CN114401932A - 带低辐射层积膜的玻璃板和玻璃产品 - Google Patents

带低辐射层积膜的玻璃板和玻璃产品 Download PDF

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CN114401932A
CN114401932A CN202080063841.0A CN202080063841A CN114401932A CN 114401932 A CN114401932 A CN 114401932A CN 202080063841 A CN202080063841 A CN 202080063841A CN 114401932 A CN114401932 A CN 114401932A
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CN
China
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low
glass plate
laminated film
glass
layer
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山本透
田口雅文
薮田武司
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
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    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
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Abstract

本发明提供提高了玻璃产品所需要的特性的带低辐射层积膜的玻璃板。本发明中的带低辐射层积膜的玻璃板(10)具备玻璃板(1)、以及由玻璃板(1)支承的低辐射层积膜(2)。低辐射层积膜(2)具有配置在低辐射层积膜(2)的最外侧的含有ZrO2的层(3)、以及配置在玻璃板(1)与含有ZrO2的层(3)之间的透明导电层(4)。含有ZrO2的层(3)中的ZrO2的含量为8mol％以上100mol％以下。含有ZrO2的层(3)中的SiO2的含量为0mol％以上92mol％以下。含有ZrO2的层(3)的表面(3a)的算术平均粗糙度Ra为12nm以下且小于透明导电层(4)的表面(4a)的算术平均粗糙度Ra。

Description

带低辐射层积膜的玻璃板和玻璃产品
技术领域
本发明涉及带低辐射层积膜的玻璃板和玻璃产品。
背景技术
对于玻璃板，根据其用途，要求具有绝热性。玻璃板的绝热性例如可通过在其表面形成低辐射(Low-E(Low Emissivity))膜而提高。低辐射膜代表性地具备透明导电层，根据情况进一步具备配置在透明导电层上的SiO2层(例如专利文献1和2)。
SiO2层例如可以如下制造：通过所谓的溶胶凝胶法将硅醇盐等水解性硅化合物进行水解和缩聚，由此来制造该SiO2层。SiO2层例如也可以如下制造：将钠的硅酸盐和/或钾的硅酸盐的水溶液与锂硅酸盐的水溶液的混合物涂布至玻璃板，将所得到的涂膜干燥，进一步进行加热处理，由此来制造该SiO2层。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2006/098285号
专利文献2：日本特表2014-514997号公报
发明内容
发明所要解决的课题
但是，现有的带低辐射膜的玻璃板中，关于玻璃产品所需要的特性、例如耐久性、耐擦伤性、表面防污性等特性还有改善的余地。
因此，本发明的目的在于提供提高了玻璃产品所需要的特性的带低辐射层积膜的玻璃板。
用于解决课题的手段
本发明人进行了深入研究，结果发现，低辐射膜的表面的算术平均粗糙度对耐擦伤性和表面防污性带来影响。本发明人基于该技术思想进行了研究，从而完成了本发明。
本发明提供一种带低辐射层积膜的玻璃板，其具备玻璃板、以及
由上述玻璃板支承的低辐射层积膜，
上述低辐射层积膜具有配置在上述低辐射层积膜的最外侧的含有ZrO2的层、以及配置在上述玻璃板与上述含有ZrO2的层之间的透明导电层，
上述含有ZrO2的层中的ZrO2的含量为8mol％以上100mol％以下，
上述含有ZrO2的层中的SiO2的含量为0mol％以上92mol％以下，
上述含有ZrO2的层的表面的算术平均粗糙度Ra为12nm以下且小于上述透明导电层的表面的算术平均粗糙度Ra。
发明效果
根据本发明，能够提供提高了玻璃产品所需要的特性的带低辐射层积膜的玻璃板。
附图说明
图1是本发明的一个实施方式中的带低辐射层积膜的玻璃板的示意性截面图。
图2是示出带低辐射层积膜的玻璃板中的透明导电层的表面附近的放大截面图。
图3是示出玻璃产品的一例的示意性截面图。
图4A是用于说明设置于室外温度比室内低的环境中的现有的玻璃产品的温度分布的图。
图4B是用于说明设置于室外温度比室内低的环境中的图3的玻璃产品的温度分布的图。
图5是示出变形例1的玻璃产品的示意性截面图。
图6是示出变形例2的玻璃产品的示意性截面图。
图7是示出变形例3的玻璃产品的示意性截面图。
图8是示出变形例4的玻璃产品的示意性截面图。
图9是示出将玻璃产品用作运输工具的天窗的状态的图。
具体实施方式
以下对本发明的详细情况进行说明，但以下的说明并非旨在将本发明限定于特定的实施方式。
<带低辐射层积膜的玻璃板的实施方式>
如图1所示，本实施方式的带低辐射层积膜的玻璃板10具备玻璃板1和低辐射层积膜2。低辐射层积膜2被玻璃板1支承。低辐射层积膜2例如与玻璃板1相接，覆盖玻璃板1的主表面(具有最宽广面积的表面)。低辐射层积膜2例如与外部气氛(代表性地为空气)接触。
低辐射层积膜2具有包含ZrO2的层(含有ZrO2的层3)和透明导电层4。含有ZrO2的层3配置在低辐射层积膜2的最外侧，与外部气氛接触。透明导电层4配置在玻璃板1与含有ZrO2的层3之间，例如与含有ZrO2的层3相接。透明导电层4与玻璃板1可以相接、也可以不相接。
本实施方式的带低辐射层积膜的玻璃板10中，含有ZrO2的层3的表面(外部气氛侧的表面3a)的算术平均粗糙度Ra为12nm以下且小于透明导电层4的表面(含有ZrO2的层3侧的表面4a)的算术平均粗糙度Ra。表面3a的算术平均粗糙度Ra优选为10nm以下、更优选为8nm以下、特别优选为6nm以下。对于表面3a的算术平均粗糙度Ra的下限值没有特别限定，例如为1nm。表面3a的算术平均粗糙度Ra可以通过依据JIS B0601:2013的规定的方法来确定。
带低辐射层积膜的玻璃板10中，透明导电层4的表面4a的算术平均粗糙度Ra只要大于含有ZrO2的层3的表面3a的算术平均粗糙度Ra就没有特别限定，例如为14nm以上。对于表面4a的算术平均粗糙度Ra的上限值没有特别限定，可以为50nm、也可以为25nm。表面4a的算术平均粗糙度Ra例如可以通过下述方法确定。首先，利用扫描型电子显微镜(SEM)对带低辐射层积膜的玻璃板10的截面进行观察。图2示出了利用SEM观察得到的透明导电层4的表面4a附近的电子显微镜图像的一例。由所得到的电子显微镜图像确定表面4a的粗糙度曲线。可以通过JIS B0601:2013中规定的计算方法根据所得到的粗糙度曲线确定表面4a的算术平均粗糙度Ra。需要说明的是，关于表面4a的算术平均粗糙度Ra，可以在未形成含有ZrO2的层3(透明导电层4的表面4a露出到外部)的状态下通过依据JIS B0601:2013的规定的方法来确定。需要说明的是，透明导电层4的表面4a也可以不完全被含有ZrO2的层3覆盖，其一部分可以露出到外部。这种情况下，从充分得到本发明的效果的方面出发，优选含有ZrO2的层3的表面3a以及露出到外部的透明导电层4的表面4a的一部分的算术平均粗糙度Ra均为12nm以下。
(玻璃板)
玻璃板1可以为浮法平板玻璃、也可以为压花玻璃。浮法平板玻璃的表面具有优异的平滑性。浮法平板玻璃的表面的算术平均粗糙度Ra优选为1nm以下、更优选为0.5nm以下。
压花玻璃的表面具有肉眼能确认的尺寸的宏观的凹凸。宏观的凹凸是平均间隔RSm为毫米数量级程度的凹凸。平均间隔RSm是指由粗糙度曲线与平均线交叉的点求出的峰谷一周期的间隔的平均值。宏观的凹凸可以在将粗糙度曲线中的评定长度设定为厘米数量级的情况下进行确认。压花玻璃的表面的凹凸的平均间隔RSm可以为0.3mm以上、0.4mm以上或0.45mm以上。平均间隔RSm可以为2.5mm以下、2.1mm以下、2.0mm以下或1.5mm以下。压花玻璃板的表面的凹凸优选具有上述范围的平均间隔RSm并且具有0.5μm～10μm、特别是1μm～8μm的最大高度Rz。平均间隔RSm和最大高度Rz为JIS B0601:2013中规定的值。需要说明的是，即使为压花玻璃，例如在粗糙度曲线中的评定长度为数百nm的表面粗糙度测定中，有时也具有数nm以下(例如1nm以下)的算术平均粗糙度Ra。即，压花玻璃的表面在微观上有时具有优异的平滑性。作为评定长度为数百nm的表面粗糙度测定，例如可以举出原子力显微镜(AFM)观察。
玻璃板1的组成可以与现有的压花玻璃、建筑用平板玻璃、汽车用平板玻璃等的组成相同。玻璃板1中的氧化铁的含量换算成Fe2O3可以为0.06wt％以下或0.02wt％以下。氧化铁为代表性的着色成分。玻璃板1为着色玻璃的情况下，玻璃板1中的氧化铁的含量可以为0.3wt％以上1.5wt％以下。
对于玻璃板1的厚度没有特别限定，例如为0.5mm～15mm。
(含有ZrO2的层)
含有ZrO2的层3包含ZrO2，其含量为8mol％以上100mol％以下。含有ZrO2的层中的ZrO2的含量的下限值优选为10mol％。ZrO2的含量的上限值优选为80mol％、更优选为60mol％、进一步优选为30mol％。ZrO2的含量可以为23mol％以上100mol％以下、也可以为23mol％以上72mol％以下。根据情况，ZrO2的含量可以为10mol％以上30mol％以下、或者20mol％以上30mol％以下。含有ZrO2的层3中的ZrO2的含量越高，含有ZrO2的层3的耐碱性越趋于提高。另一方面，若ZrO2的含量过高，则含有ZrO2的层3的折射率提高，有时可见光反射率变得过高。
含有ZrO2的层3可以进一步包含SiO2作为ZrO2以外的成分。含有ZrO2的层3中的SiO2的含量为0mol％以上92mol％以下、优选为0mol％以上77mol％以下、更优选为28mol％以上77mol％以下。
含有ZrO2的层3的物理膜厚例如为15nm以上150nm以下，可以为20nm以上、30nm以上，优选为30nm以上150nm以下、更优选为50nm以上120nm以下。具有这种程度的物理膜厚的含有ZrO2的层3适合于抑制通过在包含透明导电层4和玻璃板1的层积体(带透明导电层的玻璃板)上配置含有ZrO2的层3而产生的反射色调的变化。
(透明导电层)
作为透明导电层4的第1例，可以举出实质上由含氟氧化锡构成且具有200nm以上400nm以下的厚度的层。本说明书中，“实质上由～构成”是指层中的成分的含量为90mol％以上、进而为95mol％以上、特别为99mol％以上。第1例的透明导电层4优选具有300nm以上400nm以下的厚度。在使用第1例的透明导电层4的情况下，后述的基底层5优选具有2层结构(例如第2例的基底层5)。低辐射层积膜2包含第1例的透明导电层4时，含有ZrO2的层3优选具有10nm以上100nm以下的物理膜厚。
作为透明导电层4的第2例，可以举出实质上由含氟氧化锡构成且具有400nm以上800nm以下的厚度的层。第2例的透明导电层4优选具有500nm以上700nm以下的厚度。在使用第2例的透明导电层4的情况下，后述的基底层5优选具有2层结构(例如第2例的基底层5)。低辐射层积膜2包含第2例的透明导电层4时，含有ZrO2的层3优选具有40nm以上250nm以下的物理膜厚。
作为透明导电层4的第3例，可以举出包含实质上由含锑氧化锡构成且具有100nm以上300nm以下的厚度的第1透明导电层、以及实质上由含氟氧化锡构成且具有150nm以上400nm以下的厚度的第2透明导电层的透明导电层。第3例的透明导电层4可以由第1透明导电层和第2透明导电层构成。在第3例中，第1透明导电层和第2透明导电层例如从玻璃板1的主表面侧起依序进行层积。第3例的透明导电层4中，第1透明导电层优选具有150nm以上200nm以下的厚度。第3例的透明导电层4中，第2透明导电层优选具有200nm以上300nm以下的厚度。在使用第3例的透明导电层4的情况下，后述的基底层5优选具有2层结构(例如第2例的基底层5)。低辐射层积膜2包含第3例的透明导电层4时，含有ZrO2的层3优选具有10nm以上100nm以下的物理膜厚。
(基底层)
低辐射层积膜2可以进一步具备基底层5。基底层5例如配置在玻璃板1与透明导电层4之间，与玻璃板1和透明导电层4分别直接相接。
作为基底层5的第1例，可以举出包含碳氧化硅(SiOC)作为主成分并且具有20nm以上120nm以下的厚度的层。本说明书中，“主成分”是指以摩尔基准计包含最多的成分。第1例的基底层5可以实质上由碳氧化硅构成。第1例的基底层5优选具有30nm以上100nm以下的厚度、更优选具有30nm以上60nm以下的厚度。
作为基底层5的第2例，可以举出包含实质上由氧化锡构成且具有10nm以上90nm以下的厚度的第1基底层、以及实质上由SiO2构成且具有10nm以上90nm以下的厚度的第2基底层的基底层。第2例中，第1基底层和第2基底层例如从玻璃板1的主表面侧起依序进行层积。第2例的基底层5中，第1基底层优选具有10nm以上70nm以下的厚度、更优选具有12nm以上40nm以下的厚度。第2例的基底层5中，第2基底层优选具有10nm以上70nm以下的厚度、更优选具有12nm以上40nm以下的厚度。
作为基底层5的第3例，可以举出包含实质上由SiO2构成且具有10nm以上30nm以下的厚度的第1基底层、实质上由氧化锡构成且具有10nm以上90nm以下的厚度的第2基底层、以及实质上由SiO2构成且具有10nm以上90nm以下的厚度的第3基底层的基底层。第3例中，第1基底层、第2基底层和第3基底层例如从玻璃板1的主表面侧起依序进行层积。第3例的基底层5中，第1基底层优选具有10nm以上20nm以下的厚度。第3例的基底层5中，第2基底层优选具有10nm以上70nm以下的厚度、更优选具有12nm以上40nm以下的厚度。第3例的基底层5中，第3基底层优选具有10nm以上70nm以下的厚度、更优选具有12nm以上40nm以下的厚度。
(其他低辐射膜)
本实施方式的带低辐射层积膜的玻璃板10可以进一步具备配置在低辐射层积膜2侧的表面的相反侧的玻璃板1的表面上的其他低辐射膜。其他低辐射膜例如为包含下述层依序层积而成的层积体的膜：电介质层、包含Ag作为主成分的层、以及其他电介质层。
(带低辐射层积膜的玻璃板的制造方法)
本实施方式的带低辐射层积膜的玻璃板10例如可以通过在包含透明导电层4和玻璃板1的层积体(带透明导电层的玻璃板)中的透明导电层4上形成含有ZrO2的层3来制作。作为带透明导电层的玻璃板，可以使用市售的玻璃板。含有ZrO2的层3例如可以通过下述方法制作。首先，在透明导电层4上涂布用于形成含有ZrO2的层3的涂布液，制作液膜。
涂布液例如包含ZrO2的前体和有机溶剂。ZrO2的前体例如包含选自由氯氧化锆和硝酸氧锆组成的组中的至少1种，优选包含硝酸氧锆。
涂布液中包含的有机溶剂只要为能够溶解ZrO2的前体的有机溶剂、或者为能够与ZrO2的前体的水溶液均匀混合的有机溶剂就没有特别限定。有机溶剂优选包含碳原子数1～5的醇。该醇中包含的羟基数例如为1～3。该醇可以为伯醇、也可以为仲醇。该醇可以进一步包含羟基以外的官能团(例如醚基)。作为碳原子数1～5的醇，例如可以举出甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、丙二醇、丙二醇单甲基醚(PGME)和3-甲氧基-1-丁醇。有机溶剂也可以包含碳原子数1～5的醇以外的其他醇类。
涂布液可以进一步包含硅醇盐和/或其水解产物。硅醇盐例如由通式Si(OR)nX4-n表示。n为1～4的整数、优选为2～4的整数。OR各自独立地为碳原子数1～4的烷氧基。作为碳原子数1～4的烷氧基，例如可以举出甲氧基、乙氧基、丙氧基和丁氧基。X表示不具有水解性的官能团。X各自独立地可以为碳原子数1～6的烃基。作为碳原子数1～6的烃基，例如可以举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、戊基和苯基。作为硅醇盐，例如可以举出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷和苯基三乙氧基硅烷。
涂布液包含硅醇盐时，涂布液优选进一步包含水和催化剂。涂布液中的水的量相对于硅醇盐的水解所需要的水的摩尔数优选为1～40当量、更优选为1～10当量、进一步优选为2～5当量。
催化剂只要起到作为水解催化剂的功能就没有特别限定。水解催化剂也可以为碱，但优选为酸。酸可以为无机酸、也可以为有机酸。酸的沸点优选为300℃以下。作为酸，例如可以举出盐酸和硝酸。涂布液中的酸的含量例如为0.001wt％～0.3wt％、优选为0.001wt％～0.03wt％、更优选为0.002wt％～0.02wt％。
涂布液的固体成分浓度例如为0.1wt％～7wt％、优选为6wt％以下、更优选为5wt％以下、进一步优选为4wt％以下、特别优选为3wt％以下。涂布液的固体成分浓度的下限值例如为0.5wt％。
作为将涂布液涂布至带透明导电层的玻璃板的方法没有特别限定，可例示出喷涂法、流涂法、辊涂法、旋涂法、缝模涂布法和棒涂法。
对于将涂布液涂布至带透明导电层的玻璃板而得到的液膜的厚度没有特别限定，例如为几微米～几十微米。
接着，将液膜干燥，进一步进行烧制，由此得到含有ZrO2的层3。干燥工序例如通过在100℃以上500℃以下的温度下将液膜加热2秒以上10分钟以下的时间来实施。烧制工序中，带透明导电层的玻璃板所达到的最高温度例如为800℃以下。烧制工序中，优选带透明导电层的玻璃板的温度为400℃以上的时间为2秒以上。烧制工序可以兼作干燥工序。此外，烧制工序也可以兼作将玻璃板1加热成型的工序、或者兼作为了风冷强化而对玻璃板1进行加热的工序。
干燥工序和烧制工序例如通过热风干燥来实施。干燥工序和烧制工序可以通过将制作有液膜的带透明导电层的玻璃板在设定为特定温度的加热炉中保持特定时间来实施。
带低辐射层积膜的玻璃板10的制造方法并不限于上述方法。例如也可以通过使用在线CVD法在带透明导电层的玻璃板上设置含有ZrO2的层3来制作带低辐射层积膜的玻璃板10。
(带低辐射层积膜的玻璃板的特性)
本实施方式的带低辐射层积膜的玻璃板10中，含有ZrO2的层3的表面3a的算术平均粗糙度Ra为12nm以下。这样的表面3a即使与固体物质摩擦也不容易损伤，耐擦伤性优异。此外，表面3a不容易附着指纹等的油分，表面防污性也优异。本实施方式的带低辐射层积膜的玻璃板10的绝热性也优异。
此外，带低辐射层积膜的玻璃板10的耐久性、特别是耐碱性优异。耐碱性例如可以通过下述方法进行评价。首先对于带低辐射层积膜的玻璃板10进行耐久性试验。在耐久性试验中，准备浓度为1当量(1mol/L)、温度为23℃的氢氧化钠水溶液。将带低辐射层积膜的玻璃板10在该氢氧化钠水溶液中浸渍24小时，由此进行耐久性试验。接着，利用分光光度计测定耐久性试验后的来自带低辐射层积膜的玻璃板10中的含有ZrO2的层3的反射光的L1 *值、a1 *值和b1 *值。L1 *值、a1 *值和b1 *值基于L*a*b*色度系统(CIE1976)。可以通过基于所得到的L1 *值、a1 *值和b1 *值、以及耐久性试验前的来自带低辐射层积膜的玻璃板10中的含有ZrO2的层3的反射光的L0 *值、a0 *值和b0 *值计算出的反射光的色度变化ΔE*来评价耐碱性。ΔE*可以通过下述式(1)～(4)而计算得到。
ΔL*＝L0 *-L1 * (1)
Δa*＝a0 *-a1 * (2)
Δb*＝b0 *-b1 * (3)
ΔE*＝{(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2 (4)
带低辐射层积膜的玻璃板10中，由上述试验结果计算出的ΔE*例如为5以下、优选为4以下、更优选为3以下、进一步优选为2以下、特别优选为1.5以下、尤其优选为1以下，根据情况也可以为0.5以下。对于ΔE*的下限值没有特别限定，例如为0.05。
对于带低辐射层积膜的玻璃板10的可见光反射率没有特别限定，例如为15％以下、优选为10％以下、更优选为8％以下、进一步优选为7％以下。带低辐射层积膜的玻璃板10的可见光反射率的下限值例如为1％。本说明书中，可见光反射率是通过JIS R3106:1998的规定而确定的值，其具体的测定条件在实施例栏中说明。
<玻璃产品的实施方式>
图3示出了作为建筑物的天窗使用的玻璃产品100的一例。玻璃产品100具备带低辐射层积膜的玻璃板10、以及隔着空隙层30与带低辐射层积膜的玻璃板10对置的第2玻璃板15。本说明书中，相对于玻璃产品所具备的第2玻璃板15，有时将带低辐射层积膜的玻璃板10的玻璃板1称为“第1玻璃板”。玻璃产品100可以进一步具备由第2玻璃板15支承且与空隙层30相接的低辐射膜25(第1低辐射膜)。图3的玻璃产品100可以为多层玻璃单元。
玻璃产品100作为玻璃单元以单一部件、或者以具备窗框(sash)部的窗组件的形式组装到建筑物的窗结构中，将室内空间和室外空间进行分离。带低辐射层积膜的玻璃板10位于最靠室外空间侧，低辐射层积膜2与室外空间相接。第2玻璃板15位于最靠室内空间侧，与室内空间相接。
在多层玻璃单元的领域中，作为本领域技术人员的惯例，对于该单元所具备的玻璃板的主表面，从室外空间侧起依次赋以第1面、第2面、第3面..的编号。基于该惯例，在图3所示的玻璃产品100中，第1玻璃板1的与空隙层30相反侧的主表面(室外空间侧的主表面)1a为第1面(#1面)，第1玻璃板1的面向空隙层30的主表面1b为第2面(#2面)，第2玻璃板15的面向空隙层30的主表面15a为第3面(#3面)，第2玻璃板15的与空隙层30相反侧的主表面(室内空间侧的主表面)15b为第4面(#4面)。玻璃产品100中，低辐射层积膜2形成在#1面，低辐射膜25形成在#3面。
玻璃产品100中，作为第2玻璃板15，可以使用第1玻璃板1中的上述玻璃板，可以与第1玻璃板1相同。
对于低辐射膜25没有特别限定，可以使用公知的低辐射膜。低辐射膜25的一例为包含Ag层等金属层的膜。该膜例如具有从第2玻璃板15的主表面侧起依次层积电介质层/金属层/牺牲层/电介质层而成的结构(第1层积结构)。低辐射膜25可以具有2个以上的金属层。具有2个以上的金属层的低辐射膜25适合于降低U值(传热系数)。具有2个以上的金属层的低辐射膜25例如具有从第2玻璃板15的主表面侧起依次层积电介质层/金属层/牺牲层/电介质层/金属层/牺牲层/电介质层而成的结构(第2层积结构)。在第2层积结构中，夹在牺牲层与金属层之间的电介质层在2个第1层积结构中共有。这样，低辐射膜25也可以具有2个以上的第1层积结构。
电介质层、金属层和牺牲层的各层可以为由1种材料构成的1个层，也可以为由相互不同的材料构成的2个以上的层的层积体。
在第1层积结构中，夹持金属层和牺牲层的一对电介质层可以由相同材料构成，也可以由相互不同的材料构成。
包含金属层的低辐射膜25中，将该金属层的数目设为n时，夹持该金属层的电介质层的数目为n+1以上，因此该低辐射膜25通常由2n+1或其以上数目的层构成。
金属层例如为Ag层。Ag层是包含Ag作为主成分的层，也可以为实质上由Ag构成的层。金属层可以包含将钯、金、铟、锌、锡、铝、铜等金属掺杂在Ag中而成的材料。低辐射膜25可以具有1个Ag层，也可以具有2个或3个以上的Ag层。
低辐射膜25中的金属层的厚度合计例如为18～34nm、优选为22～29nm。
牺牲层例如为包含选自钛、锌、镍、铬、锌/铝合金、铌、不锈钢、它们的合金和它们的氧化物中的至少一种作为主成分的层，优选为包含选自钛、钛氧化物、锌和锌氧化物中的至少一种作为主成分的层。牺牲层的厚度例如为0.1～5nm、优选为0.5～3nm。
电介质层例如为包含氧化物或氮化物作为主成分的层，这样的电介质层的更具体例为包含选自硅、铝、锌、锡、钛、铟和铌的各氧化物以及各氮化物中的至少一种作为主成分的层。电介质层的厚度例如为8～120nm、优选为15～85nm。
对于金属层、牺牲层和电介质层的形成方法没有特别限定，可以利用公知的薄膜形成方法。例如可以通过溅射法形成这些层。由氧化物或氮化物构成的电介质层例如可以通过作为溅射法的一种的反应性溅射来形成。牺牲层是为了通过反应性溅射在金属层上形成电介质层所需要的层(在反应性溅射时通过其自身发生氧化来防止金属层的氧化的层)，牺牲层这一名称对于本领域技术人员是熟知的。
玻璃产品100可以进一步具备由第2玻璃板15支承并与室内空间相接的第2低辐射膜(未图示)。第2低辐射膜可以使用低辐射层积膜2中的上述的膜，可以与低辐射层积膜2相同。
空隙层30利用配置在夹持空隙层30的一对玻璃板(第1和第2玻璃板1,15)的周边部(面向空隙层30的主表面的周边部)的间隔物40保持其厚度。空隙层30内的空间利用配置在间隔物40的更外周的密封材料45进行密闭。在间隔物40与玻璃板1,15之间可以配置另外的密封材料。间隔物40和密封材料45可以应用公知的构成。向空隙层30中例如导入、填充空气(干燥空气)；氩、氪等惰性气体。从将玻璃产品100的U值设计得更小的方面出发，填充在空隙层30中的气体优选为氩或氪、更优选为氪。本说明书中，有时将填充有空气的空隙层30称为“空气层”。空隙层30内可以进行减压，也可以为真空(压力约为10Pa以下)。
空隙层30的厚度例如为4～16mm、优选为6～16mm。空隙层30内为减压状态或真空状态的情况下，空隙层30的厚度可以为0.3～1mm。
玻璃产品100的厚度例如为10～22mm、也可以为12～22mm。空隙层30内为减压状态或真空状态的情况下，玻璃产品100的厚度可以为5～15mm。
在玻璃产品100中，通过在#1面形成低辐射层积膜2，即使在室外温度低于室内的情况下，也能够抑制#1面的温度降低。例如，以往已知有在#2面形成了低辐射膜的玻璃产品。图4A的玻璃产品150中，在#1面未形成低辐射层积膜2；代替#3面而在#2面形成了低辐射膜25。除了以上以外，玻璃产品150的结构与玻璃产品100相同。图4A中，省略了间隔物40和密封材料45的构成。在玻璃产品150未被入射充分的日照、将玻璃产品150置于室外温度低于室内的环境(例如清晨的环境)的情况下，在玻璃产品150中，热(远红外线)从室内向室外移动。玻璃产品150的低辐射膜25将该热反射回室内。由此，位于室外侧的第1玻璃板1未被供给足够的热，#1面的温度降低。#1面的温度降低至室外空气的露点以下时会发生结露(例如晨露)。
与之相对，如图4B所示，在玻璃产品100中，来自室内侧的热在第1玻璃板1内移动后被低辐射层积膜2反射。被低辐射层积膜2反射的热再次在第1玻璃板1内移动，回到室内。由此，来自室内的热被充分供给到第1玻璃板1中，抑制#1面的温度降低。当#1面的温度降低受到抑制时，在#1面形成的低辐射层积膜2的温度降低也受到抑制。在玻璃产品100中，可抑制低辐射层积膜2的室外侧的表面温度降低至室外空气的露点以下，因此具有可抑制该表面的结露的倾向。若结露受到抑制，则能够将透过玻璃产品100的视野维持在良好的状态。
需要说明的是，玻璃产品100也可以用于建筑物的天窗以外的窗结构，还可以用于后述的运输工具的窗结构。
<玻璃产品的变形例1>
本发明的具备带低辐射层积膜的玻璃板10的玻璃产品的用途并不限于建筑物的天窗。在第一变形例中，玻璃产品被用作设置于建筑物的墙壁等的通常的窗。详细地说，变形例1的玻璃产品被组装到建筑物的窗结构中，将室内空间和室外空间进行分离。
变形例1的玻璃产品中，带低辐射层积膜的玻璃板10可以单独使用。这种情况下，玻璃产品的结构例如与后述变形例4的玻璃产品300的结构相同。该玻璃产品优选按照低辐射层积膜2位于室内空间侧的方式进行使用。换言之，低辐射层积膜2优选形成在玻璃板1的室内空间侧的主表面。
变形例1的玻璃产品可以为隔着中间膜将带低辐射层积膜的玻璃板10与其他玻璃板贴合而成的夹层玻璃。这种情况下，玻璃产品的结构例如与后述变形例3的玻璃产品200的结构相同。该玻璃产品优选按照低辐射层积膜2在室内空间侧露出的方式进行使用。换言之，优选带低辐射层积膜的玻璃板10位于最靠室内空间侧、低辐射层积膜2形成在玻璃板1的室内空间侧的主表面。
变形例1的玻璃产品可以为带低辐射层积膜的玻璃板10与其他玻璃板隔着空隙层对置地保持的多层玻璃单元。图5示出了作为多层玻璃单元的变形例1的玻璃产品110。玻璃产品110具备带低辐射层积膜的玻璃板10、以及隔着空隙层30与带低辐射层积膜的玻璃板10对置的第2玻璃板15。在玻璃产品110中，带低辐射层积膜的玻璃板10位于最靠室内空间侧，低辐射层积膜2与室内空间相接。第2玻璃板15位于最靠室外空间侧，与室外空间相接。玻璃产品110不具备由第2玻璃板15支承的低辐射膜25。除了以上以外，本实施方式的玻璃产品110的结构与玻璃产品100的结构相同。因此，对于在玻璃产品100和本实施方式的玻璃产品110中共同的要素赋以相同的参考符号，有时省略它们的说明。
在对于玻璃产品110所具备的玻璃板的主表面从室外空间侧起依次赋以第1面、第2面、第3面...的编号的情况下，在图5所示的玻璃产品110中，第2玻璃板15的与空隙层30相反侧的主表面(室外空间侧的主表面)15a为第1面(#1面)，第2玻璃板15的面向空隙层30的主表面15b为第2面(#2面)，第1玻璃板1的面向空隙层30的主表面1a为第3面(#3面)，第1玻璃板1的与空隙层30相反侧的主表面(室内空间侧的主表面)1b为第4面(#4面)。玻璃产品110中，低辐射层积膜2形成在#4面。
玻璃产品110中，作为第2玻璃板15，可以使用第1玻璃板1中的上述玻璃板，可以与第1玻璃板1相同。
在玻璃产品110的使用时，带低辐射层积膜的玻璃板10适合于将欲以红外线形式从室内空间向室外空间散失的热反射。即，玻璃产品110适合于提高从室内空间向室外空间的绝热性能。
<玻璃产品的变形例2>
在第二变形例中，玻璃产品被用作冷藏库或冷冻库的门。详细地说，变形例2的玻璃产品被组装到冷藏库或冷冻库的门结构中，将库内空间与库外空间进行分离。
变形例2的玻璃产品优选为带低辐射层积膜的玻璃板10与其他玻璃板隔着空隙层对置地保持的多层玻璃单元。图6中示出了作为多层玻璃单元的变形例2的玻璃产品120。玻璃产品120具备带低辐射层积膜的玻璃板10、以及隔着空隙层30与带低辐射层积膜的玻璃板10对置的第2玻璃板15。玻璃产品120中，带低辐射层积膜的玻璃板10位于最靠库外空间侧，低辐射层积膜2与库外空间相接。第2玻璃板15位于最靠库内空间侧，与库内空间相接。除了以上情况以外，本实施方式的玻璃产品120的结构与玻璃产品110的结构相同。
在对于玻璃产品120所具备的玻璃板的主表面从库外空间侧起依次赋以第1面、第2面、第3面...的编号的情况下，在图6所示的玻璃产品120中，第1玻璃板1的与空隙层30相反侧的主表面(库外空间侧的主表面)1a为第1面(#1面)，第1玻璃板1的面向空隙层30的主表面1b为第2面(#2面)，第2玻璃板15的面向空隙层30的主表面15a为第3面(#3面)，第2玻璃板15的与空隙层30相反侧的主表面(库内空间侧的主表面)15b为第4面(#4面)。玻璃产品120中，低辐射层积膜2形成在#1面。
玻璃产品120中，作为第2玻璃板15，可以使用第1玻璃板1中的上述玻璃板，可以与第1玻璃板1相同。
<玻璃产品的变形例3>
第三变形例中，玻璃产品被用作运输工具的天窗。图7示出了变形例3的玻璃产品200。作为运输工具，例如可以举出车辆、航空器和船舶。作为车辆，例如可以举出铁道车辆和汽车。运输工具代表性地为汽车。玻璃产品200具备带低辐射层积膜的玻璃板10，进一步具备例如第2玻璃板15。玻璃产品200可以进一步具备配置在第1玻璃板1与第2玻璃板15之间的中间膜50。图7的玻璃产品200为夹层玻璃。
玻璃产品200被组装到运输工具的窗结构中，将机内空间和机外空间进行分离。带低辐射层积膜的玻璃板10位于最靠机内空间侧，低辐射层积膜2与机内空间相接。第2玻璃板15位于最靠机外空间侧，与机外空间相接。
在对于玻璃产品200所具备的玻璃板的主表面从机外空间侧起依次赋以第1面、第2面、第3面...的编号的情况下，在图7所示的玻璃产品200中，第2玻璃板15的与中间膜50相反侧的主表面(机外空间侧的主表面15a)为第1面(#1面)，第2玻璃板15的面向中间膜50的主表面15b为第2面(#2面)，第1玻璃板1的面向中间膜50的主表面1a为第3面(#3面)，第1玻璃板1的与中间膜50相反侧的主表面(机内空间侧的主表面)1b为第4面(#4面)。玻璃产品200中，低辐射层积膜2形成在#4面。
玻璃产品200中，作为第2玻璃板15，可以使用第1玻璃板1中的上述玻璃板，可以与第1玻璃板1相同。
作为中间膜50，可以使用公知的物质。中间膜50例如包含聚乙烯醇缩醛树脂和增塑剂。作为聚乙烯醇缩醛树脂没有特别限定，例如可以举出聚乙烯醇缩丁醛(PVB)树脂。作为增塑剂没有特别限定，例如可以举出三乙二醇二(2-乙基己酸酯)、三乙二醇二(2-乙基丁酸酯)、四乙二醇二(2-乙基丁酸酯)、四乙二醇二(2-乙基己酸酯)等。
玻璃产品200可以进一步具备由第2玻璃板15支承、与机外空间相接的低辐射膜(未图示)。低辐射膜可以使用低辐射层积膜2中的上述膜，可以与低辐射层积膜2相同。
在玻璃产品200的使用时，带低辐射层积膜的玻璃板10适合于对来自机外空间侧的日照中包含的红外光进行反射来隔热。即，玻璃产品200适合于抑制机内空间的温度的上升。
需要说明的是，玻璃产品200可以被用于运输工具的天窗以外的窗结构，也可以用于建筑物的窗结构。
<玻璃产品的变形例4>
图8是变形例4的玻璃产品300的示意性截面图。玻璃产品300除了不具备第2玻璃板15和中间膜50以外，与玻璃产品200的结构相同。
玻璃产品300与玻璃产品200同样地被组装到运输工具的窗结构中，将机内空间与机外空间进行分离。玻璃产品300中，玻璃板1的机外空间侧的主表面1a为第1面(#1面)，玻璃板1的机内空间侧的主表面1b为第2面(#2面)。低辐射层积膜2形成在#2面。
玻璃产品300中，带低辐射层积膜的玻璃板10可以进一步具有形成在玻璃板1的两个主表面的压缩应力层(未图示)。即，玻璃产品300中，玻璃板1为强化玻璃板。压缩应力层可以通过对玻璃板1实施风冷强化(热强化)等增强处理而形成。风冷强化是下述公知的处理：将玻璃板加热后，向玻璃板的表面吹送气体进行骤冷，使其表面形成压缩应力层，由此提高玻璃板的强度。玻璃板的加热温度代表性地为构成该玻璃板的玻璃组合物的应变点以上、软化点以下。
玻璃产品300与玻璃产品200同样地适合于抑制机内空间的温度的上升。玻璃产品300可以用于运输工具的天窗以外的窗结构，也可以用于建筑物的窗结构。
<运输工具的实施方式>
图9示出了具备玻璃产品200(或300)作为天窗的运输工具500的一例。图9的运输工具500为汽车。在运输工具500的机顶501形成有连通机外(车外)与机内(车内)的大致四边形状的天窗开口502。在天窗开口502的边缘部设有开闭机构(未图示)，玻璃产品200利用该开闭机构支承。开闭机构例如具有导轨、滑块和传动器。导轨设置于天窗开口502的左右的边缘部，沿着运输工具500的前进方向延伸。滑块支承玻璃产品200，并且能够沿着导轨滑动。传动器能够使滑块沿着导轨移动。通过利用开闭机构使玻璃产品200移动，能够进行天窗开口502的开闭。详细地说，玻璃产品200通过开闭机构在嵌入到天窗开口502的关闭位置与相对于天窗开口502位于运输工具500的机外侧且为后方的打开位置之间移动。
实施例
以下通过实施例和比较例更详细地说明本发明。
(实施例1)
[带透明导电层的玻璃板]
首先，将带透明导电层的玻璃板(日本板硝子公司制造的Low-E玻璃)切割成其主表面为边长10cm的正方形状，进行清洗。该带透明导电层的玻璃板是在厚度3mm的浮法平板玻璃的一个主表面上依序层积物理膜厚25nm的SnO2层(第1基底层)、物理膜厚25nm的SiO2层(第2基底层)和物理膜厚340nm的SnO2:F层(透明导电层)而成的。
[涂布液的制作]
接着，将四乙氧基硅烷(正硅酸乙酯)5.2g、乙醇7.99g、纯净水1.66g、浓度为1当量(1mol/L)的硝酸0.15g进行混合。将所得到的混合液在40℃进行8小时老化，由此得到包含四乙氧基硅烷的水解产物的液体15g。接着，将该液体1.22g、乙醇4.67g、硝酸氧锆二水合物(第一稀元素化学工业制造、商品名“ZIRCOZOLZN”、25wt％水溶液)0.11g混合，由此得到涂布液6g。涂布液中的固体成分浓度为2.5wt％。
[涂布液的涂布]
接着，通过旋涂法将涂布液涂布至带透明导电层的玻璃板。旋涂法通过下述方法实施。首先，在旋涂机的旋转台的中央放置带透明导电层的玻璃板，使带透明导电层的玻璃板旋转。转速在1000rpm稳定后，使用Komagome移液管，将所制作的涂布液中的1.5g滴加到带透明导电层的玻璃板的中央部。此时，剩余的涂布液从带透明导电层的玻璃板的周边部飞散。在确认到涂布液不再飞散后，停止带透明导电层的玻璃板的旋转。
[干燥]
接着，将通过涂布液的涂布得到的液膜干燥。液膜的干燥通过将制作有液膜的带透明导电层的玻璃板传送到通道型传送炉内来进行。传送炉内的设定温度为300℃，传送炉的加热区的长度为1.6m。带透明导电层的玻璃板以传送速度0.8m/min进行传送，加热2分钟。
[烧制]
接着，将所得到的干燥膜进行烧制，由此制作含有ZrO2的层。烧制通过将带透明导电层的玻璃板在设定为760℃的电炉内保持4分钟45秒来进行。此时，带透明导电层的玻璃板所达到的最高温度为650℃。由此得到实施例1的带低辐射层积膜的玻璃板。
(实施例2～7、比较例1和2)
调整涂布液的组成以使得含有ZrO2的层中的ZrO2的含量和涂布液中的固体成分浓度为表1中记载的值，除此以外利用与实施例1相同的方法得到实施例2～7、比较例1和2的带低辐射层积膜的玻璃板。
(比较例3)
除了不制作含有ZrO2的层以外，利用与实施例1相同的方法得到比较例3的带低辐射层积膜的玻璃板。比较例3的带低辐射层积膜的玻璃板与实施例1中使用的带透明导电层的玻璃板具有相同的构成。
(带低辐射层积膜的玻璃板的评价)
接着通过下述方法对实施例1～7和比较例1～3的带低辐射层积膜的玻璃板进行评价。
[物理膜厚]
通过下述方法测定含有ZrO2的层的物理膜厚。首先，将带低辐射层积膜的玻璃板切断，利用扫描型电子显微镜(日立高新技术公司制造的S-4700)对其截面进行观察。根据所得到的电子显微镜图像确定含有ZrO2的层的物理膜厚。
[光学特性]
通过下述方法评价带低辐射层积膜的玻璃板的光学特性。首先，利用分光光度计(日立制作所制造，U-4100型)测定带低辐射层积膜的玻璃板的分光透射率光谱和分光反射率光谱。关于分光反射率光谱，以含有ZrO2的层(或透明导电层)的面作为测定面，进行反射角5°的绝对反射测定。根据所得到的光谱计算出对于JISR3106:1998中规定的D65光源的可见光透射率和可见光反射率。进一步在分光反射率光谱的测定条件下测定来自含有ZrO2的层的反射光的L0 *值、a0 *值和b0 *值。需要说明的是，L0 *值、a0 *值和b0 *值基于L*a*b*色度系统(CIE1976)。
[表面防污性]
通过下述方法评价带低辐射层积膜的玻璃板的表面防污性。首先，将直径15mm的橡胶板压附在浸有油酸的纱布上，使油酸附着于橡胶板。接着，在100g/cm2的压力下使该橡胶板与含有ZrO2的层(或透明导电层)的表面密合10秒，由此使油酸附着于该表面。接着，在该表面上使用纯净水润湿的绵布以25g/cm2的压力往返10次，由此擦拭油酸。接着，将呼气吹向表面，之后目视确认有无油酸痕迹。将未能确认到油酸痕迹的情况评价为表面防污性良好(〇)。将确认到了油酸痕迹的情况评价为表面防污性不良(×)。
[耐擦伤性]
通过下述方法评价带低辐射层积膜的玻璃板的耐擦伤性。首先，按照100日元硬币(铜75％、镍25％的合金)的表面与含有ZrO2的层(或透明导电层)的表面正交的方式使硬币的侧面与含有ZrO2的层的表面接触。接着，一边施加50g的负荷一边沿硬币的厚度方向使硬币移动10mm，由此利用硬币摩擦含有ZrO2的层的表面。将在含有ZrO2的层的表面未能目视确认到硬币痕迹的情况评价为耐擦伤性良好(〇)。将目视确认到了硬币痕迹但痕迹不清晰的情况评价为不充分(△)。将目视清晰确认到了硬币痕迹的情况评价为耐擦伤性不良(×)。
[耐久性]
通过下述方法评价带低辐射层积膜的玻璃板的耐久性(耐碱性)。首先，对于带低辐射层积膜的玻璃板进行上述的耐久性试验。接着，在上述的分光反射率光谱的测定条件下对于耐久性试验后的来自带低辐射层积膜的玻璃板中的含有ZrO2的层(或透明导电层)的反射光的L1 *值、a1 *值和b1 *值进行测定。使用所得到的L1 *值、a1 *值和b1 *值和上述的L0 *值、a0 *值和b0 *值，基于上述式(1)～(4)计算出反射光的色度变化ΔE*。
[表面的算术平均粗糙度Ra]
通过下述方法评价带低辐射层积膜的玻璃板的含有ZrO2的层(或透明导电层)的表面的算术平均粗糙度Ra。首先使用扫描型探针显微镜(SII Nano Technology公司制造、SPA-400型)对于含有ZrO2的层的表面形状进行测定。在视野内选择相互交叉的3条直线，对于这些直线中的截面曲线分别求出算术平均粗糙度。确定所得到的值的算术平均，作为含有ZrO2的层的表面的算术平均粗糙度Ra。
Figure BDA0003540073010000191
由表1可知，含有ZrO2的层的表面的算术平均粗糙度Ra为12nm以下且小于透明导电层的表面的算术平均粗糙度Ra(15.1nm：比较例3)的实施例1～7的带低辐射层积膜的玻璃板中，表面防污性和耐擦伤性优异。此外，根据实施例1～7、比较例1和2的结果可以看出，含有ZrO2的层中的ZrO2的含量越高，越具有反射光的色度变化ΔE*降低、耐久性(耐碱性)提高的倾向。比较例1和2中，含有ZrO2的层中的ZrO2的含量低、耐碱性不充分。
工业实用性
本发明的带低辐射层积膜的玻璃板适合于多层玻璃单元、夹层玻璃等玻璃产品。

Claims (21)

1.一种带低辐射层积膜的玻璃板，其中，
其具备玻璃板、
以及由所述玻璃板支承的低辐射层积膜，
所述低辐射层积膜具有配置在所述低辐射层积膜的最外侧的含有ZrO2的层、以及配置在所述玻璃板与所述含有ZrO2的层之间的透明导电层，
所述含有ZrO2的层中的ZrO2的含量为8mol％以上100mol％以下，
所述含有ZrO2的层中的SiO2的含量为0mol％以上92mol％以下，
所述含有ZrO2的层的表面的算术平均粗糙度Ra为12nm以下且小于所述透明导电层的表面的算术平均粗糙度Ra。
2.如权利要求1所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述透明导电层的所述表面的所述算术平均粗糙度Ra为14nm以上。
3.如权利要求1或2所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述透明导电层实质上由含氟氧化锡构成。
4.如权利要求1或2所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述透明导电层为实质上由含氟氧化锡构成且具有200nm以上400nm以下的厚度的层。
5.如权利要求1或2所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述透明导电层为实质上由含氟氧化锡构成且具有400nm以上800nm以下的厚度的层。
6.如权利要求1或2所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述透明导电层包含：
实质上由含锑氧化锡构成且具有100nm以上300nm以下的厚度的第1透明导电层；以及
实质上由含氟氧化锡构成且具有150nm以上400nm以下的厚度的第2透明导电层。
7.如权利要求1～6中任一项所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述低辐射层积膜进一步具有配置在所述玻璃板与所述透明导电层之间的基底层。
8.如权利要求7所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述基底层为包含碳氧化硅作为主成分且具有20nm以上120nm以下的厚度的层。
9.如权利要求7所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述基底层包含：
实质上由氧化锡构成且具有10nm以上90nm以下的厚度的第1基底层；以及
实质上由SiO2构成且具有10nm以上90nm以下的厚度的第2基底层。
10.如权利要求7所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述基底层包含：
实质上由SiO2构成且具有10nm以上30nm以下的厚度的第1基底层；
实质上由氧化锡构成且具有10nm以上90nm以下的厚度的第2基底层；以及
实质上由SiO2构成且具有10nm以上90nm以下的厚度的第3基底层。
11.如权利要求1～10中任一项所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述含有ZrO2的层的物理膜厚为15nm以上150nm以下。
12.如权利要求1～11中任一项所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述含有ZrO2的层的物理膜厚为30nm以上150nm以下。
13.一种玻璃产品，其是通过用作建筑物的天窗而将室内空间和室外空间进行分离的玻璃产品，其中，
所述玻璃产品具备权利要求1～12中任一项所述的带低辐射层积膜的玻璃板、以及隔着空隙层与所述带低辐射层积膜的玻璃板对置的第2玻璃板，
所述带低辐射层积膜的玻璃板中包含的所述低辐射层积膜与所述室外空间相接。
14.如权利要求13所述的玻璃产品，其进一步具备由所述第2玻璃板支承且与所述空隙层相接的低辐射膜。
15.如权利要求14所述的玻璃产品，其中，所述低辐射膜具有包含Ag作为主成分的层。
16.如权利要求15所述的玻璃产品，其中，所述低辐射膜具有2个包含Ag作为主成分的所述层。
17.一种玻璃产品，其是通过用作建筑物的窗而将室内空间和室外空间进行分离的玻璃产品，其中，
所述玻璃产品具备权利要求1～12中任一项所述的带低辐射层积膜的玻璃板、以及隔着空隙层与所述带低辐射层积膜的玻璃板对置的第2玻璃板，
所述带低辐射层积膜的玻璃板中包含的所述低辐射层积膜与所述室内空间相接。
18.一种玻璃产品，其是通过用作冷藏库或冷冻库的门而将库内空间和库外空间进行分离的玻璃产品，其中，
所述玻璃产品具备权利要求1～12中任一项所述的带低辐射层积膜的玻璃板、以及隔着空隙层与所述带低辐射层积膜的玻璃板对置的第2玻璃板，
所述带低辐射层积膜的玻璃板中包含的所述低辐射层积膜与所述库外空间相接。
19.一种玻璃产品，其是通过用作运输工具的天窗而将机内空间与机外空间进行分离的玻璃产品，其中，
所述玻璃产品具备权利要求1～12中任一项所述的带低辐射层积膜的玻璃板，
所述带低辐射层积膜的玻璃板中包含的所述低辐射层积膜与所述机内空间相接。
20.如权利要求19所述的玻璃产品，其进一步具备与所述机外空间相接的第2玻璃板。
21.如权利要求19所述的玻璃产品，其中，所述带低辐射层积膜的玻璃板进一步具有形成在所述玻璃板的两个主表面的压缩应力层。
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