CN114174449A - 混合组合物、膜和车辆用玻璃 - Google Patents

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上原小道
宫本知典
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Abstract

本发明包含式(a1)表示的有机硅化合物(A)、式(b1)表示的有机硅化合物(B)和固化抑制剂(C)的混合组合物、以及式(a1)表示的有机硅化合物(A)、式(b1)表示的有机硅化合物(B)、固化抑制剂(C)和水(D)的混合组合物。Ra1‑Si(Xa1)3 (a1)；Si(Rb1)b20(Xb1)4‑b20 (b1)。

Description

混合组合物、膜和车辆用玻璃
技术领域
本发明涉及能够在各种基材形成具有拒液性的膜的混合组合物、将该混合组合物固化而得的膜、形成有该膜的车辆用玻璃。
背景技术
在各种车辆、住宅、大厦设备等中，有时产生由窗玻璃表面的污垢引起的可视性恶化、外观不良等问题。因此，要求玻璃等基材表面的拒液性良好。特别是不仅要求防止液滴附着于基材表面，而且还要求容易除去所附着的液滴。
本说明书中，所附着的液滴的滑落速度大时，可以理解为滑落性高，将滑落性高作为容易除去所附着的液滴的指标。
例如，专利文献1中公开了一种混合有规定量的2种硅烷化合物的组合物，并记载了通过使用该组合物，可利用简便的涂布方法得到能够容易地除去液滴的外观良好的膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2019－11463号公报
发明内容
如上述专利文献1所公开的拨水性的膜有时暴露于室外环境，在这样的情况下，要求在室外的耐久性良好。
本发明的目的在于提供一种混合组合物，其形成拒液性(特别是拒水性)和滑落性良好，且即便在室外长时间使用也能够维持优异的拒液性(特别是拒水性)的膜。
本发明如下。
[1]一种混合组合物，是式(a1)表示的有机硅化合物(A)、式(b1)表示的有机硅化合物(B)和固化抑制剂(C)的混合组合物。
Ra1-Si(Xa1)3 (a1)
[式(a1)中，
Ra1表示碳原子数6以上的烃基，该烃基中所含的-CH2-可以取代为-O-，
Xa1表示水解性基团]
Si(Rb1)b20(Xb1)4-b20 (b1)
[式(b1)中，
Rb1表示碳原子数1～5的烃基，
Xb1表示水解性基团，
b20为0或1]
[2]一种混合组合物，是式(a1)表示的有机硅化合物(A)、式(b1)表示的有机硅化合物(B)、固化抑制剂(C)和水(D)的混合组合物。
Ra1-Si(Xa1)3 (a1)
[式(a1)中，
Ra1表示碳原子数6以上的烃基，该烃基中所含的-CH2-可以取代为-O-，
Xa1表示水解性基团]
Si(Rb1)b20(Xb1)4-b20 (b1)
[式(b1)中，
Rb1表示碳原子数1～5的烃基，
Xb1表示水解性基团，
b20为0或1]
[3]根据[2]所述的组合物，其中，水(D)的量为0.1～90质量％。
[4]根据[1]～[3]中任一项所述的组合物，其中，有机硅化合物(B)与有机硅化合物(A)的摩尔比(B/A)为0.01～48。
[5]根据[1]～[4]中任一项所述的组合物，其中，有机硅化合物(A)与有机硅化合物(B)的合计量为0.01～30质量％。
[6]根据[1]～[5]中任一项所述的组合物，其中，固化抑制剂(C)相对于有机硅化合物(A)与有机硅化合物(B)的合计的质量比(C/(A+B))为0.9以下。
[7]根据[1]～[6]中任一项所述的组合物，其中，式(a1)中，Ra1为饱和烃基。
[8]根据[1]～[7]中任一项所述的组合物，其中，固化抑制剂(C)包含末端具有至少1个选自羟基和水解性基团中的基团且结构中含有硅氧烷键的化合物(C1)。
[9]根据[8]所述的组合物，其中，化合物(C1)为式(c1)表示的化合物。
Figure BDA0003415698290000031
[式(c1)中，
Ac1表示羟基或水解性基团，存在多个Ac1时，多个Ac1可以分别不同，
Zc1表示烃基、含有三烷基甲硅烷基的分子链或含有硅氧烷骨架的基团，存在多个Zc1时，多个Zc1可以分别不同，
r1表示1～3的整数，
Rc1表示式(c11)所示的基团]
Figure BDA0003415698290000032
[式(c11)中，
Rs2各自独立地表示碳原子数1～4的烷基，
Rc11表示烃基或三烷基甲硅烷氧基，该烃基或三烷基甲硅烷氧基中所含的氢原子可以被取代为氟原子，存在多个Rc11时，多个Rc11可以分别不同，
Ac11表示羟基或水解性基团，存在多个Ac11时，多个Ac11可以分别不同，
Zs1表示－O－或二价烃基，该二价烃基中所含的－CH2－可以取代为－O－，
Ys1表示单键或－Si(Rs2)2－Ls1－，Ls1表示二价烃基，该二价烃基中所含的－CH2－可以取代为－O－，
r2表示0～3的整数，
r10表示1以上的整数，
*表示键合位点]
[10]根据[9]所述的组合物，其中，式(c1)表示的化合物为式(c1－I)表示的化合物。
Figure BDA0003415698290000041
[式(c1－I)中，
n表示1～30的整数]
[11]根据[1]～[7]中任一项所述的组合物，其中，固化抑制剂(C)包含式(c2)表示的化合物。
Figure BDA0003415698290000042
[式(c2)中，
Rc21、Rc22、Rc23、Rc24各自独立地为氢原子或碳原子数1～4的烷基，存在多个Rc21时，多个Rc21可以分别不同，存在多个Rc22时，多个Rc22可以分别不同，存在多个Rc23时，多个Rc23可以分别不同，存在多个Rc24时，多个Rc24可以分别不同，
Rfc21、Rfc22、Rfc23、Rfc24各自独立地为1个以上的氢原子被取代为氟原子的碳原子数1～20的烷基或者氟原子，存在多个Rfc21时，多个Rfc21可以分别不同，存在多个Rfc22时，多个Rfc22可以分别不同，存在多个Rfc23时，多个Rfc23可以分别不同，存在多个Rfc24时，多个Rfc24可以分别不同，
Rc25为碳原子数1～20的烷基，存在多个Rc25时，多个Rc25可以分别不同，
Xc2为水解性基团，存在多个Xc2时，多个Xc2可以分别不同，
Yc2为-O-、-NH-或-S-，存在多个Yc2时，多个Yc2可以分别不同，
Zc2为乙烯基、α-甲基乙烯基、苯乙烯基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基、氨基、异氰酸酯基、异氰脲酸酯基、环氧基、脲基或巯基，
p21为1～20的整数，p22、p23和p24各自独立地为0～10的整数，p25为0～10的整数，
p26为1～3的整数，
Zc2-、-Si(Xc2)p26(Rc25)3-p26、p21个的-{C(Rc21)(Rc22)}-、p22个的-{C(Rfc21)(Rfc22)}-、p23个的-{Si(Rc23)(Rc24)}-、p24个的-{Si(Rfc23)(Rfc24)}-、p25个的-Yc2-只要Zc2-和-Si(Xc2)p26(Rc25)3-p26为末端且-Yc2-彼此不连接，就以任意顺序排列键合]
[12]根据[11]所述的组合物，其中，式(c2)表示的化合物为式(c2-1)表示的化合物。
Zc21-CqH2q-Yc21-CrH2r-Si(Xc21)p27(Rc26)3-p27 (c2-1)
[式(c2-1)中，
Xc21为甲氧基或乙氧基，存在多个Xc21时，多个Xc21可以分别不同，
Yc21为-NH-、-CH2-或-O-，
Zc21为氨基或巯基，
Rc26为碳原子数1～20的烷基，存在多个Rc26时，多个Rc26可以分别不同，
p27为1～3的整数，
q为2～5的整数，
r为0～10的整数]
[13]根据[1]～[7]中任一项所述的组合物，其中，固化抑制剂(C)包含式(c3)表示的化合物。
(Xc3)3Si-Rc3-Si(Xc3)3 (c3)
[式(c3)中，
多个Xc3各自独立地表示水解性基团，
Rc3表示碳原子数1～24的亚烷基，该亚烷基中所含的-CH2-可以取代为-O-、-NH-或-S-，该亚烷基中所含的氢原子可以被取代为氟原子]
[14]根据[13]所述的组合物，其中，式(c3)表示的化合物为式(c3-1)表示的化合物。
(Xc31)3Si-(CH2)n30-Si(Xc31)3 (c3-1)
[式(c3-1)中，
多个Xc31各自独立地表示甲氧基或乙氧基，
n30表示1～6的整数]
[15]一种膜，是将[1]～[14]中任一项所述的组合物固化而得的。
[16]一种车辆用玻璃，至少在单侧面形成有[15]所述的膜。
应予说明，上述混合组合物还包含混合后、例如保管中进行了反应的物质。
根据本发明的混合组合物，能够提供一种膜，其拒液性(特别是拒水性)和滑落性良好，且即便在室外长时间使用也维持优异的拒液性(特别是拒水性)。
具体实施方式
本发明包含有机硅化合物(A)、有机硅化合物(B)和固化抑制剂(C)的混合组合物(以下，有时称为“第1混合组合物”)、以及有机硅化合物(A)、有机硅化合物(B)、固化抑制剂(C)和水(D)的混合组合物(以下，有时称为“第2混合组合物”)。以下，依次对有机硅化合物(A)、有机硅化合物(B)、固化抑制剂(C)、水(D)进行说明。
1.有机硅化合物(A)
有机硅化合物(A)由下述式(a1)表示。
Ra1-Si(Xa1)3 (a1)
上述式(a1)中，Ra1表示碳原子数6以上的烃基，该烃基中所含的－CH2－可以取代为－O－，Xa1表示水解性基团。
Ra1优选为饱和烃基，更优选为直链状或支链状的烷基，进一步优选为直链状烷基。另外，Ra1表示的烃基的碳原子数优选为7以上，更优选为8以上，另外，优选为30以下，更优选为20以下，进一步优选为15以下。应予说明，Ra1表示的烃基中所含的－CH2－取代为－O－的情况下，取代后的－O－的个数也作为碳原子数进行计数。
作为Ra1表示的烃基中所含的－CH2－取代为－O－的基团，可举出包含1个或2个以上的亚烷氧基单元的基团。作为亚烷氧基单元，可举出亚乙氧基单元、亚丙氧基单元等，优选为亚乙氧基单元。
Ra1表示的烃基中所含的－CH2－取代为－O－的基团例如可以表示为－Ra3－(Ra4－O)a10－Ra5，Ra3表示单键或碳原子数1～4的二价烃基，Ra4表示碳原子数2～3的二价烃基，Ra5表示氢原子或碳原子数1～4的一价烃基，a10表示1～10的整数。其中，上述－Ra3－(Ra4－O)a10－Ra5中所含的碳和氧的原子数的合计为6以上。Ra3优选为二价烃基，作为Ra3表示的二价烃基，可举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基等二价饱和烃基，作为Ra4，可举出亚乙基、亚丙基等二价饱和烃基，作为Ra5，优选为碳原子数1～4的一价烃基，作为Ra5表示的一价烃基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基等一价饱和烃基。
作为Ra1表示的烃基，优选碳原子数6～30的直链状烷基，其中，优选己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十四烷基、十六烷基、十八烷基，特别优选辛基、癸基、十二烷基、十四烷基、十六烷基、十八烷基。
上述式(a1)中，作为Xa1表示的水解性基团，可举出通过水解来提供羟基(硅烷醇基)的基团，可优选举出碳原子数1～6的烷氧基、氰基、乙酰氧基、氯原子和异氰酸酯基等。3个Xa1可以相同或不同，优选为相同。作为Xa1，优选为碳原子数1～6(更优选为1～4)的烷氧基或者氰基，更优选为碳原子数1～6(更优选为1～4)的烷氧基，进一步优选全部Xa1为碳原子数1～6(更优选为1～4)的烷氧基。
作为有机硅化合物(A)，优选Ra1为碳原子数6～18(更优选为7～13)的直链状烷基、全部Xa1为相同的基团且为碳原子数1～6(更优选为1～4，进一步优选为1～2)的烷氧基。
作为有机硅化合物(A)，具体而言，可举出己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、庚基三甲氧基硅烷、庚基三乙氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、壬基三甲氧基硅烷、壬基三乙氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、癸基三乙氧基硅烷、十一烷基三甲氧基硅烷、十一烷基三乙氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十二烷基三乙氧基硅烷、十三烷基三甲氧基硅烷、十三烷基三乙氧基硅烷、十四烷基三甲氧基硅烷、十四烷基三乙氧基硅烷、十五烷基三甲氧基硅烷、十五烷基三乙氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三乙氧基硅烷、十七烷基三甲氧基硅烷、十七烷基三乙氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三乙氧基硅烷等。优选己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、癸基三乙氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十二烷基三乙氧基硅烷、十四烷基三甲氧基硅烷、十四烷基三乙氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三乙氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三乙氧基硅烷。
有机硅化合物(A)可以仅使用1种，也可以并用多种。
2.有机硅化合物(B)
有机硅化合物(B)由下述式(b1)表示。
Si(Rb1)b20(Xb1)4-b20 (b1)
式(b1)中，Rb1表示碳原子数1～5的烃基，Xb1表示水解性基团，b20为0或1。
Rb1优选为饱和烃基，更优选为直链状或支链状的烷基，进一步优选为直链状烷基，特别优选为甲基、乙基、丙基。
上述式(b1)中，作为Xb1表示的水解性基团，可举出与上述Xa1表示的水解性基团同样的基团，可优选举出碳原子数1～6的烷氧基、氰基、乙酰氧基、氯原子和异氰酸酯基等。多个Xb1可以相同或不同，优选相同。作为Xb1，优选为碳原子数1～6(更优选为1～4)的烷氧基或异氰酸酯基，更优选为碳原子数1～6(更优选为1～4)的烷氧基，进一步优选全部Xb1为碳原子数1～6(更优选为1～4)的烷氧基。
另外，上述式(b1)中，b20优选为0。
作为有机硅化合物(B)，优选b20为0、Xb1为碳原子数1～6(更优选为1～3)的烷氧基。
作为有机硅化合物(B)，可举出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷等，优选四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷。
有机硅化合物(B)可以仅使用1种，也可以并用多种。
从改善拒水性、滑落性的观点考虑，有机硅化合物(B)与有机硅化合物(A)的摩尔比(B/A)优选为0.01～48以下。该摩尔比更优选为0.1以上，进一步优选为0.3以上，更进一步优选为0.5以上，特别优选为0.8以上。另外，该摩尔比更优选为40以下，进一步优选为25以下，更进一步优选为12以下，特别优选为10以下，最优选为8以下。该摩尔比也优选为0.1～12。上述有机硅化合物(B)与有机硅化合物(A)的摩尔比可以在组合物的制备时进行调整。有机硅化合物(B)与有机硅化合物(A)的摩尔比可以由组合物的分析结果进行计算。应予说明，本说明书中，记载各成分的摩尔比、量或质量比的范围时，与上述同样地，该范围可以在组合物的制备时进行调整。
将组合物整体设为100质量％时，有机硅化合物(A)与有机硅化合物(B)的合计量优选为0.01质量％以上，更优选为0.03质量％以上，进一步优选为0.05质量％以上，另外，优选为30质量％以下，更优选为15质量％以下，进一步优选为5质量％以下，特别优选为2质量％以下。
3.固化抑制剂(C)
固化抑制剂(C)是指抑制膜的固化的化合物，例如可举出抑制成膜后的有机硅化合物(A)与有机硅化合物(B)中残留的水解性基团间的缩合反应的化合物。如果使用混合了有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的组合物进行成膜，则所得到的膜有可能在成膜的操作之后继续固化。本发明中，通过使用固化抑制剂(C)，从而即便将得到的膜暴露于室外，也不会发生过度的固化，也可能抑制接触角的降低。
固化抑制剂(C)相对于有机硅化合物(A)与有机硅化合物(B)的合计的质量比(C/(A+B))例如为1.0以下，优选为0.9以下，更优选为0.7以下，进一步优选为0.6以下，更进一步优选为0.4以下，特别优选为0.3以下，另外，优选为0.0001以上，更优选为0.0005以上，进一步优选为0.001以上。
固化抑制剂(C)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的摩尔比(C/(A+B))优选为0.00001以上，更优选为0.00005以上，进一步优选为0.0001以上，另外，优选为1以下，更优选为0.8以下，进一步优选为0.7以下，更进一步优选为0.5以下。
将组合物的整体设为100质量％时，固化抑制剂(C)的量优选为5质量％以下，更优选为3质量％以下，进一步优选为1质量％以下，特别优选为0.5质量％以下，另外，优选为0.00001质量％以上，更优选为0.00005质量％以上，进一步优选为0.0001质量％以上。
将组合物整体设为100质量％时的有机硅化合物(A)、有机硅化合物(B)和固化抑制剂(C)的合计量优选为0.01质量％以上，更优选为0.03质量％以上，进一步优选为0.05质量％以上，另外，优选为30质量％以下，更优选为15质量％以下，进一步优选为5质量％以下，特别优选为2质量％以下。
固化抑制剂(C)可以仅使用1种，也可以并用多种。
作为固化抑制剂(C)，优选含有选自以下说明的化合物(C1)～(C3)中的至少1种化合物。固化抑制剂(C)100质量％中，优选含有50质量％以上的选自化合物(C1)～(C3)中的至少1种化合物，更优选为70质量％以上，进一步优选为90质量％以上，特别优选为100质量％。
3－1.化合物(C1)
固化抑制剂(C)优选包含末端具有至少1个选自羟基和水解性基团中的基团且结构中含有硅氧烷键的化合物(C1)。
作为化合物(C1)，优选为下述式(c1)表示的化合物。
Figure BDA0003415698290000101
式(c1)中，
Ac1表示羟基或水解性基团，存在多个Ac1时，多个Ac1可以分别不同，
Zc1表示烃基、含有三烷基甲硅烷基的分子链或含有硅氧烷骨架的基团，存在多个Zc1时，多个Zc1可以分别不同，
r1表示1～3的整数，
Rc1表示式(c11)所示的基团。
Figure BDA0003415698290000111
式(c11)中，
Rs2各自独立地表示碳原子数1～4的烷基，
Rc11表示烃基或三烷基甲硅烷氧基，该烃基或三烷基甲硅烷氧基中所含的氢原子可以被取代为氟原子，存在多个Rc11时，多个Rc11可以分别不同，
Ac11表示羟基或水解性基团，存在多个Ac11时，多个Ac11可以分别不同，
Zs1表示－O－或二价烃基，该二价烃基中所含的－CH2－可以取代为－O－，
Ys1表示单键或－Si(Rs2)2－Ls1－，Ls1表示二价烃基，该二价烃基中所含的－CH2－可以取代为－O－，
r2表示0～3的整数，
r10表示1以上的整数，
*表示键合位点。
Rc1表示上述式(c11)所示的基团。首先，对式(c11)表示的基团中的式(s2)表示的部分(以下，有时称为分子链(s2))进行说明。
Figure BDA0003415698290000112
Rs2表示的烷基的碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1～2。作为Rs2表示的烷基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基等，优选为甲基或乙基，特别优选为甲基。
r10优选为1～100，更优选为1～80，进一步优选为1～50，特别优选为1～30。
Zs1或Ls1表示的二价烃基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～6，进一步优选为1～4。上述二价烃基优选为链状，在为链状的情况下，可以为直链状、支链状中的任一种。另外，上述二价烃基优选为二价脂肪族烃基，优选为烷二基。作为二价烃基，可举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基等烷二基。
此外，上述二价烃基中所含的一部分－CH2－可以取代为－O－。此时，连续的2个－CH2－不同时取代为－O－，与Si原子邻接的－CH2－不取代为－O－。2个以上的－CH2－取代为－O－时，－O－与－O－之间的碳原子数优选为2～4，进一步优选为2～3。作为二价烃基的一部分取代为－O－的基团，具体而言，可以例示具有(聚)乙二醇单元的基团、具有(聚)丙二醇单元的基团等。
分子链(s2)中，Zs1优选为－O－或二价脂肪族烃基，更优选为－O-。
分子链(s2)中，Ys1优选为单键。
分子链(s2)中，优选Zs1为－O－，Ys1为单键，即，上述分子链仅由二烷基甲硅烷氧基构成。
作为分子链(s2)，可举出下述式表示的分子链。式中，r21表示1～30的整数，*表示键合于硅原子的键合位点。
Figure BDA0003415698290000121
Figure BDA0003415698290000131
式(c11)中，Rc11表示烃基或三烷基甲硅烷氧基，该烃基或三烷基甲硅烷氧基中所含的氢原子可以被取代为氟原子。作为氟原子的取代数，将碳原子的个数设为A时，优选为1以上，更优选为3以上，优选为2×A+1以下。
Rc11为烃基时，其碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1～2。Rc11为烃基时，优选脂肪族烃基，更优选烷基。作为该烷基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基等。
Rc11为三烷基甲硅烷氧基时，作为构成三烷基甲硅烷氧基的烷基，其碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1～2。作为该烷基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基等。构成三烷基甲硅烷氧基的3个烷基可以相同或不同，优选相同。应予说明，三烷基甲硅烷氧基表示在三烷基甲硅烷基的硅原子上键合有氧原子的基团。
式(c11)中，Ac11表示羟基或水解性基团，作为水解性基团，只要是通过水解来提供羟基(硅烷醇基)的基团即可，例如，可优选举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等碳原子数1～4的烷氧基；乙酰氧基；氯原子；异氰酸酯基等。作为Ac11，优选为碳原子数1～4的烷氧基或羟基，更优选为碳原子数1～2的烷氧基或羟基。
作为Rc1，优选为式(c11－1)或式(c11－2)表示的基团。
Figure BDA0003415698290000141
式(c11－1)中，Zs1、Rs2、Ys1和r10与上述含义相同，
Rc13各自独立地表示烃基或三烷基甲硅烷氧基，该烃基或三烷基甲硅烷氧基中所含的氢原子可以被取代为氟原子，
*表示与硅原子的键合位点。
Figure BDA0003415698290000142
式(c11－2)中，Rs2和r10分别与上述含义相同，
Ac12表示羟基或水解性基团，存在多个Ac12时，多个Ac12可以分别不同，
Rc12表示烃基，存在多个Rc12时，多个Rc12可以分别不同
y12表示1～3的整数。
*表示与硅原子的键合位点。
首先，对式(c11－1)表示的基团进行说明。
式(c11－1)中，作为Rc13表示的烃基，可举出与上述Rc11中说明的烃基同样的烃基，优选为碳原子数1～4的烷基，更优选为碳原子数1～3的烷基，进一步优选为碳原子数1～2的烷基。特别是，Rc13全部为烃基时，Rc13优选为烷基。3个Rc13可以相同或不同，优选相同。Rc13全部为烃基时，3个Rc13的合计的碳原子数优选为9以下，更优选为6以下，进一步优选为4以下。优选3个Rc13中的至少1个为甲基，更优选至少2个为甲基，特别优选3个Rc13全部为甲基。
上述式(c11－1)中，作为Rc13表示的三烷基甲硅烷氧基，可举出与上述Rc11中说明的三烷基甲硅烷氧基同样的三烷基甲硅烷氧基，优选的范围也同样。上述式(c11－1)中，Rc13中的至少1个可以为三烷基甲硅烷氧基，也优选Rc13全部为三烷基甲硅烷氧基。
式(c11－1)表示的基团更优选为下述式(s3－1)表示的基团，进一步优选为下述式(s3－1－1)表示的基团。
Figure BDA0003415698290000151
式(s3－1)和(s3－1－1)中，Rs2、Ys1、Zs1、r10与上述含义相同。Rs3表示碳原子数1～4的烷基。*表示与硅原子的键合位点。
另外，式(c11－1)表示的基团也优选为下述式(s3－2)表示的基团，进一步优选为下述式(s3－2－1)表示的基团。
Figure BDA0003415698290000152
式(s3－2)和式(s3－2－1)中，Rs2、Rs3、Ys1、Zs1、r10与上述含义相同。*表示与硅原子的键合位点。
Rs3表示的烷基的碳原子数优选为1～3，更优选为1～2。另外，式(s3－1)、式(s3－1－1)、式(s3－2)和式(s3－2－1)中，－Si(Rs3)3中所含的Rs3的合计的碳原子数优选为9以下，更优选为6以下，进一步优选为4以下。进而，优选－Si(Rs3)3中所含的Rs3中的至少1个为甲基，优选2个以上的Rs3为甲基，特别优选3个Rs3全部为甲基。
作为式(c11－1)表示的基团，优选为式(s3－1－1)或式(s3－2－1)表示的基团。
作为式(c11－1)表示的基团，可举出式(s3－I)表示的基团。
Figure BDA0003415698290000161
[表1]
Z<sup>s10</sup> R<sup>s20</sup> n10 Y<sup>s10</sup> R<sup>s10</sup>
(s3-I-1) *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-2) *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-3) *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-4) *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-5) *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-6) *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-7) *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-8) *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-9) *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-10) *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-11) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-12) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-13) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-14) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-15) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-16) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-17) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-18) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-19) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-20) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-21) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-22) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-23) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-24) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-25) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
[表2]
Z<sup>s10</sup> R<sup>s20</sup> n10 Y<sup>s10</sup> R<sup>s10</sup>
(s3-I-26) *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-27) *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-28) *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-29) *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-30) *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-31) *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-32) *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-33) *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-34) *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-35) *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-36) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-37) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-38) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-39) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-40) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-41) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-42) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-1-43) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-44) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-45) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-46) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-47) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-48) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-49) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-50) *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
接下来，对式(c11-2)表示的基团进行说明。
式(c11-2)中，Ac12表示羟基或水解性基团，作为水解性基团，只要是通过水解来提供羟基(硅烷醇基)的基团即可，例如，可优选举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等碳原子数1～4的烷氧基；乙酰氧基；氯原子；异氰酸酯基等。作为Ac12，优选为碳原子数1～4的烷氧基或羟基，更优选为碳原子数1～2的烷氧基或羟基。存在多个Ac12时，多个Ac12可以相同或不同，优选相同。
作为Rc12表示的烃基，可举出与上述Rc11中说明的烃基同样的基团，优选为碳原子数1～4的烷基，更优选为甲基或乙基，进一步优选为甲基。存在多个Rc12时，多个Rc12可以相同或不同，优选相同。
y12优选为1或3。
作为式(c11-2)表示的基团，可举出式(s3-II)表示的基团。
Figure BDA0003415698290000181
[表3]
A<sup>c0</sup> R<sup>s22</sup> n<sup>20</sup> y<sup>0</sup> R<sup>c0</sup>
(s3-II-1) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 1 CH<sub>3</sub>-*
(s3-II-2) CH<sub>3</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 1 CH<sub>3</sub>-*
(s3-II-3) HO-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 1 CH<sub>3</sub>-*
(s3-II-4) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 1 C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-*
(s3-II-5) CH<sub>3</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 1 C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-*
(s3-II-6) HO-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 1 C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-*
(s3-II-7) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 2 CH<sub>3</sub>-*
(s3-II-8) CH<sub>3</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 2 CH<sub>3</sub>-*
(s3-II-9) HO-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 2 CH<sub>3</sub>-*
(s3-II-10) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 2 C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-*
(s3-II-11) CH<sub>3</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 2 C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-*
(s3-II-12) HO-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 2 C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-*
(s3-II-13) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 3 -
(s3-II-14) CH<sub>3</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 3 -
(s3-II-15) HO-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 3 -
对式(c1)中的Ac1进行说明。Ac1表示羟基或水解性基团，作为水解性基团，只要是通过水解来提供羟基(硅烷醇基)的基团即可，例如，可优选举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等碳原子数1～4的烷氧基；乙酰氧基；氯原子；异氰酸酯基等。作为Ac1，优选为羟基或碳原子数1～4的烷氧基，更优选为羟基或碳原子数1～2的烷氧基。存在多个Ac1时，多个Ac1可以相同或不同，优选相同。
式(c1)中的Zc1表示烃基、含有三烷基甲硅烷基的分子链或含有硅氧烷骨架的基团。
Zc1为烃基时，其碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1～2。Zc1为烃基时，优选脂肪族烃基，更优选烷基。作为该烷基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基等，进一步优选为甲基或乙基，特别优选为甲基。
含有三烷基甲硅烷基的分子链是指具有在分子链的末端键合有含有三烷基甲硅烷基的基团的结构的一价基团。Zc1为含有三烷基甲硅烷基的分子链时，为上述的式(c11-1)表示的基团，且Rc13全部为烃基时优选Rc13为烷基的基团。
另外，Zc1为含有硅氧烷骨架的基团时，上述含有硅氧烷骨架的基团优选为含有硅氧烷单元(Si－O－)的一价基团且由比构成Rc1的原子数少的数量的原子构成。由此，含有硅氧烷骨架的基团成为长度比Rc1短或立体广度(体积大小)小的基团。含有硅氧烷骨架的基团中可以包含二价烃基。
含有硅氧烷骨架的基团优选为下述式(s4)表示的基团。
Figure BDA0003415698290000191
式(s4)中，Rs2与上述含义相同。Rs5表示烃基或羟基，该烃基中所含的－CH2－可以取代为－O－，该烃基中所含的氢原子可以被取代为氟原子。Zs2表示－O－或二价烃基，该二价烃基中所含的－CH2－可以取代为－O－。Ys2表示单键或－Si(Rs2)2－Ls2－。Ls2表示二价烃基，该二价烃基中所含的－CH2－可以取代为－O－。r40表示0～5的整数。*表示与硅原子的键合位点。
作为Rs5表示的烃基，可举出与Rc11表示的烃基同样的基团，优选脂肪族烃基，更优选烷基。碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1～2。
作为Zs2或Ls2表示的二价烃基，可举出与Zs1表示的二价烃基同样的基团，碳原子数优选为1～10，更优选为1～6，进一步优选为1～4。另外，Zs2或Ls2表示的二价烃基优选为二价脂肪族烃基，进一步优选为直链状或支链状的烷二基。
r40优选为1～5，更优选为1～3。
含有硅氧烷骨架的基团的原子数的合计优选为100以下，更优选为50以下，进一步优选为30以下，优选为10以上。另外，Rc1的原子数与含有硅氧烷骨架的基团的原子数之差优选为10以上，更优选为20以上，优选为1000以下，更优选为500以下，进一步优选为200以下。
作为含有硅氧烷骨架的基团，具体而言，可举出下述式表示的基团。
Figure BDA0003415698290000201
式(c1)中的r1表示1～3的整数，优选为1或3，更优选为3。
作为化合物(C1)，可举出下述式(c1－1)表示的化合物，即，式(c1)中的Rc1为式(c11－1)表示的基团且式(c1)中的r1为3的化合物。
Figure BDA0003415698290000202
式(c1－1)中，Ac1、Ys1、Zs1、Rs2、Rc13、r10分别与上述含义相同。
其中，优选为下述式(I－1)表示的化合物，更优选为式(I－1－1)表示的化合物。
Figure BDA0003415698290000203
式(I－1)和(I－1－1)中，Ac1、Ys1、Zs1、Rs2、Rs3、r10分别与上述含义相同。
另外，式(c1－1)表示的化合物可以为式(I－2)表示的化合物，优选为式(I－2－1)表示的化合物。
Figure BDA0003415698290000211
式(I-2)和式(I-2-1)中，Ac1、Ys1、Zs1、Rs2、Rs3、r10分别与上述含义相同。
作为式(c1-1)表示的化合物，优选式(I-1-1)或式(I-2-1)表示的化合物。
对于式(c1-1)表示的化合物，具体而言，可举出式(I-I)表示的化合物。
Figure BDA0003415698290000212
[表4-1]
A<sup>a20</sup> Z<sup>s10</sup> R<sup>s20</sup> n10 Y<sup>s10</sup> R<sup>s10</sup>
(I-I-1) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-2) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-3) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-4) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-5) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-6) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-7) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-8) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-9) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-10) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-11) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-12) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-13) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-14) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-15) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-16) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-17) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-18) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-19) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-20) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-21) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-22) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-23) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-24) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-25) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
[表4-2]
A<sup>a20</sup> Z<sup>s10</sup> R<sup>s20</sup> n10 Y<sup>s10</sup> R<sup>s10</sup>
(I-I-26) CH<sub>3</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-27) CH<sub>3</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-28) CH<sub>3</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-29) CH<sub>3</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-30) CH<sub>3</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-31) CH<sub>3</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-32) CH<sub>3</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-33) CH<sub>3</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-34) CH<sub>3</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-35) CH<sub>3</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-36) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-37) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-38) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-39) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-40) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-41) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-42) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-43) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-44) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-45) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-46) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-47) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-48) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-49) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(I-I-50) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* (CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
[表5-1]
A<sup>a10</sup> Z<sup>s10</sup> R<sup>s20</sup> n10 Y<sup>s10</sup> R<sup>s10</sup>
(I-I-51) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(I-I-52) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-53) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-54) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-55) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-56) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(I-I-57) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-58) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-59) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-60) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-61) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)2-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(I-I-62) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-63) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-64) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-65) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-66) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(I-I-67) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-68) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-69) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-70) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-71) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(I-I-72) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-73) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-74) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-75) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
[表5-2]
A<sup>a10</sup> Z<sup>s10</sup> R<sup>s20</sup> n10 Y<sup>s10</sup> R<sup>s10</sup>
(I-I-76) CH<sub>3</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 CH<sub>3</sub>-*
(I-I-77) CH<sub>3</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-78) CH<sub>3</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-79) CH<sub>3</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-80) CH<sub>3</sub>O-* *-O-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-81) CH<sub>3</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(I-I-82) CH<sub>3</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-83) CH<sub>3</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-84) CH<sub>3</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-85) CH<sub>3</sub>O-* *-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-86) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(I-I-87) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～3θ *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-88) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-89) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-90) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-1-91) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(I-I-92) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-93) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-94) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-95) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-96) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)4-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 - CH<sub>3</sub>-*
(I-I-97) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-98) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-99) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
(I-I-100) CH<sub>3</sub>O-* *-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 *-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-* CH<sub>3</sub>-*
上述式(I-I)表示的化合物中，更优选式(I-I-26)表示的化合物。即，作为化合物(C1)，优选下述式(c1-I)表示的化合物。
Figure BDA0003415698290000241
式(c1-I)中，n表示1～30的整数。
作为式(c1-1)表示的化合物的合成方法的例子，可举出日本特开2017-201009号公报中记载的方法。
另外，作为化合物(C1)，也可举出式(c1-2)表示的化合物、即式(c1)中的Rc1为式(c11-2)表示的基团且式(c1)中的Zc1为烃基的化合物。
Figure BDA0003415698290000242
式(c1-2)中，Ac1、Rs2、Ac12、Rc12、r1、r10和y12分别与上述含义相同，Zc12表示烃基，存在多个Zc12时，多个Zc12可以分别不同。
式(c1-2)中，Ac1和Ac12分别优选为羟基或碳原子数1～4的烷氧基，更优选为羟基或碳原子数1～2的烷氧基。Ac1和Ac12可以相同或不同，优选相同。
作为Zc12表示的烃基，可举出与上述Zc1中说明的基团同样的基团，优选为甲基或乙基，更优选为甲基。Zc12和Rc12可以相同或不同，优选相同。
r1和y12分别优选为1或3。r1与y12可以相同或不同，优选相同。
作为式(c1-2)表示的化合物，优选使用Rs2为甲基、r10表示1～30的整数、Ac1和Ac12为碳原子数1～2的烷氧基或羟基、Zc12和Rc12为甲基或乙基、r1和y12相同且表示1～3的整数的化合物。
作为式(c1-2)表示的化合物，具体而言，可举出式(I-II)表示的化合物。
Figure BDA0003415698290000251
[表6]
A<sup>c00</sup> Z<sup>c0</sup> R<sup>s22</sup> n20 y0 A<sup>c0</sup> R<sup>c0</sup>
(I-II-1) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 1 C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* CH<sub>3</sub>-*
(I-II-2) CH<sub>3</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 1 CH<sub>3</sub>O-* CH<sub>3</sub>-*
(I-II-3) HO-* CH<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 1 HO-* CH<sub>3</sub>-*
(I-II-4) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 1 C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-*
(I-II-5) CH<sub>3</sub>O-* C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 1 CH<sub>3</sub>O-* C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-*
(I-II-6) HO-* C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 1 HO-* C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-*
(I-II-7) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 2 C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* CH<sub>3</sub>-*
(I-II-8) CH<sub>3</sub>O-* CH<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 2 CH<sub>3</sub>O-* CH<sub>3</sub>-*
(I-II-9) HO-* CH<sub>3</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 2 HO-* CH<sub>3</sub>-*
(I-II-10) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 2 C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-*
(I-II-11) CH<sub>3</sub>O-* C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 2 CH<sub>3</sub>O-* C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-*
(I-II-12) HO-* C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-* CH<sub>3</sub>-* 1～30 2 HO-* C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>-*
(I-II-13) C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* - CH<sub>3</sub>-* 1～30 3 C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>O-* -
(I-II-14) CH<sub>3</sub>O-* - CH<sub>3</sub>-* 1～30 3 CH<sub>3</sub>O-* -
(I-II-15) HO-* - CH<sub>3</sub>-* 1～30 3 HO-* -
作为式(c1－2)表示的化合物，优选为化合物(I－II－1)～(I－II－3)，(I－II－13)～(I－II－15)，更优选为化合物(I－II－3)、化合物(I－II－13)或化合物(I－II－14)。
作为化合物(C1)，优选为上述的式(c1－1)表示的化合物或式(c1－2)表示的化合物。
固化抑制剂(C)包含化合物(C1)时，优选在固化抑制剂(C)100质量％中包含50质量％以上的化合物(C1)，更优选为70质量％以上，进一步优选为90质量％以上，特别优选为100质量％。
化合物(C1)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(C1/(A+B))优选为0.6以下，更优选为0.1以下，进一步优选为0.08以下，另外，优选为0.0001以上，更优选为0.0005以上，进一步优选为0.001以上。
化合物(C1)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的摩尔比(C1/(A+B))优选为0.00001以上，更优选为0.00005以上，进一步优选为0.0001以上，另外，优选为0.1以下，更优选为0.05以下，进一步优选为0.01以下。
将组合物的整体设为100质量％时，化合物(C1)的量优选为5质量％以下，更优选为1质量％以下，进一步优选为0.5质量％以下，特别优选为0.1质量％以下，另外，优选为0.00001质量％以上，更优选为0.00005质量％以上，进一步优选为0.0001质量％以上。
3－2.化合物(C2)
固化抑制剂(C)也优选包含式(c2)表示的化合物(以下，有时称为化合物(C2))。
Figure BDA0003415698290000261
式(c2)中，
Rc21、Rc22、Rc23、Rc24各自独立地为氢原子或碳原子数1～4的烷基，存在多个Rc21时，多个Rc21可以分别不同，存在多个Rc22时，多个Rc22可以分别不同，存在多个Rc23时，多个Rc23可以分别不同，存在多个Rc24时，多个Rc24可以分别不同，
Rfc21、Rfc22、Rfc23、Rfc24各自独立地为1个以上的氢原子被取代为氟原子的碳原子数1～20的烷基或者氟原子，存在多个Rfc21时，多个Rfc21可以分别不同，存在多个Rfc22时，多个Rfc22可以分别不同，存在多个Rfc23时，多个Rfc23可以分别不同，存在多个Rfc24时，多个Rfc24可以分别不同，
Rc25为碳原子数1～20的烷基，存在多个Rc25时，多个Rc25可以分别不同，
Xc2为水解性基团，存在多个Xc2时，多个Xc2可以分别不同，
Yc2为－O－、－NH－或－S－，存在多个Yc2时，多个Yc2可以分别不同，
Zc2为乙烯基、α－甲基乙烯基、苯乙烯基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基、氨基、异氰酸酯基、异氰脲酸酯基、环氧基、脲基或巯基，
p21为1～20的整数，p22、p23和p24各自独立地为0～10的整数，p25为0～10的整数，
p26为1～3的整数，
Zc2－、－Si(Xc2)p26(Rc25)3-p26、p21个的－{C(Rc21)(Rc22)}－、p22个的－{C(Rfc21)(Rfc22)}－、p23个的－{Si(Rc23)(Rc24)}－、p24个的－{Si(Rfc23)(Rfc24)}－、p25个的－Yc2－只要Zc2－和－Si(Xc2)p26(Rc25)3-p26为末端且－Yc2－彼此不连接，就以任意顺序排列键合。
Rc21、Rc22、Rc23和Rc24优选为氢原子。
Rfc21、Rfc22、Rfc23和Rfc24各自独立地优选为1个以上的氢原子被取代为氟原子的碳原子数1～10的烷基或者氟原子。
Rc25优选为碳原子数1～5的烷基。
Xc2优选为烷氧基、卤代基、氰基、或异氰酸酯基，更优选为烷氧基，进一步优选为甲氧基或乙氧基。
Yc2优选为－NH－。
Zc2优选甲基丙烯酰基、丙烯酰基、巯基或氨基，更优选巯基或氨基，进一步优选氨基。
p21优选为1～15，更优选为2～10。
p22、p23和p24各自独立地优选为0～5，更优选全部为0～2。
p25优选为1～5，更优选为1～3。
p26优选为2～3，更优选为3。
作为化合物(C2)，优选使用上述式(c2)中Rc21和Rc22均为氢原子、Yc2为-NH-、Xc2为烷氧基(特别是甲氧基或乙氧基)、Zc2为氨基或巯基、p21为1～10、p22、p23和p24均为0、p25为1～5(特别优选为1～3)、p26为3的化合物。
应予说明，如果将后述的实施例中作为化合物(C2)使用的N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷用上述式(c2)表示，则Zc2为氨基，Rc21和Rc22均为氢原子，p21为5，p22、p23和p24均为0，Yc2为-NH-，p25为1，p26为3，Xc2为甲氧基。另外，如果将后述的实施例中作为化合物(C2)使用的N-2-(氨基乙基)-8-氨基辛基三甲氧基硅烷用上述式(c2)表示，则Zc2为氨基，Rc21和Rc22均为氢原子，p21为10，p22、p23和p24均为0，Yc2为-NH-，p25为1，p26为3，Xc2为甲氧基。
化合物(C2)优选为下述式(c2-1)表示的化合物。
Zc21-CqH2q-Yc21-CrH2r-Si(Xc21)p27(Rc26)3-p27 (c2-1)
式(c2-1)中，
Xc21为甲氧基或乙氧基，存在多个Xc21时，多个Xc21可以分别不同，
Yc21为-NH-、-CH2-或-O-，
Zc21为氨基或巯基，
Rc26为碳原子数1～20的烷基，存在多个Rc26时，多个Rc26可以分别不同，
p27为1～3的整数，
q为2～5的整数，
r为0～10的整数。
Yc21优选为-NH-。
Zc21优选为氨基。
Rc26优选为碳原子数1～10的烷基，更优选为碳原子数1～5的烷基。
p27优选为2或3，更优选为3。
q优选为2或3，r优选为2～8的整数。
固化抑制剂(C)包含化合物(C2)时，优选在固化抑制剂(C)100质量％中包含50质量％以上的化合物(C2)，更优选为70质量％以上，进一步优选为90质量％以上，特别优选为100质量％。
化合物(C2)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(C2/(A+B))优选为0.9以下，更优选为0.7以下，进一步优选为0.5以下，更进一步优选为0.3以下，另外，优选为0.001以上，更优选为0.01以上，进一步优选为0.05以上，更进一步优选为0.1以上。
化合物(C2)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的摩尔比(C2/(A+B))优选为0.001以上，更优选为0.01以上，进一步优选为0.05以上，更进一步优选为0.08以上，另外，优选为1以下，更优选为0.6以下，进一步优选为0.5以下，更进一步优选为0.3以下。
将组合物的整体设为100质量％时，化合物(C2)的量优选为5质量％以下，更优选为3质量％以下，进一步优选为1质量％以下，特别优选为0.5质量％以下，最优选为0.02质量％以下，另外，优选为0.0001质量％以上，更优选为0.001质量％以上，进一步优选为0.003质量％以上，特别优选为0.004质量％以上。
3-3.化合物(C3)
固化抑制剂(C)也优选包含式(c3)表示的化合物(以下，有时称为化合物(C3))。
(Xc3)3Si-Rc3-Si(Xc3)3 (c3)
式(c3)中，
多个Xc3各自独立地表示水解性基团，
Rc3表示碳原子数1～24的亚烷基，该亚烷基中所含的-CH2-可以取代为-O-、-NH-或-S-，该亚烷基中所含的氢原子可以被取代为氟原子。
上述式(c3)中，作为Xc3表示的水解性基团，可举出通过水解来提供羟基(硅烷醇基)的基团，可优选举出碳原子数1～6的烷氧基、氰基、乙酰氧基、氯原子和异氰酸酯基等。6个Xc3可以相同或不同，优选相同。作为Xc3，更优选为碳原子数1～6(更优选为1～4)的烷氧基或者氰基，进一步优选为碳原子数1～6(更优选为1～4)的烷氧基，特别优选全部Xc3为碳原子数1～6(更优选为1～4)的烷氧基。
上述式(c3)中，Rc3表示碳原子数1～24的亚烷基，优选为碳原子数1～18的亚烷基，更优选为碳原子数1～12的亚烷基，进一步优选为碳原子数2～8的亚烷基。该亚烷基可以为直链状、支链状、环状中的任一种，优选为直链状。
亚烷基中所含的－CH2－可以取代为－O－、－NH－或－S－。此时，连续的2个－CH2－不同时取代为－O－、－NH－或－S－，与Si原子邻接的－CH2－不取代为－O－、－NH－或－S－。作为亚烷基中所含的－CH2－取代为－O－、－NH－或－S－的基团，例如可举出下述式(O－1)～(O－4)、(NH－1)～(NH－4)和(S－1)～(S－4)表示的基团。下述式中，*表示与硅原子的键合位点。
Figure BDA0003415698290000301
亚烷基中所含的氢原子可以取代为氟原子，作为亚烷基中所含的氢原子被取代为氟原子的基团，例如可举出下述式(F－1)～(F－9)表示的基团。下述式中，*表示与硅原子的键合位点。
Figure BDA0003415698290000302
作为Rc3，优选为仅由无取代的亚烷基构成的基团、亚烷基中所含的-CH2-中的1个取代为-NH-的基团或亚烷基中所含的全部氢原子取代为氟原子的基团，更优选为仅由无取代的直链状亚烷基构成的基团、式(NH-3)表示的基团或式(F-3)表示的基团，最优选为仅由无取代的直链状亚烷基构成的基团。
作为化合物(C3)，优选使用Xc3为碳原子数1～4的烷氧基、Rc3为碳原子数1～12的直链状亚烷基的化合物。
作为化合物(C3)，更优选为式(c3-1)表示的化合物。
(Xc31)3Si-(CH2)n30-Si(Xc31)3 (c3-1)
式(c3-1)中，
多个Xc31各自独立地表示甲氧基或乙氧基，
n30表示1～6的整数。
Xc31优选为甲氧基。多个Xc31可以相同或不同，优选相同，更优选全部为甲氧基。
n30优选为2～6的整数。
作为式(c3-1)表示的化合物，具体而言，可举出1，2-双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷、1，2-双(三乙氧基甲硅烷基)乙烷、1，3-双(三甲氧基甲硅烷基)丙烷、1，3-双(三乙氧基甲硅烷基)丙烷、1，4-双(三甲氧基甲硅烷基)丁烷、1，4-双(三乙氧基甲硅烷基)丁烷、1，5-双(三甲氧基甲硅烷基)戊烷、1，5-双(三乙氧基甲硅烷基)戊烷、1，6-双(三甲氧基甲硅烷基)己烷、1，6-双(三乙氧基甲硅烷基)己烷，其中，优选为1，2-双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷、1，6-双(三甲氧基甲硅烷基)己烷。
固化抑制剂(C)包含化合物(C3)时，优选在固化抑制剂(C)100质量％中包含50质量％以上的化合物(C3)，更优选为70质量％以上，进一步优选为90质量％以上，特别优选为100质量％。
化合物(C3)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(C3/(A+B))优选为1.0以下，更优选为0.9以下，进一步优选为0.7以下，更进一步优选为0.6以下，另外，优选为0.001以上，更优选为0.01以上，进一步优选为0.05以上，更进一步优选为0.1以上。
化合物(C3)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的摩尔比(C3/(A+B))优选为0.001以上，更优选为0.01以上，进一步优选为0.05以上，另外，优选为1以下，更优选为0.8以下，进一步优选为0.5以下。
将组合物的整体设为100质量％时，化合物(C3)的量优选为5质量％以下，更优选为3质量％以下，进一步优选为1质量％以下，特别优选为0.5质量％以下，最优选为0.1质量％以下，另外，优选为0.0001质量％以上，更优选为0.001质量％以上，进一步优选为0.003质量％以上，特别优选为0.004质量％以上。
4.水(D)
本发明的第2混合组合物不仅在常湿下而且在高湿下的环境下也能够形成水滴的滑落性和透明性良好的膜，例如，在相对湿度70％左右的高湿度下也能够形成拒水性高、而且水滴的滑落性和透明性良好的膜。
本发明的第2混合组合物中，将组合物的整体设为100质量％时的水(D)的量可以为0.01质量％以上，优选为0.1质量％以上，更优选为1质量％以上，进一步优选为2质量％以上，更进一步优选为3质量％以上，更进一步优选为5质量％以上，特别优选为10质量％以上，最优选为20质量％以上，另外，优选为90质量％以下，更优选为65质量％以下，进一步优选为60质量％以下，更进一步优选为50质量％以下。
特别是，在固化抑制剂(C)为化合物(C1)的情况下，将组合物整体设为100质量％时，水(D)的量优选为0.1质量％以上，更优选为1质量％以上，进一步优选为3质量％以上，更进一步优选为5质量％以上，特别优选为10质量％以上，最优选为20质量％以上，另外，优选为65质量％以下，更优选为50质量％以下，进一步优选为40质量％以下，更进一步优选为35质量％以下。
另外，在固化抑制剂(C)为化合物(C2)的情况下，将组合物整体设为100质量％时，水(D)的量优选为0.01质量％以上，更优选为0.1质量％以上，进一步优选为1质量％以上，更进一步优选为3质量％以上，更进一步优选为5质量％以上，特别优选为10质量％以上，最优选为20质量％以上，另外，优选为90质量％以下，更优选为70质量％以下，进一步优选为60质量％以下，特别优选为50质量％以下。
另外，在固化抑制剂(C)为化合物(C3)的情况下，将组合物整体设为100质量％时，水(D)的量优选为0.01质量％以上，更优选为0.1质量％以上，进一步优选为1质量％以上，更进一步优选为3质量％以上，更进一步优选为5质量％以上，特别优选为10质量％以上，最优选为20质量％以上，另外，优选为90质量％以下，更优选为70质量％以下，进一步优选为60质量％以下，特别优选为50质量％以下。
水(D)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(D/(A+B))例如为0.1以上，优选为5以上，更优选为10以上，进一步优选为20以上，特别优选为25以上，例如为3000以下，优选为2000以下，更优选为1500以下，进一步优选为1200以下。水(D)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(D/(A+B))无论所使用的固化抑制剂(C)的种类如何都优选为上述范围，另外，也优选根据所使用的固化抑制剂(C)的种类而为下述范围。
固化抑制剂(C)为化合物(C1)时，水(D)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(D/(A+B))更优选为1700以下，进一步优选为1000以下，更进一步优选为500以下，特别优选为300以下，最优选为50以下。
固化抑制剂(C)为化合物(C2)时，水(D)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(D/(A+B))更优选为100以上，进一步优选为500以上，特别优选为800以上。
固化抑制剂(C)为化合物(C3)时，水(D)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(D/(A+B))更优选为100以上，进一步优选为500以上，特别优选为800以上。
另外，固化抑制剂(C)与水(D)的质量比(C/D)优选为0.000001以上，更优选为0.000005以上，进一步优选为0.00001以上，优选为3以下，更优选为1以下，进一步优选为0.1以下，更进一步优选为0.01以下，特别优选为0.005以下。
特别是，使用化合物(C1)时，化合物(C1)与水(D)的质量比(C1/D)优选为0.000001以上，更优选为0.000005以上，进一步优选为0.00001以上，特别优选为0.00003以上，最优选为0.0001以上，优选为3以下，更优选为1以下，进一步优选为0.1以下，更进一步优选为0.01以下，特别优选为0.005以下。
使用化合物(C2)时，化合物(C2)与水(D)的质量比(C2/D)优选为0.000005以上，更优选为0.00001以上，进一步优选为0.00005以上，特别优选为0.00008以上，最优选为0.0001以上，优选为1以下，更优选为0.1以下，进一步优选为0.01以下，更进一步优选为0.005以下，特别优选为0.001以下，最优选为0.0005以下。
使用化合物(C3)时，化合物(C3)与水(D)的质量比(C3/D)优选为0.00001以上，更优选为0.00005以上，进一步优选为0.00008以上，特别优选为0.0001以上，优选为1以下，更优选为0.8以下，更进一步优选为0.1以下，进一步优选为0.01以下，更进一步优选为0.005以下，特别优选为0.001以下，最优选为0.0008以下。
本发明的第1混合组合物为混合了有机硅化合物(A)、有机硅化合物(B)和固化抑制剂(C)的组合物，通过将这些(A)～(C)混合而得到。
本发明的第2混合组合物为混合了有机硅化合物(A)、有机硅化合物(B)、固化抑制剂(C)和水(D)的组合物，通过将这些(A)～(D)混合而得到。
另外，在第1和第2混合组合物中，优选除了上述成分以外还混合有溶剂(E)、催化剂(F)和羧酸化合物(G)中的至少1种。
5.溶剂(E)
作为溶剂(E)，可举出醇系溶剂、醚系溶剂、酮系溶剂、酯系溶剂、酰胺系溶剂等亲水性有机溶剂。这些溶剂可以仅使用1种，也可以并用2种以上。
作为醇系溶剂，可举出乙醇、1－丙醇、2－丙醇、丁醇、乙二醇、丙二醇、二乙二醇等。作为醚系溶剂，可举出二甲氧基乙烷、二
Figure BDA0003415698290000341
烷等。作为酮系溶剂，可举出甲基异丁基酮等，作为酯系溶剂，可举出乙酸乙酯、乙酸丁酯等，作为酰胺系溶剂，可举出二甲基甲酰胺等。其中，溶剂(E)优选为醇系溶剂，更优选为2－丙醇或乙醇。溶剂可以根据后述的基材的材质而进行调整，例如，使用有机系材料的基材时，优选使用酮系溶剂，使用无机系材料的基材时，优选使用醇系溶剂。
将组合物的整体设为100质量％时的溶剂(E)的量优选为10质量％以上，更优选为20质量％以上，进一步优选为30质量％以上，特别优选为40质量％以上，优选为95质量％以下，更优选为90质量％以下，进一步优选为85质量％以下，更进一步优选为80质量％以下。
溶剂(E)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(E/(A+B))例如为10以上，优选为30以上，更优选为50以上，进一步优选为70以上，特别优选为85以上，例如为3000以下，优选为2500以下，更优选为2000以下，更进一步优选为1500以下，特别优选为1200以下。溶剂(E)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(E/(A+B))无论所使用的固化抑制剂(C)的种类如何都优选为上述范围，另外，也优选根据所使用的固化抑制剂(C)的种类而为下述范围。
特别是，固化抑制剂(C)为化合物(C1)时，溶剂(E)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(E/(A+B))更优选为1100以下，进一步优选为500以下，特别优选为300以下，最优选为100以下。
固化抑制剂(C)为化合物(C2)时，溶剂(E)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(E/(A+B))更优选为100以上，进一步优选为500以上，特别优选为800以上。
固化抑制剂(C)为化合物(C3)时，溶剂(E)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(E/(A+B))更优选为100以上，进一步优选为500以上，特别优选为800以上。
另外，固化抑制剂(C)与溶剂(E)的质量比(C/E)优选为0.000001以上，更优选为0.000005以上，进一步优选为0.000008以上，特别优选为0.00001以上，最优选为0.0001以上，优选为0.1以下，更优选为0.01以下，进一步优选为0.005以下，更进一步优选为0.001以下，特别优选为0.0008以下。
特别是，使用化合物(C1)时，化合物(C1)与溶剂(E)的质量比(C1/E)优选为0.000001以上，更优选为0.000005以上，进一步优选为0.000008以上，特别优选为0.00001以上，最优选为0.0001以上，优选为0.1以下，更优选为0.01以下，进一步优选为0.005以下，更进一步优选为0.001以下，特别优选为0.0008以下。
使用化合物(C2)时，化合物(C2)与溶剂(E)的质量比(C2/E)优选为0.000001以上，更优选为0.00001以上，进一步优选为0.00005以上，特别优选为0.0001以上，优选为0.1以下，更优选为0.01以下，进一步优选为0.005以下，更进一步优选为0.001以下，特别优选为0.0008以下。
使用化合物(C3)时，化合物(C3)与溶剂(E)的质量比(C3/E)优选为0.000001以上，更优选为0.00001以上，进一步优选为0.00005以上，特别优选为0.0001以上，优选为0.1以下，更优选为0.01以下，进一步优选为0.005以下，更进一步优选为0.001以下，特别优选为0.0008以下。
6.催化剂(F)
作为催化剂(F)，可以使用氯化氢(其中，通常以盐酸的形式使用)、磷酸、硝酸等无机酸；马来酸、丙二酸、甲酸、苯甲酸、苯基乙酸、丁酸、2－甲基丙酸、丙酸、2,2－二甲基丙酸、乙酸等羧酸化合物(有机酸)；氨、胺等碱性化合物；乙酰乙酸乙基铝化合物等有机金属化合物等。作为催化剂(F)，优选使用无机酸、有机酸等酸性化合物，更优选为无机酸，进一步优选为氯化氢。
催化剂(F)可以仅使用1种，也可以并用多种。
催化剂(F)相对于有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的合计的质量比(F/(A+B))优选为0.00001以上，更优选为0.00005以上，进一步优选为0.0001以上，优选为0.03以下，更优选为0.02以下，进一步优选为0.01以下，特别优选为0.001以下。
另外，固化抑制剂(C)与催化剂(F)的质量比(C/F)优选为0.001以上，更优选为0.1以上，进一步优选为1以上，优选为2300以下，更优选为2000以下，进一步优选为1500以下，更进一步优选为1200以下，特别优选为800以下。
特别是，固化抑制剂(C)为化合物(C1)时，化合物(C1)与催化剂(F)的质量比(C1/F)优选为0.001以上，更优选为0.1以上，进一步优选为1以上，优选为1500以下，更优选为800以下，进一步优选为500以下，更进一步优选为200以下。
固化抑制剂(C)为化合物(C2)时，化合物(C2)与催化剂(F)的质量比(C2/F)优选为1以上，更优选为50以上，进一步优选为100以上，更进一步优选为200以上，优选为1500以下，更优选为1200以下，进一步优选为1000以下，更进一步优选为800以下。
固化抑制剂(C)为化合物(C3)时，化合物(C3)与催化剂(F)的质量比(C3/F)优选为1以上，更优选为50以上，进一步优选为100以上，更进一步优选为200以上，优选为2300以下，更优选为2100以下，进一步优选为1500以下，更进一步优选为1200以下。
7.羧酸化合物(G)
使用除羧酸化合物以外的催化剂作为上述催化剂(F)时，优选进一步使用羧酸化合物(G)。由此，能够抑制组合物凝胶化而损害保存稳定性。
羧酸化合物(G)是指具有至少1个羧基的化合物，可以为一元羧酸化合物、多元羧酸化合物(具有2个以上羧基的羧酸化合物)中的任一者，但优选多元羧酸化合物。作为上述多元羧酸化合物，更优选为直接键合有2个羧基的草酸，或者在二价烃基的两末端键合有羧基且该烃基的主链(最长直链)的碳原子数为1～15(更优选为碳原子数为1～5，进一步优选碳原子数为1～4，更进一步优选碳原子数为1～3，特别优选碳原子数为1或2)的多元羧酸化合物(特别是二羧酸、三羧酸或四羧酸)。此时，上述二价烃基可以为直链状，也可以为支链状，可以为脂肪族烃基，也可以为芳香族烃基，另外，可以为饱和烃基，也可以不饱和烃基，另外，在该烃基的两末端以外的碳原子还可以键合有羟基、羧基。
作为上述羧酸化合物(G)，例如可举出草酸、丙二酸、琥珀酸、马来酸、富马酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、酒石酸、苹果酸、邻苯二甲酸、衣康酸、粘康酸、1,4－环己烷二羧酸、1,4－萘二羧酸、2、6－萘二羧酸、2,7－萘二羧酸、4,4’－联苯二羧酸等二羧酸；柠檬酸、乌头酸、偏苯三酸、均苯三甲酸、联苯－3,4’,5－三羧酸、丙三羧酸等三羧酸；丁烷四羧酸等四羧酸等。上述羧酸化合物(G)更优选为草酸，或者碳原子数为1～3(特别是碳原子数为1或2)的饱和或不饱和的直链状烃基的两末端键合有羧基的二羧酸或三羧酸。具体而言，上述羧酸化合物(G)优选为草酸、丙二酸、琥珀酸、马来酸、戊二酸、丙三羧酸等，更优选草酸、丙二酸、琥珀酸、马来酸、丙三羧酸。
上述羧酸化合物(G)可以为分子内具有至少1个羧基的聚合物。作为该聚合物，例如可举出包含侧链具有羧基的结构单元的聚合物，也可以包含2种以上的侧链具有羧基的结构单元。作为分子内具有至少1个羧基的聚合物，可举出具有羧基的(甲基)丙烯酸系聚合物、具有羧基的聚酯聚合物、具有羧基的聚烯烃聚合物等。
上述羧酸化合物(G)的分子量优选为1000以下，更优选为500以下。分子量优选为50以上，更优选为80以上。
上述羧酸化合物(G)优选下述式(g1)表示的化合物。
Figure BDA0003415698290000381
上述式(g1)中，Rg1和Rg2各自独立地表示可具有羧基和/或羟基的碳原子数1～10的二价脂肪族烃基、可具有羧基的碳原子数6～10的二价芳香族烃基或单键。Rg3和Rg4各自独立地表示可具有羧基的碳原子数1～10的烷基、羧基或氢原子。g10为0或1。
Rg1和Rg2表示的碳原子数1～10的二价脂肪族烃基可以为直链，也可以为支链，还可以为环状，具体而言，可举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基等烷二基等。
作为Rg1和Rg2表示的碳原子数6～10的二价芳香族烃基，可举出亚苯基等。
Rg1和Rg2表示的二价脂肪族烃基可以具有羧基和/或羟基，二价芳香族烃基可以具有羧基。
Rg1优选为单键，或者可具有羧基的碳原子数1～10的二价脂肪族烃基，Rg1更优选为单键，或者可具有羧基的碳原子数1～10的二价直链脂肪族烃基。Rg2优选为单键。
Rg3和Rg4表示的碳原子数1～10的烷基可以为直链，也可以为支链，还可以为环状，具体而言，可举出甲基、乙基、丙基、丁基等。
Rg3优选为氢原子。Rg4优选为氢原子。
上述式(g1)表示的化合物进一步优选为下述式(g2)表示的化合物。下述式(g2)中，g20为0～2的整数。
Figure BDA0003415698290000382
g20优选为1或2，更优选为1。
本发明的组合物可以混合2种以上的上述羧酸化合物(G)。
将组合物的整体设为100质量％时的羧酸化合物(G)的量优选为0.00001质量％以上，更优选为0.00005质量％以上，进一步优选为0.0001质量％以上，特别优选为0.0005质量％以上，最优选为0.001质量％以上，另外，优选为3质量％以下，更优选为1质量％以下，进一步优选为0.1质量％以下，更进一步优选为0.05质量％以下，特别优选为0.03质量％以下。
本发明的组合物中也可以在不妨碍本发明的效果的范围共存抗氧化剂、防锈剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、防霉剂、抗菌剂、生物附着防止剂、除臭剂、颜料、阻燃剂、抗静电剂等各种添加剂等其它成分。
本发明的组合物可以作为制造用于对基材赋予拒液性的拒液性膜的组合物使用。即，本发明的组合物可以作为拒液性膜形成用组合物使用。
作为使用本发明的组合物对基材赋予拒液性的方法，优选使用本发明的组合物在想要赋予拒液性的基材的表面形成拒液性膜的方法。作为使用本发明的组合物将拒液性膜形成于基材的表面的方法，可以采用使本发明的组合物与基材接触并在该状态下静置于空气中的方法。
作为使本发明的组合物与基材接触的方法，可举出旋涂法、浸涂法、手工涂布(使液体渗入布等并涂抹于基材的方法。优选在基板上往复多次)、冲流(使用滴管等将液体直接施加并涂布于基材的方法)、喷雾(使用喷雾涂布于基材的方法)、或者将它们组合而得的方法等。
通过在使本发明的组合物与基材接触的状态下，在空气中以常温静置(例如10分钟～48小时，优选为10小时～48小时)，组合物固化，能够在基材上形成膜。也优选使所得到的膜进一步干燥。膜的膜厚优选为1nm以上，更优选为1.5nm以上，上限例如为50nm以下，也可以为20nm以下。通过膜的膜厚为一定以上，可期待稳定地表现出良好的拒水性，因而优选。
接触本发明的组合物的基材的形状可以为平面、曲面中的任一者，也可以为多个面组合而得的三维结构。另外，作为基材的材质，可举出有机系材料、无机系材料。作为上述有机系材料，可举出丙烯酸树脂、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯乙烯树脂、丙烯酸－苯乙烯共聚树脂、纤维素树脂、聚烯烃树脂等热塑性树脂；酚醛树脂、脲树脂、三聚氰胺树脂、环氧树脂、不饱和聚酯、有机硅树脂、氨基甲酸酯树脂等热固性树脂等，作为无机系材料，可举出陶瓷；玻璃；铁、硅、铜、锌、铝等金属；包含上述金属的合金等。
可以预先对上述基材实施易粘接处理。作为易粘接处理，可举出电晕处理、等离子体处理、紫外线处理等亲水化处理。另外，也可以利用树脂、硅烷偶联剂、四烷氧基硅烷等实施底漆处理，还可以预先将聚硅氮烷等玻璃膜涂布于基材。
使用本发明的组合物而得到的膜的拒液性(特别是拒水性)和滑落性优异。拒水性可以依照后述的实施例的测定法进行评价，接触角例如为100°以上，优选为105°以上，更优选为106°以上。上限没有特别限定，例如为120°。滑落性可以依照后述的实施例的测定法进行评价，滑落速度例如为20mm/秒以上，优选为50mm/秒以上，更优选为70mm/秒以上，进一步优选为85mm/秒以上。滑落速度的上限例如为150mm/秒。
使用本发明的组合物而得到的膜即便在室外长期使用，也能够保持优异的拒液性(特别是拒水性)，即，室外耐久性优异。室外耐久性可以依照后述的实施例的测定法进行评价，耐久试验后的接触角例如为75°以上，更优选为80°以上，进一步优选为86°以上，上限没有特别限定，例如为115°。
通过使用本发明的组合物，能够提供一种室外耐久性优异的膜。该膜在建筑材料、汽车部件、工厂设备等中是有用的。特别是本发明的组合物通过涂布于各种车辆用玻璃、建筑物的窗玻璃，能够提供室外耐久性优异的拒水性物品，特别适用于至少在单侧面形成了由本发明的组合物得到的膜的车辆用玻璃。
实施例
以下，举出实施例对本发明进行更具体的说明。本发明并不受以下的实施例的限制，也可以在可适于上述、后述的主旨的范围适当地加以变更而实施，它们均包含于本发明的技术范围中。
实施例1－1
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷2.16×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯(四乙氧基硅烷)2.16×10-3mol溶解于异丙醇(2－丙醇)2.57ml，在室温下搅拌10分钟。向得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.07ml，在室温下搅拌1小时。向得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.26ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－1。
将上述试样溶液1－1 1.0ml、异丙醇22.973ml、水6.0ml、使作为固化抑制剂(C)的上述表4－2所示的(I－I－26)中n10的平均为24的化合物(以下，记载为化合物1)用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.027ml混合，制作涂布溶液1－1。
利用旋涂机(Mikasa株式会社，MS－A100)将所得到的涂布溶液1－1以1000rpm、10sec的条件旋涂于通过大气压等离子体处理使表面活化的玻璃基板5cm×5cm(钠钙玻璃，顶面)上后，在室温下使其干燥，在玻璃基板上得到膜。
实施例1－2
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷2.16×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯2.16×10-3mol溶解于异丙醇2.57ml，在室温下搅拌10分钟。向得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.07ml，在室温下搅拌1小时。向得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.26ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－2。
将上述试样溶液1－2 1.0ml、异丙醇22.732ml、水6.0ml、使作为固化抑制剂(C)的化合物1用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.268ml混合，制作涂布溶液1－2。
使用涂布溶液1－2，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例1－3
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷2.16×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯2.16×10-3mol溶解于异丙醇2.57ml，在室温下搅拌10分钟。向得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.07ml，在室温下搅拌1小时。向得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.26ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－3。
将上述试样溶液1－3 1.0ml、异丙醇21.661ml、水6.0ml、使作为固化抑制剂(C)的化合物1用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液1.339ml混合，制作涂布溶液1－3。
使用涂布溶液1－3，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例1－4
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷2.16×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯2.16×10-3mol溶解于异丙醇2.57ml，在室温下搅拌10分钟。向得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.07ml，在室温下搅拌1小时。向得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.26ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－4。
将上述试样溶液1－4 1.0ml、异丙醇22.732ml、水6.0ml、使作为固化抑制剂(C)的X－24－9011(信越化学工业株式会社制)用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.268ml混合，制作涂布溶液1－4。
使用涂布溶液1－4，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
应予说明，X－24－9011是仅单侧末端具有三甲氧基甲硅烷基、另一末端不具有羟基和水解性基团且结构中含有硅氧烷键的化合物，如果用式(c1)表示，则是r1为3、Ac1表示甲氧基、Rc1为式(c11－1)表示的基团的化合物，重均分子量为3400。
实施例1－5
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷2.16×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯2.16×10-3mol溶解于异丙醇2.57ml，在室温下搅拌10分钟。向得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.07ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为10倍的丙二酸溶液0.26ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－5。
将上述试样溶液1－5 1.0ml、异丙醇22.732ml、水6.0ml、使作为固化抑制剂(C)的DMS－S12(Gelest公司制；上述表6所示的(I－II－3)中n20为4～7的化合物)用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.268ml混合，制作涂布溶液1－5。
使用涂布溶液1－5，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例1－6
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷2.16×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯2.16×10-3mol溶解于异丙醇2.57ml，在室温下搅拌10分钟。向得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.07ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中用异丙醇稀释成10倍的丙二酸溶液0.26ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－6。
将上述试样溶液1－6 1.0ml、异丙醇22.732ml、水6.0ml、使作为固化抑制剂(C)的KR－410(信越化学工业株式会社制；上述表6所示的(I－II－14)中n20为10的化合物)用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.268ml混合，制作涂布溶液1－6。
使用涂布溶液1－6，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例1－7
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷2.22×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯2.22×10-3mol溶解于异丙醇2.50ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.10ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.267ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－14。
将上述试样溶液1－14 1.0ml、异丙醇10.733ml、水3.0ml、使作为固化抑制剂(C)的化合物1用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.267ml混合，制作涂布溶液1－14。
使用涂布溶液1－14，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例1－8
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷1.83×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯1.83×10-3mol溶解于异丙醇2.06ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.90ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.102ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－15。
将上述试样溶液1－15 0.1ml、异丙醇22.873ml、水27ml、使作为固化抑制剂(C)的化合物1用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.027ml混合，制作涂布溶液1－15。
使用涂布溶液1－15，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例1－9
使作为有机硅化合物(A)的己基三乙氧基硅烷2.17×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯2.17×10-3mol溶解于异丙醇2.56ml，在室温下搅拌10分钟。向得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.07ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.254ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－16。
将上述试样溶液1－16 1.0ml、异丙醇22.733ml、水6.0ml、使作为固化抑制剂(C)的化合物1用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.267ml混合，制作涂布溶液1－16。
使用涂布溶液1－16，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例1－10
使作为有机硅化合物(A)的十八烷基三乙氧基硅烷1.58×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯1.58×10-3mol溶解于异丙醇2.86ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.78ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.253ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－17。
将上述试样溶液1－17 1.0ml、异丙醇22.733ml、水6.0ml、使作为固化抑制剂(C)的化合物1用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.267ml混合，制作涂布溶液1－17。
使用涂布溶液1－17，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例1－11
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷3.53×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.53×10-4mol溶解于异丙醇2.79ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.85ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.256ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－18。
将上述试样溶液1－18 1.0ml、异丙醇22.733ml、水6.0ml、使作为固化抑制剂(C)的化合物1用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.267ml混合，制作涂布溶液1－18。
使用涂布溶液1－18，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例1－12
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷1.01×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯4.87×10-3mol溶解于异丙醇2.79ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.85ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.256ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－19。
将上述试样溶液1－19 1.0ml、异丙醇22.733ml、水6.0ml、使作为固化抑制剂(C)的化合物1用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.267ml混合，制作涂布溶液1－19。
使用涂布溶液1－19，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例1－13
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷2.16×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯2.16×10-3mol溶解于异丙醇2.30ml，在室温下搅拌10分钟。向得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.07ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比5倍的琥珀酸溶液0.521ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－20。
将上述试样溶液1－20 1.0ml、异丙醇22.733ml、水6.0ml、使作为固化抑制剂(C)的化合物1用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.267ml混合，制作涂布溶液1－20。
使用涂布溶液1－20，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例1－14
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷2.16×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯2.16×10-3mol溶解于异丙醇2.56ml，在室温下搅拌10分钟。向得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.07ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙三羧酸溶液0.261ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－21。
将上述试样溶液1－21 1.0ml、异丙醇22.733ml、水6.0ml、使作为固化抑制剂(C)的化合物1用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.267ml混合，制作涂布溶液1－21。
使用涂布溶液1－21，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－1
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷2.16×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯2.16×10-3mol溶解于异丙醇2.57ml，在室温下搅拌10分钟。向得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.07ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.26ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－7。
将上述试样溶液1－7 1.0ml、异丙醇23.0ml、水6.0ml混合，制作涂布溶液1－7。
使用涂布溶液1－7，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－2
使作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯5.00×10-3mol溶解于异丙醇2.21ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.41ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.27ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－8。
将上述试样溶液1－8 1.0ml、异丙醇28.732ml、使作为固化抑制剂(C)的化合物1用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.268ml混合，制作涂布溶液1－8。
使用涂布溶液1－8，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－3
使作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯5.00×10-3mol溶解于异丙醇2.21ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.41ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.27ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－9。
将上述试样溶液1－9 1.0ml、异丙醇25.436ml、作为固化抑制剂(C)的化合物13.564ml混合，作为涂布溶液1－9。
使用涂布溶液1－9，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－4
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷3.81×10-3mol溶解于异丙醇2.83ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.81ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.26ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－10。
将上述试样溶液1－10 1.0ml、异丙醇28.732ml、使作为固化抑制剂(C)的X－24－9011(信越化学工业株式会社制)用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.268ml混合，制作涂布溶液1－10。
使用涂布溶液1－10，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－5
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷3.81×10-3mol溶解于异丙醇2.83ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.81ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.26ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－11。
将上述试样溶液1－11 1.0ml、异丙醇28.920ml、作为固化抑制剂(C)的X－24－9011(信越化学工业株式会社制)0.080ml混合，制作涂布溶液1－11。
使用涂布溶液1－11，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－6
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷3.81×10-3mol溶解于异丙醇2.83ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.81ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.26ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－12。
将上述试样溶液1－12 1.0ml、异丙醇28.732ml、使作为固化抑制剂(C)的DMS－S12(Gelest公司制)用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.268ml混合，制作涂布溶液1－12。
使用涂布溶液1－12，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－7
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷3.81×10-3mol溶解于异丙醇2.83ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.81ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.26ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－13。
将上述试样溶液1－13 1.0ml、异丙醇28.920ml、作为固化抑制剂(C)的DMS－S12(Gelest公司制)0.080ml混合，制作涂布溶液1－13。
使用涂布溶液1－13，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－8
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷2.22×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯2.22×10-3mol溶解于异丙醇2.50ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.10ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.267ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－22。
将上述试样溶液1－22 1.0ml、异丙醇11.0ml、水3.0ml混合，制作涂布溶液1－22。
使用涂布溶液1－22，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－9
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷1.83×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯1.83×10-3mol溶解于异丙醇2.06ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.90ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.102ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－23。
将上述试样溶液1－23 0.1ml、异丙醇22.9ml、水27ml混合，制作涂布溶液1－23。
使用涂布溶液1－23，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－10
使作为有机硅化合物(A)的己基三乙氧基硅烷2.17×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯2.17×10-3mol溶解于异丙醇2.56ml，在室温下搅拌10分钟。向得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.07ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.254ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－24。
将上述试样溶液1－24 1.0ml、异丙醇23.0ml、水6.0ml混合，制作涂布溶液1－24。
使用涂布溶液1－24，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－11
使作为有机硅化合物(A)的十八烷基三乙氧基硅烷1.58×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯1.58×10-3mol溶解于异丙醇2.86ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.78ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.253ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－25。
将上述试样溶液1－25 1.0ml、异丙醇23.0ml、水6.0ml混合，制作涂布溶液1－25。
使用涂布溶液1－25，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－12
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷3.53×10-3mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.53×10-4mol溶解于异丙醇2.79ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.85ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.256ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－26。
将上述试样溶液1－26 1.0ml、异丙醇23.0ml、水6.0ml混合，制作涂布溶液1－26。
使用涂布溶液1－26，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例1－13
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷1.01×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯4.87×10-3mol溶解于异丙醇2.23ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.40ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液0.267ml，搅拌2小时，制作试样溶液1－27。
将上述试样溶液1－27 1.0ml、异丙醇23.0ml、水6.0ml混合，制作涂布溶液1－27。
使用涂布溶液1－27，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例2－1
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷9.42×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.77×10-3mol溶解于异丙醇1.30ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.27ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.32ml，搅拌2小时，试样溶液2－1。
将上述试样溶液2－1 0.1ml、异丙醇27.973ml、水21.9ml、使作为固化抑制剂(C)的KBM－603(信越化学工业株式会社制，N－2－(氨基乙基)－3－氨基丙基三甲氧基硅烷)用异丙醇稀释为质量比10倍的溶液0.027ml混合，制作涂布溶液2－1。
使用涂布溶液2－1，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例2－2
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷9.42×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.77×10-3mol溶解于异丙醇1.30ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.27ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.32ml，搅拌2小时，制作试样溶液2－2。
将上述试样溶液2－2 0.1ml、异丙醇27.946ml、水21.9ml、使作为固化抑制剂(C)的KBM－603(信越化学工业株式会社制，N－2－(氨基乙基)－3－氨基丙基三甲氧基硅烷)用异丙醇稀释为质量比10倍的溶液0.054ml混合，制作涂布溶液2－2。
使用涂布溶液2－2，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例2－3
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷9.42×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.77×10-3mol溶解于异丙醇1.30ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.27ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.32ml，搅拌2小时，制作试样溶液2－3。
将上述试样溶液2－3 0.1ml、异丙醇27.973ml、水21.9ml、使作为固化抑制剂(C)的KBM－6803(信越化学工业株式会社制，N－2－(氨基乙基)－8－氨基辛基三甲氧基硅烷)用异丙醇稀释为质量比10倍的溶液0.027ml混合，制作涂布溶液2－3。
使用涂布溶液2－3，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例2－4
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷9.42×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.77×10-3mol溶解于异丙醇1.30ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.27ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.32ml，搅拌2小时，制作试样溶液2－4。
将上述试样溶液2－4 0.1ml、异丙醇27.946ml、水21.9ml、使作为固化抑制剂(C)的KBM－6803(信越化学工业株式会社制，N－2－(氨基乙基)8－氨基辛基三甲氧基硅烷)用异丙醇稀释为质量比10倍的溶液0.054ml混合，制作涂布溶液2－4。
使用涂布溶液2－4，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例2－5
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷9.41×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.76×10-3mol溶解于异丙醇1.31ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.26ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.320ml，搅拌2小时，制作试样溶液2－6。
将上述试样溶液2－6 0.1ml、异丙醇47.388ml、水2.5ml、使作为固化抑制剂(C)的KBM－603(信越化学工业株式会社制，N－2－(氨基乙基)－3－氨基丙基三甲氧基硅烷)0.012ml混合，制作涂布溶液2－6。
使用涂布溶液2－6，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例2－1
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷9.42×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.77×10-3mol溶解于异丙醇1.30ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.27ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.32ml，搅拌2小时，制作试样溶液2－5。
将上述试样溶液2－5 0.1ml、异丙醇28.0ml、水21.9ml混合，制作涂布溶液2－5。
使用涂布溶液2－5，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例2－2
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷3.80×10-3mol溶解于异丙醇1.81ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.81ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.278ml，搅拌2小时，制作试样溶液2－7。
将上述试样溶液2－7 0.1ml、异丙醇27.973ml、水21.9ml、使作为固化抑制剂(C)的KBM－603(信越化学工业株式会社制，N－2－(氨基乙基)－3－氨基丙基三甲氧基硅烷)用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.027ml混合，制作涂布溶液2－7。
使用涂布溶液2－7，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例2－3
使作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯5.00×10-3mol溶解于异丙醇1.15ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.41ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.334ml，搅拌2小时，制作试样溶液2－8。
将上述试样溶液2－8 0.1ml、异丙醇27.973ml、水21.9ml、使作为固化抑制剂(C)的KBM－603(信越化学工业株式会社制，N－2－(氨基乙基)－3－氨基丙基三甲氧基硅烷)用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.027ml，制作涂布溶液2－8。
使用涂布溶液2－8，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例3－1
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷9.42×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.77×10-3mol溶解于异丙醇1.30ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.27ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.32ml，搅拌2小时，制作试样溶液3－1。
将上述试样溶液3－1 0.1ml、异丙醇27.946ml、水21.9ml、使作为固化抑制剂(C)的1,2－双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷用异丙醇稀释为质量比10倍的溶液0.054ml混合，制作涂布溶液3－1。
使用涂布溶液3－1，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例3－2
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷9.42×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.77×10-3mol溶解于异丙醇1.30ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.27ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.32ml，搅拌2小时，制作试样溶液3－2。
将上述试样溶液3－2 0.1ml、异丙醇27.973ml、水21.9ml、使作为固化抑制剂(C)的1,6－双(三甲氧基甲硅烷基)己烷用异丙醇稀释为质量比10倍的溶液0.027ml混合，制作涂布溶液3－2。
使用涂布溶液3－2，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例3－3
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷9.42×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.77×10-3mol溶解于异丙醇1.30ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.27ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.32ml，搅拌2小时，制作试样溶液3－3。
将上述试样溶液3－3 0.1ml、异丙醇27.946ml、水21.9ml、使作为固化抑制剂(C)的1,6－双(三甲氧基甲硅烷基)己烷用异丙醇稀释为质量比10倍的溶液0.054ml混合，制作涂布溶液3－3。
使用涂布溶液3－3，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例3－4
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷9.42×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.77×10-3mol溶解于异丙醇1.30ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.27ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.32ml，搅拌2小时，制作试样溶液3－4。
将上述试样溶液3－4 0.1ml、异丙醇27.893ml、水21.9ml、使作为固化抑制剂(C)的1,6－双(三甲氧基甲硅烷基)己烷用异丙醇稀释为质量比10倍的溶液0.107ml混合，制作涂布溶液3－4。
使用涂布溶液3－4，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
实施例3－5
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷9.41×10-4mol、作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯3.76×10-3mol溶解于异丙醇1.31ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.26ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.320ml，搅拌2小时，制作试样溶液3－5。
将上述试样溶液3－5 0.1ml、异丙醇47.382ml、水2.5ml、作为固化抑制剂(C)的1,6－双(三甲氧基甲硅烷基)己烷0.018ml混合，制作涂布溶液3－5。
使用涂布溶液3－5，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例3－1
使作为有机硅化合物(A)的正癸基三甲氧基硅烷3.80×10-3mol溶解于异丙醇1.81ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸0.80ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.278ml，搅拌2小时，制作试样溶液3－6。
将上述试样溶液3－6 0.1ml、异丙醇27.973ml、水21.9ml、使作为固化抑制剂(C)的1,6－双(三甲氧基甲硅烷基)己烷用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.027ml混合，制作涂布溶液3－6。
使用涂布溶液3－6，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
比较例3－2
使作为有机硅化合物(B)的原硅酸四乙酯5.00×10-3mol溶解于异丙醇1.15ml，在室温下搅拌10分钟。向所得到的溶液中滴加0.01M盐酸1.41ml，在室温下搅拌1小时。向所得到的溶液中滴加用异丙醇稀释为质量比10倍的丙二酸溶液1.334ml，搅拌2小时，制作试样溶液3－7。
将上述试样溶液3－7 0.1ml、异丙醇27.973ml、水21.9ml、使作为固化抑制剂(C)的1,6－双(三甲氧基甲硅烷基)己烷用异丙醇稀释为质量比100倍的溶液0.027ml混合，制作涂布溶液3－7。
使用涂布溶液3－7，除此以外，与实施例1－1同样地在玻璃基板上形成膜。
[表7－1]
Figure BDA0003415698290000551
[表7－2]
Figure BDA0003415698290000561
[表8]
Figure BDA0003415698290000562
[表9]
Figure BDA0003415698290000571
通过下述的方法对上述实施例和比较例中得到的玻璃基板上的膜进行评价。
[接触角的测定]
使用接触角测定装置(协和界面科学公司制DM700)，通过θ/2法以液量3μL来测定膜表面的水的接触角。
[室外耐久性的测定]
通过实际暴露于室外的耐久试验和模拟实际暴露于室外的耐久试验的复合耐久试验中的任一者对上述实施例和比较例中得到的膜的室外耐久性进行评价。
(1)室外暴露试验
将实施例2－1、实施例2－2、实施例2－3、实施例2－4、实施例3－1、实施例3－2、实施例3－3、实施例3－4和比较例2－1中得到的膜分别在室外暴露1个月后，进行上述接触角的测定。
(2)复合耐久试验
将实施例1－1～实施例1－14、比较例1－1～比较例1－13、实施例2－5、比较例2－2～2－3、实施例3－5、比较例3－1和比较例3－2中得到的膜分别使用送风定温恒温机DKN402(Yamato Scientific株式会社制)在80℃的条件下静置3天后，在流量320ml/min的水流中暴露1天。其后，进行上述接触角的测定。
[滑落速度的测定]
通过下述的要点对实施例1－1～实施例1～14、比较例1－2～比较例1－4、比较例1－6、比较例1－8～比较例1－13、实施例2－1～2－5、比较例2－2～2－3、实施例3－1～3－5和比较例3－1～3－2各自的滑落速度进行测定。
向膜表面滴加水，通过膜表面上的水滴的滑落速度来评价拒水性。具体而言，使用协和界面科学株式会社制的接触角测定装置“DM700”，向倾斜20°的玻璃基板上的膜表面滴加35μL的水，测定水滴从初始滴加位置滑落15mm为止的时间，算出膜表面的水滴的滑落速度(mm/秒)。
将上述接触角、室外耐久性和滑落速度的测定结果示于表10～15。
[表10]
Figure BDA0003415698290000591
[表11]
Figure BDA0003415698290000601
涂布使用有机硅化合物(A)、有机硅化合物(B)和作为固化抑制剂的化合物(C1)的混合组合物而得到的膜的拒水性和水的滑落性优异，即便在耐久试验后也维持了较高的接触角，即室外耐久性优异(实施例1－1～1－14)。另一方面，不使用固化抑制剂(C)的比较例1－1与使用了相同种类和量的有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的实施例1－1～实施例1－6相比，耐久试验后的接触角的降低大，即室外耐久性差。另外，根据使用了相同种类和量的有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)的实施例1－7与比较例1－8的比较、实施例1－8与比较例1－9的比较、实施例1－9与比较例1－10的比较、实施例1－10与比较例1－11的比较、实施例1－11与比较例1－12的比较、实施例1－12与比较例1－13的比较，也可知在不使用固化抑制剂(C)的情况下，耐久试验后的接触角的降低大，即室外耐久性差。
此外，在使用固化抑制剂(C)但不使用有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)中的任一者的比较例1－2～1－7中，未实现良好的拒水性、水的滑落性与室外耐久性的兼顾。
[表12]
Figure BDA0003415698290000611
[表13]
Figure BDA0003415698290000621
涂布使用有机硅化合物(A)、有机硅化合物(B)和作为固化抑制剂的化合物(C2)的混合组合物而得到的膜的拒水性和水的滑落性优异，即便在耐久试验后也维持了较高的接触角，即室外耐久性优异(实施例2－1～2－5)。另一方面，不使用固化抑制剂(C)的比较例2－1的耐久试验后的接触角的降低大。另外，使用了固化抑制剂(C)但未使用有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)中的任一者的比较例2－2和2－3中，未实现良好的拒水性、水的滑落性与室外耐久性的兼顾。
[表14]
Figure BDA0003415698290000631
[表15]
Figure BDA0003415698290000632
涂布使用有机硅化合物(A)、有机硅化合物(B)和作为固化抑制剂的化合物(C3)的混合组合物而得到的膜的拒水性和水的滑落性优异，即便在耐久试验后也维持了较高的接触角，即室外耐久性优异(实施例3－1～3－5)。另一方面，使用了固化抑制剂(C)但未使用有机硅化合物(A)和有机硅化合物(B)中的任一者的比较例3－1和3－2中，未实现良好的拒水性、水的滑落性与室外耐久性的兼顾。

Claims (16)

1.一种混合组合物，是式(a1)表示的有机硅化合物A、式(b1)表示的有机硅化合物B和固化抑制剂C的混合组合物，
Ra1-Si(Xa1)3 (a1)
式(a1)中，
Ra1表示碳原子数6以上的烃基，该烃基中所含的－CH2－可以取代为－O－，
Xa1表示水解性基团，
Si(Rb1)b20(Xb1)4-b20 (b1)
式(b1)中，
Rb1表示碳原子数1～5的烃基，
Xb1表示水解性基团，
b20为0或1。
2.一种混合组合物，是式(a1)表示的有机硅化合物A、式(b1)表示的有机硅化合物B、固化抑制剂C和水D的混合组合物，
Ra1-Si(Xa1)3 (a1)
式(a1)中，
Ra1表示碳原子数6以上的烃基，该烃基中所含的－CH2－可以取代为－O－，
Xa1表示水解性基团，
Si(Rb1)b20(Xb1)4-b20 (b1)
式(b1)中，
Rb1表示碳原子数1～5的烃基，
Xb1表示水解性基团，
b20为0或1。
3.根据权利要求2所述的组合物，其中，水D的量为0.1～90质量％。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的组合物，其中，有机硅化合物B与有机硅化合物A的摩尔比即B/A为0.01～48。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，有机硅化合物A与有机硅化合物B的合计量为0.01～30质量％。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的组合物，其中，固化抑制剂C相对于有机硅化合物A与有机硅化合物B的合计的质量比即C/(A+B)为0.9以下。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的组合物，其中，式(a1)中，Ra1为饱和烃基。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的组合物，其中，固化抑制剂C包含末端具有至少1个选自羟基和水解性基团中的基团且结构中含有硅氧烷键的化合物C1。
9.根据权利要求8所述的组合物，其中，化合物C1为式(c1)表示的化合物，
Figure FDA0003495722980000021
式(c1)中，
Ac1表示羟基或水解性基团，存在多个Ac1时，多个Ac1可以分别不同，
Zc1表示烃基、含有三烷基甲硅烷基的分子链或含有硅氧烷骨架的基团，存在多个Zc1时，多个Zc1可以分别不同，
r1表示1～3的整数，
Rc1表示式(c11)所示的基团，
Figure FDA0003495722980000022
式(c11)中，
Rs2各自独立地表示碳原子数1～4的烷基，
Rc11表示烃基或三烷基甲硅烷氧基，该烃基或三烷基甲硅烷氧基中所含的氢原子可以被取代为氟原子，存在多个Rc11时，多个Rc11可以分别不同，
Ac11表示羟基或水解性基团，存在多个Ac11时，多个Ac11可以分别不同，
Zs1表示－O－或二价烃基，该二价烃基中所含的－CH2－可以取代为－O－，
Ys1表示单键或－Si(Rs2)2－Ls1－，Ls1表示二价烃基，该二价烃基中所含的－CH2－可以取代为－O－，
r2表示0～3的整数，
r10表示1以上的整数，
*表示键合位点。
10.根据权利要求9所述的组合物，其中，式(c1)表示的化合物为式(c1－I)表示的化合物，
Figure FDA0003495722980000031
式(c1－I)中，
n表示1～30的整数。
11.根据权利要求1～7中任一项所述的组合物，其中，固化抑制剂C包含式(c2)表示的化合物，
Figure FDA0003495722980000032
式(c2)中，
Rc21、Rc22、Rc23、Rc24各自独立地为氢原子或碳原子数1～4的烷基，存在多个Rc21时，多个Rc21可以分别不同，存在多个Rc22时，多个Rc22可以分别不同，存在多个Rc23时，多个Rc23可以分别不同，存在多个Rc24时，多个Rc24可以分别不同，
Rfc21、Rfc22、Rfc23、Rfc24各自独立地为1个以上的氢原子被取代为氟原子的碳原子数1～20的烷基或者氟原子，存在多个Rfc21时，多个Rfc21可以分别不同，存在多个Rfc22时，多个Rfc22可以分别不同，存在多个Rfc23时，多个Rfc23可以分别不同，存在多个Rfc24时，多个Rfc24可以分别不同，
Rc25为碳原子数1～20的烷基，存在多个Rc25时，多个Rc25可以分别不同，
Xc2为水解性基团，存在多个Xc2时，多个Xc2可以分别不同，
Yc2为－O－、－NH－或－S－，存在多个Yc2时，多个Yc2可以分别不同，
Zc2为乙烯基、α－甲基乙烯基、苯乙烯基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基、氨基、异氰酸酯基、异氰脲酸酯基、环氧基、脲基或巯基，
p21为1～20的整数，p22、p23和p24各自独立地为0～10的整数，p25为0～10的整数，
p26为1～3的整数，
Zc2－、－Si(Xc2)p26(Rc25)3-p26、p21个的－{C(Rc21)(Rc22)}－、p22个的－{C(Rfc21)(Rfc22)}－、p23个的－{Si(Rc23)(Rc24)}－、p24个的－{Si(Rfc23)(Rfc24)}－、p25个的－Yc2－只要Zc2－和－Si(Xc2)p26(Rc25)3-p26成为末端且－Yc2－彼此不连接，就以任意的顺序排列键合。
12.根据权利要求11所述的组合物，其中，式(c2)表示的化合物为式(c2－1)表示的化合物，
Zc21-CqH2q-Yc21-CrH2r-Si(Xc21)p27(Rc26)3-p27 (c2-1)
式(c2－1)中，
Xc21为甲氧基或乙氧基，存在多个Xc21时，多个Xc21可以分别不同，
Yc21为－NH－、－CH2－或－O－，
Zc21为氨基或巯基，
Rc26为碳原子数1～20的烷基，存在多个Rc26时，多个Rc26可以分别不同，
p27为1～3的整数，
q为2～5的整数，
r为0～10的整数。
13.根据权利要求1～7中任一项所述的组合物，其中，固化抑制剂C包含式(c3)表示的化合物，
(Xc3)3Si-Rc3-Si(Xc3)3 (c3)
式(c3)中，
多个Xc3各自独立地表示水解性基团，
Rc3表示碳原子数1～24的亚烷基，该亚烷基中所含的－CH2－可以取代为－O－、－NH－或－S－，该亚烷基中所含的氢原子可以被取代为氟原子。
14.根据权利要求13所述的组合物，其中，式(c3)表示的化合物为式(c3－1)表示的化合物，
(Xc31)3Si-(CH2)n30-Si(Xc31)3 (c3-1)
式(c3－1)中，
多个Xc31各自独立地表示甲氧基或乙氧基，
n30表示1～6的整数。
15.一种膜，是将权利要求1～14中任一项所述的组合物固化而得的。
16.一种车辆用玻璃，至少在单侧面形成有权利要求15所述的膜。
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