下料吸盘组件34位于三轴机械手33的夹持部；所述旋转轴31在旋转电机驱动下旋转，以带动所述旋转座32、三轴机械手33做圆周运动，即转动至所述上料输送机构2正上方时，所述三轴机械手33带动下料吸盘组件34朝向上料输送机构2运动，以使所述下料吸盘组件34吸附相应磷化铟晶圆并抬起；直至转动至所述下料输送机构5正上方时，所述三轴机械手33带动下料吸盘组件34朝向下料输送机构5运动，以使所述下料吸盘组件34将吸附的磷化铟晶圆送至下料输送机构5。

在本实施例中，三轴机械手33通过旋转座32绕旋转轴31转动，能够在圆周区域内吸附磷化铟晶圆，从而实现将上料输送机构2上的磷化铟晶圆转动到下料输送机构5。

在本实施例中，所述清理机构4包括：清理圆台41、移动管42、吹龙43、蝶形气囊44和弧形板45；所述清理圆台41的圆心位置开设有圆形槽411，所述旋转轴31穿过圆形槽411；所述旋转轴31与圆形槽411的槽壁之间形成环形通道，所述移动管42位于环形通道内且与圆形槽411的槽壁活动连接；所述弧形板45位于清理圆台41上且与清理圆台41同圆心设置；所述移动管42的顶部设置有吹龙43、蝶形气囊44，所述吹龙43朝向旋转轴31设置，所述蝶形气囊44与吹龙43反向设置，所述移动管42在环形通道内转动，即当所述蝶形气囊44未接触弧形板45时，所述吹龙43处于收缩状态，所述吹龙43的外侧面抵于旋转轴31表面，以对所述旋转轴31的表面进行清洁；当所述蝶形气囊44接触弧形板45并抵住弧形板45继续运动时，所述蝶形气囊44向吹龙43中鼓入空气以使吹龙43展开，以使所述吹龙43的内侧面抵于旋转轴31表面，且所述吹龙43的内侧面开设若干排液孔431，所述蝶形气囊44中储存有清洗液；所述蝶形气囊44中清洗液在气压作用下通过相应排液孔431注于旋转轴31表面。

在本实施例中，弧形板45设置在蝶形气囊44行进方向上，由于蝶形气囊44是软质材料，能够在触碰、抵压弧形板45的时候对吹龙43进行鼓气，从而改变吹龙43的状态，即吹龙43处于收缩状态时吹龙43的外侧面对旋转轴31擦洗，吹龙43处于展开状态时吹龙43的内侧面向旋转轴31表面喷涂清洗液，提高对旋转轴31的清洁效果。

在本实施例中，移动管42内嵌齿轮及齿轮电机，在圆形槽411的槽壁内设置与齿轮啮合的齿条，通过齿轮电机、齿轮与齿条配合实现移动管42在环形通道内转动，从而实现吹龙43对旋转轴31表面反复清洁。

在本实施例中，所述圆形槽411的槽底且沿环形通道均匀排列若干收集孔，所述移动管42呈棱柱形，且所述移动管42的棱尖部与旋转轴31相接触，以刮除所述旋转轴31表面的混合液。

在本实施例中，通过收集孔能够及时将混合液排出，避免混合液从环形通道溢出。

在本实施例中，所述清理圆台41上开设有弧形槽412，所述弧形槽412位于圆形槽411与弧形板45之间，且所述弧形槽412的一端与圆形槽411之间的距离小于弧形槽412的另一端与圆形槽411之间的距离；所述弧形槽412内设置有移动块46，所述移动块46与弧形槽412的槽壁活动连接，所述弧形板45的底部沿周向延伸形成挡块451，所述移动块46穿有一根挤压杆47，所述挤压杆47的一端朝向移动管42设置，所述挤压杆47的另一端朝向挡块451设置；所述移动块46在弧形槽412内移动，以使所述挤压杆47的一端抵住挡块451，所述挤压杆47的另一端抵住移动管42，且在所述移动管42内存储有润滑液，所述移动管42朝向旋转轴31设置有通油孔，即所述挤压杆47抵压移动管42使润滑液从通油孔喷涂在旋转轴31上，以对旋转轴31表面进行润滑。

在本实施例中，移动块46与弧形槽412的连接结构与移动管42与圆形槽411的连接结构相同。

在本实施例中，移动管42为软质材料，在被挤压杆47抵压下挤出润滑液从通油孔喷涂在旋转轴31上。

在本实施例中，由于弧形槽412上每个节点与圆形槽411存在一个距离差，从而能够实现移动块46在弧形槽412内移动时带动挤压杆47挤压移动管42，能够起到对旋转轴31润滑的作用，保证转运持续进行。

在本实施例中，所述下料输送机构5包括：下料输送带；所述下料输送带将磷化铟晶圆输送至相应位置处。

综上所述，本发明通过设置上料机构将磷化铟晶圆搬运到上料输送机构进行输送、加工，并由转运机构将在上料输送机构加工完成的磷化铟晶圆转运到下料输送机构进行最终下料，同时通过清理机构不断对转运机构进行清洁、润滑，能够避免脏污、不够润滑影响转运机构的输送效率，保证转运持续进行。

本申请中选用的各个器件（未说明具体结构的部件）均为通用标准件或本领域技术人员知晓的部件，其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知。

在本发明实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的系统、装置和方法，可以通过其它的方式实现。以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，又例如，多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些通信接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。

所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。

另外，在本发明各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。

以上述依据本发明的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。

Claims (10)

1.一种磷化铟加工用输送系统，其特征在于，包括：

上料机构、上料输送机构、转运机构、清理机构和下料输送机构；其中

所述上料输送机构设置上料输入区域，上料输出区域，所述上料机构、转运机构分别位于上料输入区域，上料输出区域处；

所述转运机构活动设置在清理机构上，所述下料输送机构位于转运机构的行进路线上；

所述上料机构在磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构上，以使相应磷化铟晶圆沿所述上料输送机构输送至转运机构下方，即

所述转运机构在清理机构上做圆周运动，并在所述上料输送机构吸附相应磷化铟晶圆转运至下料输送机构；以及

所述清理机构对转动的转运机构的表面进行清洁、润滑。

2.如权利要求1所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，

所述上料机构包括：吊装在上料输送机构上方的两个第一X轴滑轨组件、第一Y轴滑轨组件、第一Z轴滑轨组件、上料夹爪组件和上料吸盘组件；

两个所述第一X轴滑轨组件平行设置，且两个所述第一X轴滑轨组件与上料输送机构相垂直；

所述第一Y轴滑轨组件活动架设在两个第一X轴滑轨组件之间，所述第一Y轴滑轨组件沿上料输送机构的输送方向设置；

所述第一Z轴滑轨组件纵向活动安装在第一Y轴滑轨组件上，所述上料夹爪组件固定在第一Z轴滑轨组件的底部，所述上料吸盘组件位于上料夹爪组件的夹持部；

所述第一Y轴滑轨组件在两个第一X轴滑轨组件上移动，所述第一Z轴滑轨组件在第一Y轴滑轨组件上移动，所述上料夹爪组件在第一Z轴滑轨组件上移动，以带动所述上料吸盘组件移动至磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构。

3.如权利要求2所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，

所述上料夹爪组件包括：上料柱和若干上料夹块；

所述上料柱底部周向设置若干滑动槽，各所述上料夹块活动限位安装在对应滑动槽内，即

各所述上料夹块在滑动槽内移动至相应位置，并通过相应螺栓锁住。

4.如权利要求3所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，

所述上料吸盘组件包括：若干上料吸附盘；

各所述上料吸附盘固定在对应上料夹块的底部，即

通过相应上料吸附盘吸附磷化铟晶圆。

5.如权利要求1所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，

所述上料输送机构包括：上料输送带；

所述上料输送带将上料机构在上料输入区域投放的磷化铟晶圆输送至下料输出区域，以使所述转运机构将磷化铟晶圆转运至下料输送机构。

6.如权利要求1所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，

所述转运机构包括：旋转轴、旋转座、三轴机械手和下料吸盘组件；

所述旋转轴穿过清理机构并活动安装在加工平台上，且所述旋转轴的底部与旋转电机连接；

所述旋转座安装在旋转轴的顶部，所述三轴机械手安装在旋转座上，所述下料吸盘组件位于三轴机械手的夹持部；

所述旋转轴在旋转电机驱动下旋转，以带动所述旋转座、三轴机械手做圆周运动，即

转动至所述上料输送机构正上方时，所述三轴机械手带动下料吸盘组件朝向上料输送机构运动，以使所述下料吸盘组件吸附相应磷化铟晶圆并抬起；

直至转动至所述下料输送机构正上方时，所述三轴机械手带动下料吸盘组件朝向下料输送机构运动，以使所述下料吸盘组件将吸附的磷化铟晶圆送至下料输送机构。

7.如权利要求6所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，

所述清理机构包括：清理圆台、移动管、吹龙、蝶形气囊和弧形板；

所述清理圆台的圆心位置开设有圆形槽，所述旋转轴穿过圆形槽；

所述旋转轴与圆形槽的槽壁之间形成环形通道，所述移动管位于环形通道内且与圆形槽的槽壁活动连接；

所述弧形板位于清理圆台上且与清理圆台同圆心设置；

所述移动管的顶部设置有吹龙、蝶形气囊，所述吹龙朝向旋转轴设置，所述蝶形气囊与吹龙反向设置，所述移动管在环形通道内转动，即

当所述蝶形气囊未接触弧形板时，所述吹龙处于收缩状态，所述吹龙的外侧面抵于旋转轴表面，以对所述旋转轴的表面进行清洁；

当所述蝶形气囊接触弧形板并抵住弧形板继续运动时，所述蝶形气囊向吹龙中鼓入空气以使吹龙展开，以使所述吹龙的内侧面抵于旋转轴表面，且所述吹龙的内侧面开设若干排液孔，所述蝶形气囊中储存有清洗液；

所述蝶形气囊中清洗液在气压作用下通过相应排液孔注于旋转轴表面。

8.如权利要求7所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，

所述圆形槽的槽底且沿环形通道均匀排列若干收集孔，所述移动管呈棱柱形，且所述移动管的棱尖部与旋转轴相接触，以刮除所述旋转轴表面的混合液。

9.如权利要求7所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，

所述清理圆台上开设有弧形槽，所述弧形槽位于圆形槽与弧形板之间，且所述弧形槽的一端与圆形槽之间的距离小于弧形槽的另一端与圆形槽之间的距离；

所述弧形槽内设置有移动块，所述移动块与弧形槽的槽壁活动连接，所述弧形板的底部沿周向延伸形成挡块，所述移动块穿有一根挤压杆，所述挤压杆的一端朝向移动管设置，所述挤压杆的另一端朝向挡块设置；

所述移动块在弧形槽内移动，以使所述挤压杆的一端抵住挡块，所述挤压杆的另一端抵住移动管，且在所述移动管内存储有润滑液，所述移动管朝向旋转轴设置有通油孔，即

所述挤压杆抵压移动管使润滑液从通油孔喷涂在旋转轴上，以对旋转轴表面进行润滑。

10.如权利要求1所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，

所述下料输送机构包括：下料输送带；

所述下料输送带将磷化铟晶圆输送至相应位置处。

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