CN114345778A

CN114345778A - 一种晶圆清洗装置

Info

Publication number: CN114345778A
Application number: CN202111617114.7A
Authority: CN
Inventors: 廖世容; 叶瑾琳; 沈琪良
Original assignee: Zhejiang Guangte Technology Co ltd
Current assignee: Zhejiang Guangte Technology Co ltd
Priority date: 2021-12-27
Filing date: 2021-12-27
Publication date: 2022-04-15

Abstract

本发明公开了一种晶圆清洗装置，包括：一支架；三个轴，平行安装在所述支架上，其中两个所述轴位于另一所述轴的两侧，并位于另一所述轴的上方；至少一个所述轴能够改变与其它两个所述轴中至少一个的间距；三个所述轴上均设有用于与晶圆相配合的限位槽。将晶圆置于三个轴的限位槽内，支撑晶圆，方便清洗。三个轴之间的间距能够改变，如此，便于放置不同直径的晶圆，适应性好。

Description

一种晶圆清洗装置

技术领域

本发明涉及晶圆处理技术领域，尤其涉及一种晶圆清洗装置。

背景技术

目前，随着半导体制造工艺技术的不断发展，器件的特征尺寸不断减少，纳米尺度的缺陷对晶圆造成的影响逐渐增加，对于晶圆清洗已然成为提高晶圆良率的关键。

在中国专利申请号：CN202110939158.5中公开了一种晶圆清洗机构，用于对晶圆进行清洗，所述晶圆的表面贴附有承载膜，包括：绷膜环、清洗槽及清洗支架；其中，所述清洗支架用于固定所述绷膜环，所述清洗槽位于所述绷膜环下方，所述承载膜贴附于所述绷膜环上，所述晶圆位于所述绷膜环的内环面内且所述晶圆的边缘与所述绷膜环的内环面之间具有间隙，所述晶圆朝向所述清洗槽并浸入所述清洗槽内的清洗液中。

在中国专利申请号：CN201910989773.X中公开了一种晶圆清洗装置，所述晶圆清洗装置包括：旋转室；旋转组件，设置于所述旋转室内，所述旋转组件包括旋转台，所述旋转台上设置有吸盘，用于吸住晶圆以使所述晶圆随着所述旋转台的旋转而旋转；静电感测器，用于感测所述晶圆上是否存在静电电荷；软X射线电离器，设置于所述晶圆的上方，在所述静电感测器感测到所述晶圆上存在静电电荷时，向所述晶圆照射软X射线以将所述旋转室内的空气离子化进而消除所述晶圆上的静电电荷。

上述技术方案都不能适用对不同尺寸的晶圆清洗，鉴于此，故提出本申请。

发明内容

为解决背景技术中存在的至少一个方面的技术问题，本发明提出一种晶圆清洗装置，适应性好。

本发明提出的一种晶圆清洗装置，包括：

一支架；

三个轴，平行安装在所述支架上，其中两个所述轴位于另一所述轴的两侧，并位于另一所述轴的上方；至少一个所述轴能够改变与其它两个所述轴中至少一个的间距；三个所述轴上均设有用于与晶圆相配合的限位槽。

优选地，位于上方的两个所述轴与所述支架活动连接；

所述装置还包括固定件，所述固定件用于将位于上方的两个所述轴固定。

优选地，所述支架上设有两个用于供位于上方的两个所述轴移动的移动槽；所述支架上设有第一螺纹孔；

所述固定件包括：

两个固定板，与位于上方的两个所述轴相对应，所述固定板上设有与所述轴相配合的限位孔；

一连接板，其上设有多个与所述第一螺纹孔相配合的第二螺纹孔；

一螺栓，与所述第一螺纹孔、第二螺纹孔相配合；

两个螺柱，安装在所述连接板上；

两个连接套，分别安装在两个所述固定板上，并分别与两个所述螺柱螺纹连接。

优选地，所述连接套与所述固定板转动连接。

优选地，所述限位槽为多个，沿所述轴的长度方向间隔布置。

优选地，该装置还包括转动机构；其中，位于下方的所述轴与所述支架转动连接，并与所述转动机构传动连接。

优选地，该装置至少一个擦拭单元，所述擦拭单元包括：

一支撑板；

两个第一擦拭件，用于布置于所述晶圆的两侧，均与所述支撑板连接。

优选地，所述擦拭单元还包括第二擦拭件，位于两个所述第一擦拭件，与所述支撑板连接，用于与所述晶圆的周向表面贴合。

优选地，该装置还包括：

一安装架；

一连接件，与所述支撑板连接，且与所述安装架活动连接。

优选地，该装置还包括紧固部，该紧固部用于将所述连接件限定。

本发明公开的一个方面带来的有益效果是：

将晶圆置于三个轴的限位槽内，支撑晶圆，方便清洗。

三个轴之间的间距能够改变，如此，便于放置不同直径的晶圆，适应性好。

附图说明

图1为本发明公开的主视图；

图2为本发明公开的主视图；

图3为本发明公开的轴视图；

图4为本发明公开的第一擦拭件、第二擦拭件的轴视图；

图5为本发明公开的连接部、螺栓等的主视图；

图6为本发明公开的连接部、螺栓等的轴视图；

图7为本发明公开的轴视图；

图8为本发明公开的限位杆、移动杆等的轴视图；

图9为本发明公开的限位杆、移动杆等的轴视图；

图10为本发明公开的限位杆、移动杆等的轴视图；

图11为本发明公开的限位杆、移动杆等的轴视图。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互的结合；下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”和“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的位置或元件必须具有特定方位、以特定的方位构成和操作，因此不能理解为本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

参照图1-11，本发明提出的一种晶圆清洗装置，包括：

一支架1；三个轴2，平行安装在所述支架1上，其中两个所述轴2A位于另一所述轴2B的两侧，并位于另一所述轴2B的上方；至少一个所述轴2能够改变与其它两个所述轴2中至少一个的间距；三个所述轴2上均设有用于与晶圆J相配合的限位槽201。

将晶圆J置于三个轴2的限位槽201内，支撑晶圆J，方便清洗。设置限位槽避免晶圆倾倒。

三个轴2之间的间距能够改变，如此，便于放置不同直径的晶圆J，适应性好。

作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，位于上方的两个所述轴2A与所述支架1活动连接；所述装置还包括固定件，所述固定件用于将位于上方的两个所述轴2A固定。

本实施例中，让上方的两个轴2A可以灵活移动，根据晶圆J的尺寸，调整好上方的两个轴2A的位置，而后利用固定件将其固定即可。适用放置不同尺寸的晶圆J。

作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述支架1上设有两个用于供位于上方的两个所述轴2A移动的移动槽101；所述支架1上设有第一螺纹孔102。

所述固定件包括：

两个固定板3，与位于上方的两个所述轴2A相对应，所述固定板3上设有与所述轴2相配合的限位孔301；一连接板4，其上设有多个与所述第一螺纹孔102相配合的第二螺纹孔401；一螺栓5，与所述第一螺纹孔102、第二螺纹孔401相配合；两个螺柱6，安装在所述连接板4上；两个连接套7，分别安装在两个所述固定板3上，并分别与两个所述螺柱6螺纹连接。

让上方的两个轴2A分别在两个移动槽101内移动；在调整好上方的两个轴2A的位置后。通过转动连接套7，让两个固定板3上的限位孔301套在位于上方的两个轴2A上。而后，让一个第二螺纹孔401与一个第一螺纹孔102对齐，利用螺栓5穿过第一螺纹孔102、第二螺纹孔401，将固定板3与支架1固定。

而后，放置晶圆J即可进行后续清洗。

本实施例中两个移动槽101均关于位于下方的轴2B对称布置，且均呈弧形，位于同一圆周上。如此，保证位于下方的轴2B有效支撑晶圆J，让晶圆J的重心落在下方的轴2B上。上方的两个轴2A从两侧限定晶圆J，避免向两侧晃动。

作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述连接套7与所述固定板3转动连接。如果让连接套7与固定板3固定，那么在调整时需要让固定板3至少转动180度，才能让限位孔301套在轴2上。而通过让连接套7与固定板3转动，那么可以灵活转动连接套7，不需要转动固定板3，位于上方的两个轴2A的位置调整更加灵活，适应性更换。

进一步的，所述限位槽201为多个，沿所述轴2的长度方向间隔布置。可以放置多个晶圆J，提高效率。

作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该装置还包括转动机构8；其中，位于下方的所述轴2B与所述支架1转动连接，并与所述转动机构8传动连接。转动机构8可以为电机，利用转动机构8带动下方的轴2B转动，带动晶圆J转动，方便对晶圆J清洗。

作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该装置至少一个擦拭单元，所述擦拭单元包括：

一支撑板9；两个第一擦拭件10，用于布置于所述晶圆J的两侧，均与所述支撑板9连接。

作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，所述擦拭单元还包括第二擦拭件11，位于两个所述第一擦拭件10，与所述支撑板9连接，用于与所述晶圆J的周向表面贴合。第一擦拭件10、第二擦拭件11可以为清理刷、布料等。

让两个第一擦拭件10位于晶圆J两侧，让第二擦拭件11位于晶圆J上方。利用转动机构8带动晶圆J转动，对晶圆J进行擦拭。

当然，第一擦拭件10长度可以大一点，大于晶圆J的半径，如此，晶圆J擦拭更加全面、彻底。

作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该装置还包括：

一安装架12；一连接件13，与所述支撑板9连接，且与所述安装架12活动连接。

作为上述实施例的进一步改进，在一个实施方式中，该装置还包括紧固部，该紧固部用于将所述连接件13限定。

连接件13可以为转轴，与安装架12转动连接。

在使用时，转动连接件13，移开支撑板9。而后，放置晶圆J。再转动连接件13，让第一擦拭件10、第二擦拭件11与晶圆J接触。可以利用紧固部将连接件13固定，避免晃动。

在清洗完成后，通过紧固部，松开连接件13，转动连接件13，移开支撑板9，方便取出晶圆J。如此设置，方便晶圆J放入、取出。

通过在安装上设置一通孔，图中被限位杆挡住；本实施例的紧固部包括：

一移动杆14，与连接件13连接，竖直布置。

一档杆15，位于移动杆14的第一侧。

一限位杆16，位于通孔内，且可以移动。在作业时，限位杆16位于移动杆14的第二侧。限位杆16上设有一挤压面1601、限定面1602，该挤压面1601为斜面，在受到压力时向通孔内移动。该限定面1602为平面，用于阻止移动杆14移动。

一弹性件17，一端与限位杆16连接，另一端与安装架12连接，在挤压面1601受到压力时，对限位杆16提供拉力。弹性件17可以为弹簧、弹力绳等。

还可以包括一挡圈18，安装在限位杆16上，位于通孔远离挤压面1601的一侧。在弹力作业下与安装架12抵靠。弹性件17可以一直处于拉伸状态，提供弹力。设定挡圈18，挡圈18的直径大于通孔的直径；在松开限位杆16后，在弹性件17弹力的作用下，挤压面1601的最终的位置不便。移动杆14能够有效挤压。

作业时，将本实施放入清洗池中，加入清洗液。

移开支撑板9，图8中，向前转动连接件13、移动杆14，放入晶圆J。图8中向后转动连接件13、移动杆14，移动杆14与挤压面1601接触，并挤压挤压面1601。克服弹性件17的弹力后，与挡杆15抵靠。限位杆16受到压力后，在通孔内移动，图9中向左移动。在移动杆14与挤压面1601分离后，在弹性件17的弹力作用下，限位杆16向右移动。挤压面1601归位。限位面位于移动杆14的第二侧，图10中的左侧。此时，限位面、档杆15用于阻止移动杆14左右移动，阻止连接件13转动。

在清洗完成后，操作人员拉动限位杆16，图9中，向左拉动。克服弹性件17的弹力。让限位面向通孔方向移动，此时可以让移动杆14向远离档杆15的方向转动。而后松开限位杆16，挤压面1601归位。

上述设置方便限定移动杆14，也方便移动杆14移动。

以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims

1.一种晶圆清洗装置，其特征在于，包括：

一支架；

2.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，位于上方的两个所述轴与所述支架活动连接；

3.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述支架上设有两个用于供位于上方的两个所述轴移动的移动槽；所述支架上设有第一螺纹孔；

所述固定件包括：

一螺栓，与所述第一螺纹孔、第二螺纹孔相配合；

两个螺柱，安装在所述连接板上；

4.根据权利要求3所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述连接套与所述固定板转动连接。

5.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述限位槽为多个，沿所述轴的长度方向间隔布置。

6.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，该装置还包括转动机构；其中，位于下方的所述轴与所述支架转动连接，并与所述转动机构传动连接。

7.根据权利要求6所述的晶圆清洗装置，其特征在于，该装置至少一个擦拭单元，所述擦拭单元包括：

一支撑板；

8.根据权利要求6所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述擦拭单元还包括第二擦拭件，位于两个所述第一擦拭件，与所述支撑板连接，用于与所述晶圆的周向表面贴合。

9.根据权利要求7所述的晶圆清洗装置，其特征在于，该装置还包括：

一安装架；

一连接件，与所述支撑板连接，且与所述安装架活动连接。

10.根据权利要求9所述的晶圆清洗装置，其特征在于，该装置还包括紧固部，该紧固部用于将所述连接件限定。