CN114315154A - 亚光釉及其制备工艺 - Google Patents

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CN114315154A CN202111657803.0A CN202111657803A CN114315154A CN 114315154 A CN114315154 A CN 114315154A CN 202111657803 A CN202111657803 A CN 202111657803A CN 114315154 A CN114315154 A CN 114315154A
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Abstract

本发明涉及陶瓷技术领域,具体是涉及亚光釉,本发明还涉及一种亚光釉及其制备工艺,配料装置固定安装于混料装置的顶端,配料装置的输出端朝向混料装置的顶部设置;传输装置固定安装于混料装置的一侧,传输装置的入料端设置于混料装置出料端的正下方,搅拌装置竖直设置于传输装置出料端的正下方;供水装置设置于搅拌装置的一侧,供水装置通过管路与搅拌装置内部连通设置,本申请可以对多种原材料进行自动配料并且可以全自动化对配料完毕后的原材料进行混料、磨制及制浆工作,无需人工,原材料配比精准、高效,自动化程度高、工作效率高、操作简单便捷。

Description

亚光釉及其制备工艺
技术领域
本发明涉及陶瓷技术领域,具体是涉及亚光釉,本发明还涉及一种亚光釉及其制备工艺。
背景技术
亚光釉是介于有光釉和无光釉之间的一种特殊釉料,其釉面反光能力较弱,表面无玻璃光泽,但呈现出柔和丝状或绒状光泽。亚光釉的釉料经高温融后,在冷却过程中釉成分中的一部分析出晶体,其晶体极微小且有规律的分散、嵌在玻璃基体中,光源照射在其产生漫反射,为保证亚光釉析出的晶体均匀分散于玻璃基体中,以使得到的亚光釉质地均匀紧密,而现有的亚光釉的釉料一般组分较为复杂,需要对原材料进行等比例配比、混合及研磨等一系列工作,其中对原材料的配比在釉浆的制作过程中最为繁琐,传统配比方式需要通过人工拿取量筒或通过经验自行把握,不仅人工强度大且材料配比比例偏差较大,这样就会出现每次配比出来的釉浆以及最终的烧制完成的效果均不相同;
为此,我们需要一种可以对多种原材料进行同时配料且可以自动混合搅拌及制浆的设备,可以对原材料进行精准的配比、混料及制浆工作,使得每次制作出来的釉浆成色均一且可以对材料比例进行自调节,从而制成所需不同的釉浆。
发明内容
基于此,有必要针对现有技术问题,提供亚光釉及其制备工艺。
为解决现有技术问题,本发明采用的技术方案为:
根据本申请的一个方面,本申请提供一种亚光釉,包括以下质量份的组分:高岭土28份、黏土15份、硼砂8份、亚光熔块17份、铝镁铝镁水滑石4份、曲酸二棕榈酸酯3份、磷酸钙5份、氧化钙5份、氯化亚锡12份。
根据本申请的一个方面,本申请提供一种亚光釉,包括以下步骤:
S1,研磨,首先将亚光熔块装入釉磨机磨制1. 5h,在通过传输装置将磨制后亚光熔块传输至混料装置内部;然后将其余各原料依次倒入配料装置内,并通过配料装置对其进行等比例配比后并传输至混料装置内,通过混料装置对各原料进行充分混合搅拌;
S2,将通过混料装置充分混合后的原材料再次装入至釉磨机内,磨制32h,作为混合原料备用;
S3,釉浓度调节,将二次研磨后的原材料通过传输装置传输至搅拌装置内部,并在供水装置和搅拌装置的配合下,对原料内进行注水并持续搅拌,直至原材料搅拌呈釉浆,并使其釉浆浓度至45°波美度,并在真空度为0.01~0.05MPa的条件下真空除泡15分钟,得到釉浆料;
S4,施釉,将烧制好的陶瓷素坯浸入所得釉浆料中进行施釉,干燥,得陶瓷制品初品;
S5,氧化烧制,将所得的陶瓷制品初品在氧化氛围下进行烧制,第一阶段:从20℃升温到400℃,时间2h;第二阶段:从400℃升温到700℃,时间2h;第三阶段:从700℃升温到1000℃,时间3h;第四阶段:从1000℃升温到1200℃,时间4h;然后自然冷却,得到表面有亚光釉的陶瓷制品。
优选的,配料装置固定安装于混料装置的顶端,配料装置的输出端朝向混料装置的顶部设置;传输装置固定安装于混料装置的一侧,传输装置的入料端设置于混料装置出料端的正下方,搅拌装置竖直设置于传输装置出料端的正下方,传输装置的出料口正对搅拌装置的入料口设置;供水装置设置于搅拌装置的一侧,供水装置通过管路与搅拌装置内部连通设置。
优选的,混料装置包括有底座、混料桶、导料仓、伺服电机、混料桨和挡料板;混料桶竖直设置于底座上,底座为一个顶部开口的圆柱形仓体,底座的底部一侧还开设有出料口;挡料板可拔插的设置于出料口处;导料仓固定安装于混料桶的顶部;混料桨可转动的设置于混料桶内;伺服电机固定安装于混料桶的底部,混料桨的输出轴与混料桨传动连接。
优选的,混料桨包括转轴、螺旋桨叶、过料孔、柔性围板和破料桨;转轴可转动的设置于混料桶内;螺旋桨叶环绕设置于转轴的外壁;螺旋桨叶的表面还贯穿设置有过料孔;柔性围板围绕设置于螺旋桨叶的边缘;破料桨可拆卸的设置于转轴的底部。
优选的,配料装置包括有第一安装架、第一导料板、第一落料口、第一长圆形围板、滑轨、第二导料板、卡槽、第二落料口、滑柱、第二长圆形围板、分料桶、储料仓和刮板;第一安装架可拆卸的设置于混料桶的顶部;第一导料板固定安装于第一安装架上,第一导料板的底部与导料仓的顶部呈同一水平设置,第一导料板的一端还贯穿开设有一个第一落料口;第一长圆形围板竖直设置于第一导料板上,第一落料口通过第一长圆形围板围设于其内部;滑轨沿着第一导料板的长边方向固定安装于第一导料板上,第一导料板设置于远离第一落料口的另一端;第二导料板设置于第一导料板的正上方,第二导料板的下表面竖直安装有两个滑柱,滑柱的下端与滑轨滑动连接;第二导料板的端部还贯穿开设有第二落料口,卡槽开设于第二落料口的正下方;第二长圆形围板竖直设置于第二导料板上,第二落料口通过第二长圆形围板围设于其内部;直线往复驱动器竖直设置于第一导料板的一侧,直线往复驱动器的输出端与滑柱转动连接;分料桶可拆卸设置于卡槽内,分料桶的高度与第一导料板和第二导料板之间的高度等同;储料仓竖直设置于第二导料板正上方,储料仓的出料口位于第二长圆形围板内部并贴合第二导料板表面设置;刮板固定安装于2e的一侧。
优选的,传输装置包括有第二安装架、储料箱、螺旋送料管和旋转驱动器;储料箱固定安装于第二安装架的顶部;螺旋送料管倾斜设置于储料箱的一侧,螺旋送料管的入料口与储料箱内部连通设置;旋转驱动器用以驱动螺旋送料管进行螺旋送料工作。
优选的,搅拌装置包括有第三安装架、搅拌机、出料口和储料桶;搅拌机竖直设置于第三安装架的顶部;搅拌机的入料口正对传输装置的出料口设置;搅拌机的一侧还设置有出料口;储料桶设置于出料口的正下方。
优选的,供水装置包括有支撑架、水塔、水泵、第四安装架、水箱、出水管和电磁阀;水塔竖直设置于支撑架的顶端;水泵设置于水塔的正下方;第四安装架固定安装于搅拌机的侧壁;水箱设置于第四安装架的顶部,水箱通过管路与水泵连通设置;水箱的侧壁还设置有一个出水管;电磁阀设置于出水管的中部。
优选的,供水装置还包括有液位传感器,液位传感器设置于水箱内部。
本申请相比较于现有技术的有益效果是:
1.本申请通过混料桶、伺服电机和混料桨的配合,实现了如何对通过配料装置配料完成并进入至混料桶内部的材料进行均匀混合搅拌,使其各种材料之间混合更加充分。
2.本申请通过配料装置实现了如何对各种原材料进行严格按照配比比例进行配料的工作,实现每次配料的统一性。
3.本申请通过储料箱、螺旋送料管和旋转驱动器的配合实现了如何对混合均匀的原料朝向搅拌装置内部进行传输的工作,从而快速进行下一步的加工工作。
4.本申请通过搅拌装置和供水装置的配合实现了如何对传输装置传输至搅拌装置内部的原料进行加水充分搅拌呈釉浆的工作,从而快速制成釉浆原料。
5.本申请通过液位传感器实现了如何对原材料进行加水搅拌时对注水量的严格把控工作,使得每次的注水量可根据所需进行精准调节。
附图说明
图1是实施例的立体图一;
图2是实施例的侧视图;
图3是实施例的立体图二;
图4是实施例的配料装置立体图;
图5是实施例的配料装置部分结构立体图一;
图6是实施例的配料装置部分结构立体图二;
图7是实施例的混料装置立体图;
图8是实施例的混料桨立体图;
图9是实施例的传输装置立体图;
图10是实施例的搅拌装置和供水装置立体图。
图中标号为:
1-混料装置;1a-底座;1b-混料桶;1c-导料仓;1d-伺服电机;1e0-混料桨;1e1-转轴;1e2-螺旋桨叶;1e3-过料孔;1e4-柔性围板;1e5-破料桨;1f-挡料板;
2-配料装置;2a-第一安装架;2b-第一导料板;2b1-第一落料口;2c-第一长圆形围板;2d-滑轨;2e-第二导料板;2e1-卡槽;2e2-第二落料口;2f-滑柱;2g-第二长圆形围板;2h-直线往复驱动器;2r-分料桶;2j-储料仓;2k-刮板;
3-传输装置;3a-第二安装架;3b-储料箱;3c-螺旋送料管;3d-旋转驱动器;
4-搅拌装置;4a-第三安装架;4b-搅拌机;4c-出料口;4d-储料桶;
5-供水装置;5a-支撑架;5b-水塔;5c-水泵;5d-第四安装架;5e-水箱;5f-出水管;5g-电磁阀;5h-液位传感器。
具体实施方式
为能进一步了解本发明的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能,下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
亚光釉,包括以下质量份的组分:高岭土28份、黏土15份、硼砂8份、亚光熔块17份、铝镁铝镁水滑石4份、曲酸二棕榈酸酯3份、磷酸钙5份、氧化钙5份、氯化亚锡12份。
亚光釉的制备工艺,包括以下步骤:
S1,研磨,首先将亚光熔块装入釉磨机磨制1. 5h,在通过传输装置3将磨制后亚光熔块传输至混料装置1内部;然后将其余各原料依次倒入配料装置2内,并通过配料装置2对其进行等比例配比后并传输至混料装置1内,通过混料装置1对各原料进行充分混合搅拌;
S2,将通过混料装置1充分混合后的原材料再次装入至釉磨机内,磨制32h,作为混合原料备用;
S3,釉浓度调节,将二次研磨后的原材料通过传输装置3传输至搅拌装置4内部,并在供水装置5和搅拌装置4的配合下,对原料内进行注水并持续搅拌,直至原材料搅拌呈釉浆,并使其釉浆浓度至45°波美度,并在真空度为传输装置0.01~0.05MPa的条件下真空除泡15分钟,得到釉浆料;
S4,施釉,将烧制好的陶瓷素坯浸入所得釉浆料中进行施釉,干燥,得陶瓷制品初品;
S5,氧化烧制,将所得的陶瓷制品初品在氧化氛围下进行烧制,第一阶段:从2℃升温到4℃,时间2h;第二阶段:从4℃升温到7℃,时间2h;第三阶段:从7℃升温到1℃,时间3h;第四阶段:从1℃升温到12℃,时间4h;然后自然冷却,得到表面有亚光釉的陶瓷制品。
如图1至图10所示:
配料装置2固定安装于混料装置1的顶端,配料装置2的输出端朝向混料装置1的顶部设置;传输装置3固定安装于混料装置1的一侧,传输装置3的入料端设置于混料装置1出料端的正下方,搅拌装置4竖直设置于传输装置3出料端的正下方,传输装置3的出料口正对搅拌装置4的入料口设置;供水装置5设置于搅拌装置4的一侧,供水装置5通过管路与搅拌装置4内部连通设置。
基于上述实施例,本申请想要解决的技术问题是如何对原材料进行快速的等比例配比、混合并搅拌成釉浆。工作状态下,当需要对原材料进行混合并搅拌时,工作人员首选将通过釉磨机研磨后的亚光熔块倒入至混料装置1内部,然后在将多种原材料依次倒入至配料装置2内部,通过配料装置2对多种原材料进行配比并投放至混料装置1内部,投放完毕后驱动混料装置1对其内部的原材料进行充分混合搅拌,并将搅拌后的原料再次投放至釉磨机内进行二次磨制,最后将二次磨制后的原料通过传输装置3传输至搅拌装置4内部,并在搅拌装置4和供水装置5的配合下完成对釉浆的制成工作。
如图7所示:
混料装置1包括有底座1a、混料桶1b、导料仓1c、伺服电机1d、混料桨1e和挡料板1f;混料桶1b竖直设置于底座1a上,底座1a为一个顶部开口的圆柱形仓体,底座1a的底部一侧还开设有出料口;挡料板1f可拔插的设置于出料口处;导料仓1c固定安装于混料桶1b的顶部;混料桨1e可转动的设置于混料桶1b内;伺服电机1d固定安装于混料桶1b的底部,混料桨1e的输出轴与混料桨1e传动连接。
基于上述实施例,本申请想要解决的技术问题是如何对原材料进行混合搅拌。当需要对原材料进行搅拌时首先驱动伺服电机1d工作,伺服电机1d输出轴转动带动混料桨1e进行同步转动,混料桨1e在高速旋转带动原材料在混料桶1b内部持续翻滚,从而完成对原材料的均匀混合搅拌工作。
如图8所示:
混料桨1e包括转轴1e1、螺旋桨叶1e2、过料孔1e3、柔性围板1e4和破料桨1e5;转轴1e1可转动的设置于混料桶1b内;螺旋桨叶1e2环绕设置于转轴1e1的外壁;螺旋桨叶1e2的表面还贯穿设置有过料孔1e3;柔性围板1e4围绕设置于螺旋桨叶1e2的边缘;破料桨1e5可拆卸的设置于转轴1e1的底部。
基于上述实施例,工作状态下当转轴1e1在伺服电机1d的驱动下转动时,在环绕设置于转轴1e1外壁的螺旋桨叶1e2的辅助下可以将混料桶1b内部的原料持续朝向混料桶1b的顶部方向旋送,从而使得处于混料桶1b底部的原料处于往复翻滚的运动状态,从而实现对各原料的充分混合工作,过料孔1e3用以使得被朝向混料桶1b顶部传输的原料自由下落至混料桶1b底部,避免混料桶1b顶部原料堆积,柔性围板1e4用以辅助螺旋桨叶1e2可以将更多的原材料朝向混料桶1b顶部旋送,从而实现原材料的充分翻滚,破料桨1e5用以对混料桶1b底部的原料进行旋刮及破碎,对出现结块的原材料进行破碎,同时持续旋刮底座1a底部,避免原材料堆积至混料桶1b角落。
如图3至图6所示:
配料装置2包括有第一安装架2a、第一导料板2b、第一落料口2b1、第一长圆形围板2c、滑轨2d、第二导料板2e、卡槽2e1、第二落料口2e2、滑柱2f、第二长圆形围板2g、分料桶2r、储料仓2j和刮板2k;第一安装架2a可拆卸的设置于混料桶1b的顶部;第一导料板2b固定安装于第一安装架2a上,第一导料板2b的底部与导料仓1c的顶部呈同一水平设置,第一导料板2b的一端还贯穿开设有一个第一落料口2b1;第一长圆形围板2c竖直设置于第一导料板2b上,第一落料口2b1通过第一长圆形围板2c围设于其内部;滑轨2d沿着第一导料板2b的长边方向固定安装于第一导料板2b上,第一导料板2b设置于远离第一落料口2b1的另一端;第二导料板2e设置于第一导料板2b的正上方,第二导料板2e的下表面竖直安装有两个滑柱2f,滑柱2f的下端与滑轨2d滑动连接;第二导料板2e的端部还贯穿开设有第二落料口2e2,卡槽2e1开设于第二落料口2e2的正下方;第二长圆形围板2g竖直设置于第二导料板2e上,第二落料口2e2通过第二长圆形围板2g围设于其内部;直线往复驱动器2h竖直设置于第一导料板2b的一侧,直线往复驱动器2h的输出端与滑柱2f转动连接;分料桶2r可拆卸设置于卡槽2e1内,分料桶2r的高度与第一导料板2b和第二导料板2e之间的高度等同;储料仓2j竖直设置于第二导料板2e正上方,储料仓2j的出料口位于第二长圆形围板2g内部并贴合第二导料板2e表面设置;刮板2k固定安装于分料桶2r的一侧。
基于上述实施例,本申请想要解决的技术问题是如何实现对各个原材料的精准配料。工作状态下当需要对原材料如硼砂进行等比例配料时,首先将硼砂投放至储料仓2j内,然后驱动直线往复驱动器2h输出轴收缩带动第二导料板2e沿着滑轨2d的长边方向朝向第一导料板2b后端滑动收缩,使其第二导料板2e上开设的第二落料口2e2处处于储料仓2j出料口的正下方,这时处于储料仓2j内的硼砂则会自由落入至分料桶2r内,当分料桶2r内充满硼砂后储料仓2j则无法继续落料,这时在次驱动直线往复驱动器2h输出轴延伸推送第二导料板2e带动分料桶2r朝向第一导料板2b的第一落料口2b1处移动,当分料桶2r移动至第一落料口2b1处时,分料桶2r的下端口则失去遮挡,处于2e内的定量硼砂则会穿过第一落料口2b1处进入至导料仓1c内,分料桶2r的容积可以根据所需自行更换,分料桶2r内的容积可更改为一次性投放1~3份硼砂不等,可根据所需自行更换,确保每次硼砂投放的一致性,从而实现对原材料的精准投放工作,刮板2k用以刮除少量残留至第一导料板2b上的原料。
如图9所示:
传输装置3包括有第二安装架3a、储料箱3b、螺旋送料管3c和旋转驱动器3d;储料箱3b固定安装于第二安装架3a的顶部;螺旋送料管3c倾斜设置于储料箱3b的一侧,螺旋送料管3c的入料口与储料箱3b内部连通设置;旋转驱动器3d用以驱动螺旋送料管3c进行螺旋送料工作。
基于上述实施例,本申请想要解决的技术问题是如何对混合搅拌完毕后的原材料进行传输。
工作状态下当需要对原料进行传输,工作人员打开挡料板1f使其混料桶1b内的原料自由掉落至储料箱3b内,同时驱动旋转驱动器3d驱动螺旋送料管3c工作,螺旋送料管3c吸取原料并朝向搅拌装置4进行传输。
如图10所示:
搅拌装置4包括有第三安装架4a、搅拌机4b、出料口4c和储料桶4d;搅拌机4b竖直设置于第三安装架4a的顶部;搅拌机4b的入料口正对传输装置3的出料口设置;搅拌机4b的一侧还设置有出料口4c;储料桶4d设置于出料口4c的正下方。
基于上述实施例,本申请想要解决的技术问题是如何对原材料进行搅拌。当需要对原材料进行搅拌时,首先接入外部电源驱动搅拌机4b工作,通过搅拌机4b对原材料进行搅拌,搅拌机4b为现有技术,图中未详细出示,在搅拌机4b搅拌过程中供水装置5同时间歇性朝向搅拌装置4内部注入水源,直至搅拌机4b内的原料被混合呈釉浆。
如图10所示:
供水装置5包括有支撑架5a、水塔5b、水泵5c、第四安装架5d、水箱5e、出水管5f和电磁阀5g;水塔5b竖直设置于支撑架5a的顶端;水泵5c设置于水塔5b的正下方;第四安装架5d固定安装于搅拌机4b的侧壁;水箱5e设置于第四安装架5d的顶部,水箱5e通过管路与水泵5c连通设置;水箱5e的侧壁还设置有一个出水管5f;电磁阀5g设置于出水管5f的中部。
基于上述实施例,本申请想要解决的技术问题是如何对搅拌装置4内进行供水。工作状态下当需要对搅拌装置4内部进行供水时,首先接入外部电源驱动水泵5c工作,通过水泵5c抽取水塔5b内部水源并朝向水箱5e内部进行传输,在经过水箱5e传输至搅拌装置4内部,从而完成对搅拌装置4内部的供水工作,水塔5b、水泵5c和水箱5e之间均通过外部水管连接,图未示。
如图10所示:
供水装置5该包括有液位传感器5h,液位传感器5h设置于水箱5e内部。
基于上述实施例,本申请想要解决的技术问题是如何实现对搅拌装置4内定量注水。液位传感器5h用以实时检测水箱5e内部的水位,从而控制水泵5c朝向水箱5e内部输入不等量的水源,当水箱5e内部传输满预设水源后,才会开启电磁阀5g放出水源至搅拌装置4内,从而实现对搅拌装置4内部的定量供水工作。
本申请可以对多种原材料进行自动配料并且可以全自动化对配料完毕后的原材料进行混料、磨制及制浆工作,无需人工,原材料配比精准、高效,自动化程度高、工作效率高、操作简单便捷。
以上实施例仅表达了本发明的一种或几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种亚光釉,其特征在于,包括以下质量份的组分:高岭土28份、黏土15份、硼砂8份、亚光熔块17份、铝镁铝镁水滑石4份、曲酸二棕榈酸酯3份、磷酸钙5份、氧化钙5份、氯化亚锡12份。
2.一种亚光釉的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:
S1,研磨,首先将亚光熔块装入釉磨机磨制1.5h,在通过传输装置(3)将磨制后亚光熔块传输至混料装置(1)内部;然后将其余各原料依次倒入配料装置(2)内,并通过配料装置(2)对其进行等比例配比后并传输至混料装置(1)内,通过混料装置(1)对各原料进行充分混合搅拌;
S2,将通过混料装置(1)充分混合后的原材料再次装入至釉磨机内,磨制32h,作为混合原料备用;
S3,釉浓度调节,将二次研磨后的原材料通过传输装置(3)传输至搅拌装置(4)内部,并在供水装置(5)和搅拌装置(4)的配合下,对原料内进行注水并持续搅拌,直至原材料搅拌呈釉浆,并使其釉浆浓度至45°波美度,并在真空度为0.01~0.05MPa的条件下真空除泡15分钟,得到釉浆料;
S4,施釉,将烧制好的陶瓷素坯浸入所得釉浆料中进行施釉,干燥,得陶瓷制品初品;
S5,氧化烧制,将所得的陶瓷制品初品在氧化氛围下进行烧制,第一阶段:从2℃升温到4℃,时间2h;第二阶段:从4℃升温到7℃,时间2h;第三阶段:从7℃升温到1℃,时间3h;第四阶段:从1℃升温到12℃,时间4h;然后自然冷却,得到表面有亚光釉的陶瓷制品。
3.根据权利要求2所述的一种亚光釉的制备工艺,其特征在于,配料装置(2)固定安装于混料装置(1)的顶端,配料装置(2)的输出端朝向混料装置(1)的顶部设置;传输装置(3)固定安装于混料装置(1)的一侧,传输装置(3)的入料端设置于混料装置(1)出料端的正下方,搅拌装置(4)竖直设置于传输装置(3)出料端的正下方,传输装置(3)的出料口正对搅拌装置(4)的入料口设置;供水装置(5)设置于搅拌装置(4)的一侧,供水装置(5)通过管路与搅拌装置(4)内部连通设置。
4.根据权利要求3所述的一种亚光釉的制备工艺,其特征在于,混料装置(1)包括有底座(1a)、混料桶(1b)、导料仓(1c)、伺服电机(1d)、混料桨(1e)和挡料板(1f);混料桶(1b)竖直设置于底座(1a)上,底座(1a)为一个顶部开口的圆柱形仓体,底座(1a)的底部一侧还开设有出料口;挡料板(1f)可拔插的设置于出料口处;导料仓(1c)固定安装于混料桶(1b)的顶部;混料桨(1e)可转动的设置于混料桶(1b)内;伺服电机(1d)固定安装于混料桶(1b)的底部,混料桨(1e)的输出轴与混料桨(1e)传动连接。
5.根据权利要求4所述的一种亚光釉的制备工艺,其特征在于,混料桨(1e)包括转轴(1e1)、螺旋桨叶(1e2)、过料孔(1e3)、柔性围板(1e4)和破料桨(1e5);转轴(1e1)可转动的设置于混料桶(1b)内;螺旋桨叶(1e2)环绕设置于转轴(1e1)的外壁;螺旋桨叶(1e2)的表面还贯穿设置有过料孔(1e3);柔性围板(1e4)围绕设置于螺旋桨叶(1e2)的边缘;破料桨(1e5)可拆卸的设置于转轴(1e1)的底部。
6.根据权利要求5所述的一种亚光釉的制备工艺,其特征在于,配料装置(2)包括有第一安装架(2a)、第一导料板(2b)、第一落料口(2b1)、第一长圆形围板(2c)、滑轨(2d)、第二导料板(2e)、卡槽(2e1)、第二落料口(2e2)、滑柱(2f)、第二长圆形围板(2g)、分料桶(2r)、储料仓(2j)和刮板(2k);第一安装架(2a)可拆卸的设置于混料桶(1b)的顶部;第一导料板(2b)固定安装于第一安装架(2a)上,第一导料板(2b)的底部与导料仓(1c)的顶部呈同一水平设置,第一导料板(2b)的一端还贯穿开设有一个第一落料口(2b1);第一长圆形围板(2c)竖直设置于第一导料板(2b)上,第一落料口(2b1)通过第一长圆形围板(2c)围设于其内部;滑轨(2d)沿着第一导料板(2b)的长边方向固定安装于第一导料板(2b)上,第一导料板(2b)设置于远离第一落料口(2b1)的另一端;第二导料板(2e)设置于第一导料板(2b)的正上方,第二导料板(2e)的下表面竖直安装有两个滑柱(2f),滑柱(2f)的下端与滑轨(2d)滑动连接;第二导料板(2e)的端部还贯穿开设有第二落料口(2e2),卡槽(2e1)开设于第二落料口(2e2)的正下方;第二长圆形围板(2g)竖直设置于第二导料板(2e)上,第二落料口(2e2)通过第二长圆形围板(2g)围设于其内部;直线往复驱动器(2h)竖直设置于第一导料板(2b)的一侧,直线往复驱动器(2h)的输出端与滑柱(2f)转动连接;分料桶(2r)可拆卸设置于卡槽(2e1)内,分料桶(2r)的高度与第一导料板(2b)和第二导料板(2e)之间的高度等同;储料仓(2j)竖直设置于第二导料板(2e)正上方,储料仓(2j)的出料口位于第二长圆形围板(2g)内部并贴合第二导料板(2e)表面设置;刮板(2k)固定安装于分料桶(2r)的一侧。
7.根据权利要求6所述的一种亚光釉的制备工艺,其特征在于,传输装置(3)包括有第二安装架(3a)、储料箱(3b)、螺旋送料管(3c)和旋转驱动器(3d);储料箱(3b)固定安装于第二安装架(3a)的顶部;螺旋送料管(3c)倾斜设置于储料箱(3b)的一侧,螺旋送料管(3c)的入料口与储料箱(3b)内部连通设置;旋转驱动器(3d)用以驱动螺旋送料管(3c)进行螺旋送料工作。
8.根据权利要求7所述的一种亚光釉的制备工艺,其特征在于,搅拌装置(4)包括有第三安装架(4a)、搅拌机(4b)、出料口(4c)和储料桶(4d);搅拌机(4b)竖直设置于第三安装架(4a)的顶部;搅拌机(4b)的入料口正对传输装置(3)的出料口设置;搅拌机(4b)的一侧还设置有出料口(4c);储料桶(4d)设置于出料口(4c)的正下方。
9.根据权利要求8所述的一种亚光釉的制备工艺,其特征在于,供水装置(5)包括有支撑架(5a)、水塔(5b)、水泵(5c)、第四安装架(5d)、水箱(5e)、出水管(5f)和电磁阀(5g);水塔(5b)竖直设置于支撑架(5a)的顶端;水泵(5c)设置于水塔(5b)的正下方;第四安装架(5d)固定安装于搅拌机(4b)的侧壁;水箱(5e)设置于第四安装架(5d)的顶部,水箱(5e)通过管路与水泵(5c)连通设置;水箱(5e)的侧壁还设置有一个出水管(5f);电磁阀(5g)设置于出水管(5f)的中部。
10.根据权利要求9所述的一种亚光釉的制备工艺,其特征在于,供水装置(5)还包括有液位传感器(5h),液位传感器(5h)设置于水箱(5e)内部。
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