CN114409265A - 微晶玻璃刻蚀液、防眩光微晶玻璃、壳体组件和电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种微晶玻璃刻蚀液，按质量百分比计，所述微晶玻璃刻蚀液包括1％‑5％的盐酸、30％‑40％的氟化氢铵、1％‑5％的氢氟酸、3％‑5％的氟硅酸盐、20％‑30％的柠檬酸、2％‑5％的硫酸钡以及余量的水。本申请提供的微晶玻璃刻蚀液可以用于防眩光微晶玻璃的制备，既保证了防眩光微晶玻璃的上砂效果，同时又能够获得具有优异力学性能的防眩光微晶玻璃。本申请还提供了防眩光微晶玻璃及其制备方法、壳体组件和电子设备。

Description

微晶玻璃刻蚀液、防眩光微晶玻璃、壳体组件和电子设备

技术领域

本申请属于电子产品技术领域，具体涉及微晶玻璃刻蚀液、防眩光微晶玻璃、壳体组件和电子设备。

背景技术

随着电子设备的不断发展，用户对电子设备外观效果的要求也越来越高。其中，采用防眩光玻璃壳体使得电子设备表面具有防眩光效果以及磨砂质感，给用户提供很好的使用体验。然而，现有的防眩光玻璃采用传统的钠钙玻璃，其强度还有待进一步提高。

发明内容

鉴于此，本申请提供了一种微晶玻璃刻蚀液、防眩光微晶玻璃、壳体组件和电子设备。

第一方面，本申请提供了一种微晶玻璃刻蚀液，按质量百分比计，所述微晶玻璃刻蚀液包括1％-5％的盐酸、30％-40％的氟化氢铵、1％-5％的氢氟酸、3％-5％的氟硅酸盐、20％-30％的柠檬酸、2％-5％的硫酸钡以及余量的水。

第二方面，本申请提供了一种防眩光微晶玻璃的制备方法，包括：

采用第一方面所述的微晶玻璃刻蚀液对微晶玻璃进行刻蚀；

经所述刻蚀后进行清洗得到防眩光微晶玻璃。

第三方面，本申请提供了一种防眩光微晶玻璃，所述防眩光微晶玻璃的表面具有凸起结构，所述防眩光微晶玻璃的表面粗糙度为0.4μm-0.5μm，雾度为50％-90％。

第四方面，本申请提供了一种壳体组件，所述壳体组件包括第二方面所述的制备方法制得的防眩光微晶玻璃，或第三方面所述的防眩光微晶玻璃。

第五方面，本申请提供了一种电子设备，包括第四方面所述的壳体组件，以及与所述壳体组件相连的显示装置。

本申请提供的微晶玻璃刻蚀液可以用于防眩光微晶玻璃的制备，既保证了防眩光微晶玻璃的上砂效果，同时又能够获得具有优异力学性能的防眩光微晶玻璃；该防眩光微晶玻璃的制备方法简单，操作方便；具有该防眩光微晶玻璃的壳体组件和电子设备具有防眩光效果和丝滑触感，同时产品机械性能提升，延长使用寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施方式中的技术方案，下面将对本申请实施方式中所需要使用的附图进行说明。

图1为本申请一实施方式提供的防眩光微晶玻璃的制备方法流程图。

图2为本申请一实施方式提供的壳体组件的结构示意图。

图3为本申请另一实施方式提供的壳体组件的结构示意图。

图4为本申请一实施方式提供的电子设备的结构示意图。

图5为实施例1制得的防眩光微晶玻璃的表面示意图。

图6为实施例2制得的防眩光微晶玻璃的表面示意图。

具体实施方式

以下是本申请的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本申请的保护范围。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

本申请提供了一种微晶玻璃刻蚀液，按质量百分比计，微晶玻璃刻蚀液包括1％-5％的盐酸、30％-40％的氟化氢铵、1％-5％的氢氟酸、3％-5％的氟硅酸盐、20％-30％的柠檬酸、2％-5％的硫酸钡以及余量的水。

相关技术中，往往采用钠钙玻璃、高铝玻璃、高硼玻璃等制备防眩光玻璃，然而钠钙玻璃、高铝玻璃、高硼玻璃等制得的防眩光玻璃的强度还有待提升。有鉴于此，本申请发明人采用了微晶玻璃制备防眩光玻璃，然而现有的刻蚀液用于刻蚀传统的钠钙玻璃、高铝玻璃、高硼玻璃等，由于微晶玻璃中含有微小晶体，现有的刻蚀液无法腐蚀这些晶体，从而无法实现防眩光效果。因此，本申请发明人提供了上述微晶玻璃刻蚀液，其能够对微晶玻璃起到刻蚀作用，从而使微晶玻璃获得防眩光效果，并且刻蚀后微晶玻璃表面整体砂效均匀一致，可以得到中高雾度、触感丝滑的防眩光微晶玻璃。

在本申请中，微晶玻璃刻蚀液中盐酸、氢氟酸可以腐蚀微晶玻璃内的微晶，氟化氢铵、氢氟酸与微晶玻璃中的二氧化硅反应生成氟硅酸，氟硅酸与溶液中的阳离子反应生成氟硅酸盐；生成的氟硅酸盐以及微晶玻璃刻蚀液中含有的氟硅酸盐使得溶液中氟硅酸盐的浓度达到饱和状态，氟硅酸盐结晶析出并附着在微晶玻璃表面作为初级晶核，随后以吸附成核的方式继续吸附氟硅酸盐，进行晶体的生长和扩展；附着有氟硅酸盐晶体的微晶玻璃表面免受进一步侵蚀，未有氟硅酸盐晶体附着的微晶玻璃表面会继续反应；刻蚀处理后，将附着在微晶玻璃表面上的氟硅酸盐清洗去除，即可得到防眩光微晶玻璃；在此过程中，硫酸钡调节整体粘度，保证氟硅酸盐晶体的附着和生长，柠檬酸维持体系酸性条件，保证刻蚀的进行。

在本申请中，微晶玻璃刻蚀液中含有1％-5％的盐酸，通过添加盐酸对微晶玻璃中的微晶颗粒进行腐蚀，保证刻蚀的进行，进而得到具有防眩光效果的微晶玻璃；微晶玻璃刻蚀液中盐酸含量过低(例如低于1％)则无法对微晶玻璃中的微晶颗粒进行有效腐蚀，会导致刻蚀不均匀甚至无法刻蚀的问题，进而不能得到防眩光微晶玻璃，微晶玻璃刻蚀液中盐酸含量过高(例如高于5％)则刻蚀体系酸度过高，导致生成的氟硅酸盐被迅速溶解，无法附着在玻璃表面，也不能得到防眩光微晶玻璃。同时，本申请发明人研究发现，将盐酸替换为硫酸或硝酸时，即使在上述质量含量范围内，微晶玻璃表面无法上砂，不能得到防眩光微晶玻璃，可能是由于硫酸使反应体系酸度过高，无法使氟硅酸盐附着在表面，而硝酸挥发性强也无法使微晶玻璃表面上砂，即使调整硫酸或硝酸的浓度，仍然无法获得防眩光微晶玻璃。具体的，微晶玻璃刻蚀液中盐酸的质量含量可以但不限于为1％、1.5％、2％、2.8％、3％、3.5％、4％、4.4％或5％等。在本申请一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中盐酸的质量含量为1％-2％。在本申请另一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中盐酸的质量含量为2％-3％。在本申请又一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中盐酸的质量含量为3％-5％。如此，能够提高微晶玻璃刻蚀液对微晶颗粒的腐蚀效果，同时提高生成的氟硅酸盐的生成量，提高上砂效果的均匀性，进一步提高防眩光微晶玻璃的顺滑感。

在本申请中，微晶玻璃刻蚀液中含有30％-40％的氟化氢铵，氟化氢铵作为微晶玻璃的刻蚀剂，与微晶玻璃中的二氧化硅反应，从而保证氟硅酸盐的形成，得到具有防眩光效果的微晶玻璃；微晶玻璃刻蚀液中氟化氢铵含量过低(例如低于30％)则增加微晶玻璃表面未刻蚀区域的面积，导致上砂不均匀，即部分表面上砂，部分表面不上砂，无法获得防眩光微晶玻璃，并且氟化氢铵溶解度不高，无法使微晶玻璃刻蚀液中含有过高浓度的氟化氢铵，同时微晶玻璃刻蚀液中氟化氢铵含量过高(例如高于40％)则反应速率过快，仍然会导致上砂不均匀，无法获得防眩光微晶玻璃。同时，本申请发明人研究发现，将氟化氢铵替换为氟化铵时，氟化铵溶解度低，无法达到上述质量含量范围，上砂不均匀，不能得到防眩光微晶玻璃。具体的，微晶玻璃刻蚀液中氟化氢铵的质量含量可以但不限于为30％、31％、32％、33％、34％、35％、36％、37％、38％、39％或40％等。在本申请一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中氟化氢铵的质量含量为30％-35％。在本申请另一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中氟化氢铵的质量含量为33％-38％。在本申请又一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中氟化氢铵的质量含量为35％-40％。如此，能够提高微晶玻璃刻蚀液对微晶玻璃的刻蚀效果，提高上砂效果的均匀性，进一步提高防眩光微晶玻璃的顺滑感。

在本申请中，盐酸和氟化氢铵作为刻蚀过程中的反应物，对微晶玻璃的微晶颗粒的腐蚀以及氟硅酸盐的附着起到重要的作用。在本申请实施方式中，盐酸和氟化氢铵的质量比为1：(7-9)，从而能够进一步提高上砂效果的均匀性，降低防眩光微晶玻璃的表面粗糙度，提升防眩光微晶玻璃的顺滑触感。具体的，盐酸和氟化氢铵的质量比可以但不限于为1：7、1：7.5、1：8、1：8.5或1：9。在一实施例中，盐酸和氟化氢铵的质量比为1：(7-8)。在另一实施例中，盐酸和氟化氢铵的质量比为1：(8-9)。

在本申请中，微晶玻璃刻蚀液中含有1％-5％的氢氟酸，通过添加氢氟酸对微晶玻璃中的微晶颗粒进行腐蚀，并且氢氟酸作为刻蚀剂，与微晶玻璃中的二氧化硅反应，生成氟硅酸盐，保证刻蚀过程的进行，进而得到具有防眩光效果的微晶玻璃；微晶玻璃刻蚀液中氢氟酸含量过低(例如低于1％)则无法对微晶玻璃中的微晶颗粒进行有效腐蚀，会导致刻蚀不均匀甚至无法刻蚀的问题，进而不能得到防眩光微晶玻璃，微晶玻璃刻蚀液中氢氟酸含量过高(例如高于5％)，刻蚀速度过快，会导致上砂不均匀。具体的，微晶玻璃刻蚀液中氢氟酸的质量含量可以但不限于为1％、1.8％、2％、2.5％、3％、3.3％、4％、4.5％或5％等。在本申请一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中氢氟酸的质量含量为1％-2％。在本申请另一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中氢氟酸的质量含量为2％-3％。在本申请又一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中氢氟酸的质量含量为3％-5％。如此，能够提高微晶玻璃刻蚀液对微晶颗粒的腐蚀效果，同时提高上砂效果的均匀性。

在本申请中，微晶玻璃刻蚀液中含有3％-5％的氟硅酸盐，氟硅酸盐提高了刻蚀过程中溶液内氟硅酸盐的浓度，有利于氟硅酸盐的析出和附着，从而保证得到具有防眩光效果的微晶玻璃；微晶玻璃刻蚀液中氟硅酸盐含量过低(例如低于3％)则对刻蚀过程中溶液内氟硅酸盐浓度的提升有限，附着在微晶玻璃表面的初级晶核过少，导致上砂效果不均匀，无法获得防眩光微晶玻璃，并且氟硅酸盐溶解度不高，含量过高(例如高于5％)则会产生大量沉淀，同样不利于刻蚀的进行。具体的，微晶玻璃刻蚀液中氟硅酸盐的质量含量可以但不限于为3％、3.2％、3.5％、4％、4.3％、4.5％、4.9％或5％等。在本申请一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中氟硅酸盐的质量含量为3％-4％。在本申请另一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中氟硅酸盐的质量含量为3.5％-4.5％。在本申请又一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中氟硅酸盐的质量含量为4％-5％。如此，能够提高刻蚀过程中溶液内氟硅酸盐浓度，保证在微晶玻璃整面氟硅酸盐的附着，提高上砂效果的均匀性。

在本申请实施方式中，氟硅酸盐包括氟硅酸铵、氟硅酸钾、氟硅酸钠和氟硅酸铝中的至少一种。由于钾元素、钠元素和铝元素中的至少一种为微晶玻璃中含有的元素，在刻蚀过程中可以生成氟硅酸钾、氟硅酸钠和氟硅酸铝中的至少一种，以及由于氟化氢铵的存在，在刻蚀过程也会生成氟硅酸铵，因此采用氟硅酸铵、氟硅酸钾、氟硅酸钠和氟硅酸铝中的至少一种，有利于提高刻蚀过程中溶液内氟硅酸盐的浓度，从而使氟硅酸盐达到饱和进行析出和附着，有利于刻蚀的进行。在一实施例中，氟硅酸盐包括氟硅酸铵；氟硅酸铵溶解度高，可以在刻蚀液中均匀分散，提高刻蚀过程中上砂的均匀性。在另一实施例中，氟硅酸盐包括氟硅酸钾、氟硅酸钠和氟硅酸铝中的至少一种，以及氟硅酸铵。

在本申请中，微晶玻璃刻蚀液中含有20％-30％的柠檬酸，通过添加柠檬酸维持刻蚀液的酸度，为刻蚀反应提供氢离子，同时可以提高氟化氢铵的溶解度，保证刻蚀过程的进行；微晶玻璃刻蚀液中柠檬酸含量过低(例如低于20％)则不利于刻蚀液酸度的维持，无法长期稳定地提供氢离子，不利于刻蚀的进行，微晶玻璃刻蚀液中柠檬酸含量过高(例如高于30％)则刻蚀液中氢离子活度过小，也不利于刻蚀的进行。具体的，微晶玻璃刻蚀液中柠檬酸的质量含量可以但不限于为20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％或30％等。在本申请一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中柠檬酸的质量含量为20％-25％。在本申请另一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中柠檬酸的质量含量为23％-28％。在本申请又一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中柠檬酸的质量含量为25％-30％。

在本申请中，微晶玻璃刻蚀液中含有2％-5％的硫酸钡，可以使微晶玻璃刻蚀液处于悬浊液的状态，还能够调节微晶玻璃刻蚀液的粘度，有利于微晶玻璃刻蚀液在微晶玻璃表面反应更加充分；微晶玻璃刻蚀液中硫酸钡含量过低(例如低于2％)则微晶玻璃刻蚀液的粘度过低，不利于刻蚀反应的进行，微晶玻璃刻蚀液中硫酸钡含量过高(例如高于5％)则会加大对氟硅酸盐的吸附作用，影响刻蚀过程中氟硅酸盐初级晶核的形成和附着。具体的，微晶玻璃刻蚀液中硫酸钡的质量含量可以但不限于为2％、2.5％、3％、3.5％、3.8％、4％、4.3％、4.5％或5％等。在本申请一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中硫酸钡的质量含量为2％-3％。在本申请另一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中硫酸钡的质量含量为3％-4％。在本申请又一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中硫酸钡的质量含量为3％-5％。

在本申请实施方式中，按质量百分比计，所述微晶玻璃刻蚀液包括3％-5％的盐酸，35％-40％的氟化氢铵、3％-5％的氢氟酸、4％-5％的氟硅酸盐、20％-30％的柠檬酸和2％-5％的硫酸钡。进一步的，按质量百分比计，所述微晶玻璃刻蚀液包括3％-5％的盐酸，35％-40％的氟化氢铵、3％-5％的氢氟酸、4％-5％的氟硅酸盐、25％-30％的柠檬酸和3％-5％的硫酸钡。如此，可以提高上砂效果的均匀性，从而提高防眩光微晶玻璃表面的顺滑性。在一具体实施例中，按质量百分比计，微晶玻璃刻蚀液包括5％的盐酸、40％的氟化氢铵、5％的氢氟酸、5％的氟硅酸盐、30％的柠檬酸和5％的硫酸钡。在另一具体实施例中，按质量百分比计，微晶玻璃刻蚀液包括3％的盐酸、35％的氟化氢铵、3％的氢氟酸、4％的氟硅酸盐、25％的柠檬酸和3％的硫酸钡。在又一具体实施例中，按质量百分比计，微晶玻璃刻蚀液包括4％的盐酸、38％的氟化氢铵、4％的氢氟酸、4.5％的氟硅酸盐、26％的柠檬酸和4％的硫酸钡。

在本申请中，微晶玻璃刻蚀液还包括水，通过将各组分分散中水中形成该微晶玻璃刻蚀液；微晶玻璃刻蚀液中水的质量含量根据需要进行选择，对此不作限定。

本申请还提供了防眩光微晶玻璃的制备方法，请参阅图1，为本申请一实施方式提供的防眩光微晶玻璃的制备方法流程图，包括：

S101：采用微晶玻璃刻蚀液对微晶玻璃进行刻蚀。

S102：经刻蚀后进行清洗得到防眩光微晶玻璃。

在S101中，采用微晶玻璃刻蚀液对微晶玻璃进行刻蚀，其中微晶玻璃刻蚀液为前文所述的微晶玻璃蚀刻液。在本申请实施方式中，微晶玻璃的晶相包括二硅酸锂和透锂长石。在本申请实施方式中，微晶玻璃的原料包括质量含量为15％-30％的氧化铝，以及质量含量为2.5％-6％的氧化锂。进一步的，微晶玻璃的原料还可以包括二氧化硅；例如，微晶玻璃的原料中二氧化硅的质量含量可以但不限于为55％-70％。更进一步的，微晶玻璃的原料还包括氧化钠、氧化钾、氧化锆、氧化钡和氧化镁中的至少一种。在一实施例中，微晶玻璃的原料可以包括氧化铝、氧化锂、二氧化硅、氧化钠和氧化钾。在本申请实施方式中，通过将微晶玻璃的原料高温加热熔融后进行成型，然后再进行退火处理和晶化处理，冷却后便可得到微晶玻璃。进一步的，在晶化处理中形成二硅酸锂和透锂长石晶相。

在本申请实施方式中，在刻蚀前还可以对微晶玻璃刻蚀液进行熟化。通过熟化处理，使得微晶玻璃刻蚀液中各成分混合均匀，并在此过程中使得微晶玻璃刻蚀液内部进一步产生氢氟酸，有利于后续刻蚀的进行。在一实施例中，熟化可以为在15℃-30℃处理12h-36h。在本申请实施方式中，在刻蚀前还可以对微晶玻璃进行清洗，如用水清洗微晶玻璃等，以去除微晶表面的脏污，有利于刻蚀的进行。在本申请实施方式中，在刻蚀前还可以对微晶玻璃不需要进行刻蚀处理的表面上设置保护层，从而对不进行刻蚀处理的表面进行保护，防止与微晶玻璃刻蚀液接触。在一实施例中，通过在微晶玻璃的一侧表面设置耐酸性油墨，形成保护层。进一步的，在刻蚀处理后还包括去除保护层。

在本申请一实施例中，可以将微晶玻璃直接置于玻璃刻蚀液中进行刻蚀。在本申请另一实施例中，可以将微晶玻璃刻蚀液涂覆在微晶玻璃的表面。具体的，涂覆可以但不限于为喷淋。在一具体实施例中，可以将微晶放置在水平治具上，在微晶玻璃表面持续涂覆微晶玻璃刻蚀液即可。在本申请实施方式中，刻蚀的温度为25℃-30℃，时间为2min-5min。如此，能够避免漏砂的问题，并且刻蚀充分，有利于获得外观效果佳的防眩光微晶玻璃。具体的，刻蚀的温度可以但不限于为25℃、26℃、27℃、28℃、29℃或30℃等，刻蚀的时间可以但不限于为2min、2.5min、3min、3.5min、4min或5min等。

在S102中，对刻蚀后的微晶玻璃进行清洗即可得到防眩光微晶玻璃。在本申请中，通过水和酸液中的至少一种进行清洗。可以理解的，控制酸液浓度将附着在玻璃表面的氟硅酸盐快速去除，同时又不影响防眩光微晶玻璃表面的形貌。在一实施例中，清洗的时间可以为30s-5min。在一具体实施例中，可以通过稀硫酸进行清洗1min。在另一具体实施例中，可以将刻蚀后的微晶玻璃浸入水中进行超声清洗。

在本申请实施方式中，清洗后还可以采用化抛液进行化抛处理，进一步提高防眩光微晶玻璃的光滑性。在本申请一实施例中，化抛处理包括在15℃-30℃处理1min-5min，化抛液包括质量含量为1％-7％的氢氟酸和5％-10％的硫酸。在一具体实施例中，化抛处理包括在25℃处理1min，化抛液包括质量含量为5％的氢氟酸和10％的硫酸。

在本申请实施方式中，微晶玻璃可以为强化玻璃，或刻蚀后对防眩光微晶玻璃进行强化处理，进一步提高防眩光微晶玻璃的机械性能。

本申请提供的防眩光微晶玻璃的制备方法简单，采用上述微晶玻璃刻蚀液能够有效刻蚀微晶玻璃表面，获得砂效均匀、表面粗糙度小、防眩光、触感顺滑、机械性能佳的防眩光微晶玻璃。

本申请还提供了一种防眩光微晶玻璃。防眩光微晶玻璃的表面具有凸起结构，防眩光微晶玻璃的表面粗糙度为0.4μm-0.5μm，雾度为50％-90％。该防眩光微晶玻璃具有中高雾度，从而可以起到防眩光效果，同时表面粗糙度低，触感顺滑。在本申请实施方式中，防眩光微晶玻璃可以采用上述任一实施方式中的防眩光微晶玻璃的制备方法制得。

在本申请中，防眩光微晶玻璃的表面粗糙度为0.4μm-0.5μm，从而使防眩光微晶玻璃具有顺滑的手感，提高其应用范围。可以理解的，该表面粗糙度为具有凸起结构的表面的粗糙度。具体的，防眩光微晶玻璃的表面粗糙度可以但不限于为0.4μm、0.42μm、0.45μm、0.47μm、0.48μm或0.5μm等。在本申请中，防眩光微晶玻璃的雾度为50％-90％，从而使防眩光微晶玻璃具有磨砂质感，视觉效果更加丰富。具体的，防眩光微晶玻璃的雾度可以但不限于为50％、60％、65％、70％、75％、80％或90％等。

在本申请中，防眩光微晶玻璃的表面具有凸起结构，从而使防眩光微晶玻璃具有磨砂质感。在本申请实施方式中，凸起结构包括至少一个微结构，微结构的延伸方向呈线状。在本申请实施例中，微结构的延伸方向呈不规则线状。具体的，微结构的延伸方向呈不规则曲线状。在本申请一实施方式中，凸起结构包括一个微结构，此时微结构的尺寸为微米级，微结构的长度和宽度与凸起结构的长度和宽度一致。可以理解的，微结构的长度为沿微结构延伸方向上的微结构的尺寸，宽度为在防眩光微晶玻璃表面上与延伸方向垂直的方向上的微结构的平均尺寸。在本申请另一实施方式中，凸起结构包括多个微结构，且多个微结构相交。可以理解的，多个微结构相交是指多个微结构中的任意一个与该多个微结构中其他的至少一个微结构相交即可。举例来说，当凸起结构包括两个微结构时，两个微结构相交；当凸起结构包括三个微结构时，三个微结构可以两两相交，也可以第二个微结构和第三个微结构分别与第一个微结构相交，但第二个微结构和第三个微结构不相交，当然第二个微结构和第三个微结构的延伸方向可以相同，也可以不同。此时多个微结构的尺寸可以相同也可以不同；多个微结构交联设置在防眩光微晶玻璃的表面，有利于进一步提高防眩光微晶玻璃的表面顺滑性；其中凸起结构的长度为多个微结构长度中的最大值，凸起结构的宽度为多个微结构宽度的平均值。在本申请又一实施方式中，部分凸起结构包括一个微结构，部分凸起结构包括多个微结构且多个微结构相交。

在本申请实施方式中，凸起结构的纵截面为多边形。具体的，凸起结构的纵截面可以但不限于为三角形、梯形、不规则四边形、不规则五边形等。在一实施例中，凸起结构的纵截面中具有至少一条曲线，例如弧线。具体的，凸起结构具有顶部，顶部为弧面，该凸起结构的纵截面中具有弧线。

在本申请实施方式中，凸起结构的长度为50μm-100μm，宽度为5μm-20μm。防眩光微晶玻璃上的凸起结构的尺寸较小，既能够使防眩光微晶玻璃具有磨砂质感，同时又不会影响其表面触感。在一实施例中，凸起结构的长度为50μm-70μm，宽度为5μm-10μm。在另一实施例中，凸起结构的长度为60μm-80μm，宽度为10μm-15μm。在另一实施例中，凸起结构的长度为80μm-100μm，宽度为15μm-20μm。具体的，凸起结构的长度可以但不限于为50μm、55μm、58μm、60μm、62μm、65μm、67μm或70μm等，宽度可以但不限于为5μm、8μm、10μm、13μm、15μm、17μm、18μm或20μm等。在上述范围内的凸起结构之间的形貌均匀度高，能够提升防眩光微晶玻璃外观效果的均匀性和表面顺滑感。在本申请实施方式中，相邻凸起结构之间的间距为1μm-10μm，凸起结构之间的间距较小，能够进一步提高防眩光微晶玻璃表面的顺滑性。可以理解的，相邻凸起结构之间的间距为相邻凸起结构在防眩光微晶玻璃表面上的正投影轮廓线之间的最小距离。具体的，相邻凸起结构之间的间距可以但不限于为1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm或10μm等。

在本申请实施方式中，防眩光微晶玻璃的可见光透过率为20％-40％。进一步的，防眩光微晶玻璃的透过率为23％-35％。具体的，防眩光微晶玻璃的透过率可以但不限于为20％、25％、28％、30％、37％或40％等。

在本申请中，防眩光微晶玻璃可以为2D结构、2.5D结构或3D结构，具体形状和尺寸可以根据应用需要进行选择。防眩光微晶玻璃的厚度也可以根据应用需要进行选择，具体的可以但不限于为0.1mm-2mm、0.4mm-1mm或0.5mm-0.7mm等。

请参阅图2，为本申请一实施方式提供的壳体组件100的结构示意图，壳体组件100包括上述任一实施方式中的防眩光微晶玻璃10，从而提高了壳体组件100的外观效果、触感和机械性能。可以理解的，图2中防眩光微晶玻璃10表面的凸起结构仅作为示例，还可以为其他形状或排布方式。在本申请实施方式中，壳体组件100的至少一部分由防眩光微晶玻璃10构成，从而使得壳体组件100具有防眩光效果，视觉效果丰富，表现力强。在一实施例中，壳体组件100中的一部分由防眩光微晶玻璃10组成，一部分由其他材质组成，从而使得壳体组件100的不同材质区域具有不同的外观效果，提升了壳体组件100的外观表现力。例如，可以在壳体组件100易磕碰的位置出使用防眩光微晶玻璃10，从而提高壳体组件100的机械性能和使用寿命。在另一实施例中，壳体组件100为防眩光微晶玻璃10，从而使得整个壳体组件100具有磨砂质感，整体外观一致性佳且力学性能优异。

请参阅图3，为本申请另一实施方式提供的壳体组件100的结构示意图，壳体组件100包括防眩光微晶玻璃10以及设置在防眩光微晶玻璃10表面的装饰层20。可以理解的，图3中未示出防眩光微晶玻璃10表面的凸起结构。具体的，装饰层20可以但不限于为颜色层、光学膜层、纹理层、防护层和盖底层中的至少一种。其中，颜色层用于提供色彩，光学膜层可以产生光影流动的视觉效果，纹理层可以提供纹理效果，防护层用于对壳体组件100产生保护作用，盖底层能够对壳体组件100的一侧光线进行遮挡。可以理解的，防眩光微晶玻璃10具有相对设置的内表面和外表面。在一实施例中，纹理层、光学膜层、颜色层或防护层设置在防眩光微晶玻璃10的外表面，盖底层设置在防眩光微晶玻璃10的内表面。

本申请还提供了一种电子设备，包括上述任一实施例中的壳体组件100。可以理解的，电子设备可以但不限于为手机、平板电脑、笔记本电脑、手表、MP3、MP4、GPS导航仪、数码相机等，壳体组件100可以但不限于作为电子设备的后盖、前盖、中框、电池盖、表盘等。请参阅图4，为本申请一实施方式提供的电子设备的结构示意图，其中，电子设备200包括壳体组件100以及与壳体组件100相连的显示装置。该壳体组件100使电子设备200具有防眩光效果和丝滑手感，同时提高了电子设备200的机械强度，更有利提升电子设备200的使用寿命。

以下通过具体实施例及对比例对本申请的微晶玻璃刻蚀液以及防眩光微晶玻璃10的性能做进一步的说明。

实施例1

提供微晶玻璃刻蚀液，按质量百分比计，微晶玻璃刻蚀液包括5％的盐酸、40％的氟化氢铵、5％的氢氟酸、5％的氟硅酸盐、30％的柠檬酸、5％的硫酸钡以及10％的水。将微晶玻璃刻蚀液喷淋在微晶玻璃(购自重庆鑫景特种玻璃有限公司)的表面，在25℃-30℃刻蚀4min；经清洗后得到防眩光微晶玻璃。

请参阅图5，为实施例1制得的防眩光微晶玻璃的表面示意图，可以看出，本申请提供的微晶玻璃刻蚀液能够对微晶玻璃起到刻蚀作用，同时刻蚀效果均匀，防眩光微晶玻璃的表面具有多个凸起结构，其中A和A’之间的间距为8.51μm，B和B’之间的间距为10.33μm，C和C’之间的间距为10.21μm，D和D’之间的间距为8.18μm，E和E’之间的间距为9.71μm；该防眩光微晶玻璃的雾度为70％，表面粗糙度为0.4μm，可见光透过率为30％。

实施例2

与实施例1大致相同，不同之处在于刻蚀时间为3min。请参阅图6，为实施例2制得的防眩光微晶玻璃的表面示意图，该防眩光微晶玻璃的雾度为70％，表面粗糙度为0.45μm，可见光透过率为30％。

实施例3

与实施例1大致相同，不同之处在于按质量百分比计，微晶玻璃刻蚀液包括4％的盐酸、35％的氟化氢铵、3％的氢氟酸、4％的氟硅酸钠、25％的柠檬酸、3％的硫酸钡和26％的水，制得的防眩光微晶玻璃具有高雾度和低表面粗糙度，机械性能佳且表面顺滑，其中，该防眩光微晶玻璃的雾度为68％，表面粗糙度为0.42μm。

实施例4

与实施例1大致相同，不同之处在于按质量百分比计，微晶玻璃刻蚀液包括3％的盐酸、30％的氟化氢铵、2.5％的氢氟酸、3％的氟硅酸钾、23％的柠檬酸、3.5％的硫酸钡和35％的水，制得的防眩光微晶玻璃具有中雾度和低表面粗糙度，机械性能佳且表面顺滑，其中，该防眩光微晶玻璃的雾度为55％，表面粗糙度为0.5μm。

实施例5

与实施例1大致相同，不同之处在于按质量百分比计，微晶玻璃刻蚀液包括3％的盐酸、35％的氟化氢铵、3％的氢氟酸、4％的氟硅酸盐、25％的柠檬酸、3％的硫酸钡和27％的水，其中，该防眩光微晶玻璃的雾度为60％，表面粗糙度为0.48μm。

实施例6

与实施例1大致相同，不同之处在于微晶玻璃刻蚀液包括4％的盐酸、38％的氟化氢铵、4％的氢氟酸、4.5％的氟硅酸盐、26％的柠檬酸、4％的硫酸钡和19.5％的水，其中，该防眩光微晶玻璃的雾度为62％，表面粗糙度为0.47μm。

对比例1

与实施例1大致相同，不同之处在于按质量百分比计，玻璃刻蚀液包括10％的盐酸、35％的氟化氢铵、5％的氢氟酸、5％的氟硅酸铵、30％的柠檬酸、5％的硫酸钡以及10％的水。结果发现，该玻璃刻蚀液无法对微晶玻璃进行刻蚀，微晶玻璃表面无法形成凸起结构，不能获得防眩光微晶玻璃。

对比例2

与实施例1大致相同，不同之处在于按质量百分比计，玻璃刻蚀液包括40％的氟化氢铵、5％的氢氟酸、5％的氟硅酸铵、35％的柠檬酸、5％的硫酸钡以及10％的水。结果发现，该玻璃刻蚀液处理后，微晶玻璃只有极少的表面具有凸起结构，并且凸起结构尺寸小，分布不均匀，微晶玻璃大部分表面无刻蚀效果，不能获得防眩光微晶玻璃。

以上对本申请实施方式所提供的内容进行了详细介绍，本文对本申请的原理及实施方式进行了阐述与说明，以上说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (10)

1.一种微晶玻璃刻蚀液，其特征在于，按质量百分比计，所述微晶玻璃刻蚀液包括1％-5％的盐酸、30％-40％的氟化氢铵、1％-5％的氢氟酸、3％-5％的氟硅酸盐、20％-30％的柠檬酸、2％-5％的硫酸钡以及余量的水。

2.如权利要求1所述的微晶玻璃刻蚀液，其特征在于，按质量百分比计，所述微晶玻璃刻蚀液包括3％-5％的盐酸，35％-40％的氟化氢铵、3％-5％的氢氟酸、4％-5％的氟硅酸盐、25％-30％的柠檬酸和3％-5％的硫酸钡。

3.如权利要求1或2所述的微晶玻璃刻蚀液，其特征在于，所述盐酸和所述氟化氢铵的质量比为1：(7-9)。

4.如权利要求1所述的微晶玻璃刻蚀液，其特征在于，所述氟硅酸盐包括氟硅酸铵、氟硅酸钾、氟硅酸钠和氟硅酸铝中的至少一种。

5.一种防眩光微晶玻璃的制备方法，其特征在于，包括：

采用权利要求1-4任一项所述的微晶玻璃刻蚀液对微晶玻璃进行刻蚀；

经所述刻蚀后进行清洗得到防眩光微晶玻璃。

6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述刻蚀的温度为25℃-30℃，时间为2min-5min；

所述微晶玻璃的晶相包括二硅酸锂和透锂长石。

7.一种防眩光微晶玻璃，其特征在于，所述防眩光微晶玻璃的表面具有凸起结构，所述防眩光微晶玻璃的表面粗糙度为0.4μm-0.5μm，雾度为50％-90％。

8.如权利要求7所述的防眩光微晶玻璃，其特征在于，所述凸起结构的长度为50μm-100μm，宽度为5μm-20μm；

所述凸起结构包括多个微结构，多个所述微结构相交；

所述防眩光微晶玻璃的可见光透过率为20％-40％。

9.一种壳体组件，其特征在于，所述壳体组件包括权利要求5或6所述的制备方法制得的防眩光微晶玻璃，或权利要求7或8所述的防眩光微晶玻璃。

10.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求9所述的壳体组件，以及与所述壳体组件相连的显示装置。

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